JP5212063B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Description

本発明は、感光性樹脂組成物に関する。

近年、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイに代表される表示素子が数多く開発され、実用化されてきている。これら表示素子に含まれるパターンを製造するために、種々の感光性樹脂組成物が提案されおり、たとえばアルカリ可溶性樹脂および光重合開始剤を含んで構成された感光性樹脂組成物が開示されている（特許文献１）。

特開平１１−１３３６００号公報

従来の感光性樹脂組成物では、これを用いて形成されたパターンが高温に曝されると、透明性が低下する問題があった。
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、耐熱光透過率に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を見出し、本発明に至った。

本発明は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）および感光物質（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物である。

また本発明は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、少なくとも、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）とを重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である上記感光性樹脂組成物である。

また本発明は、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）が、式（Ｉ）で表される化合物である上記感光性樹脂組成物である。

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^２は、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−または−（ＣＨ_２）_ｗ−を表す。Ｒ^２に含まれる炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
Ｒ^３〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。］

また本発明は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、さらに（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く。）を重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である上記感光性樹脂組成物である。

また本発明は、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）が、式（ＩＩ）で表されるモノマーに由来する構造単位を含む化合物である上記感光性樹脂組成物である。
Ｒ^８ _ｎＳｉ（ＯＲ^９）_４−ｎ （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、イミノ基、エポキシ基又は（メタ）アクリロイル基で置換されていてもよい。ｎは、０〜３の整数を表す。ｎが２以下の整数である場合、Ｒ^９は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ^８は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。］

また本発明は、熱硬化促進剤（Ｄ）を含む上記感光性樹脂組成物である。

また本発明は、溶剤（Ｅ）を含む上記感光性樹脂組成物である。

また本発明は、光増感剤（Ｆ）を含む上記感光性樹脂組成物である。

また本発明は、上記感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンである。

また本発明は、上記パターンを含む表示素子である。

本発明の感光線性樹脂組成物によれば、耐熱光透過率に優れたパターンを形成することができる。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明の感光性樹脂組成物は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）を含有する。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とは、ケイ素原子を含む、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体である。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、少なくとも、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）（以下、（Ａ１）という場合が有る）と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）（以下、（Ａ２）という場合が有る）とを重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。
（Ａ１）とは、非加水分解性である、つまり加水分解性基（例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基またはカルボキシ基など）を含有しない化合物であって、重合性基及び不飽和結合を含有する化合物である。
（Ａ２）における、不飽和カルボン酸とは、不飽和結合を有するカルボン酸であり、不飽和カルボン酸無水物とは、不飽和結合を有するカルボン酸無水物である。

（Ａ１）は、式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^２は、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−または−（ＣＨ_２）_ｗ−を表す。Ｒ^２に含まれる炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
Ｒ^３〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。］

Ｒ^２としては、例えば、単結合；
エステル結合；
エーテル結合；
メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基、などのアルキレン基；
オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、チオメチレン基、チオエチレン基、チオプロピレン基、アミノメチレン基、アミノエチレン基、アミノプロピレン基などのヘテロ原子含有アルキレン基などが挙げられ、
好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、オキシメチレン基、オキシエチレン基が挙げられる。

Ｒ^３〜Ｒ^５は、非加水分解性である１価の基の中から選ぶことができる。このような非加水分解性の基として、非重合性の基及び重合性の基からなる群から選ばれるいずれかの基を選ぶことができる。なお非加水分解性基とは、加水分解性基（例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基またはカルボキシ基など）が加水分解される条件において、加水分解されずに、そのまま安定に存在する性質を有する基をいう。

Ｒ^３〜Ｒ^５としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基などの炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基；
フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などのアリール基；
トリル基、キシリル基、メシチル基などのアラルキル基が挙げられる。
好ましい脂肪族炭化水素基としてはメチル基、エチル基、好ましいアリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、より好ましくは、フェニル基が挙げられる。また、好ましいアラルキル基としては、トリフルオロメチルフェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニルが挙げられる。

式（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、（トリメチルシリルメチル）メタクリレート、（フェニルジメチルシリル）メチルメタクリレート、１−（３−メタクリロキシプロピル）−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−（３−メタクリロキシプロピル）ポリジメチルシロキサン、３−アクリロシプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルビニルシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、トリフェニルビニルシラン、トリメチルシリルメタクリレート、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、ビニルトリメチルシラン、ビニルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、フェニルジメチルビニルシラン、フェニルメチルビニルシラン等が挙げられ、これらは単独で又は複数種組合せて用いることができる。

（Ａ１）としては、例えば、ＦＭ−０７１１（Ｍｗ：１０００、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７２１（Ｍｗ：５０００、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７２５（Ｍｗ：１００００、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７０１（Ｍｗ：４２０、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７０１Ｔ（Ｍｗ：４２０、式（Ｉ−２−１））（いずれも、チッソ（株）製）、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（Ｍｗ：４６００、式（Ｉ−１−１））、Ｘ−２４−８２０１（Ｍｗ：２１００）、Ｘ−２２−２４２６（Ｍｗ：１２０００、式（Ｉ−１−１））、Ｘ−２２−２４０４（Ｍｗ：４２０、式（Ｉ−２−１））、Ｘ−２２−２４０６（いずれも、信越化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。

［式（Ｉ−１−１）中、Ｒ^５、ｗおよびｙは、上記と同じ意味を表す。］

（Ａ２）としては、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸類；
前記の不飽和ジカルボン酸類の無水物；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル類；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシル基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などが共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性が高い点から好ましく用いられる。これらは、単独であるいは組合せて用いられる。

さらに、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、さらに（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く。以下「（Ａ３）」という場合がある。）を重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。

（Ａ３）は、エポキシ基、オキセタニル基、活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基と不飽和結合とを有する化合物であることが好ましい。例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンなどが挙げられ、好ましくは３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンが挙げられる。

前記のエポキシ基と不飽和結合とを有する化合物は、脂肪族多環化合物の環上にエポキシ基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。当該脂肪族多環化合物としては、例えば、ジシクロペンタン、トリシクロデカン、ノルボルナン、イソノルボルナン、ビシクロオクタン、ビシクロノナン、ビシクロウンデカン、トリシクロウンデカン、ビシクロドデカン、トリシクロドデカンなどが挙げられ、炭素数が８から１２の化合物が好ましい。
より好ましくは式（ＩＩＩ）で表される化合物及び式（ＩＶ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。

［式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）中、Ｒは、水素原子又は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘは、単結合又はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。］

Ｒとしては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などの脂肪族炭化水素基；
ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、２−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、１−ヒドロキシ−イソプロピル基、２−ヒドロキシ−イソプロピル基、１−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、２−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、３−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基などの水酸基含有脂肪族炭化水素基が挙げられ、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基及び２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子及びメチル基が挙げられる。

Ｘとしては、例えば、単結合や、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基；
オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、チオメチレン基、チオエチレン基、チオプロピレン基、アミノメチレン基、アミノエチレン基、アミノプロピレン基などのヘテロ原子含有アルキレン基などが挙げられ、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、オキシメチレン基及びオキシエチレン基が挙げられ、より好ましくは単結合及びオキシエチレン基が挙げられる。

式（ＩＩＩ）で表される化合物としては、例えば、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−１５）で表される化合物などが挙げられ、好ましくは式（ＩＩＩ−１）、式（ＩＩＩ−３）、式（ＩＩＩ−５）、式（ＩＩＩ−７）、式（ＩＩＩ−９）、式（ＩＩＩ−１１）〜式（ＩＩＩ−１５）が挙げられ、より好ましくは式（ＩＩＩ−１）、式（ＩＩＩ−７）、式（ＩＩＩ−９）、式（ＩＩＩ−１５）が挙げられる。

式（ＩＶ）で表される化合物としては、例えば、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１５）で表される化合物などが挙げられ、好ましくは式（ＩＶ−１）、式（ＩＶ−３）、式（ＩＶ−５）、式（ＩＶ−７）、式（ＩＶ−９）、式（ＩＶ−１１）〜式（ＩＶ−１５）が挙げられ、より好ましくは式（ＩＶ−１）、式（ＩＶ−７）、式（ＩＶ−９）、式（ＩＶ−１５）が挙げられる。

式（ＩＩＩ）で表される化合物及び式（ＩＶ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、好ましくは（式（ＩＩＩ）で表される化合物）：（式（ＩＶ）で表される化合物）で、５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、特に好ましくは２０：８０〜８０：２０である。

前記の活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基と不飽和結合とを有する化合物としては、例えば、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−１８）で表される化合物などが挙げられる。

中でも、式（Ｖ−１）で表される２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテートが好ましい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、さらに、その他の共重合可能な単量体（Ａ４）（ただし、（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）を除く。以下「（Ａ４）」という場合がある。）を加えてもよく、（Ａ４）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステル類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル類；
シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イルアクリレート（当該技術分野で慣用名としてジシクロペンタニルアクリレートといわれている。）、ジシクロペンタオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレートなどのアクリル酸環状アルキルエステル類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アリールエステル類；
フェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキルエステル類；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなどのビニル化合物が挙げられる。
これらのうち、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミドなどが共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点から好ましい。これらは、単独であるいは組合せて用いられる。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、少なくとも、（Ａ１）と、（Ａ２）とを重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である。必要に応じて、（Ａ３）から導かれる構成単位、さらに、（Ａ４）から導かれる構成単位が含まれていてもよい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、（Ａ１）及び（Ａ２）から導かれる構成単位のみからなる場合、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）及び（Ａ２）から導かれる構成成分の比率が、前記の共重合体を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
（Ａ１）から導かれる構成単位；５０〜９５モル％
（Ａ２）から導かれる構成単位；５〜５０モル％

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、（Ａ１）及び（Ａ２）から導かれる構成単位に加えて、（Ａ３）及び（Ａ４）から導かれる構成単位を含む場合、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）〜（Ａ４）から導かれる構成成分の比率が、前記の共重合体を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
（Ａ１）から導かれる構成単位；５〜７５モル％
（Ａ２）から導かれる構成単位；５〜５０モル％
（Ａ３）から導かれる構成単位；０〜８５モル％
（Ａ４）から導かれる構成単位；０〜５０モル％
構成成分のモル分率が該範囲にあると、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とシロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）との相溶性が良好となる傾向があり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に非画素部分の抜け性が良好で、解像性が良好である傾向にあり、好ましい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。
具体的には、共重合体を構成する単位（Ａ１）及び（Ａ２）等の所定量、重合開始剤及び溶剤を反応容器中に仕込んで、窒素により酸素を置換することにより、酸素不存在下で、攪拌、加熱、保温することにより、重合体が得られる。なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿などの方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、該範囲にあると、塗布性が良好となる傾向があり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に非画素部分の抜け性が良好で、解像性が良好である傾向にあり、好ましい。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、該範囲にあると、現像性が良好で解像性に優れる傾向があるので好ましい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分（組成物中の成分の中で、２５℃で固体のものをいう。）に対して質量分率で、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％である。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の含有量が、該範囲にあると、耐熱光透過率がより向上する傾向にあり、好ましい。
本明細書において、耐熱光透過率とは、感光性樹脂組成物を含む塗膜を加熱したときの、加熱前後の可視光領域での光透過率の変化率をいう。

本発明の感光性樹脂組成物は、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）を含有する。
シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）が、式（ＩＩ）で表されるモノマーに由来する構造単位を含む化合物であることが好ましい。
Ｒ^８ _ｎＳｉ（ＯＲ^９）_４−ｎ （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、イミノ基、エポキシ基又は（メタ）アクリロイル基で置換されていてもよい。ｎは、０〜３の整数を表す。ｎが２以下の整数である場合、Ｒ^９は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ^８は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。］

シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）は、式（ＩＩ）で表されるモノマーに由来する構造単位を含むオリゴマー、ポリマーまたはこれらの混合物である。

Ｒ^８及びＲ^９として、例えば、脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、及びこれらの重水素置換体、アリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、及びこれらの重水素、フッ素、又は塩素の各置換体、アラルキル基としてはトリル基、キシリル基、メシチル基、及びこれらの重水素、フッ素、塩化物が挙げられる。好ましい脂肪族炭化水素基としてはメチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、トリジューテリオメチル基、好ましいアリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ペンタジューテリオフェニル基、特に好ましくは、アリール基としてフェニル基が挙げられる。また、好ましいアラルキル基としては、トリフルオロメチルフェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フェニル基が挙げられる。
該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、イミノ基、エポキシ基又は（メタ）アクリロイル基に置換されていてもよい。

式（ＩＩ）で表されるモノマーは、例えば、アルコキシシラン、シランカップリング剤を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラ（２−メタクリロキシエトキシ）シラン、テトラ（２−アクリロキシエトキシ）シラン、テトラクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラアミノシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルシラン、トリエチルクロロシラン、ベンジルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルシラン、フェニルトリアセトキシシラン、フェニルトリアミノシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリエトキシシラン、キシリルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルフェニルトチメトキシシラン、ビフェニルトリメトキシシラン、ビフェニルトリクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。

シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）は、例えば、オルガノポリシロキサンレジンを表し、オルガノポリシロキサンレジンは、メチルポリシロキサンレジンと、メチルフェニルポリシロキサンレジンとに大別される。

メチルポリシロキサンレジンとしては、一般にＳｉＯ_２、ＣＨ_３ＳｉＯ_３／２、（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２の構造単位を組み合わせてできる三次元網状構造の共重合体が挙げられる。

メチルフェニルポリシロキサンレジンとしては、一般にＳｉＯ_２、ＣＨ_３ＳｉＯ_３／２、Ｃ_６Ｈ_５ＳｉＯ_３／２、（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ、（Ｃ_６Ｈ_５）_３ＳｉＯ_３／２、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２、（Ｃ_６Ｈ_５）（ＣＨ_３）ＳｉＯ、（Ｃ_６Ｈ_５）_２ＳｉＯの構造単位を組み合わせてできる三次元網状構造の共重合体挙げられ、これはメチルポリシロキサンレジンに比べ耐熱性が高い。

オルガノポリシロキサンレジンとしては、例えば、ＫＲ−２４２Ａ、ＫＣ−８９、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−２５１、ＫＲ−４００、ＫＲ−４０１Ｎ、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１７、Ｘ−４１−１０５３、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−２７１、ＫＲ−２８２、ＫＲ−３００、ＫＲ−３１１、ＫＲ−２１２、ＫＲ−２１３、ＫＲ−４００、ＫＲ−２５５、ＥＳ−１００１Ｎ、ＥＳ−１００２Ｔ、ＥＳ−１０２３、ＥＳ−５２０６、ＥＳ−５２３０、ＥＳ−５２３５、ＥＳ−９７０６（いずれも、信越化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。

シロキサン化合物（Ｂ）のシラノール含有率（但し、シラノール含有率は、赤外分光分析による３５００ｃｍ^−１のＯＨ基（シラノール由来基）と１２７１ｃｍ^−１のシリコン−メチル基による吸収ピークの吸光度比すなわちＡｂｓ（３５００ｃｍ^−１）／Ａｂｓ（１２７１ｃｍ^−１）をさす。）は、１％以下が好ましい。

シロキサン化合物（Ｂ）の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分（組成物中の成分の中で、２５℃で固体のものをいう。）に対して質量分率で、好ましくは２０〜９０質量％、より好ましくは４０〜８０質量％である。シロキサン化合物（Ｂ）の含有量が、該範囲にあると、耐熱光透過率がより向上する傾向にあり、好ましい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）を含むことによって、本発明の感光性樹脂組成物の耐熱光透過率が向上する。

本発明の感光性樹脂組成物は、感光物質（Ｃ）を含有する。感光物質（Ｃ）としては、光酸発生剤および光塩基発生剤が挙げられる。

光酸発生剤には、非イオン性化合物とイオン性化合物とがある。

非イオン性化合物としては、例えば、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、スルホンベンゾトリアゾール化合物等を用いることができる。

ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。好ましいハロゲン含有化合物としては、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ナフチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。

ジアゾケトン化合物としては、例えば、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等が挙げられる。好ましいジアゾケトン化合物は、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンとのエステル化合物、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンとのエステル化合物、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸又は１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸と４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ジフェノールとのエステル等が挙げられる。

ジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（ベンゾイル）ジアゾメタン等が挙げられる。

スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等が挙げられる。好ましいスルホン化合物としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン、４−クロロフェニル−４−メチルフェニルジスルホン化合物等が挙げられる。

スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等が挙げられる。好ましい例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールトリメシレート、トロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、２，６−ジニトロベンジルベンゼンスルホネート等が挙げられる。イミノスルホネートとしては、例えば、ＰＡＩ−１０１（みどり化学（株）製）、ＰＡＩ−１０６（みどり化学（株）製）、ＣＧＩ−１３１１（チバ・ジャパン（株）製）が挙げられる。

カルボン酸エステル化合物としては、例えば、カルボン酸ｏ−ニトロベンジルエステルが挙げられる。

スルホンイミド化合物としては、例えば、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ（カンファスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５− エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（エチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（プロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘキシルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（オクチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、等が挙げられる。

スルホンベンゾトリアゾール化合物としては、例えば、１−トリフルオロメタンスルホニルオキシベンゾトリアゾール、１−ノナフルオロブチルスルホニルオキシベンゾトリアゾール、１−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

イオン性化合物としては、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているものも使用することができる。
前記オニウムカチオンとしては、例えば、ジフェニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリス（ｐ−トリル）スルホニウム、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウム、ジメチル（メトキシ）スルホニウム、ジメチル（エトキシ）スルホニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウム、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウム、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウム、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウム、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウム、又はジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムなどが挙げられる。
好ましいオニウムカチオンとしては、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム又はトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムなどが挙げられる。
前記ルイス酸由来のアニオンとしては、例えば、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート又はテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。好ましいルイス酸由来のアニオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート又はテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
前記のオニウムカチオン及びルイス酸由来のアニオンは、任意に組合せることができる。

カチオン重合開始剤としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート；
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート；
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート；
ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、エチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジエチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられ、好ましくはビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられ、より好ましくはビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、又はトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。

光塩基発生剤としては、例えば、コバルトなど遷移金属錯体、オルトニトロベンジルカルバメート類、α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類、オキシム化合物、α−アミノアセトフェノン系化合物、ビイミダゾール化合物などを例示することができる。

光照射により発生する塩基の種類としては、有機又は無機の塩基のいずれの場合も好ましく用いることができるが、光照射による塩基の発生効率、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とシロキサン化合物（Ｂ）との重合反応における該塩基の触媒効果、前記重合反応により得られた重合体の反応溶液への溶解性などの点から、α−アミノアセトフェノン系化合物又はビイミダゾール化合物が好ましい。

前記の遷移金属錯体としては、例えば、ブロモペンタアンモニアコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタプロピルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサアンモニアコバルト過塩素酸塩、ヘキサメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサプロピルアミンコバルト過塩素酸塩などがあげられる。

前記のオルトニトロベンジルカルバメート類としては、例えば、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジンなどがあげられる。

前記のα，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類としては、例えば、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジンなどがあげられる。

前記のオキシム化合物としては、例えば、プロピオニルアセトフェノンオキシム、プロピオニルベンゾフェノンオキシム、プロピオニルアセトンオキシム、ブチリルアセトフェノンオキシム、ブチリルベンゾフェノンオキシム、ブチリルアセトンオキシム、アジポイルアセトフェノンオキシム、アジポイルベンゾフェノンオキシム、アジポイルアセトンオキシム、アクロイルアセトフェノンオキシム、アクロイルベンゾフェノンオキシム、アクロイルアセトンオキシム、Ｏ−エトキシカルボニル−α−オキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、式（ＩＶ）で表される化合物（１，２−オクタジオン，１−[４−(フェニルチオ)フェニル]−，２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１；チバ・ジャパン（株）製））、式（Ｖ）で表される化合物などが挙げられ、好ましくは式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。

前記のα−アミノアセトフェノン系化合物としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−エチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−プロピルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２，３−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２、４−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモ−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノンのオリゴマーなどが挙げられる。

前記のビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報など参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報など参照。）、４，４’５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報など参照。）などが挙げられ、好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’４−トリス（２−クロロフェニル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニル−１，１’−ビイミダゾールが挙げられる。

感光物質（Ｃ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及びシロキサン化合物（Ｂ）の合計量に対して質量分率で、好ましくは０．１〜４０質量％、より好ましくは１〜３０質量％である。
感光物質（Ｃ）の合計量が前記の範囲にあると、感光性樹脂組成物が高感度となり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成した画素部の強度や、前記の画素の表面における平滑性が良好になる傾向があり、好ましい。

また、本発明の効果を損なわない程度であれば、光増感剤（Ｆ）を用いてもよく、例えば、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラセン系化合物などが挙げられる。
より具体的には以下のような化合物が挙げられ、これらをそれぞれ単独で、又は２種以上組合せて用いることができる。

前記のベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。

前記のチオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。

前記のアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。

その他にも、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などが例示される。

また、光増感剤（Ｆ）として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されている連鎖移動を起こしうる基を有する化合物を使用することができる。
前記の連鎖移動を起こしうる基を有する化合物としては、例えば、下記式（５）〜（１０）の化合物が挙げられる。

前記の連鎖移動を起こしうる基を有する化合物は、前記の共重合体の構成成分として感光性樹脂組成物に含まれていてもよい。

また、光増感剤（Ｆ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及びシロキサン化合物（Ｂ）の合計量に対して質量分率で、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜４０質量％である。

また、感光物質（Ｃ）に光重合開始助剤（Ｇ）を組合せて用いることもでき、光重合開始助剤を複数の組合せで用いることもできる。
光重合開始助剤（Ｇ）としては、例えば、アミン化合物、カルボン酸化合物、多官能チオール化合物、式（ＶＩＩ）で表される化合物などが挙げられる。

アミン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどの脂肪族アミン化合物；４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称；ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。

カルボン酸化合物としては、例えば、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸などの芳香族ヘテロ酢酸類挙げられる。

多官能チオール化合物としては、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタンが挙げられる。

［式（ＶＩＩ）中、環Ｘは、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香族環を表す。
Ｙは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｒ^１０は、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ^１１は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基を表す。］

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
炭素数６〜１２の芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、メチルベンゼン環、ジメチルベンゼン環、エチルベンゼン環、プロピルベンゼン環、ブチルベンゼン環、ペンチルベンゼン環、ヘキシルベンゼン環、シクロヘキシルベンゼン環、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、フェニルベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、ナフタレン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環などが挙げられる。

炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチル−ｎ−プロピル基、２−メチル−ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチル−ｎ−プロピル基、２−メチル−ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、１−クロロ−ｎ−ブチル基、２−クロロ−ｎ−ブチル基、３−クロロ−ｎ−ブチル基などが挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、クロロブロモフェニル基、ビフェニル基、クロロビフェニル基、ジクロロビフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、ブロモナフチル基、ジブロモナフチル基などが挙げられる。

式（ＶＩＩ）で表される化合物としては、例えば、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，３−ｄ］チアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、
２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、
２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、
などが挙げられる。

中でも好ましくは、式（ＶＩＩ―１）で表される２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、式（ＶＩＩ―２）で表される２−ベンゾイルメチレン−３−メチルーナフト［１，２−ｄ］チアゾリン及び式（ＶＩＩ−３）で表される２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリンが挙げられる。

光重合開始助剤（Ｇ）としてより好ましいのは、アミン化合物、多官能チオール、式（ＶＩＩ）で表される化合物である。

光重合開始助剤（Ｇ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及びシロキサン化合物（Ｂ）の合計量に対して質量分率で、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜４０質量％である。
光重合開始助剤（Ｇ）の量が前記の範囲にあると、得られる感光性樹脂組成物の感度がさらに高くなり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成するパターン基板の生産性が向上する傾向にあり、好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物は、熱硬化促進剤（Ｄ）を含むことができる。前記の熱硬化促進剤（Ｄ）は、アルコキシシランの脱水縮合反応を熱存在下で加速させるものなら、特に限定はされない。中でも、有機チタン含有化合物、有機ジルコン化合物が好ましい。

有機チタン含有化合物；
テトラ-i-プロポキシチタン（ＴＰＴ；日本曹達（株）製）、テトラ−ｎ−ブトキシチタン（ＴＢＴ；日本曹達（株）製）、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタン（ＴＯＴ；日本曹達（株）製）、チタニウム-i-プロポキシオクチレングリコレート（ＴＯＧ；日本曹達（株）製）、ジ-i-プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン（Ｔ―５０；日本曹達（株）製）、プロパンジオキシチタンビス（エチルアセトアセテート）（Ｔ―６０；日本曹達（株）製）、トリ-n-ブトキシチタンモノステアレート（ＴＢＳＴＡ；日本曹達（株）製）、チタニウムステアレート（Ｓ−１５１；日本曹達（株）製）、ジ-i-プロポキシチタン ジイソステアレート（Ｓ−１５２；日本曹達（株）製）、（２−ｎ−ブトキシカルボニルベンゾイルオキシ）トリブトキシチタン（Ｓ−１８１；日本曹達（株）製）などが挙げられる。
また、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）、Ｄ−２５（信越化学工業（株）製）、Ｄ−３０（信越化学工業（株）製）、Ｂ−１（日本曹達（株）製）、Ｂ−２（日本曹達（株）製）、Ｂ−３（日本曹達（株）製）、Ｂ−４（日本曹達（株）製）、Ｂ−５（日本曹達（株）製）、Ｂ−６（日本曹達（株）製）、Ｂ−７（日本曹達（株）製）、Ｂ−８（日本曹達（株）製）、Ｂ−９（日本曹達（株）製）、Ｂ−１０（日本曹達（株）製）等の市販品を用いてもよい。

有機ジルコン化合物；
テトラ−１−ブトキシジルコニウム含有物（ＴＢＺＲ；日本曹達（株）製）、テトラブトキシジルコニウム（ＩＶ）とアセチルアセトンの反応生成物の含有物（ＺＲ−１８１；日本曹達（株）製）、テトラブトキシジルコニウムとアセチルアセトンの反応生成物の含有物（ＺＡＡ；日本曹達（株）製）などが挙げられる。
また、ＺＲ−１５１（日本曹達（株）製）等の市販品を用いてもよい。

本発明の感光性樹脂組成物は無溶剤でも構わないが、溶剤（Ｅ）を含むことができる。溶剤（Ｅ）は、感光性樹脂組成物の分野で用いられている各種の有機溶剤であることができる。その具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテルのようなエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル及びジエチレングリコールジブチルエーテルのようなジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート及びエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートのようなエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート及びメトキシペンチルアセテートのようなアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルのようなプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテルプロピレングリコールプロピルメチルエーテル及びプロピレングリコールエチルプロピルエーテルのようなプロピレングリコールジアルキルエーテル類
プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート及びプロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートのようなプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類；
メトキシブチルアルコール、エトキシブチルアルコール、プロポキシブチルアルコール及びブトキシブチルアルコールのようなブチルジオールモノアルキルエーテル類；
メトキシブチルアセテート、エトキシブチルアセテート、プロポキシブチルアセテート、及びブトキシブチルアセテートのようなブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類；
メトキシブチルプロピオネート、エトキシブチルプロピオネート、プロポキシブチルプロピオネート、及びブトキシブチルプロピオネートのようなブタンジオールモノアルキルエーテルプロピオネート類；
ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル及びジプロピレングリコールメチルエチルエーテルのようなジプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレンのような芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンのようなケトン類；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール及びグリセリンのようなアルコール類；
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル及び３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類；
テトラヒドロフラン及びピランのような環状エーテル類；
γ−ブチロラクトンのような環状エステル類などが挙げられる。
上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、好ましくは前記溶剤の中で沸点が１００℃〜２００℃である有機溶剤が挙げられ、より好ましくはアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、ブタンジオールアルキルエーテルアセテート類、ブタンジオールモノアルキルエーテル類、３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチル、のようなエステル類が挙げられ、とりわけ好ましくはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メトキシブチルアセテート、メトキシブタノール、３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチルが挙げられる。
これらの溶剤（Ｅ）は、それぞれ単独で、又は２種類以上混合して用いることができる。
本発明の感光性樹脂組成物における溶剤（Ｅ）の含有量は、感光性樹脂組成物に対して質量分率で、好ましくは６０〜９０質量％、より好ましくは７０〜８５質量％である。溶剤（Ｅ）の含有量が、前記の範囲にあると、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター（ダイコーター、カーテンフローコーターとも呼ばれることがある。）、インクジェットなどの塗布装置で塗布したときに塗布性が良好になる見込みがあり、好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集剤、連鎖移動剤などの添加剤を併用することもできる。
充填剤としては、例えば、ガラス、シリカ、アルミナなどが例示される。
他の高分子化合物としては、例えば、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂などの硬化性樹脂やポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂などを用いることができる。
レベリング剤としては、市販の界面活性剤を用いることができ、例えば、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性などの界面活性剤などが挙げられ、それぞれ単独で又は２種以上を組合せて用いられる。前記の界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、３級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等のほか、商品名でＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、ソルスパース（ゼネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（ＥＦＫＡ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製）、ＰＢ８２１（味の素（株）製）などが挙げられる。
酸化防止剤としては、例えば、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ、ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、３，３’，３’’，５，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどが挙げられる。
紫外線吸収剤としては、例えば、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
また凝集剤としては、例えば、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
連鎖移動剤としては、例えば、ドデシルメルカプタン、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテンなどが挙げられる。

感光性樹脂組成物は、例えば、以下のようにして基材上に塗布し、光硬化及び現像を行って、パターンを形成することができる。まず、この組成物を基板（通常はガラス）又は先に形成された感光性樹脂組成物の固形分からなる層の上に塗布し、塗布された感光性樹脂組成物層からプリベークすることにより溶剤などの揮発成分を除去して、平滑な塗膜を得る。このときの塗膜の厚さは、およそ１〜６μｍである。このようにして得られた塗膜に、目的のパターンを形成するためのマスクを介して紫外線を照射する。この際、露光部全体に均一に平行光線が照射され、かつマスクと基板の正確な位置合わせが行われるよう、マスクアライナーやステッパなどの装置を使用するのが好ましい。さらにこの後、硬化の終了した塗膜をアルカリ水溶液に接触させて非露光部を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状が得られる。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。
塗布方法としては、例えば、スピンコート、流延塗布法、ロール塗布法、スリット アンド スピンコート又はスリットコート法などにより行なわれる。塗布後、加熱乾燥（プリベーク）、又は減圧乾燥後に加熱して、溶剤などの揮発成分を揮発させることによって、感光性樹脂組成物層が形成される。ここで、加熱の温度は、通常、７０〜２００℃、好ましくは８０〜１３０℃である。該感光性樹脂組成物層は揮発成分をほとんど含まない。また、前記感光性樹脂組成物層の厚みは、１．５〜８μｍ程度である。

なお、露光後、露光部分の硬化を促進させるために、加熱処理を行うことが好ましい。その加熱条件は、感光性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃である。

パターニング露光後の現像に使用する現像液は、通常、アルカリ性化合物と界面活性剤を含む水溶液である。
アルカリ性化合物は、無機及び有機のアルカリ性化合物のいずれでもよい。無機アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが挙げられる。
また、有機アルカリ性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどが挙げられる。これらの無機及び有機アルカリ性化合物は、それぞれ単独で又は２種以上組合せて用いることができる。アルカリ現像液中のアルカリ性化合物の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。

またアルカリ現像液中の界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類などが挙げられる。
カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
これらの界面活性剤は、それぞれ単独で用いることも、また２種以上組合せて用いることもできる。
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．０５〜８質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。

現像後、水洗いを行い、さらに必要に応じて１００〜３００℃で１０〜６０分のポストベークを施すこともできる。

本発明の感光性樹脂組成物を用いて、以上のような各工程を経て、基板上あるいはカラーフィルタ基板上に、パターンを形成することができる。このパターンは、液晶及び有機ＥＬ表示装置に使用されるフォトスペーサとして有用である。また、乾燥塗膜へのパターニング露光の際に、ホール形成用フォトマスクを使用すれば、ホールを形成することができ、層間絶縁膜として有用である。さらに、乾燥塗膜への露光の際に、フォトマスクを使用せず全面露光及び加熱硬化、あるいは加熱硬化のみで透明膜を形成することができ、この透明膜は、オーバーコートとして有用であり、また、タッチパネルにも用いることができる。

本発明の感光線性樹脂組成物は、耐熱光透過率に優れる硬化樹脂を提供できる。また、本発明の感光線性樹脂組成物を用いると、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成することができ、フォトスペーサ、絶縁膜、液晶配向制御用突起、オーバーコート、着色パターンの膜厚をあわせるためのコート層、光導波路材料及び光スイッチング材料など、表示装置に用いられる膜の形成に用いることができる。

以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す％及び部は、特に断らないかぎり質量基準である。

合成例１
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００部を入れ、撹拌しながら９０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸３０部、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（Ｉ−３）〕１３５部、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（Ｖ−１）〕１８０部及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６０部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて、９０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１５部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８０部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、９０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分３５．０％、酸価６５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体（樹脂Ａａ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａａの重量平均分子量Ｍｗは、９．９×１０^３であった。

合成例２
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、３−メトキシ−１−ブタノール２００部及び３−メトキシブチルアセテート１０５部を入れ、撹拌しながら７０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸６０部、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２．６］デシルアクリレート（式（ＩＩ−１）で表される化合物及び式（ＩＩＩ−１）で表される化合物を、モル比で、５０：５０で混合。）２４０部及び、３−メトキシブチルアセテート１４０部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて、７０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３０部を３−メトキシブチルアセテート２２５部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、７０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分３２．６％、酸価１１０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体（樹脂Ａｂ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａｂの重量平均分子量Ｍｗは、１．３×１０^４であった。

合成例３
３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（Ｉ−３）〕、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（Ｖ−１）〕をそれぞれ１８０部、１４０部に変更したこと以外は、実施例１と同様にして樹脂Ａｃを得た。得られた樹脂Ａｃの重量平均分子量Ｍｗは、１.１×１０⁴であった。

合成例４
３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（Ｉ−３）〕、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（Ｖ−１）〕をそれぞれ２２０部、１００部に変更したこと以外は、実施例１と同様にして樹脂Ａｄを得た。得られた樹脂Ａｄの重量平均分子量Ｍｗは、１．１×１０^４であった。

合成例５
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を入れ、撹拌しながら９０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸３８部、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（Ｉ−３）〕１５０部、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（Ｖ−１）〕２１０部及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５５部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて、９０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１７部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８０部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、９０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分４０．０％、酸価６１ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体（樹脂Ａｅ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａｅの重量平均分子量Ｍｗは、１．４×１０^４であった。

合成例６
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部を入れ、撹拌しながら９０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸４３部、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（Ｉ−３）〕１７０部、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（Ｖ−１）〕２４０部及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて、９０℃に保温したフラスコ内に滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１７部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８０部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、９０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分４６．０％、酸価６０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体（樹脂Ａｆ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａｆの重量平均分子量Ｍｗは、１．５×１０^４であった。

前記のバインダーポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定については、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置 ；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム ；ＳＨＩＭＡＤＺＵ Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒 ；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速 ；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器 ；ＲＩ

実施例１
合成例１で得られた樹脂Ａａを含む樹脂溶液（Ａ）１４３部（固形分換算５０部）、ＫＲ−２１３（信越化学工業（株）製）（Ｂ）２０部、ＫＣ−８９Ｓ（信越化学工業（株）製）３０部（Ｂ）、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＰＩ−２０７４；ローディア社製）（Ｃ）５部、２，４−ジエチルチオキサントン（Ｆ）１．５部、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）４部（Ｄ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１３０部を混合して感光性樹脂組成物を得て、下記の方法で、その評価を行った。組成を表２に、結果を表６に示す。

＜パターン形成＞
２インチ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）を、中性洗剤、水及びアルコールで順次洗浄してから、乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、クリーンオーブン中、１００℃で３分間プリベークした。冷却後、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製）を用いて、大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射した。
なお、フォトマスクとして、次のパターンが同一平面上に形成されたフォトマスクを用いた。また、光照射時には、感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔が１００μｍになるように設定した。

・１辺が７μｍであるＬＩＮＥ（長方形）形の透光部（パターン）を有し、当該ＬＩＮＥ（長方形）形の間隔が７μｍ。
・１辺が３０μｍであるＬＩＮＥ（長方形）形の透光部（パターン）を有し、当該ＬＩＮＥ（長方形）形の間隔が３０μｍ。

光照射後、感光性樹脂組成物を含む膜を非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液に、２５℃で８０秒間浸漬して現像し、水洗後、オーブン中、２２０℃で３０分間ポストベークした。放冷後、得られた膜の膜厚は、膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ３；日本真空技術（株）製）を用いて測定したところ、３．１μｍであった。

＜溶解性＞
実施例１に記述の感光性樹脂組成物を得た後、溶液を目視にて観察した。感光性樹脂組成物は透明で均一な溶液であった。以下、透明で均一な溶液の場合は○、溶液が不均一又は白濁した場合は×とする。

＜塗膜状態＞
透明ガラス基板（＃１７３７；コーニング社製）に、光照射を行わない以外は上記と同じ方法により硬化樹脂膜を形成し、目視にて塗膜状態を観察した。感光性樹脂組成物では透明で均一な塗膜であった。以下、塗膜が透明である場合は○、白濁している場合は×とする。

＜線幅、断面形状＞
走査型電子顕微鏡（Ｓ−４０００；（株）日立製作所製）を用いて、線幅、形状（断面）を観察、測定した。
フォトマスク上の７μｍおよび３０μｍの、それぞれのパターンに対応するパターンにおいて測定した線幅は、７μｍ部では８．０μｍ、３０μｍ部では３０．３μｍであった。断面形状は、基板に対するパターンの角度が、９０度未満であって、順テーパーであった。なお、基板に対するパターンの角度が９０度以上のときを逆テーパーとして判断した。順テーパーであると、液晶表示装置の形成時に、ＩＴＯ配線の断線が起こりにくいので、好ましい。順テーパーである場合を○とする。

＜耐熱光透過率＞
光照射時に、フォトマスクを使用しない以外は、同様の操作が行い、塗膜を作製した。作製した塗膜を、表に記載した条件でクリーンオーブン中に放置し、加熱前後の光透過率を測定した。顕微分光測光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２００；ＯＬＹＭＰＵＳ社製）を用いて、波長４００ｎｍにおける光透過率（％）を測定した。
式（１）にしたがって、その耐熱光透過率を求め、これを耐熱性の指標とした。得られた値は、２４０℃では１００％、２６０℃では９７％、２８０℃では９５％、３００℃では９６％であった。

［加熱後の光透過率（％）］
耐熱光透過率（％）＝−−−−−−−−−−−−− ×１００ （１）
［加熱前の光透過率（％）］

前記の耐熱光透過率は、９０％以上であることが、好ましい。

実施例２
合成例１で得られた樹脂Ａａを含む樹脂溶液（Ａ）１４３部（固形分換算５０部）、ＫＲ−２１３（信越化学工業（株）製）（Ｂ）５０部、２，２’４−トリス（２−クロロフェニル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニル−１，１’−ビイミダゾール（ＣＨＥＭＣＵＲＥ ＴＣＤＭ；ＣＨＥＭＢＲＩＤＧＥ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ ＣＯＲＰ．製）１０部（Ｃ）、Ｄ−２０（信越化学工業（株）製）４部（Ｄ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２８部を混合して感光性樹脂組成物を得て、下記の方法で、その評価を行った。組成を表１に、結果を表７に示す。

＜パターン形成＞
フォトマスクとして、次のパターンが同一平面上に形成されたフォトマスクを用いたこと以外は、実施例１と同様にしてパターンを形成した。

・１辺が１０μｍであるＬＩＮＥ（長方形）形の透光部（パターン）を有し、当該ＬＩＮＥ（長方形）形の間隔が１０μｍ。
・１辺が１５μｍであるＬＩＮＥ（長方形）形の透光部（パターン）を有し、当該ＬＩＮＥ（長方形）形の間隔が１５μｍ。

＜溶解性＞
実施例１と同様に評価した。

＜塗膜状態＞
実施例１と同様に評価した。

＜線幅、断面形状＞
実施例１と同様に評価した。

＜耐熱光透過率＞
実施例１と同様に評価した。

実施例３
表１に示す組成となるように、式（ＩＶ）で表される光塩基発生剤（１，２−オクタジオン，１−[４−(フェニルチオ)フェニル]−，２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１；チバ・ジャパン（株）製））を混合し、＜パターン形成＞にて、５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射している以外は、実施例２と同様にして、感光性樹脂組成物を得て、実施例２と同様にして、その評価を行った。結果を表７に示す。

比較例１
合成例２で得られた樹脂Ａｂを含む樹脂溶液（Ａ）１５３部（固形分換算５０部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）５０部、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール（Ｂ−ＣＩＭ；保土谷化学（株）製）４部、２，４−ジエチルチオキサントン（ＤＥＴＸ）０．５部、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＭＰ；堺化学工業（株）製）３部、３−エトキシエチルプロピオネート（Ｄ）８８部、３−メトキシブタノール（Ｄ）５部、３−メトキシブチルアセテート（Ｄ）６５部を混合して感光性樹脂組成物を得た。実施例１と同様にして、その評価を行った。結果を表６に示す。

比較例２
表１に示す組成となるように、実施例２と同様にして、感光性樹脂組成物を得て、実施例２と同様にして、その評価を行った。結果を表７に示す。

実施例４〜３０
下記の組成で混合して感光性樹脂組成物を得た。実施例１と同様にして、その評価を行った。結果を表８〜１０に示す。

※樹脂は、固形分のみの量。
※光増感剤（Ｆ）：２，４−ジエチルチオキサントン（ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−ｓ；日本化薬（株）製）
※溶剤（Ｅ）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

※樹脂は、固形分のみの量。
※光重合開始剤（Ｃ） ＳＰ−１７２：トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
※光増感剤（Ｆ）：２，４−ジエチルチオキサントン（ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−ｓ；日本化薬（株）製）
※溶剤（Ｅ）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

−；パターンを形成できなかった。

表６〜１０に示す実施例の結果から、本発明の感光性樹脂組成物からなる塗膜は、耐熱光透過率に優れることがわかる。比較例では、耐熱光透過率が非常に悪いことがわかる。

本発明の感光線性樹脂組成物によれば、耐熱光透過率に優れたパターンを形成することができる。

Claims (9)

1. ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）および感光物質（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物であって、
   シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）は、式（ＩＩ）
   Ｒ ^８ _ｎ Ｓｉ（ＯＲ ^９ ） _４−ｎ （ＩＩ）
   ［式（ＩＩ）中、Ｒ ^８ 及びＲ ^９ は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表し、該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、イミノ基、エポキシ基又は（メタ）アクリロイル基で置換されていてもよい。ｎは、０〜３の整数を表す。ｎが２以下の整数である場合、Ｒ ^９ は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。ｎが２以上の整数である場合、Ｒ ^８ は、それぞれ同一であっても異なる種類の基であってもよい。］
   で表されるモノマーに由来する構造単位を含むオリゴマー、ポリマーまたはこれらの混合物であり、
   シロキサン化合物（Ｂ）の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分に対して質量分率で、２０〜９０質量％である。
2. ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、少なくとも、ケイ素原子を有する重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）とを重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である請求項１記載の感光性樹脂組成物。
3. ケイ素原子を有する重合性不飽和化合物（Ａ１）が、式（Ｉ）で表される化合物である請求項２記載の感光性樹脂組成物。
   

   

   ［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
   Ｒ^２は、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−または−（ＣＨ_２）_ｗ−を表す。Ｒ^２に含まれる炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
   Ｒ^３〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。該脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
   ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、それぞれ独立に、０〜５の整数を表す。］
4. ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、さらに（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く。）を重合してなる共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である請求項２又は３記載の感光性樹脂組成物。
5. 熱硬化促進剤（Ｄ）を含む請求項１〜４のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
6. 溶剤（Ｅ）を含む請求項１〜５のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
7. 光増感剤（Ｆ）を含む請求項１〜６のいずれか記載の感光性樹脂組成物。
8. 請求項１〜７のいずれか記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン。
9. 請求項８記載のパターンを含む表示素子。