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JP5110242B2 - Polyimide, polyimide film and laminate - Google Patents

Polyimide, polyimide film and laminate Download PDF

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JP5110242B2
JP5110242B2 JP2005342001A JP2005342001A JP5110242B2 JP 5110242 B2 JP5110242 B2 JP 5110242B2 JP 2005342001 A JP2005342001 A JP 2005342001A JP 2005342001 A JP2005342001 A JP 2005342001A JP 5110242 B2 JP5110242 B2 JP 5110242B2
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film
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裕章 山口
村上  真人
政文 幸田
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Ube Corp
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Ube Industries Ltd
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Description

この発明は、新規なポリイミド、ポリイミドフィルム及び積層体に関するものであり、さらに詳しくは、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を必須成分とするテトラカルボン酸二無水物が出発テトラカルボン酸二無水物成分であり、特定の構造を有する芳香族ジアミンを必須成分とするジアミンが出発ジアミン成分である、透湿速度が高く、しかも接着性の向上したポリイミド、該ポリイミドからなるポリイミド層を少なくとも片面に有するポリイミドフィルム及び積層体に関するものである。   The present invention relates to a novel polyimide, polyimide film and laminate, and more specifically, tetracarboxylic dianhydride containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride as an essential component. Is a starting tetracarboxylic dianhydride component, a diamine having an aromatic diamine having a specific structure as an essential component is a starting diamine component, a polyimide having a high moisture transmission rate and improved adhesion, The present invention relates to a polyimide film having a polyimide layer formed on at least one side and a laminate.

耐熱性のポリイミドを与える3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物系のポリイミドとしては、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミンとをそれぞれ出発酸二無水物成分及び出発ジアミン成分とするポリイミドが一般的であり、低線膨張係数で高弾性率のポリイミドを与えることが知られている。また、このポリイミドからなるフィルムは、熱的性質及び電気的性質に優れているため、電子機器類の用途に広く使用されている。   The 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride-based polyimide that gives heat-resistant polyimide includes 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and paraphenylenediamine. Are generally used as starting acid dianhydride components and starting diamine components, respectively, and it is known to give a polyimide having a low coefficient of linear expansion and a high elastic modulus. Moreover, since the film which consists of this polyimide is excellent in a thermal property and an electrical property, it is widely used for the use of electronic devices.

側鎖にアルキル基、カルボキシル基又は水酸基を有するジアミンを用いたポリイミドが製造されている。
特許文献1には、芳香族テトラカルボン酸無水物と、置換基を有さない対象型の芳香族ジアミンと置換基を有する非対称型の芳香族第1級ジアミンとからなるポリイミド前駆体を金属薄膜に塗布し、加熱してポリイミド層としたフレキシブル配線基板の製造方法が開示されている。
また、特許文献2には、金属箔と、該金属箔の表面に塗布形成したポリイミド樹脂薄膜とを具備した回路基板で、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸を95モル%以上含む芳香族テトラカルボン酸と、特定の側鎖を有するジアミンを90モル%以上含むジアミンとを反応させて得られるポリイミドが開示されている。
また特許文献3には、特定の側鎖を有するジアミンを用いたポリイミドと金属箔との積層体が開示されている。
さらに特許文献4には、ポリイミドフィルムのガス透過性を改良するためにも種々の試みがなされている。例えば、嵩高いトリメチルシリル基が芳香環に結合したジアミンから得られるポリイミドを用いることにより、ガス透過性の向上したポリイミドフィルムが開示されている。
A polyimide using a diamine having an alkyl group, a carboxyl group or a hydroxyl group in the side chain has been produced.
In Patent Document 1, a polyimide precursor comprising an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, a target aromatic diamine having no substituent and an asymmetric aromatic primary diamine having a substituent is used as a metal thin film. The manufacturing method of the flexible wiring board which apply | coated and heated to make the polyimide layer is disclosed.
Patent Document 2 discloses a circuit board comprising a metal foil and a polyimide resin thin film formed on the surface of the metal foil, and 95 mol% of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid. A polyimide obtained by reacting the aromatic tetracarboxylic acid containing the above and a diamine containing 90 mol% or more of a diamine having a specific side chain is disclosed.
Patent Document 3 discloses a laminate of polyimide and metal foil using a diamine having a specific side chain.
Further, Patent Document 4 makes various attempts to improve the gas permeability of the polyimide film. For example, a polyimide film having improved gas permeability is disclosed by using a polyimide obtained from a diamine having a bulky trimethylsilyl group bonded to an aromatic ring.

特開昭63−265629号公報JP-A 63-265629 特開平2−147234号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-147234 特開2002−361792号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-361792 特開2004−224889号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-224889

本発明の目的は、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を必須のテトラカルボン酸二無水物成分として含み、相対透湿速度が大きい新規なポリイミドを提供することである。
さらにこれらの新規なポリイミドを耐熱性ポリイミドの少なくとも片面に積層した積層ポリイミドと、この積層ポリイミドと金属箔とを積層した金属箔積層ポリイミドを提供することである。
An object of the present invention is to provide a novel polyimide containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride as an essential tetracarboxylic dianhydride component and having a high relative moisture transmission rate. is there.
Furthermore, it is providing the laminated polyimide which laminated | stacked these novel polyimides on the at least single side | surface of the heat resistant polyimide, and the metal foil laminated polyimide which laminated | stacked this laminated polyimide and metal foil.

本発明の第一は3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、下記の一般式(1)で表されるジアミンを0.5〜40モル%含むジアミンとを反応させて得られるポリイミドである。

Figure 0005110242
(式中、Aは直接結合あるいは架橋基であり、R〜Rは水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、カルボアルコキシ基から選ばれる置換基を表し、R及びRの少なくとも1つは水素原子ではなく、R及びRの少なくとも1つは水素原子ではない。) In the first aspect of the present invention, a tetracarboxylic dianhydride containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and a diamine represented by the following general formula (1) are added in an amount of 0.5 to It is a polyimide obtained by reacting a diamine containing 40 mol%.
Figure 0005110242
(In the formula, A is a direct bond or a bridging group, and R 1 to R 4 are a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carboalkoxy group. Represents a substituent selected from the group, and at least one of R 1 and R 2 is not a hydrogen atom, and at least one of R 3 and R 4 is not a hydrogen atom.)

本発明の第二は、本発明の第一のポリイミドを耐熱性ポリイミドの少なくとも片面に積層した積層ポリイミドである。
本発明の第三は、本発明の第一のポリイミドからなる層の少なくとも片面、積層ポリイミドの本発明の第一のポリイミドに、直接あるいは耐熱性接着剤を介して基材が積層されてなる積層体である。
The second of the present invention is a laminated polyimide obtained by laminating the first polyimide of the present invention on at least one surface of a heat-resistant polyimide.
In the third aspect of the present invention, at least one surface of the layer made of the first polyimide of the present invention, a laminated polyimide obtained by laminating a base material directly or via a heat-resistant adhesive on the first polyimide of the present invention of a laminated polyimide. Is the body.

本発明の第一の好ましい態様を示し、これらは複数組み合わせることが出来る。
1)一般式(1)のジアミンが、式中のAは直接結合あるいは架橋基であり、R〜Rは炭素数1〜6の炭化水素基から選ばれる置換基を表していること。
2)ジアミン成分が、パラフェニレンジアミンを含むこと。
3)ポリイミドは、最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって得られるポリイミドであること。
The 1st preferable aspect of this invention is shown, These can be combined multiplely.
1) In the diamine of the general formula (1), A in the formula is a direct bond or a bridging group, and R 1 to R 4 represent a substituent selected from a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
2) The diamine component contains paraphenylenediamine.
3) The polyimide is a polyimide obtained by heat drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C.

本発明の第二の好ましい態様を示し、これらは複数組み合わせることが出来る。
1)耐熱性ポリイミドが、
i)7.5〜100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と0〜92.5モル%のピロメリット酸二無水物との芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と、15〜100モル%のp−フェニレンジアミンと0〜85モル%の4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルのジアミン成分とから、重合及びイミド化することによって、さらに必要に応じて最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって得られるポリイミド、
ii)或いはピロメリット酸二無水物の酸成分と、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル及びp−フェニレンジアミンとの成分の割合(モル比)が90/10〜10/90のジアミン成分とが、重合及びイミド化することによって、さらに必要に応じて最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって得られるポリイミド、
iii)或いは7.5〜100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と0〜92.5モル%のピロメリット酸二無水物との芳香族テトラカルボン酸二無水物と、o−トリジン又はm−トリジンを含むジアミン成分とを重合及びイミド化することによって、さらに必要に応じて最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって得られるポリイミド、であること。
The 2nd preferable aspect of this invention is shown, These can be combined multiplely.
1) Heat-resistant polyimide
i) Aromatic tetracarboxylic acid diesters of 7.5 to 100 mol% 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 0 to 92.5 mol% pyromellitic dianhydride By polymerization and imidization from an anhydride component, 15-100 mol% p-phenylenediamine and 0-85 mol% 4,4'-diaminodiphenyl ether diamine component, further as required Polyimide obtained by heating and drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C.,
ii) or a diamine component having a ratio (molar ratio) of 90/10 to 10/90 of an acid component of pyromellitic dianhydride and a component of 4,4′-diaminodiphenyl ether and p-phenylenediamine Is obtained by polymerizing and imidizing, and further by heating and drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C. as necessary.
iii) or an aromatic tetracarboxylic acid of 7.5 to 100 mol% 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 0 to 92.5 mol% pyromellitic dianhydride It is obtained by polymerizing and imidizing a dianhydride and a diamine component containing o-tolidine or m-tolidine, and further heat-drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C. as necessary. Be polyimide.

本発明の第三の好ましい態様を示し、これらは複数組み合わせることが出来る。
1)基材が、金属層であること、好ましくはアルミニウム、銅及びSUSから選ばれる層であること。
The 3rd preferable aspect of this invention is shown, These can be combined multiplely.
1) The substrate is a metal layer, preferably a layer selected from aluminum, copper and SUS.

本発明のポリイミドは、耐熱性に優れ、飽和吸水率及び線膨張係数が小さく、相対透湿速度が大きなポリイミドが得られる。
また本発明のポリイミドは、金属箔などの基材と、直接或いは接着剤層を介して積層することにより、接着強度の高い、ハンダ浴などの高温で、発泡も剥離もしない金属箔積層ポリイミドなどの積層体を得ることができる。
本発明の積層体は、耐熱性に優れ、飽和吸水率及び線膨張係数の小さな、相対透湿速度の大きな本発明のポリイミドを使用しているため、例えば配線基板製造時などの高温処理工程で、接着界面での発泡や剥離が起こりにくい。特に本発明のポリイミドと、ポリイミドのコア層として相対吸湿速度の小さな耐熱性ポリイミドを用いて、金属箔などの基材/本発明のポリイミド/耐熱性ポリイミドの順に積層して、ハンダ浴などの高温で、発泡も剥離もしない金属箔積層ポリイミドなどの積層体を得ることができる。
The polyimide of the present invention is excellent in heat resistance, has a low saturated water absorption rate and a small linear expansion coefficient, and provides a polyimide having a high relative moisture transmission rate.
In addition, the polyimide of the present invention is a metal foil laminated polyimide that does not foam or peel off at high temperatures such as a solder bath with high adhesive strength by laminating directly or via an adhesive layer with a base material such as a metal foil. Can be obtained.
Since the laminate of the present invention uses the polyimide of the present invention having excellent heat resistance, a small saturated water absorption rate and a small coefficient of linear expansion, and a large relative moisture transmission rate, for example, in a high-temperature treatment process such as during production of a wiring board. , Foaming and peeling at the adhesive interface are unlikely to occur. In particular, using the polyimide of the present invention and a heat-resistant polyimide having a small relative moisture absorption rate as the polyimide core layer, the substrate such as a metal foil / the polyimide of the present invention / the heat-resistant polyimide is laminated in this order, and a high temperature such as a solder bath. Thus, it is possible to obtain a laminate such as a metal foil laminated polyimide that does not foam or peel off.

本発明のポリイミドは、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、下記の一般式(1)で表されるジアミンを0.5〜40モル%含むジアミンとを反応させて得られるポリイミドであり、有機溶媒中でテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させてポリイミドを与えるポリイミド前駆体を製造し、その後化学イミド化又は熱イミド化して得られるもの、或いは有機溶媒中又は直接テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させて直接イミド化して得られるものなどを用いることができる。
本発明のポリイミドは、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を50モル%以上、好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上、特に好ましくは90モル%以上含むテトラカルボン酸二無水物と、下記の一般式(1)で表されるジアミンを0.5〜40モル%、好ましくは0.7〜30モル%、さらに好ましくは0.9〜20モル%、特に好ましくは1〜18モル%含むジアミンとを反応させることにより、耐熱性に優れ、飽和吸水率が小さく、線膨張係数が小さく、相対透湿速度の大きなポリイミドを得ることができ、このポリイミドと基材とを直接或いは接着剤を介して積層することにより、接着強度の高い積層体を得ることができ、このポリイミドと銅箔などの金属箔とを直接或いは接着剤を介して積層することにより、280℃ハンダ浴浸漬などの高温処理で、発泡又は剥離の抑制又はしない積層体を得ることができる。

Figure 0005110242
(式中、Aは直接結合あるいは架橋基であり、R〜Rは水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、カルボアルコキシ基から選ばれる置換基を表し、R及びRの少なくとも1つは水素原子ではなく、R及びRの少なくとも1つは水素原子ではない。) The polyimide of the present invention comprises a tetracarboxylic dianhydride containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and a diamine represented by the following general formula (1) in a range of 0.5 to A polyimide obtained by reacting a diamine containing 40 mol%, and a polyimide precursor is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride and a diamine in an organic solvent to give a polyimide, and then chemical imidization or thermal imide What is obtained by making it, or what is obtained by directly imidizing by reacting tetracarboxylic dianhydride and diamine in an organic solvent or directly can be used.
In the polyimide of the present invention, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is 50 mol% or more, preferably 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, particularly preferably 90 mol%. The tetracarboxylic dianhydride containing the diamine represented by the following general formula (1) is 0.5 to 40 mol%, preferably 0.7 to 30 mol%, more preferably 0.9 to 20 mol. %, Particularly preferably by reacting with 1 to 18 mol% diamine, it is possible to obtain a polyimide having excellent heat resistance, low saturated water absorption, low linear expansion coefficient, and high relative moisture transmission rate. By laminating the polyimide and the substrate directly or via an adhesive, a laminate having high adhesive strength can be obtained. The polyimide and a metal foil such as a copper foil can be directly or via an adhesive. By laminating at high temperature treatment such as 280 ° C. solder bath immersion, it is possible to obtain a foaming or peeling of the suppression or non laminate.
Figure 0005110242
(In the formula, A is a direct bond or a bridging group, and R 1 to R 4 are a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carboalkoxy group. Represents a substituent selected from the group, and at least one of R 1 and R 2 is not a hydrogen atom, and at least one of R 3 and R 4 is not a hydrogen atom.)

テトラカルボン酸二無水物としては、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を50モル%以上、好ましくは60モル%以上、より好ましくは70モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上、特に好ましくは90モル%以上含み、さらに本発明の特性を損なわない範囲で、ピロメリット酸二無水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ−テル、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)などの芳香族テトラカルボン酸二無水物などを含んでもよい。   As tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is 50 mol% or more, preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and still more preferably. Pyromellitic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, within a range that contains 80 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more, and does not impair the characteristics of the present invention, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane, bis (3 4-dicarboxyphenyl) ether, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfide, p-phenylenebis (t May contain aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as merit acid monoester acid anhydride), ethylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), etc. .

一般式(1)のジアミンにおいて、
一般式(1)中の架橋基Aとしては、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、カルボニル基、スルホキシル基、スルホン基、1,1’−エチリデン基、1,2−エチリデン基、2,2’−イソプロピリデン基、2,2’−ヘキサフルオロイソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、フェニレン基、1,3−フェニレンジメチレン基、1,4−フェニレンジメチレン基、1,3−フェニレンジエチリデン基、1,4−フェニレンジエチリデン基、1,3−フェニレンジプロピリデン基、1,4−フェニレンジプロピリデン基、1,3−フェニレンジオキシ基、1,4−フェニレンジオキシ基、ビフェニレンジオキシ基、メチレンジフェノキシ基、エチリデンジフェノキシ基、プロピリデンジフェノキシ基、ヘキサフルオロプロピリデンジフェノキシ基、オキシジフェノキシ基、チオジフェノキシ基、スルホンジフェノキシ基などを挙げることができるが、架橋基を介することなく直接結合していても良い。
In the diamine of general formula (1):
Examples of the bridging group A in the general formula (1) include an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, a carbonyl group, a sulfoxyl group, a sulfone group, a 1,1′-ethylidene group, a 1,2-ethylidene group, and 2,2 ′. -Isopropylidene group, 2,2'-hexafluoroisopropylidene group, cyclohexylidene group, phenylene group, 1,3-phenylenedimethylene group, 1,4-phenylenedimethylene group, 1,3-phenylenediethylidene group 1,4-phenylenediethylidene group, 1,3-phenylenedipropylidene group, 1,4-phenylenedipropylidene group, 1,3-phenylenedioxy group, 1,4-phenylenedioxy group, biphenylenedi Oxy group, methylene diphenoxy group, ethylidene diphenoxy group, propylidene diphenoxy group, hexafluoropropylidenediphenoxy group Oxy diphenoxy group, Chiojifenokishi group, there may be mentioned a sulfonic diphenoxy group may be bonded directly without via a bridging group.

一般式(1)のジアミンにおいて、
一般式(1)中のR〜Rは、水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基(好ましくは炭素数1、2,3,4、5又は6の炭化水素基)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1〜6のアルコキシ基(好ましくは炭素数1、2,3,4、5又は6のアルコキシ基)、カルボアルコキシ基から選ばれる置換基を表し、R及びRの少なくとも1つは水素原子ではなく、R及びRの少なくとも1つは水素原子ではない。
In the diamine of general formula (1):
R 1 to R 4 in the general formula (1) are a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), a hydroxyl group Represents a substituent selected from a carboxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (preferably an alkoxy group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), and a carboalkoxy group, and R 1 and R 2 At least one is not a hydrogen atom and at least one of R 3 and R 4 is not a hydrogen atom.

一般式(1)中のR〜Rの例としては、
a)R〜Rは、炭素数1〜6の炭化水素基(好ましくは炭素数1、2、3、4、5又は6の炭化水素基)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1〜6のアルコキシ基(好ましくは炭素数1、2、3、4、5又は6のアルコキシ基)、カルボアルコキシ基から選ばれる置換基の組合せ、
b)R〜Rは、炭素数1〜6の炭化水素基(好ましくは炭素数1、2、3、4、5又は6の炭化水素基)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1〜6のアルコキシ基(好ましくは炭素数1、2、3、4、5又は6のアルコキシ基)、カルボアルコキシ基から選ばれる置換基であり、Rのみが水素原子の組合せ、
c)R及びRは、炭素数1〜6の炭化水素基(好ましくは炭素数1、2、3、4、5又は6の炭化水素基)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数1〜6のアルコキシ基(好ましくは炭素数1、2、3、4、5又は6のアルコキシ基)、カルボアルコキシ基から選ばれる置換基であり、R及びRが水素原子の組合せ、
を挙げることができる。
Examples of R 1 to R 4 in the general formula (1) include
a) R 1 to R 4 are each a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), a hydroxyl group, a carboxyl group, 1 to 1 carbon atom. 6 alkoxy groups (preferably alkoxy groups having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), a combination of substituents selected from carboalkoxy groups,
b) R 1 to R 3 are each a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), a hydroxyl group, a carboxyl group, 1 to 1 carbon atom. 6 is a substituent selected from an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), a carboalkoxy group, and only R 4 is a combination of hydrogen atoms,
c) R 1 and R 3 are each a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (preferably a hydrocarbon group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), a hydroxyl group, a carboxyl group, 1 to 1 carbon atom. An alkoxy group having 6 carbon atoms (preferably an alkoxy group having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms), a carboalkoxy group, and R 2 and R 4 are a combination of hydrogen atoms,
Can be mentioned.

一般式(1)中のR〜Rの具体的な例としては、水素、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基等の炭化水素基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、カルボキシル基、カルボメトキシ基、カルボエトキシ基、カルボプロポキシ基、カルボブトキシ基等のカルボアルコキシ基等が挙げられる。R〜Rは全て同じでもよく、それぞれ独立に異なっていてもよい。 Specific examples of R 1 to R 4 in the general formula (1) include hydrogen, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i- Hydrocarbon group such as butyl group, t-butyl group, pentyl group, cyclohexyl group, phenyl group, alkoxy group such as hydroxyl group, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, carboxyl group, carbomethoxy group, carboethoxy And carboalkoxy groups such as carbopropoxy group and carbobutoxy group. R 1 to R 4 may all be the same or different from each other.

上記一般式(1)のa)で表される芳香族ジアミンの具体的な例としては、
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、
3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、
3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、
4,4−メチレン−ビス(2,6−ジイソプロピルアニリン)、
3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノ−5,5’−ジメチルジフェニルメタン、などを挙げることができる。
As a specific example of the aromatic diamine represented by a) of the general formula (1),
3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-diaminobiphenyl,
3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether,
3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane,
3,3 ′, 5,5′-tetraethyl-4,4′-diaminobiphenyl,
3,3 ′, 5,5′-tetraethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether,
3,3 ′, 5,5′-tetraethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane,
4,4-methylene-bis (2,6-diisopropylaniline),
3,3′-dicarboxy-4,4′-diamino-5,5′-dimethyldiphenylmethane, and the like.

上記一般式(1)のc)で表される芳香族ジアミンの具体的な例としては、
3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、
3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、などを挙げることができる。
As a specific example of the aromatic diamine represented by c) of the general formula (1),
3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-diethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′- Dicarboxy-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dimethoxy-4,4′-diaminobiphenyl,
3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′- Dicarboxy-4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-dimethoxy-4,4′-diaminodiphenyl ether,
3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′- And dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-dimethoxy-4,4′-diaminodiphenylmethane, and the like.

本発明のポリイミドのジアミンは、一般式(1)で表されるジアミンを0.5〜40モル%と、一般式(1)で表されないジアミンであるp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3'−ジクロロベンジジン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−オキシジアニリン、3,3'−オキシジアニリン、3,4'−オキシジアニリン、1,5−ジアミノナフタレン、4,4'−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4'−ジアミノジフェニルシラン、4,4'−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4'−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3'−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン及びそれらの類似物などを99.5〜60モル%とを含むものである。
特に本発明のポリイミドのジアミンは、一般式(1)で表されるジアミンを0.5〜40モル%と、p−フェニレンジアミン60モル%以上とを含むジアミン、さらに一般式(1)で表されるジアミンを0.5〜40モル%と、p−フェニレンジアミン99.5〜60モル%とを含むジアミンを用いることにより、耐熱性に優れ、飽和吸水率の小さな、線膨張係数の小さな、相対透湿速度の大きなポリイミド、さらに好ましくは引張弾性率の大きなポリイミドを得ることができる。
The diamine of the polyimide of this invention is 0.5-40 mol% of diamine represented by General formula (1), p-phenylenediamine which is diamine which is not represented by General formula (1), m-phenylenediamine, 4 , 4'-diaminodiphenylpropane, 4,4-diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3'-dichlorobenzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl Sulfone, 4,4′-oxydianiline, 3,3′-oxydianiline, 3,4′-oxydianiline, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4′-diaminodiphenyldiethylsilane, 4,4 ′ -Diaminodiphenylsilane, 4,4'-diaminodiphenylethylphosphine oxide, 1,4-diaminobenzene (p-ph Nylenediamine), bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′- Bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1, 99.5-60 mol% of 3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, and the like are included.
In particular, the diamine of the polyimide of the present invention is a diamine containing 0.5 to 40 mol% of the diamine represented by the general formula (1) and 60 mol% or more of p-phenylenediamine, and further represented by the general formula (1). By using a diamine containing 0.5 to 40 mol% of diamine and 99.5 to 60 mol% of p-phenylenediamine, the heat resistance is excellent, the saturated water absorption is small, and the linear expansion coefficient is small. A polyimide having a high relative moisture transmission rate, more preferably a polyimide having a high tensile elastic modulus can be obtained.

本発明のポリイミドでは、最も優れた組合わせの一例として、
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を50モル%以上、好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上、特に好ましくは90モル%以上含むテトラカルボン酸二無水物と、一般式(1)のa)で表される4置換−ジアミンを0.5〜40モル%、好ましくは0.7〜30モル%、さらに好ましくは0.9〜20モル%、特に好ましくは1〜18モル%と、残りのジアミン成分がp−フェニレンジアミンとからなる組合せ、などを挙げることができる。
In the polyimide of the present invention, as an example of the most excellent combination,
A tetracarboxylic acid dihydrate containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride in an amount of 50 mol% or more, preferably 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more. 0.5 to 40 mol%, preferably 0.7 to 30 mol%, more preferably 0.9 to 20 mol% of anhydride and tetrasubstituted diamine represented by a) in the general formula (1) Particularly preferred examples include a combination of 1 to 18 mol% and a remaining diamine component composed of p-phenylenediamine.

本発明のポリイミドでは、ジアミン成分100モル%中に、
3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタンなどの一般式(1)のa)で表される4置換−ジアミンを、
1)好ましくは0.5〜6モル%、さらに好ましくは0.7〜6モル%、特に好ましくは1〜6モル%含有することにより、線膨張係数が小さく、飽和吸水率が小さく、相対透湿速度が大きく、破断応力、引張弾性率及び破断伸びの優れるポリイミドを得ることが出来、
2)好ましくは6〜40モル%、より好ましくは6〜30モル%、さらに好ましくは7〜20モル%、さらに好ましくは9〜17モル%、特に好ましくは9〜13モル%含有することにより、相対透湿速度が極めて大きく、線膨張係数が小さく、飽和吸水率が小さく、破断応力、引張弾性率及び破断伸びの優れるポリイミドを得ることが出来る。
In the polyimide of the present invention, in 100 mol% of the diamine component,
A) of the general formula (1) such as 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3 ′, 5,5′-tetraethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane A 4-substituted diamine represented by
1) Preferably 0.5 to 6 mol%, more preferably 0.7 to 6 mol%, particularly preferably 1 to 6 mol%, so that the linear expansion coefficient is small, the saturated water absorption is small, and the relative permeability is low. Wet rate is large, we can obtain polyimide with excellent breaking stress, tensile elastic modulus and breaking elongation,
2) Preferably 6 to 40 mol%, more preferably 6 to 30 mol%, more preferably 7 to 20 mol%, still more preferably 9 to 17 mol%, particularly preferably 9 to 13 mol%, A polyimide having an extremely high relative moisture transmission rate, a low linear expansion coefficient, a low saturated water absorption rate, and an excellent breaking stress, tensile elastic modulus and breaking elongation can be obtained.

ポリイミドは、ポリイミド前駆体より、化学的或いは熱的にイミド化して製造することができる。
ポリイミド前駆体の製造方法としては公知のあらゆる方法を用いることができ、通常、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、実質的に等モル量を有機溶媒中に溶解させて反応させ、制御された温度条件下で、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの重合反応が(ほぼ)完了するまで攪拌することによって製造することができる。これらのポリイミド前駆体溶液は通常1〜35wt%、好ましくは5〜30wt%、さらに7〜25wt%の濃度で得ることができ、この範囲の濃度では、適当な分子量と適当な溶液粘度を得ることができる。
Polyimide can be produced by imidizing chemically or thermally from a polyimide precursor.
Any known method can be used as a method for producing a polyimide precursor. Usually, tetracarboxylic dianhydride and diamine are reacted in a substantially equimolar amount dissolved in an organic solvent and controlled. Under the same temperature conditions until the polymerization reaction of tetracarboxylic dianhydride and diamine is (substantially) complete. These polyimide precursor solutions can be usually obtained at a concentration of 1 to 35 wt%, preferably 5 to 30 wt%, and further 7 to 25 wt%, and within this range, an appropriate molecular weight and an appropriate solution viscosity can be obtained. Can do.

ポリイミド前駆体の重合方法としては公知の方法を用いることができる。
ポリイミド前駆体を与えるジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物とを、それぞれ有機溶媒中で0〜100℃、好ましくは5〜50℃の温度で重合させてポリイミド前駆体の溶液(均一な溶液状態が保たれていれば一部がイミド化されていてもよい)とし、必要ならポリイミド前駆体の溶液を複数混合して、ポリイミド前駆体溶液を塗膜化或いはフィルム化し、乾燥・イミド化・加熱乾燥(キュア)することによって、ポリイミドを製造することができる。この加熱乾燥の最高加熱処理温度は、350〜600℃、さらに400〜550℃、特に400〜500℃の範囲であることが好ましい。
A known method can be used as a method for polymerizing the polyimide precursor.
A diamine component and a tetracarboxylic dianhydride that give a polyimide precursor are each polymerized in an organic solvent at a temperature of 0 to 100 ° C., preferably 5 to 50 ° C., to obtain a polyimide precursor solution (a uniform solution state). If necessary, it may be partially imidized). If necessary, multiple polyimide precursor solutions may be mixed to form a coating or film of the polyimide precursor solution, followed by drying, imidization, and heat drying By curing, polyimide can be produced. The maximum heat treatment temperature for this heat drying is preferably 350 to 600 ° C, more preferably 400 to 550 ° C, and particularly preferably 400 to 500 ° C.

ポリイミド前駆体を製造する方法としては、公知の方法を用いることができ、その一例として、
1)有機溶媒中で、カルボン酸二無水物成分とジアミン成分とをそれぞれ等モル量反応させる方法、場合によっては酸過剰又はジアミン過剰にしてもよい、
2)有機溶媒中でカルボン酸二無水物成分と一般式(1)で示すジアミン成分とをそれぞれ略等モル量反応させポリイミド前駆体溶液Aを製造し、有機溶媒中でカルボン酸二無水物成分と一般式(1)で示すジアミン以外のジアミン成分とをそれぞれ略等モル量反応させポリイミド前駆体溶液Bを製造し、ポリイミド前駆体溶液Aとポリイミド前駆体溶液Bとを混合する方法、必要に応じて成さらに重合させてもよく、場合によってはどちらかを酸過剰にし、他方をジアミン過剰にしてもよい、
などを挙げることができる。
As a method for producing a polyimide precursor, a known method can be used.
1) A method in which an equimolar amount of a carboxylic acid dianhydride component and a diamine component are reacted in an organic solvent, and in some cases, an acid excess or a diamine excess may be used.
2) A polyimide precursor solution A is produced by reacting the carboxylic acid dianhydride component and the diamine component represented by the general formula (1) in an organic solvent in approximately equimolar amounts, respectively, and the carboxylic acid dianhydride component in the organic solvent. And a diamine component other than the diamine represented by the general formula (1) are reacted in approximately equimolar amounts to produce a polyimide precursor solution B, and the polyimide precursor solution A and the polyimide precursor solution B are mixed. Depending on the case, it may be further polymerized. In some cases, either one may be acid-excessed and the other may be diamine-excessive.
And so on.

ポリイミド前駆体のアミン末端を封止する必要がある場合には、ジカルボン酸無水物、例えば無水フタル酸及びその置換体(例えば3−メチル又は4−メチルフタル酸無水物)、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びその置換体、無水コハク酸及びその置換体など、例えば無水フタル酸の少量を添加してもよい。
またポリイミド前駆体溶液は、イミド化促進の目的で、溶液中にイミド化剤を添加することができる。例えば、イミダゾ−ル、1−メチルイミダゾ−ル、2−メチルイミダゾ−ル、1,2−ジメチルイミダゾ−ル、2−フェニルイミダゾ−ル、ベンズイミダゾ−ル、イソキノリン、置換ピリジンなどをポリイミド前駆体に対して0.05〜10質量%、特に好ましくは0.1〜2質量%の割合で使用することができる。これらにより比較的低温でイミド化を完了することができる。
If it is necessary to seal the amine terminus of the polyimide precursor, dicarboxylic anhydrides such as phthalic anhydride and its substitutes (eg 3-methyl or 4-methylphthalic anhydride), hexahydrophthalic anhydride and its For example, a small amount of phthalic anhydride, such as a substituted product, succinic anhydride and its substituted product, may be added.
Moreover, the polyimide precursor solution can add an imidizing agent in the solution for the purpose of promoting imidization. For example, polyimide precursors such as imidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, benzimidazole, isoquinoline, substituted pyridine, etc. 0.05 to 10% by weight, particularly preferably 0.1 to 2% by weight, based on the weight. With these, imidization can be completed at a relatively low temperature.

本発明のポリイミドにおいて、カルボン酸二無水物成分と特定のジアミン成分とがブロック的な構造を有してもよいし、ランダムな構造を有してもよい。   In the polyimide of the present invention, the carboxylic dianhydride component and the specific diamine component may have a block structure or a random structure.

本発明のポリイミドをフィルム化する場合には、フィルムのゲル化を制限する目的でリン系安定剤、例えば亜リン酸トリフェニル、リン酸トリフェニル等をポリアミック酸重合時に固形分(ポリマ−)濃度に対して0.01〜1%の範囲で添加することができる。   When forming the polyimide of the present invention into a film, a phosphorus stabilizer such as triphenyl phosphite or triphenyl phosphate is used for the purpose of limiting the gelation of the film. Can be added within a range of 0.01 to 1%.

ポリイミド前駆体を製造に使用する有機溶媒は、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、N−メチルカプロラクタムなどが挙げられる。これらの有機溶媒は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Organic solvents used for producing the polyimide precursor are N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, N-methylcaprolactam etc. are mentioned. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明のポリイミドは、以下の特性を少なくとも1つ有するフィルムを製造することができる。
1)飽和吸水率が3%以下であり、さらに1.3〜3%であること。
2)相対透湿速度が、25μm厚みで3以上、さらに4以上であること。
3)引張弾性率が、400kg/mm以上、さらに400kg/mm以上900kg/mm未満、特に470kg/mm以上900kg/mm未満であること。
4)線膨張係数(25μm厚み)は、10〜40×10−6cm/cm/℃、さらに12〜30×10−6cm/cm/℃、特に12〜25×10−6cm/cm/℃であること。
The polyimide of the present invention can produce a film having at least one of the following characteristics.
1) The saturated water absorption is 3% or less, and further 1.3 to 3%.
2) The relative moisture transmission rate is 3 or more, further 4 or more at a thickness of 25 μm.
3) The tensile elastic modulus is 400 kg / mm 2 or more, further 400 kg / mm 2 or more and less than 900 kg / mm 2 , particularly 470 kg / mm 2 or more and less than 900 kg / mm 2 .
4) The linear expansion coefficient (25 μm thickness) is 10 to 40 × 10 −6 cm / cm / ° C., more preferably 12 to 30 × 10 −6 cm / cm / ° C., and particularly 12 to 25 × 10 −6 cm / cm / ° C. Must be in ° C.

本発明のポリイミドは、コ−ティング剤やフィルム(未キュアフィルムを、ピンテンターを使用して熱処理し、実質的に延伸をかける)のいずれにも適用可能である。
本発明のポリイミドは、フィルムに適用する場合、フィルムの厚みは3〜200μm程度であり、コーティング剤として適用する場合、その厚みは0.1〜2μm程度である。
The polyimide of the present invention can be applied to any of a coating agent and a film (a non-cured film is heat-treated using a pin tenter and substantially stretched).
When the polyimide of the present invention is applied to a film, the thickness of the film is about 3 to 200 μm, and when applied as a coating agent, the thickness is about 0.1 to 2 μm.

また本発明のポリイミドは、耐熱性ポリイミドからなるコア層の表面層としての改質ポリイミド層として適用することも可能である。この場合、耐熱性ポリイミドからなるポリイミドコア層を与えるポリイミド前駆体溶液を支持体上に流延、乾燥して自己支持性フィルムを形成し、その片面に、本発明のポリイミドを与えるポリイミド前駆体溶液を乾燥後の厚みが約0.1〜2μmとなるように塗布又は吹き付けて、乾燥し、さらに必要であれば他の面にポリイミド前駆体溶液を乾燥後の厚みが約0.1〜2μm程度となるように塗布又は吹き付けて、乾燥し、加熱して溶媒除去及びイミド化すること、さらに必要に応じて最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって、少なくとも片面が改質された積層ポリイミドフィルムを製造することができる。この積層ポリイミドフィルムとしては、厚みが5〜150μm程度、特に10〜125μm程度であることが好ましい。   The polyimide of the present invention can also be applied as a modified polyimide layer as a surface layer of a core layer made of heat-resistant polyimide. In this case, a polyimide precursor solution that gives a polyimide core layer made of heat-resistant polyimide is cast on a support and dried to form a self-supporting film, and the polyimide precursor solution that gives the polyimide of the present invention on one side thereof Is applied or sprayed so that the thickness after drying is about 0.1 to 2 μm, dried, and if necessary, the thickness after drying the polyimide precursor solution on the other side is about 0.1 to 2 μm At least one side is improved by applying or spraying so as to become, drying, heating to remove the solvent and imidization, and if necessary, heat drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C. A quality laminated polyimide film can be produced. The laminated polyimide film preferably has a thickness of about 5 to 150 μm, particularly about 10 to 125 μm.

積層ポリイミドフィルムの耐熱性ポリイミド層のポリイミドとしては、
i)7.5〜100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と0〜92.5モル%のピロメリット酸二無水物との芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と、15〜100モル%のp−フェニレンジアミンと0〜85モル%の4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルのジアミン成分とから、重合及びイミド化することによって、さらに必要に応じて最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって得られるポリイミド、
ii)或いはピロメリット酸二無水物の酸成分と、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル及びp−フェニレンジアミンとの成分の割合(モル比)が90/10〜10/90のジアミン成分とが、重合及びイミド化することによって、さらに必要に応じて最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって得られるポリイミド、
iii)或いは7.5〜100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と0〜92.5モル%のピロメリット酸二無水物との芳香族テトラカルボン酸二無水物と、o−トリジン又はm−トリジンを含むジアミン成分とを重合及びイミド化することによって、さらに必要に応じて最高加熱処理温度350〜600℃で加熱乾燥(キュア)することによって得られるポリイミド、などが挙げられる。
As polyimide of heat resistant polyimide layer of laminated polyimide film,
i) Aromatic tetracarboxylic acid diesters of 7.5 to 100 mol% 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 0 to 92.5 mol% pyromellitic dianhydride By polymerization and imidization from an anhydride component, 15-100 mol% p-phenylenediamine and 0-85 mol% 4,4'-diaminodiphenyl ether diamine component, further as required Polyimide obtained by heating and drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C.,
ii) or a diamine component having a ratio (molar ratio) of 90/10 to 10/90 of an acid component of pyromellitic dianhydride and a component of 4,4′-diaminodiphenyl ether and p-phenylenediamine Is obtained by polymerizing and imidizing, and further by heating and drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C. as necessary.
iii) or an aromatic tetracarboxylic acid of 7.5 to 100 mol% 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 0 to 92.5 mol% pyromellitic dianhydride It is obtained by polymerizing and imidizing a dianhydride and a diamine component containing o-tolidine or m-tolidine, and further heat-drying (curing) at a maximum heat treatment temperature of 350 to 600 ° C. as necessary. Examples thereof include polyimide.

本発明のポリイミドの少なくとも片面と基材とを、直接或いは接着剤を介して、加圧又は加圧加熱(ラミネ−ト法)して、積層することにより、少なくとも片面に基材を有する積層体を製造することができる。
本発明のポリイミドの少なくとも片面に、薄膜成膜法及び電気めっき法を用いて金属層膜を形成して、積層体を製造することができる。
また、金属箔などの基材上に本発明のポリイミドを与えるポリイミド前駆体溶液を流延、化学的或いは加熱乾燥してイミド化を完了させることによっても得ることができる。
A laminate having a substrate on at least one side by laminating at least one side of the polyimide of the present invention and the substrate directly or via an adhesive by pressurization or pressure heating (laminate method). Can be manufactured.
A laminate can be produced by forming a metal layer film on at least one surface of the polyimide of the present invention using a thin film deposition method and an electroplating method.
Moreover, it can obtain also by casting the polyimide precursor solution which gives the polyimide of this invention on base materials, such as metal foil, and completing imidation by chemically or heat-drying.

本発明の積層ポリイミドフィルムの本発明のポリイミド層と基材とを、直接或いは接着剤を介して、加圧又は加圧加熱(ラミネ−ト法)して、積層することにより、少なくとも片面に基材を有する積層体を製造することができる。
積層ポリイミドフィルムの本発明のポリイミド層側に、薄膜成膜法及び電気めっき法を用いて金属層膜を形成して、積層体を製造することができる。
By laminating the polyimide layer of the present invention and the base material of the laminated polyimide film of the present invention, either directly or via an adhesive, by pressurization or pressure heating (laminate method), at least on one side. A laminate having a material can be produced.
A laminated body can be manufactured by forming a metal layer film on the polyimide layer side of the present invention of the laminated polyimide film using a thin film deposition method and an electroplating method.

ラミネ−ト法において、本発明のポリイミドフィルムの片面あるいは両面に、耐熱性接着剤層を設け、さらに金属箔を重ね合わせ、加熱・加圧して積層体を得ることができる。 耐熱性接着剤としては、電子分野で使用されている耐熱性接着剤であれば特に制限はなく、例えばポリイミド系接着剤、エポキシ変性ポリイミド系接着剤、フェノ−ル樹脂変性エポキシ樹脂接着剤、エポキシ変性アクリル樹脂系接着剤、エポキシ変性ポリアミド系接着剤などが挙げられる。この耐熱性接着剤層はそれ自体電子分野で実施されている任意の方法が設けることができ、例えば前記のポリイミドフィルム、成形体に接着剤溶液を塗布・乾燥してもよく、別途に形成したフィルム状接着剤と張り合わせてもよい。   In the laminating method, a laminate can be obtained by providing a heat-resistant adhesive layer on one side or both sides of the polyimide film of the present invention, further superposing metal foil, heating and pressing. The heat-resistant adhesive is not particularly limited as long as it is a heat-resistant adhesive used in the electronic field. For example, a polyimide-based adhesive, an epoxy-modified polyimide-based adhesive, a phenol resin-modified epoxy resin adhesive, an epoxy Examples thereof include a modified acrylic resin adhesive and an epoxy-modified polyamide adhesive. This heat-resistant adhesive layer can be provided by any method which is itself implemented in the electronic field. For example, an adhesive solution may be applied to the polyimide film or the molded body and dried, or formed separately. It may be laminated with a film adhesive.

基材としては、単一金属又は合金、例えば、銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、ステンレスの金属箔、金属メッキ層(好適には蒸着金属下地層−金属メッキ層あるいは化学金属メッキ層等の多くの公知技術が適用できる。)などを挙げることができ、好適には圧延銅箔、電解銅箔、銅メッキ層などがあげられる。金属箔の厚さは特に制限はないが、0.1μm〜10mm、さらに1〜50μm、特に5〜18μmが好ましい。
積層体は、他の基材、例えばセラミックス、ガラス基板、シリコンウエハ−や同種あるいは異種の金属あるいはポリイミドフィルムなどの成形体をさらに耐熱性接着剤によって接着してもよい。
As the substrate, a single metal or alloy, for example, copper, aluminum, gold, silver, nickel, stainless steel foil, metal plating layer (preferably vapor deposition metal underlayer-metal plating layer or chemical metal plating layer, etc. Many known techniques can be applied.), And rolled copper foil, electrolytic copper foil, copper plating layer and the like are preferable. The thickness of the metal foil is not particularly limited, but is preferably 0.1 μm to 10 mm, more preferably 1 to 50 μm, and particularly preferably 5 to 18 μm.
The laminate may be formed by bonding another base material such as a ceramic, a glass substrate, a silicon wafer, the same or different metal, or a polyimide film with a heat resistant adhesive.

この発明の好適例によれば、積層体は、280℃などのハンダ浴などの高温処理を行なっても、接着界面での発泡や剥離が起こりにくい。   According to a preferred embodiment of the present invention, even when the laminate is subjected to a high-temperature treatment such as a solder bath at 280 ° C. or the like, foaming and peeling at the adhesion interface hardly occur.

積層体は、電子部品用基板、配線基板として好適に使用でき、例えば、プリント回路基板、電力用回路基板、フレキシブルヒ−タ−、抵抗器用基板として好適に使用することができる。またLSI等のベ−ス基材等の線膨張係数が小さい材料上に形成する絶縁膜、保護膜等の用途に有用である。   The laminate can be suitably used as an electronic component substrate and a wiring substrate, and can be suitably used as, for example, a printed circuit board, a power circuit board, a flexible heater, and a resistor board. Further, it is useful for applications such as an insulating film and a protective film formed on a material having a small linear expansion coefficient such as a base material such as LSI.

以下、この発明を実施例及び比較例によりさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

(フィルム特性の評価)
1)飽和吸水率(%):ポリイミドフィルムを乾燥窒素雰囲気下で恒量になるまで乾燥させて乾燥時のフィルム重量を測定し、その後、23℃で24時間純水に浸漬し、付着した水を拭き取った後、吸水時のフィルム重量を測定し、飽和吸水率は、数式(1)に従い、算出した。

Figure 0005110242
(Evaluation of film characteristics)
1) Saturated water absorption (%): The polyimide film was dried to a constant weight in a dry nitrogen atmosphere, the film weight at the time of drying was measured, and then immersed in pure water at 23 ° C. for 24 hours. After wiping off, the film weight at the time of water absorption was measured, and the saturated water absorption was calculated according to the formula (1).
Figure 0005110242

2)相対透湿速度:得られたポリイミドフィルムを乾燥窒素雰囲気下で恒量になるまで乾燥させて乾燥時のフィルム重量を測定し、その後、乾燥したポリイミドフィルムを温度27℃、湿度55%RHの雰囲気中下において1時間、重量変化を追跡し、初期の重量増加率(重量変化曲線の傾き)を透湿速度とし、比較例2における50μフィルムの透湿速度を1とした相対値を相対透湿速度とした。 2) Relative moisture permeation rate: The obtained polyimide film was dried to a constant weight in a dry nitrogen atmosphere, and the film weight at the time of drying was measured. Thereafter, the dried polyimide film was measured at a temperature of 27 ° C. and a humidity of 55% RH. The change in weight was traced for 1 hour in the atmosphere, the initial weight increase rate (the slope of the weight change curve) was taken as the moisture transmission rate, and the relative value with the moisture transmission rate of the 50 μ film in Comparative Example 2 as 1 was measured as relative permeability. The wet speed was used.

3)線膨張係数:TMA−50を用い、5℃/分、100℃〜250℃の範囲で測定した。 3) Linear expansion coefficient: measured using TMA-50 in the range of 5 ° C / min and 100 ° C to 250 ° C.

4)機械的特性(破断応力、引張弾性率、破断伸び):膜厚25μmのポリイミドフィルムを用いてASTM・D882に従って測定した。測定条件は、TENSILONを用いて、引張り速度2mm/分、温度23℃、湿度55%の環境下で行なった。測定は5試料行い、測定結果は5試料の平均値とする。 4) Mechanical properties (breaking stress, tensile modulus, breaking elongation): Measured according to ASTM D882 using a polyimide film with a film thickness of 25 μm. The measurement conditions were performed using TENSILON in an environment of a pulling speed of 2 mm / min, a temperature of 23 ° C., and a humidity of 55%. The measurement is performed on 5 samples, and the measurement result is an average value of 5 samples.

5)接着強度:得られたポリイミドフィルムに、デュポン株式会社製アクリル系接着剤(パイララックス)、圧延銅箔(日鉱マテリアル社製BHY−13H−T箔、Ra:0.18μm)を重ね合わせ、プレスにて、180℃、30Kgf/cmで1分間圧着、さらに180℃で60分間熱処理して積層板を得た。この積層板の界面の90度ピ−ル強度をJIS・C6471−8.1に従って測定し、接着強度とした。 5) Adhesive strength: on the obtained polyimide film, an acrylic adhesive (Pyralax) manufactured by DuPont Co., Ltd., rolled copper foil (BHY-13H-T foil manufactured by Nikko Material Co., Ra: 0.18 μm) are superimposed, The laminate was obtained by pressing with a press at 180 ° C. and 30 kgf / cm 2 for 1 minute and further heat treating at 180 ° C. for 60 minutes. The 90-degree peel strength at the interface of this laminate was measured in accordance with JIS C6471-8.1 to obtain the adhesive strength.

6)ガラス転移温度:動的粘弾性測定装置RSAIIIを用いて室温から500℃の範囲で動的粘弾性を測定した。 6) Glass transition temperature: Dynamic viscoelasticity was measured in the range of room temperature to 500 ° C. using a dynamic viscoelasticity measuring device RSAIII.

(原料ド−プの合成例1)
反応容器にN、N−ジメチルアセトアミド(DMAc)を加え、撹拌及び窒素流通下、パラフェニレンジアミン(PPD)を添加し、50℃に保温し完全に溶解させた。この溶液にジアミン成分とジカルボン酸成分とが等モル量となる割合の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を発熱に注意しながら徐々に添加し、添加終了後50℃を保ったまま3時間反応を続けて、モノマ−濃度18質量%のポリイミド前駆体溶液(黄色粘調液体、25℃における溶液粘度は約1000ポイズ)を得た。この溶液を第1液と称する。
(Synthesis example 1 of raw material dope)
N, N-dimethylacetamide (DMAc) was added to the reaction vessel, paraphenylenediamine (PPD) was added under stirring and nitrogen flow, and the mixture was kept at 50 ° C. and completely dissolved. To this solution, gradually add 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) in an equimolar amount of the diamine component and the dicarboxylic acid component while paying attention to heat generation. After completion, the reaction was continued for 3 hours while maintaining 50 ° C. to obtain a polyimide precursor solution having a monomer concentration of 18% by mass (yellow viscous liquid, solution viscosity at 25 ° C. was about 1000 poise). This solution is referred to as the first liquid.

(原料ド−プの合成例2)
PPDの代わりに3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン(MBAA)を添加した以外は合成例1と同様の反応を行って、モノマ−濃度18質量%のポリイミド前駆体溶液(淡褐色粘調液体、25℃における溶液粘度は約500ポイズ)を得た。この溶液を第2液と称する。
(Synthesis example 2 of raw material dope)
Except for adding 3,3′-dicarboxy-4,4′-diaminodiphenylmethane (MBAA) in place of PPD, the same reaction as in Synthesis Example 1 was performed to obtain a polyimide precursor solution having a monomer concentration of 18% by mass ( A light brown viscous liquid, the solution viscosity at 25 ° C. was about 500 poise). This solution is referred to as the second liquid.

(原料ド−プの合成例3)
PPDの代わりに4,4’−メチレン−ビス(2,6−ジメチルアニリン)(MDX)を添加した以外は合成例1と同様の反応を行って、モノマ−濃度18質量%のポリイミド前駆体溶液(淡褐色粘調液体、25℃における溶液粘度は約1000ポイズ)を得た。この溶液を第3液と称する。
(Synthesis example 3 of raw material dope)
A polyimide precursor solution having a monomer concentration of 18% by mass was prepared by performing the same reaction as in Synthesis Example 1 except that 4,4′-methylene-bis (2,6-dimethylaniline) (MDX) was added instead of PPD. (Light brown viscous liquid, solution viscosity at 25 ° C. is about 1000 poise). This solution is referred to as the third liquid.

(原料ド−プの合成例4)
PPDの代わりに4,4’−メチレン−ビス(2−メチルアニリン)(MDT)を添加した以外は合成例1と同様の反応を行って、モノマ−濃度18質量%のポリイミド前駆体溶液(濃赤色粘調液体、25℃における溶液粘度は約1000ポイズ)を得た。この溶液を第4液と称する。
(Synthesis example 4 of raw material dope)
The same reaction as in Synthesis Example 1 was performed except that 4,4′-methylene-bis (2-methylaniline) (MDT) was added instead of PPD, and a polyimide precursor solution (concentrated) having a monomer concentration of 18% by mass was obtained. A red viscous liquid having a solution viscosity of about 1000 poise at 25 ° C. was obtained. This solution is referred to as the fourth liquid.

(原料ド−プの合成例5)
PPDの代わりに3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル(DANS)を添加した以外は合成例1と同様の反応を行って、モノマ−濃度18質量%のポリイミド前駆体溶液(淡黒褐色粘調液体、25℃における溶液粘度は約1500ポイズ)を得た。この溶液を第5液と称する。
(Synthesis example 5 of raw material dope)
The same reaction as in Synthesis Example 1 was performed except that 3,3′-dimethoxy-4,4′-diaminobiphenyl (DANS) was added instead of PPD, and a polyimide precursor solution having a monomer concentration of 18% by mass (light A black-brown viscous liquid having a solution viscosity at 25 ° C. of about 1500 poise) was obtained. This solution is referred to as the fifth solution.

(原料ド−プの合成例6)
PPDの代わりに3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル(TB)を添加した以外は合成例1と同様の反応を行って、モノマ−濃度18質量%のポリイミド前駆体溶液(淡褐色粘調液体、25℃における溶液粘度は約800ポイズ)を得た。この溶液を第6液と称する。
(Synthesis Example 6 of raw material dope)
Except for adding 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl (TB) instead of PPD, the same reaction as in Synthesis Example 1 was carried out to obtain a polyimide precursor solution (light-weighted) with a monomer concentration of 18% by mass. A brown viscous liquid, the solution viscosity at 25 ° C. was about 800 poise). This solution is referred to as the sixth liquid.

フィルムを基板に流延して製造する場合、得られるフィルム面は基板側と空気側があり、フィルムの空気側の面をA面とし、基板側の面をB面として表す。   When the film is produced by casting on a substrate, the obtained film surface has a substrate side and an air side, the air side surface of the film is represented as A surface, and the substrate side surface is represented as B surface.

実施例2,3、参考例1〜4、比較例1)
第1液と第2〜第6液とを表1の比率で混合し、ガラス基板上に最終膜厚25μm程度となるように塗布し、135℃で3分加熱して固化フィルムを形成し、ガラス基板から剥離した後、ピンテンターに貼り付けて130℃で5分、180℃で5分、210℃で5分、320℃で2分間加熱した後、450℃まで5分で昇温し、450℃に2分保持して熱処理することによりポリイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムを用いて、吸水率及び相対透湿速度を測定し、結果を表1に示す。
さらにこのポリイミドフィルムのガラス転移温度を測定した。これらのフィルムはいずれも450℃以下に明確なガラス転移点を示さなかった。
( Examples 2 and 3, Reference Examples 1 to 4 , Comparative Example 1)
The first liquid and the second to sixth liquids are mixed at a ratio shown in Table 1, and coated on a glass substrate so as to have a final film thickness of about 25 μm, and heated at 135 ° C. for 3 minutes to form a solidified film, After peeling from the glass substrate, it was attached to a pin tenter and heated at 130 ° C. for 5 minutes, 180 ° C. for 5 minutes, 210 ° C. for 5 minutes, 320 ° C. for 2 minutes, and then heated to 450 ° C. in 5 minutes. A polyimide film was obtained by heat-treating at 2 ° C. for 2 minutes. Using this polyimide film, the water absorption rate and relative moisture transmission rate were measured, and the results are shown in Table 1.
Furthermore, the glass transition temperature of this polyimide film was measured. None of these films showed a clear glass transition point below 450 ° C.

また、得られたポリイミドフィルムのA面側又はB面側に、デュポン株式会社製アクリル系接着剤(パイララックス)、圧延銅箔(日鉱マテリアルズ社製BHY−13H−T箔、Ra:0.18μm)を重ね合わせ、プレスにて、180℃、30Kgf/cmで1分間加熱圧着し、さらに180℃で60分間熱処理を行い、(ポリイミドフィルムA面/接着剤/銅箔)の3層と、(ポリイミドフィルムB面/接着剤/銅箔)の3層の2種類の積層板を得た。これらの積層板の90度ピ−ル強度を測定し、結果を表1に示す。 Further, on the A side or B side of the obtained polyimide film, an acrylic adhesive (Pyralax) manufactured by DuPont Co., Ltd., rolled copper foil (BHY-13H-T foil manufactured by Nikko Materials Co., Ra: 0.00). 18 μm), and heat-pressed with a press at 180 ° C. and 30 kgf / cm 2 for 1 minute, followed by heat treatment at 180 ° C. for 60 minutes, and three layers (polyimide film A surface / adhesive / copper foil) , (Polyimide film B surface / adhesive / copper foil) were obtained. The 90 ° peel strength of these laminates was measured, and the results are shown in Table 1.

Figure 0005110242
Figure 0005110242

(実施例7〜13、比較例2〜4)
第1液と第3液とを表2の比率で混合し、ガラス基板上に最終膜厚25μm及び50μmとなるように塗布し、135℃で3分(最終膜厚25μm)又は5分(最終膜厚50μm)加熱して固化フィルムを形成し、ガラス基板から剥離した後、ピンテンタ−に貼り付けて130℃で5分、180℃で5分、210℃で5分、320℃で2分間加熱した後、450℃まで5分で昇温し、450℃に2分保持して熱処理することによりポリイミドフィルムを得た。
得られたポリイミドフィルムの飽和吸水率、相対透湿速度、線膨張係数及び機械的特性(破断応力、引張弾性率、破断伸び)を測定し、結果を表2に示す。
(Examples 7 to 13 and Comparative Examples 2 to 4)
The first liquid and the third liquid are mixed at a ratio shown in Table 2, and are applied onto a glass substrate so as to have a final film thickness of 25 μm and 50 μm. (Film thickness 50 μm) Heated to form a solidified film, peeled off from the glass substrate, and then attached to a pin tenter and heated at 130 ° C. for 5 minutes, 180 ° C. for 5 minutes, 210 ° C. for 5 minutes, and 320 ° C. for 2 minutes Then, the temperature was raised to 450 ° C. in 5 minutes, and the polyimide film was obtained by heat-treating at 450 ° C. for 2 minutes.
The resulting polyimide film was measured for saturated water absorption, relative moisture transmission rate, linear expansion coefficient, and mechanical properties (breaking stress, tensile modulus, breaking elongation), and the results are shown in Table 2.

Figure 0005110242
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(実施例14)
第1液をガラス基板上に最終膜厚21μm程度となるように塗布し、135℃で3分加熱して固化フィルム(基板層:耐熱性ポリイミド)を形成し、第1液と第3液とを混合してモノマ−濃度5重量%に調製したポリイミド前駆体溶液(ジアミン成分は、MDX10モル%と、PPD90モル%)を、最終膜厚2μmになるように固化フィルムのA面に塗布し、135℃で1分加熱後、ガラス基板から剥離し、同様に固化フィルムのB面にも塗布し、さらに135℃で1分加熱した。次にピンテンタ−に貼り付けて、130℃で5分、180℃で5分、210℃で5分、320℃で2分加熱した後、450℃まで5分で昇温し、450℃に2分保持して熱処理することにより、各層の厚みが2μm/21μm/2μmの3層のポリイミドフィルムを得た。
得られた3層ポリイミドフィルムの飽和吸水率及び相対透湿速度を測定し、結果を表3に示す。さらに得られた3層のポリイミドフィルムの基板層A面側又は基板層B面側に、デュポン株式会社製アクリル系接着剤(パイララックス)、圧延銅箔(日鉱マテリアル社製BHY−13H−T箔、Ra:0.18μm)を重ね合わせ、プレスにて、180℃、30Kgf/cmで1分間加熱圧着し、さらに180℃で60分間熱処理して、耐熱性ポリイミド(基板層)のA面側/ポリイミド/接着剤/銅箔、又は耐熱性ポリイミド(基板層)のB面側/ポリイミド/接着剤/銅箔、の2種類の4層の積層板を得た。この積層板の90度ピ−ル強度を測定し、結果を表3に示す。
(Example 14)
The first liquid is applied on a glass substrate to a final film thickness of about 21 μm, and heated at 135 ° C. for 3 minutes to form a solidified film (substrate layer: heat-resistant polyimide). The first liquid, the third liquid, The polyimide precursor solution (diamine component is MDX 10 mol% and PPD 90 mol%) prepared to a monomer concentration of 5 wt% by mixing and coating on the A side of the solidified film to a final film thickness of 2 μm, After heating at 135 ° C. for 1 minute, it was peeled off from the glass substrate, similarly applied to the B side of the solidified film, and further heated at 135 ° C. for 1 minute. Next, it is attached to a pin tenter, heated at 130 ° C. for 5 minutes, 180 ° C. for 5 minutes, 210 ° C. for 5 minutes, and 320 ° C. for 2 minutes, then heated to 450 ° C. in 5 minutes, and then heated to 450 ° C. for 2 minutes. By carrying out heat treatment while maintaining the minute, a three-layer polyimide film having a thickness of 2 μm / 21 μm / 2 μm was obtained.
The saturated water absorption rate and relative moisture transmission rate of the obtained three-layer polyimide film were measured, and the results are shown in Table 3. Further, on the substrate layer A surface side or the substrate layer B surface side of the obtained three-layer polyimide film, acrylic adhesive (Pyralax) manufactured by DuPont Co., Ltd., rolled copper foil (BHY-13H-T foil manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.) , Ra: 0.18 μm), heat-pressed with a press at 180 ° C. and 30 kgf / cm 2 for 1 minute, and further heat-treated at 180 ° C. for 60 minutes, and the A side of the heat-resistant polyimide (substrate layer) Two types of four-layer laminates were obtained: / polyimide / adhesive / copper foil, or B side of heat-resistant polyimide (substrate layer) / polyimide / adhesive / copper foil. The 90 ° peel strength of this laminate was measured and the results are shown in Table 3.

(実施例15)
3層ポリイミドフィルムの各層の厚みが1μm/10μm/1μmとなるように塗布厚を調整した他は、実施例14と同様の評価を行った。結果を表3に示す。
(Example 15)
The same evaluation as in Example 14 was performed except that the coating thickness was adjusted so that the thickness of each layer of the three-layer polyimide film was 1 μm / 10 μm / 1 μm. The results are shown in Table 3.

(実施例16)
第1液に、1,2−ジメチルイミダゾ−ルをポリイミド前駆体に対して2重量%添加した溶液を用いて基板層を形成した他は、実施例15と同様の評価を行った。結果を表3に示す。
(Example 16)
The same evaluation as in Example 15 was performed, except that a substrate layer was formed using a solution obtained by adding 1,2-dimethylimidazole to the first solution in an amount of 2% by weight based on the polyimide precursor. The results are shown in Table 3.

(比較例5)
第1液に、1,2−ジメチルイミダゾ−ルをポリイミド前駆体に対して2重量%添加した溶液を用いて、厚み12μmの基板層のみを形成した他は、実施例15と同様の評価を行った。結果を表3に示す。
(Comparative Example 5)
The same evaluation as in Example 15 was carried out except that only a substrate layer having a thickness of 12 μm was formed using a solution obtained by adding 1,2-dimethylimidazole to the polyimide precursor in an amount of 2% by weight. went. The results are shown in Table 3.

Figure 0005110242
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(高温処理の評価)
実施例2,3、参考例1〜4、比較例1、実施例14〜16及び比較例5で得られた積層板について、次の評価法によって高温処理工程による接着界面での発泡や剥離の発生の有無について評価した。
評価法:片面を銅箔に接着した積層体を23℃で24時間純水に浸漬し、付着した水を拭き取った後280℃のハンダ浴に10秒間浸漬し、積層体の発泡及び剥離を目視で観察し、その結果を示す。
実施例2,3、参考例1〜3及び実施例14〜16は、発泡及び剥離が認められなかった。
参考例4は、わずかに発泡が認められた。
比較例1及び比較例5は、発泡と剥離が認められた。
本発明のポリイミドより得られる積層体は、高温処理しても発泡や剥離が起こりにくいことが判明した。
(Evaluation of high temperature treatment)
For the laminates obtained in Examples 2 and 3, Reference Examples 1 to 4 , Comparative Example 1, Examples 14 to 16, and Comparative Example 5, foaming and peeling at the bonding interface by the high-temperature treatment step were performed by the following evaluation method. The occurrence was evaluated.
Evaluation method: A laminate having one surface bonded to copper foil is immersed in pure water at 23 ° C. for 24 hours, wiped off the adhering water, and then immersed in a solder bath at 280 ° C. for 10 seconds to visually check foaming and peeling of the laminate. And observe the results.
In Examples 2 and 3, Reference Examples 1 to 3 and Examples 14 to 16, foaming and peeling were not observed.
In Reference Example 4 , slight foaming was observed.
In Comparative Examples 1 and 5, foaming and peeling were observed.
It has been found that the laminate obtained from the polyimide of the present invention hardly foams or peels even when subjected to high temperature treatment.

Claims (3)

3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、パラフェニレンジアミンを含むジアミンとを混合して第1のポリイミド前駆体溶液を得る工程と、  Mixing a tetracarboxylic dianhydride containing 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and a diamine containing paraphenylenediamine to obtain a first polyimide precursor solution;
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、4,4’−メチレン−ビス(2,6−ジメチルアニリン)を混合して第2のポリイミド前駆体溶液を得る工程と、Tetracarboxylic dianhydride including 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4′-methylene-bis (2,6-dimethylaniline) are mixed to form a second Obtaining a polyimide precursor solution;
前記第1のポリイミド前駆体溶液と、前記第2のポリイミド前駆体溶液とを混合し固化フィルムを形成する工程と、Mixing the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution to form a solidified film;
前記固化フィルムを熱処理する工程と、Heat treating the solidified film;
を含むポリイミドフィルムの製造方法。The manufacturing method of the polyimide film containing this.
耐熱性ポリイミドからなるポリイミドコア層を与える第1のポリイミド前駆体溶液を支持体上に流延、乾燥して自己支持性フィルムを形成する工程と、  Casting a first polyimide precursor solution that gives a polyimide core layer made of heat-resistant polyimide onto a support and drying to form a self-supporting film;
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、4,4’−メチレン−ビス(2,6−ジメチルアニリン)を混合して第2のポリイミド前駆体溶液を準備する工程と、Tetracarboxylic dianhydride including 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4′-methylene-bis (2,6-dimethylaniline) are mixed to form a second Preparing a polyimide precursor solution;
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、パラフェニレンジアミンを含むジアミンとを混合して第3のポリイミド前駆体溶液を準備する工程と、A step of preparing a third polyimide precursor solution by mixing a tetracarboxylic dianhydride containing 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and a diamine containing paraphenylenediamine; ,
前記第2のポリイミド前駆体溶液と、前記第3のポリイミド前駆体溶液とを混合する工程と、Mixing the second polyimide precursor solution and the third polyimide precursor solution;
前記自己支持性フィルムの少なくとも片面に前記混合したポリイミド前駆体溶液を塗布又は吹き付ける工程と、Applying or spraying the mixed polyimide precursor solution on at least one side of the self-supporting film; and
前記塗布又は吹き付けた自己支持性フィルムを加熱乾燥する工程と、Heating and drying the coated or sprayed self-supporting film;
を含む積層ポリイミドフィルムの製造方法。A method for producing a laminated polyimide film comprising:
前記第1のポリイミド前駆体溶液は、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、パラフェニレンジアミンを含むジアミンの混合物である請求項2記載の積層ポリイミドフィルムの製造方法。  The first polyimide precursor solution is a mixture of a tetracarboxylic dianhydride containing 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and a diamine containing paraphenylenediamine. The manufacturing method of the laminated polyimide film of description.
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