JP5125271B2 - 反射スクリーンの製造方法および反射スクリーン - Google Patents

Description

この発明は、反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンに関するものである。

従来から、投影画像を反射させて観察可能にする反射スクリーンが知られている。このような反射スクリーンとして、スクリーン基板の前面側に同一形状の多数の凸状の単位形状部が２次元的に規則的に配置され、凸状の単位形状部の投影光入射方向に向かう一部の観察面部分に反射面が形成されている反射スクリーンが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００６−２１５１６２号公報

しかしながら、上記従来の反射スクリーンは、反射面の形成方法として、スプレーコート方法、印刷方法等を用いている。これらの方法では、反射面を所定の部分に正確に形成することが困難であるという課題がある。反射面が所定の部分に正確に形成されない場合、コントラストの低下、外光の写りこみの増加、観察面内でのコントラストの偏り等の問題が生じる。

そこで、この発明は、反射膜を所定の部分に正確に形成することができる反射スクリーンの製造方法および反射スクリーンを提供するものである。

上記の課題を解決するために、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、前記観察面に反射膜を形成する工程と、前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、残存させた前記レジストを剥離させる工程と、を有することを特徴とする。
このように製造することで、観察面の凹部または凸部に沿って反射膜が形成され、その反射膜上に形成されたレジストを、凹部または凸部の投影光が照射される部分に残存させることができる。この状態で反射膜をエッチングすることで、凹部または凸部の投影光が照射される部分に反射膜を形成することができる。また、レジストを感光させる光を、投影光の観察面に対する入射角度よりも小さい角度で入射させることで、観察面内に形成される複数の反射膜の面積の差を小さくするとともに、反射膜への外光の入射を防止することができる。
したがって、本発明の反射スクリーンの製造方法によれば、反射スクリーンの反射膜を凹部または凸部の投影光が照射される部分に正確に形成し、コントラストの低下の防止、外光の写りこみの防止、観察面内でのコントラストの偏りの防止等を実現することができる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記スクリーン基板の少なくとも前記観察側の、少なくとも前記反射膜の非形成領域に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする。
このように製造することで、反射膜の非形成領域に入射した外光をスクリーン基板によって吸収可能とし、外光の映り込みを防止して、コントラストの良好な反射スクリーンを得ることができる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、前記観察面に反射膜を形成する工程と、前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、感光させた前記レジストを剥離させ、それ以外の前記レジストを光吸収膜として残存させる工程と、を有することを特徴とする。
このように製造することで、観察面の凹部または凸部に沿って反射膜が形成され、その反射膜上の、凹部または凸部の投影光が照射される部分に形成されたレジストのみを取り除くことができる。これにより、凹部または凸部の投影光が照射される部分の反射膜を露出させ、それ以外の部分をレジストによって覆い、レジストを光吸収膜として機能させることができる。また、レジストを感光させる光を、投影光の観察面に対する入射角度よりも小さい角度で入射させることで、観察面内に露出される複数の反射膜の面積の差を小さくするとともに、反射膜への外光の入射を防止することができる。
したがって、本発明の反射スクリーンの製造方法によれば、反射スクリーンの反射膜を凹部または凸部の投影光が照射される部分に正確に形成し、コントラストの低下、外光の写りこみ、観察面内でのコントラストの偏り等を防止することができる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記光吸収膜をベーキングする工程を有することを特徴とする。
このように製造することで、熱により光吸収膜を変形させ、光吸収膜の膜厚が外縁部に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成される。これにより、光吸収膜と反射膜との境界での反射率の急峻な変化を緩和することができる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記スクリーン基板の前記観察面とは反対側の非観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、前記非観察面に反射膜を形成する工程と、前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を、前記投影光の入射方向の反対方向から前記非観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させ、前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、残存させた前記レジストを剥離させる工程と、を有することを特徴とする。
このように製造することで、観察面の凹部または凸部に沿って反射膜が形成され、その反射膜上に形成されたレジストを、凹部または凸部の投影光が照射される部分に残存させることができる。この状態で反射膜をエッチングすることで、凹部または凸部の投影光が照射される部分に反射膜を形成することができる。また、レジストを感光させる光を、非観察面に、投影光の観察面に対する入射角度よりも小さい角度で入射させることで、非観察面内に形成される複数の反射膜の面積の差を小さくするとともに、反射膜への外光の入射を防止することができる。
したがって、本発明の反射スクリーンの製造方法によれば、反射スクリーンの反射膜を凹部または凸部の投影光が照射される部分に正確に形成し、コントラストの低下、外光の写りこみ、観察面内でのコントラストの偏り等を防止することができる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記非観察面に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とすることを特徴とする。
このように製造することで、スクリーン基板を透過し凹部または凸部の反射膜の非形成領域に入射した外光を、光吸収層によって吸収可能とし、外光の映り込みを防止して、コントラストの良好な反射スクリーンを製造することができる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凹部または前記複数の凸部を形成する工程において、凹部を形成することを特徴とすることを特徴とする。
このように製造することで、観察面側に凹部を形成する場合には、投影光に対して凹状の反射膜が形成され、非観察面側に凹部を形成する場合には、投影光に対して凸状の反射膜が形成される。したがって、投影光に対して凹状の反射膜が形成された場合には、観察面の法線方向に対する光の集光性に優れた反射スクリーンとなる。また、投影光に対して凸状の反射膜が形成された場合には、光の散乱性に優れた反射スクリーンとなる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法は、前記複数の凹部または前記複数の凸部を形成する工程において、凸部を形成することを特徴とする。
このように製造することで、観察面側に凸部を形成する場合には、投影光に対して凸状の反射膜が形成され、非観察面側に凸部を形成する場合には、投影光に対して凹状の反射膜が形成される。したがって、投影光に対して凹状の反射膜が形成された場合には、観察面の法線方向に対する光の集光性に優れた反射スクリーンとなる。また、投影光に対して凸状の反射膜が形成された場合には、光の散乱性に優れた反射スクリーンとなる。

また、本発明の反射スクリーンは、スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部が形成され、前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分に沿って、前記投影光を反射する反射膜が形成され、前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分を除く前記反射膜上に光吸収膜が形成され、前記光吸収膜の膜厚が前記反射膜との境界に近づくに従って徐々に薄くなっていることを特徴とする。
このように構成することで、光吸収膜の外縁部の光吸収性を徐々に低下させ、反射膜と光吸収膜との境界における反射率の急峻な変化を緩和することができる。したがって、反射スクリーンに対する観察角度を変化させたときに、投影画像のコントラストの変化を緩やかにすることができる。

＜第一実施形態＞
以下、本発明の第一実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図２に示すように、まず、スクリーン基板１の観察面１ａの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、複数の凹部２を形成する。
凹部２の形成方法は、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００４−２８６９０６号公報に記載されているように、スクリーン基板１の観察面１ａに形成したエッチングマスク膜に、レーザ加工により凹部２の形成位置に対応するエッチング用孔を形成し、ウエットエッチングを行うことで、凹部２を形成することができる。
これにより、略半球状の凹部２が形成される。凹部２の直径Ｄ１および水平方向の中心間の間隔Ｄ２は、例えば、約１００μｍ程度に形成される。

次に、凹部２を形成したスクリーン基板１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板１自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、図３に示すように、スクリーン基板１の観察面１ａに、例えば、アルミニウム等の反射性に優れた材料によって、反射膜３を形成する。反射膜３は、例えば、スパッタリング法、蒸着法、静電スプレー法等により形成する。これにより、凹部２の表面２ａを含むスクリーン基板１の観察面１ａに反射膜３が形成される。

次に、スクリーン基板１の観察面１ａの反射膜３上に、ネガ型のレジストＮＲを形成する。
次いで、図４に示すように、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓを露光光源Ｓから観察面１ａに対して斜めに照射してレジストＮＲを感光させる。ここで、反射スクリーンに対する投影光の射出位置を予め仮想光源位置ＰＶとして想定しておく。そして、露光光源Ｓから射出されるレジストＮＲを感光させる光Ｌｓの観察面１ａの各凹部２に対する入射角度θｓが、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの各凹部２に対する入射角度θｐ以下となるように露光光源Ｓを配置する。
この状態でレジストＮＲを露光させることで、凹部２の、投影光Ｌｐが照射される部分に対応した部分のレジストＮＲが感光する。また、凹部２の、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓが照射される部分の面積は、凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下となる。

次に、レジストＮＲを現像液に浸漬し、図５（ａ）に示すように、感光させた部分のレジストＮＲを残存させ、それ以外のレジストＮＲを剥離させる。これにより、レジストＮＲの感光させた部分を除いて反射膜３が露出する。
次いで、露出した反射膜３を、図５（ｂ）に示すように、エッチングによって除去する。これにより、レジストＮＲを感光させた部分を除いて、凹部２の表面２ａが露出する。
次いで、反射膜３上に残存させたレジストＮＲを溶解または剥離させ、図５（ｃ）に示すように反射膜３を露出させる。これにより、凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分に対応した部分に反射膜３が形成される。また、反射膜３は凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に形成される。

また、反射膜３は、上述のように形成することで、図６に示すように、仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射方向に対応し、スクリーン基板１の観察面１ａに露光光源Ｓの位置を中心として、放射状に形成される。
このように、フォトレジストおよびエッチングにより凹部２に反射膜３を形成することで、従来のスプレーコート方法、印刷方法等を用いた場合と比較して、投影光Ｌｐの入射する部分に対応して正確に反射膜３を形成することができる。

次に、図７に示すように、凹部２の表面２ａを含むスクリーン基板１の観察面１ａに保護層４を形成する。保護層４は、例えば、透明な樹脂等の光透過性を有する材料により形成する。さらに保護層４の表面に、反射防止層５を形成する。反射防止層５は、保護層４と同様の材料により形成され、反射防止層５に入射する投影光Ｌｐや外光が保護層４の表面で反射しないように、保護層４との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーンの製造方法によれば、図７に示すような反射スクリーン１００を製造することができる。

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン１００について説明する。
図８に示すように、反射スクリーン１００は、観察面１００ａの法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクタＰから、観察面１００ａに向けて斜めに射出された投影光Ｌｐを、反射スクリーン１００の観察側（Ｚ軸正方向側）に反射するものである。反射スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。

プロジェクタＰは投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の観察面１００ａに向けて反射するミラーＭを備えている。ここで、投影光ＬｐがミラーＭを備えていないプロジェクタＰから射出されたと仮定した場合のプロジェクタＰの位置を仮想光源位置ＰＶとする。仮想光源位置ＰＶもプロジェクタＰと同様に、反射スクリーン１００の観察面１００ａの法線ＮＬに対して垂直方向にずれた位置となる。

プロジェクタＰは、仮想光源位置ＰＶと観察面１００ａとの距離Ｄを約９００ｍｍとし、仮想光源位置ＰＶから反射スクリーン１００の中心点Ｃに向かう投影光Ｌｐと観察面１００ａのなす角度θを約３６°としたときに、反射スクリーン１００に垂直方向の寸法Ｈが約９９６ｍｍ、水平方向（Ｘ軸方向）の寸法Ｗが１７７１ｍｍの画像を投影可能に構成されている。すなわち、反射スクリーン１００は８０インチの投影画像を表示可能な大きさとなっている。

次に、この反射スクリーン１００の作用について説明する。
図８に示すように、プロジェクタＰはミラーＭに向けて投影光Ｌｐを射出する。ミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、ミラーＭによって反射され、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に、反射スクリーン１００の観察面１００ａに対して斜めに入射する。このとき、反射スクリーン１００の中心点Ｃに入射する投影光Ｌｐと、反射スクリーン１００の観察面１００ａとのなす角度θは、約３６°となっている。

反射スクリーン１００の観察面１００ａに到達した投影光Ｌｐは、図７に示す反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５は保護層４との間で屈折率が調整されているので、反射防止層５を透過した投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凹部２の表面２ａに形成された反射膜３に到達する。反射膜３に到達した投影光Ｌｐは、反射膜３によって反射スクリーン１００の観察側に反射される。

ここで、図６および図７に示すように、反射膜３は、凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分に対応して、正確に形成されている。したがって、反射膜３の位置ずれによるコントラストの低下、および観察面１ａ内でのコントラストの偏り等を防止することができる。
また、凹部２の表面２ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状の反射膜３が観察面１ａに投影光Ｌｐの入射方向に対応して、露光光源Ｓを中心に、放射状に形成されている。これにより、反射スクリーン１００の垂直方向上方（Ｙ軸方向正方向）側および水平方向の両端側に、垂直方向および水平方向に角度を有して観察面１００ａに入射する投影光Ｌｐを、反射膜３によって観察側のより法線ＮＬに近い方向に効率よく反射させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させることができる。

ところで、図８に示すように、反射スクリーン１００の観察面１００ａには、投影光Ｌｐ以外に、垂直方向の上方（Ｙ軸正方向）側から外光Ｌｏが入射する。観察面１００ａに入射した外光Ｌｏは、図７に示す反射防止層５に入射して、反射防止層５を透過し、保護層４の表面４ａに到達する。このとき、反射防止層５によって、観察面１００ａの上方から観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、保護層４の表面４ａで観察側に反射することが防止される。

保護層４の表面４ａに到達した外光Ｌｏは、保護層４を透過して凹部２に入射する。凹部２に入射した外光Ｌｏは、凹部２の反射膜３の非形成領域に到達する。
ここで、スクリーン基板１は、上述のように着色され、可視光に対して光吸収層として機能するように形成されているので、凹部２の表面２ａの反射膜３の非形成領域に到達した外光Ｌｏは、スクリーン基板１によって吸収される。また、スクリーン基板１の凹部２の非形成領域に到達した外光Ｌｏも、同様にスクリーン基板１によって吸収される。さらに、反射膜３は凹部２に垂直方向の下方（Ｙ軸負方向）側から射出された投影光Ｌｐが入射する部分に対応して形成されているので、外光Ｌｏの反射膜３への入射が防止される。したがって、反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。

また、反射膜３は凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に形成されている。これにより、凹部２の表面２ａにおける反射膜３の非形成領域の面積を大きくすることができる。したがって、外光Ｌｏをより確実に反射膜３の非形成領域に入射させ、反射膜３に外光Ｌｏが入射することを防止し、外光の写りこみ等を防止することができる。
また、図６および図７に示すように、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凹部２の表面２ａの反射膜３が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３の非形成領域が拡大している。したがって、より外光Ｌｏの影響を受けやすい反射スクリーン１００の垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させることができる。

また、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓの各凹部２に対する入射角度θｓを、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの各凹部２に対する入射角度以下となるようにしたことで、仮想光源位置ＰＶから各凹部２までの距離の差による反射膜３の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板１の観察面１ａ内の反射率の偏りを減少させ、投影画像の観察面１ａ内のコントラストの差を減少させることができる。

また、反射防止層５は、プロジェクタＰから反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射する投影光Ｌｐに対しては、投影光Ｌｐを反射膜３により確実に到達させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させる効果がある。一方、観察面１００ａに入射する外光Ｌｏに対しては、外光Ｌｏを保護層４によって観察側に反射させず、スクリーン基板１に吸収させる効果がある。したがって、上述のように反射防止層５を形成することで、反射スクリーン１００のコントラストを向上させることができる。

以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン１００によれば、反射スクリーン１００の反射膜３を凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分に対応して正確に形成し、反射膜３の非形成領域で外光Ｌｏを吸収することで、コントラストの低下の防止、外光の写りこみの防止、観察面内でのコントラストの偏りの防止を実現することができる。
加えて、反射膜３を覆うように保護層４が形成されているので、反射膜３の損傷や劣化を防止することができる。

＜第二実施形態＞
次に、本発明の第二実施形態について、図１および図８を援用し、図９（ａ）〜図９（ｃ）を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン１００の製造方法と、スクリーン基板１１の観察面１１ａに凸部２１を形成する点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図９（ａ）に示すように、まず、スクリーン基板１１の観察面１１ａの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、複数の凸部２１を形成する。
凸部２１の形成方法は、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００４−２８６９０６号公報に記載されているように、凸部２１を形成するための型に、凸部２１に対応する凹部をエッチング等により形成し、型の凹部が形成された面に熱可塑性の樹脂等を、熱を加えながら押し当てることにより、凸部２１を形成することができる。
これにより、略半球状の凸部２１が形成される。凸部２１の直径Ｄ１および水平方向の中心間の間隔Ｄ２は、例えば、約１００μｍ程度に形成される。

次に、第一実施形態と同様に、スクリーン基板１１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板１自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、凸部２１の表面２１ａを含むスクリーン基板１１の観察面１１ａに、第一実施形態と同様に反射膜３１を形成する。そして、反射膜３１上に反射膜３１を覆うネガ型のレジストＮＲを形成する。
次いで、図９（ａ）に示すように、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓを、露光光源Ｓから観察面１１ａに対して斜めに照射してレジストＮＲを感光させる。

ここで、反射スクリーンに対する投影光Ｌｐの射出位置を仮想光源位置ＰＶとして想定する。そして、露光光源Ｓから射出されるレジストＮＲを感光させる光Ｌｓの観察面１１ａの各凸部２１に対する入射角度θｓが、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの各凸部２１に対する入射角度θｐ以下となるように、露光光源Ｓを配置する。
この状態でレジストＮＲを露光させることで、凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分に対応した部分のレジストＮＲが感光する。また、凸部２１のレジストＮＲを感光させる光Ｌｓが照射される部分の面積は、凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下となる。

次に、レジストＮＲを現像液に浸漬し、図９（ｂ）に示すように、感光させた部分のレジストＮＲを残存させ、それ以外のレジストＮＲを剥離させ、露出した反射膜３１をエッチングによって除去する。これにより、レジストＮＲを感光させた部分を除いて、凸部２１の表面２１ａが露出する。
次いで、図９（ｃ）に示すように、第一実施形態と同様に、反射膜３１上に残存させたレジストＮＲを溶解または剥離させ、スクリーン基板１１の観察面１１ａに保護層４および反射防止層５を形成する。

これにより、凸部２１のレジストＮＲを感光させる光Ｌｓが照射される部分に反射膜３１が形成され、反射膜３１の面積は凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に形成される。
以上、本実施形態の反射スクリーン２００の製造方法によれば、図９（ｃ）に示すような反射スクリーン２００を製造することができる。

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン２００について説明する。
図８に示すように、反射スクリーン２００は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。プロジェクタＰは、第一実施形態と同様に構成され、第一実施形態と同様に配置されている。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に反射スクリーン２００の観察面２００ａに対して斜めに入射する。

反射スクリーン２００の観察面２００ａに到達した投影光Ｌｐは、図９（ｃ）に示す反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５は保護層４との間で屈折率が調整されているので、反射防止層５を透過した投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。

保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凸部の表面に形成された反射膜３１に到達する。反射膜３１に到達した投影光Ｌｐは、反射膜３１によって反射スクリーン２００の観察側に反射される。
ここで、図９（ａ）および図９（ｃ）に示すように、反射膜３１は、凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分に対応して、正確に形成されている。したがって、反射膜３１の位置ずれによるコントラストの低下を防止し、観察面１１ａ内でのコントラストの偏り等を防止することができる。

また、凸部２１の表面２１ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状の反射膜３１が観察面１１ａに露光光源Ｓを中心に、投影光Ｌｐの入射方向に対応して、放射状に形成されている。これにより、反射スクリーン２００の垂直方向上方（Ｙ軸方向正方向）側および水平方向の両端側に、垂直方向および水平方向に角度を有して観察面２００ａに入射する投影光Ｌｐを、反射膜３１によって観察側のより法線ＮＬに近い方向に効率よく反射させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させることができる。

一方、図８に示すように、反射スクリーン２００の観察面２００ａに垂直方向の上方（Ｙ軸正方向側）から入射する外光Ｌｏは、第一実施形態と同様に、図９（ｃ）に示す反射防止層５によって、保護層４の表面４ａで観察側に反射することが防止される。
保護層４の表面４ａに到達した外光Ｌｏは、保護層４を透過して凸部２１に到達する。凸部２１に到達した外光Ｌｏは、凸部２１の反射膜３３の非形成領域に入射する。
ここで、スクリーン基板１１は、上述のように着色され、可視光に対して光吸収層として機能するように形成されているので、凸部２１の表面２１ａの反射膜３１の非形成領域に到達した外光Ｌｏは、スクリーン基板１１によって吸収される。また、スクリーン基板１１の凸部２１の非形成領域に到達した外光Ｌｏも、同様にスクリーン基板１によって吸収される。さらに、反射膜３１は凸部２１の投影光Ｌｐが入射する部分に対応して形成されているので、外光Ｌｏが反射膜３１に入射することが防止される。したがって、反射スクリーン２００の観察面２００ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。

また、反射膜３１は凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に形成されている。これにより、凸部２１の表面２１ａにおける反射膜３１の非形成領域の面積を大きくすることができる。したがって、外光Ｌｏを反射膜３１の非形成領域により確実に入射させ、反射膜３１に外光Ｌｏが入射することを防止し、外光Ｌｏの写りこみ等を防止することができる。
また、図９（ａ）〜図９（ｃ）に示すように、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凸部２１の表面２１ａの反射膜３１が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３１の非形成領域が拡大している。したがって、より外光Ｌｏの影響を受けやすい反射スクリーン２００の垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させることができる。

また、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓの観察面１１ａに対する入射角度θｓを、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの観察面１１ａに対する入射角度θｐ以下となるようにしたことで、仮想光源位置ＰＶから各凸部２１までの距離の差による反射膜３１の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板１１の観察面１１ａ内の反射率の偏りを減少させ、投影画像のコントラストの差を減少させることができる。

また、反射防止層５は、プロジェクタＰから反射スクリーン２００の観察面２００ａに入射する投影光Ｌｐに対しては、投影光Ｌｐを反射膜３１により確実に到達させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させる効果がある。一方、観察面２００ａに入射する外光Ｌｏに対しては、外光Ｌｏを保護層４によって観察側に反射させず、スクリーン基板１１に吸収させる効果がある。したがって、上述のように反射防止層５を形成することで、反射スクリーン２００のコントラストを向上させることができる。

以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン２００によれば、反射スクリーン２００の反射膜３１を凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分に対応して正確に形成し、コントラスト低下の防止、外光の写りこみの防止、および観察面１１ａ内でのコントラストの偏りの防止を実現することができる。
加えて、反射膜３１を覆うように保護層４が形成されているので、反射膜３１の損傷や劣化を防止することができる。

＜第三実施形態＞
次に、本発明の第三実施形態について、図１〜図４、図６および図８を援用し、図１０（ａ）〜図１０（ｃ）を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン１００の製造方法と、スクリーン基板１の観察面１ａの凹部２に形成された反射膜３上に光吸収膜を形成する点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図２に示すように、スクリーン基板１の観察面１ａの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、第一実施形態と同様に複数の凹部２を形成する。
次に、凹部２を形成したスクリーン基板１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板１自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、図３に示すように、スクリーン基板１の観察面１ａに、第一実施形態と同様に反射膜３を形成する。

次に、スクリーン基板１の観察面１ａの反射膜３上に、ポジ型のレジストＰＲを形成する。ここで、レジストＰＲは、例えば、黒色に着色され、可視光を吸収可能なものを用いる。次いで、図４に示すように、第一実施形態と同様に、レジストＰＲを感光させる光を露光光源Ｓから観察面１ａに対して斜めに照射してレジストＰＲを感光させる。
次に、レジストＰＲを現像液に浸漬し、図１０（ａ）に示すように、感光させた部分のレジストＰＲを剥離させ、それ以外のレジストＰＲを残存させる。これにより、レジストＰＲを感光させた部分の反射膜３を露出させ、それ以外の部分の反射膜３を、可視光を吸収可能な光吸収膜として機能するレジストＰＲによって覆い、反射膜３の非形成領域とすることができる。

次いで、残存させたレジストＰＲをベーキングする。これにより、図１０（ｂ）に示すように、レジストＰＲが熱により変形し、レジストＰＲの膜厚が、レジストＰＲの外縁の反射膜３との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成される。
また、反射膜３は、上述のように形成することで、図６に示すように、仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射方向に対応し、スクリーン基板１の観察面１ａに露光光源Ｓの位置を中心として、放射状に露出される。

このように、フォトレジストにより凹部２に反射膜３を露出させることで、従来のスプレーコート方法、印刷方法等を用いた場合と比較して、投影光Ｌｐの入射する部分に対応して正確に反射膜３を形成することができる。
また、第一実施形態と比較して、反射膜３をエッチングする工程を省略できるので、工程を簡略化して製造を容易にし、生産性を向上させ、製造コストを低減することができる。

次に、図１０（ｂ）に示すように、第一実施形態と同様に保護層４、反射防止層５を形成する。
以上、本実施形態の反射スクリーン１０１の製造方法によれば、図１０（ｃ）に示すような反射スクリーン１０１を製造することができる。

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン１０１について説明する。
図８に示すように、反射スクリーン１０１は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。プロジェクタＰは、第一実施形態と同様に構成され、第一実施形態と同様に配置されている。
図８に示すように、プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、ミラーＭによって反射され、反射スクリーン１０１の観察面１０１ａに対して斜めに入射する。

反射スクリーン１０１の観察面１０１ａに到達した投影光Ｌｐは、図１０（ｃ）に示す反射防止層５に入射し、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５によって投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凹部２の表面２ａに形成された反射膜３に到達する。反射膜３に到達した投影光Ｌｐは、第一実施形態と同様に、反射膜３によって反射スクリーン１０１の観察側に反射される。

一方、図８に示すように、観察面１０１ａに入射した外光Ｌｏは、第一実施形態と同様に、反射防止層５によって、保護層４の表面４ａで観察側に反射することが防止される。
保護層４を透過して凹部２に入射した外光Ｌｏは、凹部２の反射膜３の非形成領域に到達する。
ここで、反射膜３の非形成領域には、上述のように、光吸収膜として機能するレジストＰＲが形成されているので、凹部２の表面２ａの反射膜３の非形成領域に到達した外光Ｌｏは、レジストＰＲによって吸収される。さらに、反射膜３は凹部２に垂直方向の下方（Ｙ軸負方向）側から射出された投影光Ｌｐが入射する部分に対応して形成されているので、外光Ｌｏの反射膜３への入射が防止される。したがって、反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。

また、反射膜３は凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に露出されている。これにより、凹部２の表面２ａにおけるレジストＰＲの面積を大きくすることができる。したがって、外光ＬｏをレジストＰＲにより確実に入射させ、反射膜３に外光Ｌｏが入射することを防止し、外光Ｌｏの写りこみ等を防止することができる。
また、図６および図１０（ｃ）に示すように、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凹部２の表面２ａの反射膜３が露出される部分の面積が縮小し、レジストＰＲの面積が拡大している。したがって、より外光Ｌｏの影響を受けやすい反射スクリーン１０１の垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させることができる。

また、レジストＰＲを感光させる光Ｌｓの観察面１ａに対する入射角度θｓを、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの観察面１ａに対する入射角度θｐ以下となるようにしたことで、仮想光源位置ＰＶから各凹部２までの距離の差による反射膜３の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板１の観察面１ａ内の反射率の偏りを減少させ、観察面１ａ内の投影画像のコントラストの差を減少させることができる。
また、第一実施形態と同様に、反射防止層５を形成することで、反射スクリーン１０１のコントラストを向上させることができる。

また、光吸収膜として機能するレジストＰＲは、膜厚がレジストＰＲの外縁の反射膜３との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成されている。したがって、レジストＰＲの外縁に近づくにつれて徐々に光吸収率が低下し、レジストＰＲの下層の反射膜３によって光が反射されるようになる。これにより、レジストＰＲの外縁の反射膜３との境界における急峻な反射率の変化を防止することができる。

以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン１００によれば、第一実施形態と同様の効果が得られるだけでなく、反射膜３と反射膜３の非形成領域との境界における急峻な反射率の変化を防止し、観察面１ａに対する観察角度の変化によるコントラストの急峻な変化を防止することができる。

＜第四実施形態＞
次に、本発明の第四実施形態について、図１、図８および図９（ａ）を援用し、図１１（ａ）〜図１１（ｃ）を用いて説明する。本実施形態では上述の第二実施形態で説明した反射スクリーン２００の製造方法と、凸部２１に形成された反射膜３１上に光吸収膜を形成する点で異なっている。その他の点は第二実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図９（ａ）に示すように、スクリーン基板１１の観察面１１ａの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、第二実施形態と同様に複数の凸部２１を形成する。
次に、凸部２１を形成したスクリーン基板１１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。これにより、スクリーン基板１１自体を光吸収層として機能させることができる。
次いで、スクリーン基板１１の観察面１１ａに、第二実施形態と同様に反射膜３１を形成する。

次に、スクリーン基板１１の観察面１１ａの反射膜３１上に、反射膜３１を覆うポジ型のレジストＰＲを形成する。ここで、レジストＰＲは、例えば、黒色に着色され、可視光を吸収可能にされたものを用いる。次いで、第二実施形態と同様に、レジストＰＲを感光させる光Ｌｓを露光光源Ｓから観察面１１ａに対して斜めに照射してレジストＰＲを感光させる。
次に、レジストＰＲを現像液に浸漬し、図１１（ａ）に示すように、感光させた部分のレジストＰＲを剥離させ、それ以外のレジストＰＲを残存させる。これにより、レジストＰＲを感光させた部分の反射膜３１を露出させ、それ以外の部分の反射膜３１を、可視光を吸収可能な光吸収膜として機能するレジストＰＲによって覆い、反射膜３１の非形成領域とすることができる。

次いで、残存させたレジストＰＲをベーキングする。これにより、図１１（ｂ）に示すように、レジストＰＲが熱により変形し、レジストＰＲの膜厚が、レジストＰＲの外縁の反射膜３１との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成される。
また、反射膜３１は、上述のように形成することで、第二実施形態と同様に、仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射方向に対応し、スクリーン基板１１の観察面１１ａに、露光光源Ｓの位置を中心として、放射状に露出される。

このように、フォトレジストにより凸部２１に反射膜３を露出させることで、従来のスプレーコート方法、印刷方法等を用いた場合と比較して、投影光Ｌｐの入射する部分に対応して正確に反射膜３１を形成することができる。
また、第二実施形態と比較して、反射膜３１をエッチングする工程を省略できるので、工程を簡略化して製造を容易にし、生産性を向上させ、製造コストを低減することができる。

次に、図１１（ｃ）に示すように、第二実施形態と同様に保護層４、反射防止層５を形成する。
以上、本実施形態の反射スクリーン２０１の製造方法によれば、図１１（ｃ）に示すような反射スクリーン２０１を製造することができる。

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン２０１について説明する。
図８に示すように、反射スクリーン２０１は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。プロジェクタＰは、第一実施形態と同様に構成され、第一実施形態と同様に配置されている。
図８に示すように、プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、ミラーＭによって反射され、反射スクリーン２０１の観察面２０１ａに対して斜めに入射する。

反射スクリーン２０１の観察面２０１ａに到達した投影光Ｌｐは、図１１（ｃ）に示す反射防止層５に入射し、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５によって投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凸部２１の表面２ａに形成された反射膜３１に到達する。反射膜３に到達した投影光Ｌｐは、第二実施形態と同様に、反射膜３１によって反射スクリーン２０１の観察側に反射される。

一方、図８に示すように、観察面２０１ａに入射した外光Ｌｏは、第二実施形態と同様に、反射防止層５によって、保護層４の表面４ａで観察側に反射することが防止される。
保護層４を透過して凸部２１に到達した外光Ｌｏは、凸部２１の反射膜３１の非形成領域に入射する。
ここで、反射膜３１の非形成領域には、上述のように、光吸収膜として機能するレジストＰＲが形成されているので、凸部２１の表面２１ａの反射膜３１の非形成領域に到達した外光Ｌｏは、レジストＰＲによって吸収される。さらに、反射膜３１は凸部２１に垂直方向の下方（Ｙ軸負方向）側から射出された投影光Ｌｐが入射する部分に対応して露出されているので、外光Ｌｏの反射膜３１への入射が防止される。したがって、反射スクリーン２０１の観察面２０１ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。

また、反射膜３１は凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に形成されている。これにより、凸部２１の表面２１ａにおけるレジストＰＲの面積を大きくすることができる。したがって、外光ＬｏをレジストＰＲにより確実に入射させ、反射膜３１に外光Ｌｏが入射することを防止し、外光Ｌｏの写りこみ等を防止することができる。
また、図８および図１１（ｃ）に示すように、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、凸部２１の表面２１ａの反射膜３１が露出される部分の面積が縮小し、レジストＰＲの面積が拡大している。したがって、より外光Ｌｏの影響を受けやすい反射スクリーン１００の垂直方向上方側の外光Ｌｏに対する光吸収性を向上させることができる。

また、レジストＰＲを感光させる光の観察面１１ａに対する入射角度θｓを、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの観察面１１ａに対する入射角度θｐ以下となるようにしたことで、仮想光源位置ＰＶから各凸部２１までの距離の差による反射膜３１の面積の差が小さくなっている。したがって、スクリーン基板１１の観察面１１ａ内の反射率の偏りを減少させ、投影画像のコントラストの差を減少させることができる。
また、第二実施形態と同様に、反射防止層５を形成することで、反射スクリーン２０１のコントラストを向上させることができる。

また、光吸収膜として機能するレジストＰＲは、膜厚がレジストＰＲの外縁の反射膜３との境界に近づくにつれて徐々に薄くなるように形成されている。したがって、第三実施形態と同様に、レジストＰＲの外縁の反射膜３１との境界における急峻な反射率の変化を防止することができる。

以上説明したように、本実施形態の反射スクリーン２０１によれば、第二実施形態と同様の効果が得られるだけでなく、反射膜３１と反射膜３１の非形成領域との境界における急峻な反射率の変化を防止し、観察面１１ａに対する観察角度の変化によるコントラストの急峻な変化を防止することができる。

＜第五実施形態＞
次に、本発明の第五実施形態について、図１および図８を援用し、図１２（ａ）、１２（ｂ）、図１３（ａ）〜図１３（ｃ）を用いて説明する。本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン１００の製造方法と、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂに凹部２２が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図１２（ａ）に示すように、まず、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、第一実施形態と同様に複数の凹部２２を形成する。また、スクリーン基板１２は光透過性を有する樹脂等によって形成する。
次いで、凹部２２の表面２２ａを含むスクリーン基板１２の観察面１２ａと反対側の面１２ｂに、第一実施形態と同様の反射膜３２およびネガ型のレジストＮＲを形成する。

次いで、図１２（ｂ）に示すように、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓを露光光源Ｓから観察面１２ａの反対側の面１２ｂに対して斜めに照射してレジストＮＲを感光させる。ここで、反射スクリーンに対する投影光Ｌｐの射出位置を仮想光源位置ＰＶとして想定する。そして、露光光源Ｓから射出されるレジストＮＲを感光させる光Ｌｓの観察面１２ａの反対側の面１２ｂの中心Ｃｂに対する入射角度θｓが、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの観察面１２ａの中心Ｃａに対する入射角度θｐ以下となるように、露光光源Ｓを配置する。
この状態でレジストＮＲを露光させることで、凹部２２の投影光Ｌｐが照射される部分に対応した部分のレジストＮＲが感光する。また、凹部２２のレジストＮＲを感光させる光Ｌｓが照射される部分の面積は、凹部２２の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下となる。

次に、レジストＮＲを現像液に浸漬し、図１３（ａ）に示すように、感光させた部分のレジストＮＲを残存させ、それ以外のレジストＮＲを剥離させる。これにより、レジストＮＲの感光させた部分を除いて反射膜３２が露出する。
次いで、露出した反射膜３２を、図１３（ｂ）に示すように、エッチングによって除去する。これにより、レジストＮＲの感光させた部分を除いて、凹部２２の表面が露出する。
次いで、反射膜３２上に残存させたレジストＮＲを溶解または剥離させ、図１３（ｃ）に示すように反射膜３２を露出させる。これにより、凹部２２の投影光が照射される部分に対応した部分に反射膜３２が形成される。また、反射膜３２は凹部２２の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に形成される。

次に、凹部２２の表面２２ａを含むスクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂに光吸収層６を形成する。光吸収層６は、例えば、染色等によって黒色に着色された樹脂や、黒色の顔料を含有する樹脂等を用いて形成する。さらに、スクリーン基板１２の観察面１２ａに、反射防止層５１を形成する。反射防止層５１は、例えば、透明な樹脂等により形成され、反射防止層５１に入射する投影光Ｌｐや外光Ｌｏがスクリーン基板１２の観察面１２ａで反射しないように、スクリーン基板１２との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーンの製造方法によれば、図１３（ｃ）に示す反射スクリーン３００を製造することができる。

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン３００について説明する。
図８に示すように、反射スクリーン３００は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に反射スクリーン３００の観察面３００ａに対して斜めに入射する。

ここで、反射スクリーン３００は、観察側から見て、図９（ｃ）に示す第二実施形態の反射スクリーン２００と略同様の構成となっている。したがって、本実施形態の反射スクリーン３００によれば、第二実施形態の反射スクリーン２００と略同様の効果を得ることができる。
また、第二実施形態の反射スクリーン２００とは異なり、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、反射膜３２が形成される部分の面積が拡大し、反射膜３２の非形成領域が縮小する。

したがって、本実施形態の反射スクリーン３００によれば、仮想光源位置ＰＶから遠い反射膜３２の面積を、仮想光源位置ＰＶに近い反射膜３２の面積よりも拡大させることができる。したがって、反射スクリーン３００の仮想光源位置ＰＶから遠い部分の反射率を向上させることができる。
また、スクリーン基板１２によって反射膜３２の観察側を保護することができるので、反射スクリーン３００の観察面３００ａ側に保護層４を形成する工程を省略することができる。

＜第六実施形態＞
次に、本発明の第六実施形態について、図１および図８を援用し、図１４（ａ）、１４（ｂ）、図１５（ａ）〜図１５（ｃ）を用いて説明する。本実施形態では上述の第五実施形態で説明した反射スクリーン３００の製造方法と、スクリーン基板１３の観察面１３ａに凸部２３を形成する点で異なっている。その他の点は第五実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。

（反射スクリーンの製造方法）
図１および図１４（ａ）に示すように、まず、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂの垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に、第二実施形態と同様に複数の凸部２３を形成する。また、スクリーン基板１３は光透過性を有する樹脂等によって形成する。
次いで、凸部２３の表面２３ａを含むスクリーン基板１３の観察面１３ａと反対側の面１３ｂに、第二実施形態と同様の反射膜３３およびネガ型のレジストＮＲを形成する。

次いで、図１４（ｂ）に示すように、レジストＮＲを感光させる光Ｌｓを露光光源Ｓから観察面１３ａの反対側の面１３ｂに対して斜めに照射してレジストＮＲを感光させる。ここで、反射スクリーンに対する投影光Ｌｐの射出位置を仮想光源位置ＰＶとして想定する。そして、露光光源Ｓから射出されるレジストＮＲを感光させる光Ｌｓの観察面１３ａの反対側の面１３ｂの中心Ｃｂに対する入射角度θｓが、仮想光源位置ＰＶから射出される投影光Ｌｐの観察面１３ａの中心Ｃａに対する入射角度θｐ以下となるように、露光光源Ｓを配置する。
この状態でレジストＮＲを露光させることで、凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分に対応した部分のレジストＮＲが感光する。また、凸部２１のレジストＮＲを感光させる光Ｌｓが照射される部分の面積は、凸部２１の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下となる。

次に、レジストＮＲを現像液に浸漬し、感光させた部分のレジストＮＲを残存させ、それ以外のレジストＮＲを剥離させ、露出した反射膜３３をエッチングによって除去する。これにより、図１５（ａ）に示すように、レジストＮＲの感光させた部分を除いて、凸部２３の表面２３ａが露出する。
次いで、反射膜３３上に残存させたレジストＮＲを溶解または剥離させ、図１５（ｂ）に示すように反射膜３３を露出させる。これにより、凸部２３の投影光Ｌｐが照射される部分に対応した部分に反射膜３３が形成される。また、反射膜３３は凸部２３の投影光Ｌｐが照射される部分の面積以下に形成される。

次に、凸部２３の表面２３ａを含むスクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂに第五実施形態と同様の光吸収層６を形成する。また、スクリーン基板１３の観察面１３ａには、反射防止層５１を形成する。
以上、本実施形態の反射スクリーン４００の製造方法によれば、図１３（ｃ）に示す反射スクリーン４００を製造することができる。

（反射スクリーン）
次に、本実施形態の製造方法により製造された反射スクリーン４００について説明する。
図８に示すように、反射スクリーン４００は、第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に反射スクリーン４００の観察面４００ａに対して斜めに入射する。

ここで、反射スクリーン４００は、観察側から見て、図７に示す第一実施形態の反射スクリーン１００と略同様の構成となっている。したがって、本実施形態の反射スクリーン４００によれば、第一実施形態の反射スクリーン１００と略同様の効果を得ることができる。
また、第一実施形態の反射スクリーン１００とは異なり、仮想光源位置ＰＶからの距離が遠くなるほど、反射膜３３が形成される部分の面積が拡大し、反射膜３３の非形成領域が縮小する。

したがって、本実施形態の反射スクリーン４００によれば、仮想光源位置ＰＶから遠い反射膜３３の面積を、仮想光源位置ＰＶに近い反射膜３３の面積よりも拡大させることができる。したがって、反射スクリーン４００の仮想光源位置ＰＶから遠い部分の反射率を向上させることができる。
また、スクリーン基板１３によって反射膜３３の観察側を保護することができるので、反射スクリーン４００の観察面４００ａ側に保護層４を形成する工程を省略することができる。

尚、この発明は上述した実施の形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。スクリーン基板は全体を染色するのではなく、表面を黒色の塗料で塗装する等、少なくとも観察面側の、少なくとも反射膜の非形成領域に光吸収層が形成されていればよい。
また、凹部または凸部の形状は、半球状に限られない。また、凹部または凸部の配置は上述の実施形態の配置に限定されない。

本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 （ａ）〜（ｃ）は、本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 本発明の第一実施形態に係る反射スクリーンの配置を示す断面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、本発明の第二実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 （ａ）〜（ｃ）は、本発明の第三実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 （ａ）〜（ｃ）は、本発明の第四実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 （ａ）および（ｂ）は、本発明の第五実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 （ａ）〜（ｃ）は、本発明の第五実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 （ａ）および（ｂ）は、本発明の第六実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。 （ａ）〜（ｃ）は、本発明の第六実施形態に係る反射スクリーンの製造工程説明図である。

符号の説明

１，１１ スクリーン基板（光吸収層）、１２，１３ スクリーン基板、１ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａ 観察面、２，２２ 凹部、２１，２３ 凸部、３，３１，３２，３３ 反射膜、１２ｂ，１３ｂ 面（非観察面）、６ 光吸収層、１００，１０１，２００，２０１，３００，４００ 反射スクリーン、Ｌｐ 投影光、Ｌｓ 光、ＮＬ 法線、ＮＲ，ＰＲ レジスト（光吸収膜）、Ｐ プロジェクタ、θｐ，θｓ 角度

Claims (9)

1. スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
   前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、
   前記観察面に反射膜を形成する工程と、
   前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、
   感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、
   残存させた前記レジストを剥離させる工程と、
   を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
2. 前記スクリーン基板の少なくとも前記観察側の、少なくとも前記反射膜の非形成領域に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１記載の反射スクリーンの製造方法。
3. スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
   前記スクリーン基板の前記観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、
   前記観察面に反射膜を形成する工程と、
   前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を前記投影光の入射方向から前記観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させて前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、
   感光させた前記レジストを剥離させ、それ以外の前記レジストを光吸収膜として残存させる工程と、
   を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
4. 前記光吸収膜をベーキングする工程を有することを特徴とする請求項３記載の反射スクリーンの製造方法。
5. スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
   前記スクリーン基板の前記観察面とは反対側の非観察面の垂直方向および水平方向に複数の凹部または複数の凸部を形成する工程と、
   前記非観察面に反射膜を形成する工程と、
   前記反射膜上に感光性のレジストを形成し、前記レジストを感光させる光を、前記投影光の入射方向の反対方向から前記非観察面に、前記観察面に対する前記投影光の入射角度以下の角度で入射させ、前記レジストを感光させるレジスト感光工程と、
   感光させた前記レジストを残存させ、それ以外の前記レジストを剥離させ、露出した反射膜をエッチングする工程と、
   残存させた前記レジストを剥離させる工程と、
   を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
6. 前記非観察面に、光吸収層を形成する工程を有することを特徴とする請求項５記載の反射スクリーンの製造方法。
7. 前記複数の凹部または前記複数の凸部を形成する工程において、凹部を形成することを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法。
8. 前記複数の凹部または前記複数の凸部を形成する工程において、凸部を形成することを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法。
9. スクリーン基板の観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置されたプロジェクタから、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、
   前記スクリーン基板の垂直方向および水平方向に、複数の凹部または複数の凸部が形成され、
   前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分に沿って、前記投影光を反射する反射膜が形成され、
   前記凹部または前記凸部の前記投影光が照射される部分を除く前記反射膜上に光吸収膜として機能するレジストが形成され、
   前記光吸収膜の膜厚が、前記光吸収膜の外縁のうち、前記凹部または前記凸部の内側における前記反射膜との境界に近づくに従って徐々に薄くなっていることを特徴とする反射スクリーン。

Images