JP5127516B2 - 水素生成用原料組成物および水素の製造方法 - Google Patents
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水素の製造はメタンや軽質パラフィンの水蒸気改質法、自己熱改質法、部分酸化法など公知の技術により広く行われているが、これらの反応は高温を必要とする。さらに、COを副生するため燃料電池、特に固体高分子型燃料電池によるオンサイトでの発電を対象とした場合には、その後段にシフト反応器及び、CO選択酸化もしくはメタネーションによる一酸化炭素除去器が必要となり、非常に複雑なプロセスとなる。また、自動車用の水素ステーションを対象とした場合には、PSA(圧力スイング吸着)を用いて高純度の水素にしなければならない。これはメタノールの改質方式においても同じである。
たとえば前述のオンボード水素発生燃料電池自動車に適用する場合では、脱水素反応時に水素を供給させることは水素供給システムを別に備えなければならず、水素発生システムの小型化の点できわめて不利である。このため、水素を供給することなく脱水素反応を触媒の活性劣化を抑制する方法が熱望されていた。
小林紀,「季報エネルギー総合工学」,2003年,第25巻,第4号,p.73〜87 市川勝,「工業材料」,2003年,第51巻,第4号,p.62〜69 岡田佳巳ら,「水素エネルギーシステム」,2006年,第31巻,第2号,p.3〜13
本発明の水素生成用原料組成物としては、主成分としてシクロヘキサン環を有する有機化合物が用いられる。本発明においてシクロヘキサン環とは、脱水素可能な飽和六員環を言い、脱水素反応により芳香族環を生成し、生成する芳香族環はベンゼン環になるものに限られず、2環、3環などの多環芳香族環(縮合環)となるものも含む。
本発明で用いられるシクロヘキサン環を有する有機化合物としては特に限定されるものではないが、シクロヘキサン環を有する1環または2環の化合物が好ましい。また置換基を有していてもよいが、脱水素反応に悪影響を及ぼさないものが好ましい。置換基としてはアルキル基が好ましく、アルキル基としては炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。
含酸素有機化合物の場合、炭素数が2以上のものが好ましい。また、軽油クラスの炭素数16程度までは使用可能であるが、シクロヘキサン環を含む炭化水素と比べ、大幅に重質となってしまう化合物は使用上問題となる可能性があるため、炭素数8以下のものが好ましい。含酸素有機化合物としては、特にアルコールおよびエーテルが好ましい。
本発明の水素生成用原料組成物には、2種以上の異なる含酸素化合物が含まれてもよい。2種以上の含酸素化合物を用いる場合、2種以上の異なる含酸素化合物をシクロヘキサン環を有する有機化合物に個別に添加してもよいし、含酸素化合物の混合物を添加してもよい。
脱水素触媒における触媒活性主成分は脱水素活性を有する成分であり、任意に選択することができる。好ましくは周期表の第7A族、第8族、第1B族元素であり、具体的には鉄、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金などが挙げられる。これらの中でも、ニッケル、パラジウム、白金、レニウムが好ましい。またこれらの元素の2種類以上を組み合わせても良い。なお、本明細書では、周期表の表記はIUPAC1987年版に基づく。
含浸法に用いる化合物は水溶性の塩が好ましく、水溶液として含浸することが好ましい。水溶性の化合物としては、塩化物、硝酸塩、炭酸塩、酢酸塩、アンモニウム塩が好ましく挙げられる。また、貴金属の場合、金属のコロイド溶液を用いることも好ましく、たとえば、白金のコロイド溶液などが好ましく用いられる。この場合、白金コロイド粒子の粒子径は4nm以下であることが好ましい。
LHSV(液空間速度)の好ましい範囲は、触媒の活性に依存するが、通常は0.2hr−1以上、40hr−1以下である。
金属膜の場合、管状で細孔を有する多孔質金属支持体もしくは管状で細孔を有する多孔質セラミック支持体の内表面もしくは外表面に金属薄膜を形成させた水素分離膜であり、金属薄膜として、Pdを100〜10質量%含む金属膜、もしくは、Ag、Cu、V、Nb、Taより選ばれる少なくとも一種の金属を80〜10質量%含む金属膜が好ましい。
分離膜用支持体上での金属薄膜の形成方法は任意の方法を選択できるが、具体的には、無電解メッキ法、蒸着法、圧延法などが挙げられる。
金属であるので、熱伝導性は高く、熱供給が速くなり反応効率が向上する効果がある。すなわち、脱水素反応は吸熱反応であるために、反応部分に金属管を用い、適宜の加熱手段による加熱で熱を供給し、触媒と水素分離膜の間隙内の脱水素反応に熱を付与することにより、かかる脱水素反応への熱の付与が容易となる。
高表面積化した外表面は、触媒担持のために、アルミナなどの安定で高表面積を有する金属酸化物の層を形成することが好ましい。このためには、例えば、高表面積処理した脱水素反応面に、アルミナ水和物ゾルを塗布・乾燥後、焼成して、担体としての金属酸化物層を形成させることができる。
たとえば、フィン型としては、脱水素反応面に軸方向に長く、そして外側に向かって伸びる複数のフィン状突起を設ける構造とすることができる。該フィン表面には触媒を直接保持させる。好適には、先に述べたように金属酸化物層を表面に形成させて、該酸化物層を担体として触媒活性成分を担持させる。このようなフィン型は原料組成物と接触面積が大であるので加熱が容易となり好ましい。また管外側に加熱源を配置する場合には、この加熱源に直接接触することが可能となるので好ましい。
ここで、膜分離反応器における水素分離膜の透過側圧力は、0.2MPa以下が好ましく、0.12MPa以下がさらに好ましい。また、水素分離膜の透過側には、透過側水素分圧を低下させる目的で不活性ガスを供給することが好ましい。透過側水素分圧は、0.12MPa以下が好ましく、0.05MPa以下がさらに好ましい。もっとも好ましくは0.01MPa以下である。
γ−アルミナ担体に0.3質量%の白金を担持した平均直径1.5mmの球状市販触媒を触媒Aとした。触媒A3mlを内径8mmのステンレス製反応管に充填して固定床流通系反応装置に取り付けた。前処理として、水素を50ml/min.の流量で流し300℃で1時間還元処理をした後、窒素でパージした。メチルシクロヘキサン(MCH)にエタノールを組成物全量基準で5mol%添加した原料を実験に用いた。窒素の供給を止め、ガスを流さない状態で反応管の入口からマイクロフィーダーを用いて所定量の原料を供給し、反応温度(反応による吸熱により触媒層に温度分布が生じるため、触媒層出口の温度を反応温度とした)330℃、反応圧力0.1MPa(大気圧)、LHSV=5h−1の条件にて実験を開始し、反応管出口から得られる生成液をガスクロマトグラフで分析しMCHの転化率の経時変化を測定した。実験は1日に数時間行っていったん停止し、再スタートする方法で数日に渡って実施した。停止の際には原料の供給を止めて直ちに反応温度を下げた。再スタートの際には反応温度を上げ始めると同時に原料の供給を開始した。停止と再スタートの間には水素による還元および窒素によるパージは行わなかった。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンに2−プロパノールを5mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンに1−ブタノールを5mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンにイソブチルアルコールを5mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンにt−ブチルアルコールを5mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンに2−プロパノールを1mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンに2−プロパノールを15mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンに2−プロパノールを20mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンにイソプロピルエーテルを5mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンにエチルt−ブチルエーテルを5mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料を用いるかわりに、メチルシクロヘキサンと水を別のマイクロフィーダーから反応管入口に供給し、原料に対して水が10mol%になるようにしたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりにメチルシクロヘキサンにメタノールを5mol%添加した原料を用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料のかわりに含酸素化合物を添加していないメチルシクロヘキサンを原料として用いたほかは参考例1と同様に実験を行った。積算通油量0.05L時のMCH転化率および積算通油量0.25L時のMCH転化率を表1に示す。
図1に試作した膜分離反応器を示した。中心部に水素透過部分の長さが12cm、外径10mmのPd系水素分離膜、その周囲に内部フィンを有する熱交換器型触媒(触媒部の長さ12cm、触媒容積24ml)を有するような構成となっている。この膜分離反応器の外周部に図2に示すように触媒燃焼部を有する加熱器を設置し、水素発生システムを試作した。脱水素反応部はトルエンを燃焼させることにより加熱される方式となっている。
この水素発生システムを用いて、メチルシクロヘキサンからの水素生成試験を実施した。燃料のトルエン量を調節することにより反応温度をコントロールしながら、LHSV=7.5h−1、反応温度(触媒部出口の温度を反応温度とした)330℃、反応圧力0.5MPaの条件で実験を行い、反応開始から約2時間で定常状態となった。このときのメチルシクロヘキサン転化率は76%であった。
比較例2に示した水素発生システムで、メチルシクロヘキサンにエタノールを5mol%添加した原料を用いた他は比較例2と同様に実験を行った。このときのメチルシクロヘキサン転化率は85%であった。
Claims (4)
- メチルシクロヘキサンを80〜95mol%および2−プロパノールを5〜20mol%含有してなる、当該シクロヘキサン環の脱水素反応により水素を生成する水素生成用原料組成物。
- 脱水素触媒の存在下、請求項1に記載の水素生成用原料組成物を流通させ、シクロヘキサン環を脱水素させることにより水素を発生するとともに脱水素反応生成物を得ることを特徴とする水素の製造方法。
- 請求項2に記載の方法により得られる水素および脱水素反応生成物、ならびに脱水素反応前の水素生成用原料組成物から選ばれる少なくとも1種を燃焼させ、その燃焼熱を利用して脱水素反応を行うことを特徴とする水素の製造方法。
- 請求項2に記載の方法により得られる水素と脱水素反応生成物を膜分離により分離することを特徴とする水素製造システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008065144A JP5127516B2 (ja) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | 水素生成用原料組成物および水素の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008065144A JP5127516B2 (ja) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | 水素生成用原料組成物および水素の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009221033A JP2009221033A (ja) | 2009-10-01 |
JP5127516B2 true JP5127516B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=41238232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008065144A Active JP5127516B2 (ja) | 2008-03-14 | 2008-03-14 | 水素生成用原料組成物および水素の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5127516B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5596360B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2014-09-24 | 日立エーアイシー株式会社 | 水素触媒部材およびその製造方法 |
EP4324560A1 (en) * | 2021-04-16 | 2024-02-21 | Chiyoda Corporation | Hydrogen station and hydrogen generation method |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2736592B2 (ja) * | 1993-05-13 | 1998-04-02 | 川崎重工業株式会社 | 脱水素反応の促進方法及び装置 |
JP2003095603A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | Sekisui Chem Co Ltd | 水素貯蔵・供給システム |
JP2003260360A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-16 | Toyota Motor Corp | 脱水素触媒および水素ガス生成装置 |
JP4311015B2 (ja) * | 2002-12-25 | 2009-08-12 | 東京電力株式会社 | 水素供与剤及びそれを用いた水素の貯蔵、輸送方法 |
JP2007076992A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Nippon Oil Corp | 水素製造装置およびそれを利用する燃料電池システム |
-
2008
- 2008-03-14 JP JP2008065144A patent/JP5127516B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009221033A (ja) | 2009-10-01 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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