JP5179614B2 - エンドレスバンドの検査方法及び装置 - Google Patents

Description

本発明は、エンドレスバンドの検査方法及び装置に関する。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の大画面化に伴い、ＬＣＤに用いる光学フィルムにも大面積化が要求される。光学フィルムは、長尺に製造されてから、ＬＣＤの寸法に応じて所定のサイズにカットされる。したがって、より大きな面積の光学フィルムを製造するためには、幅が従来よりも大きな長尺の光学フィルムを製造する必要がある。

長尺の光学フィルムの代表的な製造方法としては、連続方式の溶液製膜方法がある。溶液製膜方法は、周知のように、ポリマーが溶剤に溶けているドープを、移動する流延支持体の上に流延し、ドープからなる流延膜を流延支持体上に形成し、流延膜を流延支持体から剥がして乾燥することによりフィルムを製造する方法である。

流延支持体として、駆動ローラに掛け渡された金属製のバンドが用いられ、製造することができるフィルムの最大幅は、このバンドの幅に制約される。したがって、より大きな幅のフィルムを製造するには、より大きな幅のバンドが必要となる。しかし、これまで、幅が２ｍ程度までのバンドしか得られていなかった。

そこで、特許文献１では、幅方向の中央部になる中央部バンドと、バンドの各側部になる１対の側部バンドとを、長手方向に溶接することにより、従来よりも大きな幅のバンドを得ている。

韓国特許公開公報第２００９−０１１００８２号

しかしながら、特許文献１に記載のバンドは、長手方向に延びる溶接ラインに起因して、幅方向にて反りが起こりやすい。特に、バンドの幅方向端部、すなわち、中央部バンドから側部バンドにかけて反りが起こりやすい。幅方向端部が反ったバンドを用いて溶液製膜方法を行えば、この反りに起因して、流延膜の厚みムラが生じる。このような厚みムラが生じた流延膜を乾燥しても、厚みムラが生じたフィルムとなってしまう。更に、厚みムラが生じた流延膜を剥ぎ取る際には、剥げ残り故障が生じやすくなる。また、厚みムラが生じた流延膜を乾燥する場合には、発泡が生じやすくなる。加えて、反りによって湾曲したバンドの内側の面が駆動ローラの周面と接触するようにバンドを駆動ローラに掛け渡した場合、バンドの側部では、バンド端が局所的に駆動ローラの周面に接触することとなる。バンド端が局所的に駆動ローラの周面に接触する状態が継続されれば、バンドの側部の変形が増大するため、上述した厚みムラに起因する問題が起こりやすくなる。

また、技術開発により、現時点における製造限界幅を超えるバンドの製造が可能となった場合、当該バンドを用いることにより溶接ラインに起因する反りはなくなる。しかしながら、バンドの幅の増大により幅方向における反りの問題が生じる。

このように、溶接ラインの有無に関わらず、従来よりも幅の広いバンドを用いる場合には、幅方向における反りの問題が生じる。

本発明は、従来よりも幅の広いバンドを製造したときに、溶液製膜方法を行うことなく、バンドの反りを検知可能なエンドレスバンドの検査方法及び装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、流延ダイから流下したドープが到達する到達位置が設定され前記到達したドープからなる流延膜を形成するための表面と、循環移動する際製膜用ローラに支持されるための裏面とを備えた金属製のエンドレスバンドの検査方法において、前記裏面が検査用ローラによって支持され移動テンションが印加された状態の前記エンドレスバンドのうち前記到達位置に対応した前記表面上の測定位置から前記検査用ローラの支持面までの距離Ｈを算出する距離Ｈ算出工程と、式（１）により、前記測定位置における前記支持面から前記裏面までの浮き量ＣＬを算出する浮き量算出工程と、前記算出された浮き量ＣＬが閾値以下であるか否かを判定する判定工程とを有することを特徴とする。
式（１）ＣＬ＝Ｈ−Ｄ
Ｄ：前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚み

前記検査用ローラは軸方向端部が露出するように軸方向中央部で前記エンドレスバンドを支持し、前記距離算出工程では、測距手段を用いて、前記測定位置から前記測距手段までの距離Ａ及び前記測定位置における前記軸方向端部から前記測距手段までの距離Ｂを測定し、式（２）により前記距離Ｈを算出することが好ましい。
式（２） Ｈ＝Ｂ−Ａ

前記浮き量算出工程では、前記エンドレスバンドに設定された基準位置から前記測定位置までの位置情報と前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚みＤとが関連付けられて記憶された記憶手段から前記エンドレスバンドの厚みＤを読み取り、前記記憶手段から読み取った前記エンドレスバンドの厚みＤを用いて、前記浮き量ＣＬを算出することが好ましい。

前記エンドレスバンドは、金属製の第１ウェブ及びこの第１ウェブの幅方向片側に溶接された金属製の第２ウェブからなることが好ましい。また、前記製膜用ローラと前記検査用ローラとが同一のローラであることが好ましい。更に、前記移動テンションは６０Ｎ／ｍｍ^２であり、前記閾値が０．１ｍｍ以下であることが好ましい。

また、本発明は、流延ダイから流下したドープが到達する到達位置が設定され前記到達したドープからなる流延膜を形成するための表面と、循環移動する際製膜用ローラに支持されるための裏面とを備えた金属製のエンドレスバンドの検査装置において、前記裏面が検査用ローラによって支持され移動テンションが印加された状態の前記エンドレスバンドのうち前記到達位置に対応した前記表面上の測定位置から前記検査用ローラの支持面までの距離Ｈを算出する距離算出手段と、式（１）により、前記測定位置における前記支持面から前記裏面までの浮き量ＣＬを算出する浮き量算出手段と、前記算出された浮き量ＣＬが閾値以下であるか否かを判定する判定手段とを有することを特徴とする。
式（１）ＣＬ＝Ｈ−Ｄ
Ｄ：前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚み

前記検査用ローラは軸方向端部が露出するように軸方向中央部で前記エンドレスバンドを支持し、前記測定位置までの距離Ａ及び前記測定位置における前記軸方向端部までの距離Ｂを測定する測距手段が設けられ、前記距離算出手段は、式（２）により、前記距離Ｈを算出することが好ましい。
式（２） Ｈ＝Ｂ−Ａ

前記エンドレスバンドに設定された基準位置から前記測定位置までの位置情報と前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚みＤとが関連付けられて記憶された記憶手段を有し、前記浮き量算出手段は、前記記憶手段に記憶された前記エンドレスバンドの厚みＤを用いて、前記浮き量ＣＬを算出することが好ましい。

前記製膜用ローラと前記検査用ローラとが同一のローラであることが好ましい。

本発明によれば、裏面が検査用ローラによって支持され移動テンションが印加された状態のエンドレスバンドのうち、ドープが着地する到達位置に対応した表面上の測定位置から検査用ローラの支持面までの距離Ｈを算出する距離Ｈ算出工程と、測定位置における支持面から裏面までの浮き量ＣＬを算出する浮き量算出工程と、算出された浮き量ＣＬが閾値以下であるか否かを判定する判定工程とを有するため、溶液製膜方法を行うことなく、バンドの反りが検知可能となる。

バンドの製造設備の概要を示す側面図である。 バンド製造設備の概要を示す平面図である。 溶接ユニットの概要を示す側面図である。 溶接ユニットの概要を示す平面図である。 溶接支持ローラの概要を示すＶ−Ｖ線断面図である。 溶接ビード及びその周辺の説明図である。 テーパローラの概略図である。 クリップの概略図である。 バンドの概略図である。 溶液製膜設備の概要を示す側面図である。 到達位置ＤＰ、減圧エリアＢＡの概要を示す側面図である。 流延ダイ、減圧チャンバ、及び製膜用ローラの概要を示す斜視図である。 到達位置ＤＰ及び減圧エリアＢＡの概要を示す斜視図である。 回転軸がテンション印加位置にセットされたときのバンド検査装置の概要を示す側面図である。 検査用ローラに巻き掛けられたバンドの概要を示す斜視図である。 バンド検査装置の概要を示すブロック図である。 回転軸が弛み位置にセットされたときのバンド検査装置の概要を示す側面図である。 厚み情報の概要を示す説明図である。 測定位置ＭＰ１にセットされた厚み測定ラインＳＴ（ｊ）におけるバンドの断面図であり、距離Ａ、Ｂ及びＨの概要を示すものである。 測定位置ＭＰ１にセットされた厚み測定ラインＳＴ（ｊ）におけるバンドの断面図であり、距離Ａ，Ｈ，バンドの厚みＤ及び浮き量ＣＬの概要を示すものである。 バンド検査工程の概要を示すフローチャートである。 回転軸がテンション印加位置にセットされたときのバンド検査装置の概要を示す側面図である。 バンドに反りが生じていない場合、測距センサのセンサデバイスが検知する距離の概要を示す説明図である。 バンドに反りが生じている場合、測距センサのセンサデバイスが検知する距離の概要を示す説明図である。

図１及び図２に示すバンド製造設備１０は、長尺の中央部材１２と、中央部材１２の幅方向両側に設けられる側部材１１とからなる長尺のバンド部材１３をつくるものである。

側部材１１と中央部材１２とは、それぞれ金属製のシート材である。側部材１１は相対的に幅が狭い幅狭のシート材である。側部材１１と中央部材１２とは、互いに同じ素材から形成されることが好ましく、互いに同一の原料及び形成工程を経て形成されることがより好ましい。例えば、側部材１１及び中央部材１２として、ステンレス鋼から形成されたもの用いることが好ましい。

中央部材１２としては、従来の流延支持体として用いられてきたバンドを用いてよい。中央部材１２は、側部材１１よりも幅が広く、本実施形態における中央部材１２の幅は１５００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下の範囲で一定であり、側部材１１の幅は５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下の範囲で一定である。

バンド製造設備１０は、送出部１６と、突き合わせ部１７と、溶接ユニット１８と、加熱部１９と、巻取装置２０とを備える。

送出部１６は、側部材１１を送り出す第１送出装置２３と、中央部材１２を送り出す第２送出装置２４とを有し、側部材１１と中央部材１２とをそれぞれ独立して突き合わせ部１７に送る。第１送出装置２３には、ロール状に巻かれた側部材１１がセットされ、側部材１１を巻き出して突き合わせ部１７に送る。第２送出装置２４には、ロール状に巻かれた中央部材１２がセットされ、中央部材１２を巻き出して突き合わせ部１７に送る。

突き合わせ部１７は、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが互いに接するように、独立して案内されてくる側部材１１と中央部材１２とを突き合わせる。突き合わせ部１７は、中央部材１２の搬送路に上流側から順に配される第１ローラ２６及び第２ローラ２７と、側部材１１の搬送路に配される第３ローラ２８と、側部材１１及び中央部材１２の両方を支持するように搬送路に配される第４ローラ２９とを有することが好ましい。

第４ローラ２９は、側部材１１の一方の側縁と中央部材１２の一方の側縁とが接触を開始する突き合わせ位置Ｐｈにおいて、送られてきた側部材１１と中央部材１２とを支持する突き合わせ支持ローラである。

第２ローラ２７と第３ローラ２８とは、第４ローラ２９の周面で中央部材１２と側部材１１とが接触するように中央部材１２の搬送経路と側部材１１の搬送経路とをそれぞれ調整する。

第２ローラ２７は、中央部材１２の搬送経路を調整して、側部材１１と溶接されるべき側縁１２ｅの通過経路を、突き合わせ位置Ｐｈに向けて制御する。第２ローラ２７は、中央部材１２の幅方向Ｙに移動自在となっている。シフト機構３２は、第２ローラ２７を幅方向Ｙへ移動する。

第２ローラ２７と第４ローラ２９との間には、中央部材１２の各側縁１２ｅのうちの一方の通過位置を検出し、検出した通過位置の信号をコントローラ３３に送る位置検出手段３４が配される。コントローラ３３は、送られてきた通過位置の信号に基づき、幅方向Ｙにおける第２ローラ２７の変位量を求め、変位量の信号をシフト機構３２に送る。シフト機構３２は、送られてきた変位量の信号に基づき第２ローラ２７の傾きや中央部材１２の幅方向Ｙにおける第２ローラ２７の位置を変える。このように第２ローラ２７の傾きや位置を変えることにより、中央部材１２が幅方向Ｙに変位する。

第１ローラ２６には、シフト機構３７が設けられていることが好ましい。このシフト機構３７により、第１ローラ２６は、第２ローラ２７に向かう中央部材１２を一方の部材面から押す。この第１ローラ２６の変位量に応じて、第１ローラ２６の中央部材１２に対する押し圧が変わり、押し圧を調整することにより、第２ローラ２７に巻き掛ける中央部材１２の巻き掛け中心角を制御することができる。この巻き掛け中心角の制御により、第２ローラ２７による中央部材１２の幅方向Ｙでの変位量をより精緻に制御することができる。

第３ローラ２８は、側部材１１の搬送経路を調整して、中央部材１２と溶接されるべき一方の側縁１１ｅの通過経路を突き合わせ位置Ｐｈに向けて調整する。第３ローラ２８には、長手方向の向きを制御するコントローラ３８が備えられる。このコントローラ３８は、例えば、側部材１１と接触している間の接触領域における周方向と中央部材１２の搬送方向Ｘとのなす角θ１が変化するように、第３ローラ２８の長手方向を側部材１１の部材面に沿って変化させる。

以上のように第１ローラ２６〜第３ローラ２８を用いて、突き合わせ位置Ｐｈが第４ローラ２９上になるように制御することが好ましい。第１ローラ２６〜第３ローラ２８は、いずれも周方向に回転する駆動ローラであることが好ましい。周方向に回転することにより、第１ローラ２６及び第２ローラ２７は、中央部材１２の搬送手段としても作用し、第３ローラ２８は、側部材１１の搬送手段としても作用する。第１ローラ２６〜第３ローラ２８を駆動ローラとすることにより、側部材１１と中央部材１２との搬送路の制御がより確実になるとともに、側部材１１と中央部材１２との第１ローラ２６〜第３ローラ２８上でのスリップを防止して部材面に傷がつくことが防止される。

溶接ユニット１８は、互いの側縁１１ｅ，１２ｅが接触した状態で突き合わせ部１７から供給される側部材１１と中央部材１２とを溶接する。突き合わせ部１７から連続的に供給されることにより、側部材１１と中央部材１２とを長手方向で溶接する長手溶接工程を行うことができる。溶接ユニット１８は、溶接装置４２を備える。溶接装置４２としては、例えば、レーザ溶接装置が挙げられる。レーザ溶接装置としては、例えば、ＣＯ_２レーザ溶接装置や、ＹＡＧレーザ溶接装置を用いることができる。本実施態様では、ＣＯ_２レーザ溶接装置を溶接装置４２として用いた場合を説明する。

溶接装置４２は、集光したレーザ光を射出して、照射対象としての側部材１１及び中央部材１２にレーザ光を照射することにより、側部材１１と中央部材１２とを溶融して接合する。溶接装置４２は、レーザ発振器４３と、このレーザ発振器４３から案内されてきたレーザ光を集光して射出する溶接装置本体４６と、レーザ光を照射するにあたりＣＯ_２ガスを供給するガス供給部（図示無し）とを備える。ＣＯ_２ガスは、側部材１１と中央部材１２との酸化を防止する。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにレーザ発振器４３の図示は略してある。

レーザ溶接装置に代えてＴＩＧ溶接（Ｔｕｎｇｓｔｅｎ Ｉｎｅｒｔ Ｇａｓ ｗｅｌｄｉｎｇ）装置を用いてもよい。ＴＩＧ溶接とは、周知のように、アークを熱源とする溶接アーク溶接のひとつであり、シールドガスとしてイナートガス（不活性ガス）を用い、電極にはタングステンあるいはタングステン合金を用いるイナートガスアーク溶接の一種である。ＴＩＧ溶接よりもレーザ溶接の方がより好ましい。また、ＴＩＧ溶接とレーザ溶接とを組み合わせたハイブリッド溶接としてもよい。

溶接装置本体４６のレーザ光の射出口に対向するように、側部材１１と中央部材１２との搬送路には側部材１１と中央部材１２とを周面で支持する溶接支持ローラ４１が備えてある。溶接支持ローラ４１の回転軸は、側部材１１及び中央部材１２の幅方向Ｙと平行である。溶接支持ローラ４１の周面で支持されている間の側部材１１と中央部材１２とにレーザ光が照射されるように、溶接支持ローラ４１による側部材１１と中央部材１２との支持位置を設定することが好ましい。すなわち、溶接支持ローラ４１上で、溶接をすることが好ましい。これにより、互いに側縁１１ｅ，１２ｅが接した状態で側部材１１と中央部材１２とが安定し、照射すべき箇所にレーザ光を確実に照射することができる。

溶接装置本体４６には、幅方向Ｙに変位するためのシフト機構５０が備えられることが好ましい。溶接装置４２の上流側には、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが接している接触位置Ｐｓ（図５参照）を検出し、検出した接触位置Ｐｓ（図５参照）の信号をコントローラ５１に送る位置検出手段４７が設けてある。位置検出手段４７は、突き合わせ位置Ｐｈから溶接装置４２（例えば、溶接位置Ｐｗ）に至る搬送路近傍に配されてあればよい。

コントローラ５１は、送られてきた接触位置Ｐｓ（図５参照）の信号に基づき、幅方向Ｙにおける溶接装置本体４６の変位量を求め、変位量の信号をシフト機構５０に送る。コントローラ５１は、側部材１１と中央部材１２との搬送速度の信号が入力されると、溶接装置本体４６を変位させるべき変位量の信号とともに変位させるタイミングの信号とをシフト機構５０に送る。シフト機構５０は、送られてきた変位量及び変位のタイミングの信号に基づき、溶接装置本体４６の位置を所定のタイミングで変える。このように溶接装置本体４６の位置を幅方向Ｙで変えることにより、レーザ光の照射位置をより精緻に制御して、より確実に、側部材１１と中央部材１２とが溶接される。なお、本実施形態における溶接装置４２への側部材１１と中央部材１２との搬送速度は０．１５ｍ／分以上２０ｍ／分以下の範囲としてある。

溶接ユニット１８には、図１に示すように、溶接装置本体４６と溶接支持ローラ４１とを外部空間と仕切るチャンバ５２と、気体を清浄化する清浄装置５５とを設けることがより好ましい。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにチャンバ５２と清浄装置５５との図示は略してある。チャンバ５２には、内部気体を外部に出す第１開口（図示無し）と、清浄装置５５で清浄化された気体を内部に案内する第２開口（図示無し）とが設けられる。第１開口と第２開口とは、それぞれ清浄装置５５に接続する。チャンバ５２の内部気体は、第１開口から清浄装置５５に案内され、清浄装置５５はチャンバ５２から案内されてきた気体を清浄化して第２開口を介してチャンバ５２に送る。このように、チャンバ５２の内部気体は、清浄装置５５との間で循環される。

チャンバ５２の内部気体を清浄化しておくことにより、溶接位置Ｐｗ及びその周辺が清浄化され、溶接部１３ｗに異物等が混入されてしまうことが防止される。なお、チャンバ５２の内部の圧力が、外部空間の圧力よりも高く保持することにより、チャンバ５２の内部を清浄化した状態により確実に保持することができる。また、溶接位置Ｐｗを、送出部１６、突き合わせ部１７、加熱部１９、巻取装置２０に対して相対的に高い位置にすることにより、これらから異物が案内されることをより防止することができる。

チャンバ５２の内部の清浄度は、例えば、米国連邦規格ＦＥＤ−ＳＴＤ−２０９Ｄでのクラス１０００以下とすることが好ましく、クラス１００以下にすることがより好ましい。

加熱部１９は、溶接ユニット１８よりも下流側に設けられることが好ましい。加熱部１９は、溶接により得られたバンド部材１３の溶接部１３ｗを一定の温度範囲になるように加熱するものであれば特に限定されない。溶接部１３ｗ及びその周辺には、溶接により生じたひずみに起因する応力が内部に残っていることがある。このような溶接部１３ｗやその周辺を加熱部１９により加熱することにより応力を除去することができる。この応力の除去により、長時間連続して溶液製膜方法を行う場合であっても、溶接部１３ｗの変形を抑えることができる。

加熱部１９の加熱による溶接部１３ｗの温度は、応力が除去される温度であれば特に限定されないが、例えばバンド部材１３がステンレス鋼からなる場合には、溶接部１３ｗの温度は、１００℃以上２００℃以下であることが好ましく、１２０℃以上１８０℃以下であることがより好ましい。

加熱部１９としては、例えば、送風手段がある。加熱部１９としての送風手段は、図１に示すように、一定の温度の気体を吹き出すダクト５６と、気体の温度を制御した上でこの気体をダクト５６に送り込む送風機５７とがある。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにダクト５６と送風機５７との図示は略してある。

加熱部１９は、バンド部材１３の搬送路に関し、図１のように溶接支持ローラ４１とは反対側に設けてもよいし、溶接支持ローラ４１と同じ側に設けてもよい。

応力を除去されたバンド部材１３は、加熱部１９の下流の巻取装置２０に送られ、ロール状に巻き取られる。巻取装置２０には、バンド部材１３を巻き取る巻き芯がセットされ、この巻き芯を周方向に回転させる駆動手段が設けられている。

巻取装置２０は、溶接位置Ｐｗにおけるバンド部材１３と側部材１１及び中央部材１２との張力を制御する溶接張力制御手段としても作用する。そこで、溶接位置Ｐｗにおけるバンド部材１３と側部材１１及び中央部材１２との張力が一定に保持されるように、巻取装置２０のトルクを制御することが好ましい。これにより、溶接部１３ｗを長手方向において一定の状態にすることができる。

溶接を開始する場合には、例えば、巻取装置２０を用いて以下のようにすると好ましい。まず、送出部１６から巻取装置２０に至る搬送路に側部材１１と中央部材１２とをセットし、側部材１１と中央部材１２との各先端を巻取装置２０の巻き芯に巻き掛ける。側部材１１と中央部材１２との巻取を開始する。巻取を開始して、側部材１１と中央部材１２との搬送の経路を制御して突き合わせ位置Ｐｈを所定位置に保持する。側部材１１と中央部材１２との突き合わせ位置Ｐｈが一定に保持されるようになった後に、溶接装置４２により溶接を開始する。

溶接は、側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３との位置ずれを抑止しながら実施することが好ましい。例えば、溶接ユニット１８に代えて、押圧装置を備える図３及び図４に示すような溶接ユニット６１を用いてもよい。溶接ユニット６１は、図１及び図２に示す溶接ユニット１８に、押圧装置６２をさらに備えたものであり、シフト機構５０、コントローラ５１、チャンバ５２、清浄装置５５を溶接ユニット１８と同様に備えるが、図示の煩雑化を避けるため図３及ぶ図４ではこれらの図示を略してある。また、図１及び図２と同じ装置、部材については図１及び図２と同じ符号を付し、説明を略す。なお、溶接ユニット６１では、チャンバ５２は、押圧装置６２と溶接支持ローラ４１とを外部空間と仕切るように囲む。

押圧装置６２は、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３との位置ずれを抑止するものであり、第１ベルト６３及び第２ベルト６４とからなる１対のベルトにより、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３とを押さえる。

第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、環状に形成された無端のベルトである。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、第５ローラ６７〜第７ローラ６９の周面に、第５ローラ６７〜第７ローラ６９の各長手方向に並ぶように巻き掛けられる。第５ローラ６７〜第７ローラ６９のうち少なくともいずれかひとつのローラは、周方向に回転する駆動ローラとされる。この駆動ローラの回転によって、第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、互いに平行な搬送路を保持しながら、搬送される。

第５ローラ６７〜第７ローラ６９は、回転軸が溶接支持ローラ４１の回転軸と平行となるように配される。

第５ローラ６７〜第７ローラ６９は、側部材１１と中央部材１２との搬送路に関し、第４ローラ２９と溶接支持ローラ４１とが配されてある側とは反対側の領域に配される。第５ローラ６７は、第４ローラ２９から溶接支持ローラ４１へ向かう側部材１１と中央部材１２との搬送路に対向するように設けられる。第６ローラ６８は、溶接支持ローラ４１から加熱部１９に向かう側部材１１と中央部材１２との搬送路に対向するように設けられる。第７ローラ６９は、第６ローラ６８から第５ローラ６７へ向かう第１ベルト６３と第２ベルト６４との搬送路を決定するように、適宜配される。

第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、第５ローラ６７から第６ローラ６８に向かう第１ベルト６３と第２ベルト６４とが、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３とを押圧するように搬送されるように配される。例えば、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とを上方から溶接する場合には、第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、これらの各下端が、溶接支持ローラ４１の上端よりも低い位置となるように配される。

第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、第１ベルト６３の搬送路が側部材１１と側部材１１から形成されるバンド部材１３の側部１３ｓとの搬送路と対向するように、また、第２ベルト６４の搬送路が中央部材１２と中央部材１２から形成されるバンド部材１３の中央部１３ｃとの搬送路に対向するように、設けられる。これにより、第１ベルト６３は側部材１１と側部１３ｓとを、第２ベルト６４は中央部材１２と中央部１３ｃとを、それぞれ溶接支持ローラ４１に押圧する。

以上のように、第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、それぞれ溶接支持ローラ４１にそれぞれ対向して設けられ、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２との高さが等しくなるように押圧する。側部材１１と中央部材１２との高さとは、各部材１１，１２の表面の高さである。このように高さが等しくなるように側部材１１と中央部材１２とを押さえ、この状態で溶接を実施することにより、溶接部１３ｗの態様が長手方向でより均一になるとともに、溶接をより確実に行うことができる。

図５及び図６を参照しながら、長手溶接工程についてさらに詳細に説明する。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、互いに離れた状態で搬送される。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、溶接位置Ｐｗが第１ベルト６３と第２ベルト６４との隙間を通過するように搬送路が設定される。これにより、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが接している接触位置Ｐｓは、図５に示すように第１ベルト６３と第２ベルト６４との隙間を通過し、第１ベルト６３と第２ベルト６４との間で溶接される。なお、図５においては溶接装置本体４６の図示を略してある。

第１ベルト６３と第２ベルト６４との間隔Ｄ１は、６ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲とすることが好ましい。側部材１１と中央部材１２との幅方向Ｙにおける断面において、接触位置Ｐｓと第１ベルト６３との距離Ｄ２、及び、接触位置Ｐｓと第２ベルト６４との距離Ｄ３は、それぞれ３ｍｍ以上６ｍｍ未満の範囲とすることが好ましい。

押圧装置６２に代えて、溶接支持ローラ４１の回転軸と平行な回転軸を有するローラ（図示無し）を溶接装置本体４６の上流と下流とにそれぞれ配してもよい。この場合には、上流の一方のローラで側部材１１と中央部材１２と押さえ、下流の他方でバンド部材１３を押さえることにより、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２とを押圧することができる。

図６に示すように、接触位置Ｐｓ及びこの周辺には溶接装置４２の熱により溶解されて溶接ビード７２が形成される。この溶接ビード７２から両側に熱が伝わり、側部材１１と中央部材１２とのそれぞれに溶接での熱の影響を受ける熱影響領域７３が生じる。この熱影響領域７３は、熱影響をうけない他の領域とは異なる性状をただちに示したり、経時的に示すようになったりすることがある。例えば、このように熱影響が幅広く生じたものを流延支持体として用いると、溶液製膜方法を長時間連続して行う場合に、溶接部１３ｗが変形する、あるいは、流延膜が発泡するなどの弊害が生じる。

そこで、図５に示すように、溶接支持ローラ４１の周面のうち、接触位置Ｐｓが通過する通過領域には、側部材１１及び中央部材１２よりも熱伝導率が高い素材からなる高熱伝導部７１が形成されていることが好ましい。これにより、溶接装置４２（図３、図４参照）からの熱をよりはやく拡散させることができる。熱をよりはやく溶接支持ローラ４１側で拡散させるために、側部材１１と中央部材１２との熱影響領域７３の幅をより小さくしたり熱影響領域７３の深さも浅くすることができる。

高熱伝導部７１とされる通過領域の幅Ｄ４は２６ｍｍ以上３２ｍｍ以下の範囲であることが好ましい。

さらに、第１ベルト６３及び第２ベルト６４の両面にも、側部材１１及び中央部材１２よりも熱伝導率が高い素材からなる高熱伝導部が形成されていることがより好ましい。これにより、熱影響領域７３の大きさを、幅方向または厚み方向において小さくすることができる。

側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとは、溶接位置Ｐｗにおいて隙間が０（ゼロ）になるように密着した状態であることが好ましい。そこで、側部材１１と中央部材１２とは、各側縁１１ｅ及び１２ｅを突き合わせたときに隙間が生じないような形状に予め形成されてあることが好ましい。これにより、溶接部に空隙がないバンド部材をより確実に製造することができる。

上記の長手溶接工程は、側部材１１と中央部材１２との長手方向に連続して溶接を実施する連続溶接工程のみであってもよいし、これに加えて、断続的に溶接を実施する断続溶接工程を実施してもよい。断続的に溶接すると、溶接装置４２に連続的に送られてくる側部材１１と中央部材１２とは、間欠的に溶接される。このような断続溶接工程は、連続溶接工程の前に行うことが好ましい。この場合には、断続溶接工程で、まず、側部材１１と中央部材１２とを仮接合し、その後、連続溶接工程で長手方向全域に亘り接合するとよい。

断続溶接工程で仮接合し、その後連続溶接工程で接合を行う場合には、突き合わせ部１７（図１，図２参照）から溶接ユニット１８に側部材１１と中央部材１２とを案内して断続的に溶接する。なお、側部材１１と中央部材１２とに、後の流延支持体として用いる際の流延面に対応する表面と、非流延面に対応する裏面とを設定してある場合には、断続溶接工程での溶接は、裏面に対して行うことが好ましい。そこで、裏面が溶接装置本体４６（図１参照）に対向して通過するように、側部材１１と中央部材１２とを搬送する。

断続溶接工程を行った後に、巻取装置２０に案内して巻き取る。なお、巻取前に溶接部に対して加熱部１９により加熱してもよい。断続溶接工程を経て巻き取られた側部材１１と中央部材１２とからなる仮接合部材（図示無し）を、送出装置（図示無し）により巻きだして溶接ユニット１８に再び送る。この送り出しは、仮溶接部材の表面が溶接装置本体４６（図１参照）に対向して通過するように行う。溶接ユニット１８では連続溶接を行い、バンド部材１３を得る。なお、この方法に代えて、ふたつの溶接ユニット１８を相対的に上流と下流とに並べて配し、上流の一方の溶接ユニット１８で断続溶接を実施し、下流の他方の溶接ユニット１８で連続溶接を実施してもよい。

溶接を行うと溶接ビード７２が側部材１１と中央部材１２とよりも盛り上がって形成される場合がある。そこで、以上のように一方の面を長手方向で溶接する第１工程と他方の面を長手方向で溶接する第２工程とを実施する場合において用いる溶接支持ローラ４１には、図５に示すように、溶接支持ローラ４１の周面のうち接触位置Ｐｓが通過する通過領域に、溝７６が形成されてあることが好ましい。第１工程で盛り上がった溶接ビート７２から形成された溶接部が、この溝７６を通過するように、側部材１１と中央部材１２とを搬送して第２工程を実施するとよい。これにより、より平滑で、残留応力がより少ないバンド部材１３を得ることができる。したがって、溶液製膜で用いても流延支持体としてのバンドに変形や、性状の変化がより少なく、流延膜が発泡せず、厚みのむらがないフィルムをより確実に製造することができる。

溝７６の幅Ｄ５は、６ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲であることが好ましく、溝の深さＤ６は、１ｍｍ程度でよい。

以上の実施形態では突き合わせ部１７における側部材１１の搬送経路を調整する手段として第３ローラ２８を用いるが、第３ローラ２８に代えて、図７に示すようなテーパローラ８１を用いてもよい。テーパローラ８１は、一端から他端に向けて径ｄが連続的に漸減するように形成された断面円形のローラである。径ｄは、一端から他端に向けて一定の割合で連続的に漸減する。径ｄの大きい一端が中央部材１２の搬送路に向き、径ｄの小さい他端が中央部材１２とは反対側（側部材１１の搬送路側）に向くように、テーパローラ８１を配する。

搬送されている側部材１１は、このテーパローラ８１に接触することにより、搬送の経路を中央部材１２に向かう矢線Ａの方向に変え、中央部材１２に寄るようになる。これにより、突き合わせ位置Ｐｈ（図１、図２参照）に向けて側部材１１は確実に搬送される。

テーパローラ８１には、周方向に回転する駆動手段８２が備えられていることが好ましい。回転軸は、一端面の中央と他端面の中央とを挿通して形成されてある。駆動手段８２で回転するテーパローラ８１により側部材１１を搬送することにより、側部材はより効果的に中央部材１２に寄るようになる。

第３ローラ２８に代えて、図８に示すような把持手段としてのクリップ８５を用いてもよい。クリップ８５は、コの字状に開いたクリップ本体８６と、クリップ本体８６の各先端部に設けられた１対の狭持ピン８７とを備え、側部材１１を狭持して把持する。狭持ピン８７は、側部材１１を狭持する狭持位置と、狭持位置から退避する退避位置との間で移動自在に設けられる。クリップ８５は、移動機構８８を備え、把持を開始する把持開始位置と、把持を解除する把持解除位置との間で移動自在とされる。また、クリップ８５は、幅方向Ｙにも移動自在とされる。

クリップ８５は、把持開始位置で狭持ピン８７が狭持位置に移動することにより側部材１１を把持する。クリップ８５は、側部材１１を把持した状態で中央部材１２に向かう方向Ａに寄せつつ、下流へと搬送する。

テーパローラ８１とクリップ８５とは、側部材１１を中央部材１２へ寄せるために用いる他に、中央部材１２を側部材１１に寄せるために用いてもよい。この場合には、テーパローラ８１、クリップ８５で中央部材１２を支持あるいは搬送するとよい。

上記の実施形態では、中央部材１２に両側部材１１を同時に溶接しているが、一方の側部材１１を中央部材１２に溶接した後に、他方の側部材１１を中央部材１２に溶接してもよい。

図９に示すように、流延支持体として用いるバンド９１は、環状にされた無端（エンドレス）のバンドである。バンド９１は、バンド部材１３の長手方向における一端と他端とを溶接してなる。なお、バンド９１をつくるためのバンド部材１３は、所定の長さにカットしても良いし、あらかじめ所定の長さにカットされた側部材１１と中央部材１２とからバンド部材１３を作った場合は、カットせずにそのまま、バンド９１をつくってもよい。当該溶接部におけるピンホールの直径は４０μｍ未満であることが好ましい。

バンド部材１３は、幅方向Ｙと交差する方向でカットすることが好ましい。カットの方向は、幅方向Ｙとなす角が概ね５°以上１５°以下の範囲となるようにカットすることがより好ましい。このようにカットしたバンド部材１３の長手方向における一端と他端とを溶接した溶接部９１ｖと、幅方向Ｙとのなす角θ２は、概ね５°以上１５°以下の範囲となる。このように長尺のバンド部材１３を環状にする環状溶接工程では、長手溶接工程で用いた溶接装置４２を用いてもよいし、公知の他の溶接装置を用いてもよい。

溶接により製造されたバンド９１は、側部材１１（図１〜図８参照）から形成された側部９１ｓと、中央部材１２（図１〜図８参照）から形成された中央部９１ｃとからなり、側部９１ｓ及び中央部９１ｃの溶接部９１ｗはバンド表面９１ａや裏面９１ｂに露出する。溶接部９１ｗは、溶接部１３ｗに相当する部分である。線状の溶接部９１ｗは、バンド９１の長手方向と平行となるように設けられることが好ましい。このように得られるバンド９１の幅は、２０００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下の範囲である。

得られたバンド９１は、表面を研磨して鏡面にした後、溶液製膜設備に用いられる。次に、溶液製膜設備において、フィルムを製造する方法について以下に説明する。ポリマーの種類は特に限定されず、溶液製膜でフィルムにすることができる公知のポリマーを用いてよい。以下の実施形態では、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いた場合を例にして説明する。

図１０に示すように、溶液製膜設備１１０は、セルロースアシレート１１１が溶剤１１２に溶解したドープ１１３からフィルム１１６を形成するフィルム形成装置１１７と、フィルム１１６の各側部を保持手段１２０ａで保持しながら乾燥をすすめる第１テンタ１２０と、フィルム１１６を複数のローラ１２２で支持しながら乾燥するローラ乾燥装置１２４と、フィルム１１６の各側部を保持手段１２５ａで保持し、幅方向への張力をフィルム１１６に付与する第２テンタ１２５と、第２テンタ１２５の保持手段１２５ａにより保持された各耳部を切除するスリッタ１２６と、耳部を切除されたフィルム１１６を巻き芯に巻いてロール状にする巻取装置１２７とを上流側から順に備える。

フィルム形成装置１１７は、周方向に回転する１対の製膜用ローラ１３１、１３２を備える。１対の製膜用ローラ１３１、１３２は、水平面上において互いに平行となるように並べられ、製膜用ローラ１３１と製膜用ローラ１３２とには、バンド９１が巻き掛けられる。製膜用ローラ１３１はドライブローラであり、製膜用ローラ１３２はフリーローラである。製膜用ローラ１３１，１３２には、周面温度を所定の温度に制御する第１コントローラ（図示せず）及び第２コントローラ（図示せず）がそれぞれ備えられる。

フィルム形成装置１１７には、バンド９１の移動方向上流側から下流側に向かって、ドープ１１３を流出する流延ダイ１３３と、膜乾燥装置１３４と、剥取ローラ１３５とが順次設けられる。

図１１及び図１２に示すように、流延ダイ１３３は、製膜用ローラ１３１に支持されたバンド９１の表面（以下、バンド表面と称する）９１ａに向けてドープ１１３（図１０参照）を流下するものであり、ドープ１１３（図１０参照）が流出する流出口１３３ａを先端に備える。流延ダイ１３３は、流出口１３３ａがバンド９１のバンド表面９１ａと正対するように配される。

流延ダイ１３３から流下したドープ１１３（図１０参照）はバンド表面９１ａ上の到達位置ＤＰに着地する。バンド９１は移動状態であるため、到達位置ＤＰに着地したドープ１１３（図１０参照）は、バンド表面９１ａに設定された流延エリアＣＡにて流れ延ばされる。こうして、流延エリアＣＡには、ドープ１１３（図１０参照）からなり流延幅ＣＷの流延膜１３６が形成される。

流延ダイ１３３は、到達位置ＤＰが次に述べるような位置となるように配される。図１１及び図１３に示すように、到達位置ＤＰは、バンド表面９１ａのうち製膜用ローラ１３１に支持された部分に設定される。到達位置ＤＰは製膜用ローラ１３１の頂部ＴＰよりもバンド９１の移動方向上流側に設定されることが好ましい。また、回転軸１３１ａの回転中心Ｏ_１３１ａから頂部ＴＰに向かって延びる面Ｌ_ＴＰと、回転軸１３１ａの回転中心Ｏ_１３１ａから到達位置ＤＰに向かって延びる面Ｌ_ＤＰとがなす角の角度φ１は、０°以上４５°以下であることが好ましい。

図１０に示すように、膜乾燥装置１３４は、第１ダクト１４１〜第３ダクト１４３を有する。流延膜１３６に向けて乾燥風を送り出す第１ダクト１４１〜第３ダクト１４３は、バンド９１の移動路に沿って上流側から順に配される。第１ダクト１４１は、製膜用ローラ１３１から製膜用ローラ１３２へ向かって移動するバンド９１のバンド表面９１ａ側及びバンド裏面９１ｂ側に設けられる。第２ダクト１４２は、製膜用ローラ１３１に支持されたバンド９１のバンド表面９１ａ側に設けられる。第３ダクト１４３は、製膜用ローラ１３２から製膜用ローラ１３１へ向かって移動するバンド９１のバンド表面９１ａ側及びバンド裏面９１ｂ側に設けられる。

第１ダクト〜第３ダクト１４１〜１４３は、それぞれ送風機（図示せず）に接続する。送風機には、第１ダクト〜第３ダクト１４１〜１４３のそれぞれへ供給する気体の温度、湿度、流量を独立して制御する送風コントローラ（図示せず）が接続する。第１ダクト〜第３ダクト１４１〜１４３には、送風機から供給された気体を乾燥風として送り出す送出口が設けられる。第１〜第３ダクト１４１〜１４３に設けられた送出口は、バンド表面９１ａ及び裏面９１ｂと対向するように形成される。

第１ダクト１４１〜第３ダクト１４３に設けられた流出口は、スリット状に形成され、バンド９１の一方の端から他方の端にかけて延設される。バンド９１の幅方向における各流出口の長さは、流延膜１３６全体に乾燥風があたるようなものとなっていればよい。

乾燥風の温度は、バンド９１の移動路の上流側から下流側に向かうに従って低くなることが好ましい。第１ダクト１４１からの乾燥風の温度は、５０℃以上１４０℃以下であることが好ましく、第２ダクト１４２からの乾燥風の温度は、５０℃以上１４０℃以下であることが好ましく、第３ダクト１４３からの乾燥風の温度は、４０℃以上１００℃以下であることが好ましい。

図１１に示すように、製膜用ローラ１３１は、回転軸１３１ａと、回転軸１３１ａに軸着されたローラ本体１３１ｂとからなる。製膜用ローラ１３２は、製膜用ローラ１３１と同様の構造である。図１２に示すように、回転軸１３１ａには、モータ１７１と駆動部１７２とが接続する。モータ１７１により、製膜用ローラ１３１は回転軸１３１ａを中心に回転する。駆動部１７２は、製膜用ローラ１３２（図１０参照）から製膜用ローラ１３１に向かう外力を回転軸１３１ａへ印加する。回転軸１３１ａへ外力Ｆ１を印加することにより、バンド９１には移動テンションＴ１が印加される。また、回転軸１３１ａにはロードセル１７３が取り付けられる。ロードセル１７３は、回転軸１３１ａが受ける外力Ｆ１の大きさを検知する。制御部（図示しない）は、ロードセル１７３が検知した外力Ｆ１を、内部メモリに記憶されている値で除して、移動テンションＴ１を算出する。移動テンションＴ１の大きさは、バンド９１の寸法や移動路に応じて決定すればよく、例えば、６０Ｎ／ｍｍ^２である。

次に、溶液製膜設備１１０で行われる溶液製膜方法について説明する。溶液製膜方法では、膜形成工程と、膜乾燥工程と、剥取工程と、フィルム乾燥工程とが順次行われる。

膜形成工程では、図１１に示すように、流延ダイ１３３は、バンド表面９１ａへドープ１１３（図１０参照）を連続的に流出する。膜形成工程により、流延エリアＣＡ（図１２参照）には、ドープ１１３からなり流延幅ＣＷ（図１２参照）の流延膜１３６が形成される。

図１０及び図１１に示すように、膜乾燥工程では、第１ダクト１４１が流延膜１３６及びバンド９１の裏面９１ｂに向けて、第２ダクト１４２が流延膜１３６に向けて、第３ダクト１４３が流延膜１３６及びバンド９１の裏面９１ｂに向けて、それぞれ乾燥風を送り出す。乾燥風が流延膜１３６にあたると、流延膜１３６から溶剤が蒸発する。また、乾燥風の接触によりバンド裏面９１ｂが加熱される結果、流延膜１３６における溶剤が促進する。更に、第２コントローラにより、製膜用ローラ１３２の周面の温度は、流延膜１３６の温度よりも高温となるように調節されている。製膜用ローラ１３２との接触によりバンド９１がバンド裏面９１ｂ側から加熱される結果、製膜用ローラ１３２からの熱が流延膜１３６に伝わる。こうして、流延膜１３６における溶剤が促進する。

剥取工程では、溶剤の蒸発により、第１テンタ１２０への搬送が可能な程度になった流延膜１３６を、溶剤を含む状態でバンド９１から剥がす。剥ぎ取りの際には、フィルム１１６を剥取ローラ１３５で支持し、流延膜１３６がバンド９１から剥がれる剥取位置ＰＰを一定に保つ。なお、剥取ローラ１３５は、駆動手段を備え周方向に回転する駆動ローラであってもよい。

流延膜１３６が剥ぎ取られたバンド９１は、膜乾燥装置１３４により、流延ダイ１３３から流出するドープ１１３よりも高温となっている。このようなバンド９１に対し、そのままドープ１１３を流出すると、ドープ１１３の発泡が起こってしまう。そこで、第１コントローラを用いて、製膜用ローラ１３１の周面の温度を、流延ダイ１３３から流出するドープ１１３よりも低温となるように調節する。これにより、製膜用ローラ１３１に支持されたバンド９１は、流延ダイ１３３から流出するドープ１１３よりも低温となるため、ドープ１１３の発泡を防止することができる。

剥ぎ取られた流延膜１３６、すなわちフィルム１１６は、第１テンタ１２０、ローラ乾燥装置１２４、第２テンタ１２５へと順次案内される。第１テンタ１２０、ローラ乾燥装置１２４、第２テンタ１２５では、フィルム１１６が所定の乾燥気体と接触するフィルム乾燥工程が行われる。フィルム乾燥工程により、フィルム１１６の乾燥が進行する。

スリッタ１２６は、フィルム１１６の耳部を切除する耳切工程を行う。耳部が切除されたフィルム１１６は、巻取装置１２７によって、ロール状となる。

（バンド検査装置）
次に、バンド製造設備１０（図１参照）で製造されたバンド９１について、溶液製膜方法で用いたときにバンドの反りに起因して厚みムラが生じないか否かの検査を行うバンド検査装置について説明する。

図１４及び図１５に示すように、バンド検査装置２００は、１対の検査用ローラ２０１、２０２と、シフト部２０３と、モータ２０５と、駆動部２０６と、ロードセル２０７と、センサユニット２０８と、制御部２１０（図１６参照）とを備える。

１対の検査用ローラ２０１、２０２は、検査対象のバンド９１を巻き掛けるためのものであり、水平面上において互いに平行となるように並べられる。検査用ローラ２０１はドライブローラであり、検査用ローラ２０２はフリーローラである。検査用ローラ２０１、２０２の形状及び寸法は、製膜用ローラ１３１，１３２と同一のものを用いることが好ましい。例えば、検査用ローラ２０１、２０２の直径は、製膜用ローラ１３１，１３２の直径と同一であることが好ましい。

なお、検査用ローラの直径が製膜用ローラの直径と異なる場合であっても、検査用ローラに巻き掛けられたバンドにはたらく垂直応力が製膜用ローラに巻き掛けられたバンドにはたらく垂直応力と等しい条件下であれば、本発明を適用できる。直径Ｄｒのローラに巻き掛けられたバンドにはたらく垂直応力Ｎは、次式で表すことができる。ここで、Ｔ１はバンドの移動テンションであり、ＴＨｂはバンドの厚みである。
Ｎ＝ＴＨｂ×Ｔ１／０．５Ｄｒ

検査用ローラ２０１は、回転軸２０１ａと回転軸２０１ａに軸着されたローラ本体２０１ｂとからなる。検査用ローラ２０２は、回転軸２０２ａと回転軸２０２ａに軸着されたローラ本体２０２ｂとからなる。

回転軸２０２ａは、検査用ローラ２０１、２０２に掛け渡されたバンド９１に所定のテンションが印加されるテンション印加位置Ｐｔと、検査用ローラ２０１、２０２に掛け渡されたバンド９１が弛む弛み位置Ｐｒ（図１７参照）との間で移動自在となっている。シフト部２０３は、図示しないシフト制御部の制御の下、テンション印加位置Ｐｔと弛み位置Ｐｒとの間で、回転軸２０２ａを変移させる。

検査対象のバンド９１は、検査用ローラ２０１と検査用ローラ２０２とに巻き掛けられる。ローラ本体２０１ｂの周面２０１ｂｘのうち軸方向中央部２０１ｂｃはバンド裏面９１ｂを支持する。ローラ本体２０１ｂの周面２０１ｂｘのうち軸方向端部２０１ｂｅは露出する。

回転軸２０１ａはモータ２０５と接続する。モータ２０５により、ローラ本体２０１ｂは回転軸２０１ａを中心に回転する。駆動部２０６は、ローラ本体２０２ｂからローラ本体２０１ｂへ向かう外力Ｆ２を回転軸２０１ａへ印加する。回転軸２０１ａへ外力Ｆ２を印加することより、検査用ローラ２０２、２０１に掛け渡されたバンド９１には移動テンションＴ２が印加される。ロードセル２０７は、回転軸２０１ａが受ける外力Ｆ２の大きさを検知する。

検査用ローラ２０１に支持されたバンド９１のバンド表面９１ａ上には、バンド９１の幅方向へ延びる測定位置ＭＰ１が設定される。測定位置ＭＰ１は、到達位置ＤＰ（図１１参照）に対応するものである。すなわち、回転軸２０１ａの回転中心Ｏ_２０１ａから検査用ローラ２０１の頂部ＴＰに向かって延びる面Ｍ_ＴＰと回転軸２０１ａの回転中心Ｏ_２０１ａから測定位置ＭＰ１に向かって延びる面Ｍ_ＭＰ１とがなす角の角度φ２は、角度φ１（図１１参照）と等しい。

周面２０１ｂｘには、測定位置ＭＰ２が設定される。測定位置ＭＰ２は、面Ｍ_ＭＰ１との軸方向端部２０１ｂｅとの交線である。

センサユニット２０８は、バンド９１のバンド表面９１ａ側であって、面Ｍ_ＭＰ上に配されることが好ましい。センサユニット２０８は、測定位置ＭＰ１と正対する測定窓２０８ａを備える。測定窓２０８ａは、バンド９１を支持するローラ本体２０１ｂの軸方向の一端から他端にかけて、バンド９１の幅方向へ延設される。

また、センサユニット２０８は、測定窓２０８ａから測定位置ＭＰ１までの距離や測定窓２０８ａから測定位置ＭＰ２までの距離を測定する測距センサ２０８ｘと、バンド表面９１ａに設定された基準位置が、測定位置ＭＰ１上に有るか否かを検知する基準位置検知センサ２０８ｙとを備える。測距センサ２０８ｘは、センサデバイス（図示しない）と、内蔵ＣＰＵ（図示しない）と、内蔵メモリ（図示しない）とを有する。基準位置検知センサ２０８ｙとしては、例えば、反射型フォトセンサを用いることができる。なお、バンド表面９１ａに設定された基準位置については後述する。

バンド９１の幅方向へ延びる厚み測定ラインＳＴ（ｊ）[ｊ＝１，２，３，・・・，ｎ]は、バンド９１の長手方向に並ぶように設定される。また、バンド９１の長手方向へ延びる厚み測定ラインＳＭ（ｉ）[ｉ＝１，２，３，・・・，ｍ]は、バンド９１の幅方向に並ぶように設定される。なお、隣り合う厚み測定ラインＳＴの間隔、及び隣り合う厚み測定ラインＳＭの間隔は、予め所定の値に設定される。

図１６に示すように、制御部２１０は、ＣＰＵ２１１と記憶部２１２と距離算出部２１６と浮き量算出部２１７と判定部２１８とを備える。

ＣＰＵ２１１は、バス２２２を介して、記憶部２１２や各部２１６〜２１８と電気的に接続する。記憶部２１２には、プログラムや各データが格納されている。記憶部２１２に格納されたプログラムとしては、バンドの検査用プログラムなどがある。また、記憶部２１２に格納されたデータとしては、バンドの厚み情報２２５（図１８参照）、閾値ＴＨ１や移動テンションＴ１等がある。

図１８に示すように、バンドの厚み情報２２５は、それぞれの厚み測定ラインＳＴ（図１５参照）の位置情報ＭＤと、それぞれの厚み測定ラインＳＴ（図１５参照）におけるバンド９１の厚み分布情報ＤＢとからなる。位置情報ＭＤは、バンド９１の長手方向において基準位置Ｂ１（図１５参照）から、任意の厚み測定ラインＳ（ｊ）までの距離Ｌ（ｊ）（図１５参照）を表す。ここで、基準位置Ｂ１はバンド表面９１ａに露出した溶接部９１ｖ（図１５参照）である。

厚み分布情報ＤＢは、厚み測定ラインＳＴと厚み測定ラインＳＭとの各交点Ｐにおけるバンド９１の厚みの測定値Ｄからなり、厚み測定ラインＳＴごとに、測定値Ｄがグルーピングされている。例えば、任意の厚み測定ラインＳＴ（ｊ）と任意の厚み測定ラインＳＭ（ｉ）との交点Ｐ（ｉ，ｊ）におけるバンド９１の厚みの測定値をＤ（ｉ，ｊ）と表す場合、任意の厚み測定ラインＳＴ（ｊ）についての厚み分布情報ＤＢ（ｊ）には、Ｄ（１、ｊ），Ｄ（２、ｊ），Ｄ（３、ｊ），・・・，Ｄ（ｉ−１、ｊ），Ｄ（ｉ、ｊ），Ｄ（ｉ＋１、ｊ）・・・，Ｄ（ｍ，ｊ）が含まれる。なお、測定値Ｄ（ｉ，ｊ）は、予め、超音波センサなどにより得ることができる。

図１６に示すように、距離算出部２１６は、式（２）により、ローラ本体２０１ｂの周面２０１ｂｘからバンド表面９１ａまでの距離Ｈ（図１９参照）を算出する。
式（２） Ｈ＝Ｂ−Ａ
Ａは、測定窓２０８ａから測定位置ＭＰ１までの距離（図１９参照）であり、Ｂは、測定窓２０８ａから測定位置ＭＰ２までの距離（図１９参照）である。

浮き量算出部２１７は、式（１）により、周面２０１ｂｘからバンド裏面９１ｂまでの浮き量ＣＬ（図２０参照）を算出する。
式（１） ＣＬ＝Ｈ−Ｄ

判定部２１８は、浮き量算出部２１７により算出したＣＬの全てが閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定する。閾値ＴＨ１は、記憶部２１２に格納される。閾値ＴＨ１は、バンド９１の目標品質に応じて決定すればよい。溶液製膜方法において、厚みムラ故障や、厚みムラ故障に起因する剥げ残り故障や発泡を抑えるためには、閾値ＴＨ１を０．１ｍｍ以下に設定することが好ましい。

次に、図１４に示すバンド検査装置２００におけるバンド検査工程２３０（図２１参照）について説明する。

まず、シフト部２０３は、回転軸２０２ａを弛み位置Ｐｒにセットする（図１７参照）。検査対象のバンド９１を検査用ローラ２０１、２０２に掛け渡す。その後、シフト部２０３は、回転軸２０２ａをテンション印加位置Ｐｔにセットする（図２１のＳ１０）。

図１５及び図１６に示すように、駆動部２０６は、制御部２１０の制御の下、回転軸２０１ａに外力Ｆ２を加える。ロードセル２０７は外力Ｆ２を検知する。制御部２１０は、ロードセル２０７から外力Ｆ２を読み取り、記憶部２１２から値ＢＳを読み取る。値ＢＳは、バンド９１の平均断面積Ｓａｖに２を乗じたものである。次に、制御部２１０は、外力Ｆ２を値ＢＳで除して、移動テンションＴ２を算出する。そして、制御部２１０は、算出した移動テンションＴ２が記憶部２１２から読み取った移動テンションＴ１と等しくなるように、外力Ｆ２の大きさを調節する。こうして、バンド９１には、製膜時と同一の移動テンションが印加される（図２１のＳ１１）。

図１４及び図１５に示すように、モータ２０５が回転軸２０１ａを回転すると、バンド９１は長手方向へ移動する。基準位置検知センサ２０８ｙは、光源を用いてテスト光を測定位置ＭＰ１へ放つ。基準位置検知センサ２０８ｙから放たれたテスト光は、測定位置ＭＰ１にて反射して、反射光となって測定窓２０８ａに入射する。基準位置検知センサ２０８ｙは、測定窓２０８ａから入射した反射光の量を検知する。内蔵されるＣＰＵは、検知した反射光の量が基準量に満たない場合には、ＣＰＵ２１１へ基準位置検知信号を送る。ここで、基準量は、測定位置ＭＰ１上にテスト光を当てたときに、基準位置Ｂ１を除くバンド表面９１ａにおける反射光の量である。こうして、基準位置検知センサ２０８ｙは、測定位置ＭＰ１上にて基準位置Ｂ１の検知を行う（図２１のＳ１２）。

ＣＰＵ２１１は、基準位置検知信号を受信した時点から所定の時間ｔ１だけ、モータ２０５を介して、検査用ローラ２０１を回転させる。検査用ローラ２０１の回転により、バンド９１は長手方向へ時間ｔ１に応じた距離Ｌだけ送り出される。例えば、バンド９１が基準位置Ｂ１から距離Ｌ（ｊ）だけ送り出されると、厚み測定ラインＳＴ（ｊ）が基準位置ＭＰ１上に位置する（図２１のＳ１３）。

図１９に示すように、センサユニット２０８は、測距センサ２０８ｘ（図１６参照）を用いて、基準位置ＭＰ１上の交点Ｐ（図１５参照）ごとに、バンド表面９１ａから測定窓２０８ａまでの距離Ａを測定する（図２１のＳ１４）。例えば、厚み測定ラインＳＴ（ｊ）が基準位置ＭＰ１上に位置する場合（図１５参照）、測距センサ２０８ｘ（図１６参照）は、厚み測定ラインＳＴ（ｊ）上の交点Ｐ（ｉ，ｊ）[ｉ＝１，２，３，・・・ｍ]における距離Ａ（ｉ，ｊ）[ｉ＝１，２，３，・・・ｍ]を測定する。

また、センサユニット２０８は、測距センサ２０８ｘ（図１６参照）を用いて、基準位置ＭＰ２（図１５参照）において、軸方向端部２０１ｂｅから測定窓２０８ａまでの距離Ｂを測定する。厚み測定ラインＳ（ｊ）が基準位置ＭＰ１上に位置する場合、測距センサ２０８ｘ（図１６参照）は、軸方向端部２０１ｂｅから測定窓２０８ａまでの距離Ｂ（ｊ）を測定する（図２１のＳ１５）。なお、距離Ｂ（ｊ）の測定点は、測定位置ＭＰ２上に設定した点であれば、１つでもよいし、複数でもよい。距離Ｂ（ｊ）の測定点を１点設定した場合は、その測定点における測定値を距離Ｂ（ｊ）とすればよい。また、距離Ｂ（ｊ）の測定点を複数設定した場合は、それぞれの測定点における測定値の平均値を、距離Ｂ（ｊ）としてもよい。

距離Ａと距離Ｂとの測定値は、それぞれ記憶部２１２（図１６参照）へ格納される（図２１のＳ１６）。

ＣＰＵ２１１は、全ての厚み測定ラインＳＴについての測定が終わっているか否かの判定を行う（図２１のＳ１７）。全ての厚み測定ラインＳＴについての測定が終わっていると判定した場合には、次の処理（図２１のＳ２０）に進む。一方、全ての厚み測定ラインＳＴについての測定が終わっていないと判定した場合には、次の厚み測定ラインＳＴが基準位置ＭＰ１上にくるまでバンド９１を移動させるステップ（図２１のＳ１８）と、当該厚み測定ラインＳＴについて測定を行う一連のステップ（Ｓ１４〜Ｓ１６）とを繰り返し行う。

距離算出部２１６は、式（２）により、軸方向端部２０１ｂｅからバンド表面９１ａまでの距離Ｈ（図２０参照）を算出する（図２１のＳ２０）。算出された距離Ｈは記憶部２１２（図１６参照）へ格納される
式（２） Ｈ（ｉ，ｊ）＝Ｂ（ｊ）−Ａ（ｉ，ｊ）
[ｊ＝１，２，３，・・・ｎ] [ｉ＝１，２，３，・・・ｍ]

浮き量算出部２１７は、バンドの厚み情報２２５を記憶部２１２から読み込み、式（１）により、浮き量ＣＬ（ｉ，ｊ）（図２１参照）を算出する（図２１のＳ２１）。算出された浮き量ＣＬは記憶部２１２（図１６参照）へ格納される。
式（１） ＣＬ（ｉ，ｊ）＝Ｈ（ｉ，ｊ）−Ｄ（ｉ，ｊ）
[ｊ＝１，２，３，・・・ｎ] [ｉ＝１，２，３，・・・ｍ]

判定部２１８は、当該バンド９１の浮き量ＣＬ（ｉ，ｊ）の全てが閾値ＴＨ１以下であるか否かを判定する（図２１のＳ２２）。浮き量ＣＬ（ｉ，ｊ）の全てが閾値ＴＨ１以下であると判定した場合には、当該バンド９１は「合格品」と判定する（図２１のＳ２３）。一方、許容範囲外であると判定されたバンド９１は「不合格品」と判定する（図２１のＳ２４）。

「不合格品」と判定されたバンド９１を溶液製膜方法に用いた場合には、流延膜１３６に厚みムラが生じてしまう。本発明では、製造されたバンド９１について、製膜条件と同一条件下における浮き量ＣＬに基づいて検査を行うため、溶液製膜方法を行うことなく、流延膜の厚みムラを誘発するバンドであるか否かを検知することが可能となる。

なお、図１１及び図１２に示すように、ビードの背面側（バンド９１の移動方向上流側）を減圧する減圧チャンバ２３７を、流延ダイ１３３の移動方向上流側に設けても良い。ここで、ビードは、流延ダイ１３３から流出したドープによって、流出口１３３ａからバンド９１のバンド表面９１ａにかけて形成されるものである。減圧チャンバ２３７により、バンド９１の移動に伴ってバンド表面９１ａ近傍に発生し、バンド９１の移動方向へ流れる同伴風に起因するビードの振動を抑え、ひいては、流延膜やフィルムの厚みムラ等を防止することができる。同伴風に起因するビードの振動が問題となるのは、バンド９１の移動速度が３０ｍ／分を超える場合である。したがって、バンド９１の移動速度が３０ｍ／分を超える場合には、減圧チャンバ２３７を設けることが好ましい。

減圧チャンバ２３７は、バンド９１の移動方向において流延ダイ１３３よりも上流側に、バンド表面９１ａの法線方向において、バンド表面９１ａに近接するように配される。減圧チャンバ２３７とバンド表面９１ａとの間隔は、例えば、０．７ｍｍ以下である。減圧チャンバ２３７には、減圧チャンバ２３７内の気体を吸引するための減圧ファン（図示しない）が吸引管を介して接続される。

減圧チャンバ２３７は、箱状のチャンバ本体と、チャンバ本体内のシーリング性を高めるためのシール部材と、減圧チャンバ２３７内における気体の流れが所定の向きとなるように整えるための整流部材とからなる。チャンバ本体は、ビードの背面側を囲うためのものであり、上流側遮風板２３７ａと、１対の側方遮風板２３７ｂと、天板２３７ｃと、前面板とを有する。上流側遮風板２３７ａは、流出口１３３ａ（図１１参照）よりもバンド９１の移動方向上流側にて、バンド表面９１ａに対して起立した姿勢で、バンド表面９１ａの法線方向においてバンド表面９１ａと近接するように設けられる。上流側遮風板２３７ａは、バンド９１の一方の側部から他方の側部にかけて延設され、上流側遮風板２３７ａの両端部は、それぞれ、側部と正対する。１対の側方遮風板２３７ｂは、それぞれ、側部の表面に対して起立した姿勢で、上流側遮風板２３７ａの両端部からバンド９１の移動方向下流側に向かって延設される。１対の側方遮風板２３７ｂには、天板２３７ｃと、前面板とが掛け渡される。

減圧チャンバ本体は、上流側遮風板２３７ａと１対の側方遮風板２３７ｂと天板２３７ｃと前面板とによって囲まれてなり、バンド表面９１ａに向かって開口する吸引口（図示しない）を有する。減圧ファン（図示しない）により、減圧チャンバ２３７は、ビードの上流側にある気体を吸引口から吸引する。ビードの上流側にある気体の吸引の結果、ビードの上流側の気圧が下がり、ビードの上流側及び下流側の圧力差ΔＰを生じさせることができる。この圧力差ΔＰにより、バンド９１の移動に伴ってバンド表面９１ａ近傍に発生し、バンド９１の移動方向へ流れる同伴風に起因するビードの振動を抑え、ひいては、流延膜やフィルムの厚みムラ等を防止することができる。

図１１及び図１３に示すように、バンド９１のバンド表面９１ａ上には、減圧エリアＢＡが形成される。減圧エリアＢＡは、製膜用ローラ１３１に支持されたバンド表面９１ａのうち減圧チャンバ２３７によって覆われる部分である。

この場合において、バンド検査装置２００（図１４参照）を用いて、測定位置ＭＰ１についての浮き量ＣＬの測定に加えて、減圧エリアＢＡに対応する測定位置ＭＡ（図１５参照）について浮き量ＣＬの測定を行うことが好ましい。より具体的には、バンド表面９１ａに設定された測定位置ＭＡにおいて、幅方向に延びる測定線ＭＬを設定し、当該測定線ＭＬごとに、上述のバンド検査工程２３０（図２１参照）を行うことが好ましい。測定線ＭＬは、測定位置ＭＡのバンド９１の移動方向上流端からバンド９１の移動方向下流端にかけて並べて設定することが好ましい。これにより、測定位置ＭＡ全域について、バンド９１の検査を行うことができる。

測定位置ＭＡは、検査用ローラ２０１に支持されたバンド表面９１ａ上に設定される。図１１及び図２２に示すように、回転中心Ｏ_１３１ａから減圧エリアＢＡのバンド９１の移動方向上流端ＢＡｕに向かって延びる面Ｌ_ＢＡｕと面Ｌ_ＴＰとがなす角の角度φ_ＢＡｕは、回転中心Ｏ_２０１ａから測定位置ＭＡのバンド９１の移動方向上流端ＭＡｕに向かって延びる面M_ＭＡｕと面Ｍ_ＴＰとがなす角の角度φ_ＭＡｕと等しい。また、回転中心Ｏ_１３１ａから減圧エリアＢＡのバンド９１の移動方向下流端ＢＡｄに向かって延びる面Ｌ_ＢＡｄと面Ｌ_ＴＰとがなす角の角度φ_ＢＡｄは、回転中心Ｏ_２０１ａから測定位置ＭＡのバンド９１の移動方向下流端ＭＡｄに向かって延びる面M_ＭＡｄと面Ｍ_ＴＰとがなす角の角度φ_ＭＡｄと等しい。

測定位置ＭＡにおける浮き量ＣＬが閾値ＴＨ１を超えるバンド９１を溶液製膜方法に用いた場合には、バンド９１の移動により減圧ユニットのシーリング性のばらつきが生じる。そして、減圧ユニットのシーリング性のばらつきにより、ビードが振動する結果、最終低には、流延膜の厚みムラが生じてしまう。そこで、減圧エリアＢＡに対応する測定位置ＭＡ（図２２参照）について浮き量ＣＬを測定し、測定位置ＭＡ全域について、バンド９１の検査を行うことにより、溶液製膜方法を行うことなく、流延膜の厚みムラを誘発するバンドであるか否かを検知することが可能となる。

次に、厚み測定ラインＳＭの設定方法の一例について説明する。図２３に、反りが生じていないバンド、すなわち浮き量ＣＬが全て「０」のバンドについて、測距センサ２０８ｘのセンサデバイスが検知する距離データを示し、図２４に、反りが生じているバンドについて、測距センサ２０８ｘのセンサデバイスが検知する距離データを示す。図２３及び図２４の横軸はバンド９１の幅方向の位置を、図２３及び図２４の縦軸はセンサデバイスが検知した距離を表す。

測距センサ２０８ｘのセンサデバイスは、バンド９１について幅方向の一端から他端にかけて、測定面２０８ａからバンド表面９１ａ又は軸方向端部２０８ｂｅまでの距離を測定する。測距センサ２０８ｘの内蔵ＣＰＵは、センサデバイスが測定した距離のデータ（以下、距離データと称する）を一の幅方向外側から幅方向中央側に向かって、他の幅方向外側まで読み取る。次に、内蔵ＣＰＵは、距離データのうち、立ち上がりＥ１を軸方向端部２０１ｂｅの端と判定し、ピークＥ２をバンド９１の端と判定する。ここで、立ち上がりＥ１は、一の幅方向外側から他の幅方向外側まで読み取る内蔵ＣＰＵが、一番最初に検知する立ち上がり部分であり、ピークＥ２は、距離データのうち最大値を示す位置である。

次に、内蔵ＣＰＵは、立ち上がりＥ１の位置と、立ち上がりＥ１から幅方向中央側へ所定量だけ離れた位置との間において、任意の距離データを選択する。そして、この選択された距離データに基づいて距離Ｂを算出する。

更に、内蔵ＣＰＵは、ピークＥ２の位置と、ピークＥ２から幅方向中央側へ所定量εだけ離れた位置との間において、任意の距離データを選択する。こうして、内蔵ＣＰＵは、この選択された距離データに基づいて距離Ａを算出する。

厚み測定ラインＳＭのうちバンド９１の幅方向において最も端側に位置するもの、すなわち、厚み測定ラインＳＭ（１）や厚み測定ラインＳＭ（ｍ）は、図２３や図２４におけるピークＥ２に相当する位置、すなわち、バンド９１の一方の端や他方の端に設定することが好ましい。これにより、内蔵ＣＰＵは、ピークＥ２の位置を厚み測定ラインＳＭ（１）や厚み測定ラインＳＭ（Ｍ）と認定することができる。また、隣り合う厚み測定ラインＳＭの間隔εは予め設定されているため、ピークＥ２から幅方向中央部側へ所定距離だけ離れた位置を厚み測定ラインＳＭ（２）や厚み測定ラインＳＭ（Ｍ−１）と認定することができる。

このようにすることで、バンド９１の幅方向端部が反ったとしても、幅方向における厚み測定ラインＳＭの位置の誤差を最小限にすることができる。

上記実施形態では、バンド９１の一方の端や他方の端を基準にして厚み測定ラインＳＭを設定したが、本発明はこれに限られず、反りが発生しない部分（例えば、バンド９１の幅方向中央部）を基準にして、当該部分から所定距離だけ離れた位置に厚み測定ラインＳＭを設定しても良い。また、溶接部９１ｗを有するバンド９１の場合、溶接部９１ｗの位置を基準にして、当該部分から所定距離だけ離れた位置に厚み測定ラインＳＭを設定しても良い。なお、バンド表面９１ａに設定された別途の目印を基準にして、当該部分から所定距離だけ離れた位置に厚み測定ラインＳＭを設定しても良い。

上記のバンド検査工程２３０は、溶接部９１ｖのみを有するバンド９１と、溶接部９１ｖ及び溶接部９１ｗを有するバンド９１とのいずれにも適用可能である。

上記のフィルム形成装置１１７（図１０参照）においては、製膜用ローラ１３１によって支持されるバンド９１のバンド表面９１ａ上に、到達位置ＤＰと剥取位置ＰＰとを設定したが、本発明はこれに限られない。例えば、製膜用ローラ１３１に代えて、到達用支持ローラと剥離用支持ローラとを用いてもよい。そして、到達用支持ローラと剥離用支持ローラとに掛け渡されたバンド９１の表面９１ａには、到達用支持ローラが支持する部分には到達位置ＤＰが設定され、剥離用支持ローラが支持する部分には剥取位置ＰＰが設定される。更に、減圧チャンバ２３７を設ける場合には、到達用支持ローラが支持する部分に減圧エリアＢＡが設定される。本発明のバンド検査工程２３０を、このような到達位置ＤＰや減圧エリアＢＡに対応する位置に対して行ってもよい。

基準位置Ｂ１は、溶接部９１ｖではなくてもよい。例えば、バンド表面９１ａに設定された別途の目印を基準位置Ｂ１としてもよい。

製膜用ローラ１３１、１３２と、評価用ローラ２０１、２０２とは同一のローラであることが好ましい。また、溶液製膜設備１１０において、バンドの検査工程２３０を行ってもよい。

図１０に示す溶液製膜設備１１０により得られるフィルム１１６は、位相差フィルムや偏光板保護フィルムに用いることができる。

フィルム１１６の幅は、６００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが好ましく、２０００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが好ましい。また、フィルム１１６の幅は、３０００ｍｍを超える場合にも本発明を適用することができる。フィルム１１６の膜厚は、３０μｍ以上１２０μｍ以下であることが好ましい。

（ポリマー）
本発明に用いることのできるポリマーは、熱可塑性樹脂であれば特に限定されず、例えば、セルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状オレフィン、ポリカーボネイト等が挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状オレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状オレフィンである。

（セルロースアシレート）
セルロースアシレートとしては、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）を満たすものであることが好ましい。下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ａ及びＢは、セルロースの水酸基中の水素原子に対するアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、Ｂは炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度である。セルロースアシレートの９０質量％以上が０．１〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。中でも、本発明は、セルロースアシレートとしてセルロースジアセテート（ＤＡＣ）を用いた場合に特に大きな効果がある。
（Ｉ） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ） ０≦Ａ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦Ｂ≦２．９

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化の場合を置換度１とする）を意味する。

全アシル化置換度、すなわち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６の値は、２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）の値は、０．２８が好ましく、より好ましくは０．３０以上であり、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２は、グルコース単位における２位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下「２位のアシル置換度」とする）であり、ＤＳ３は、グルコース単位における３位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下「３位のアシル置換度」という）であり、ＤＳ６は、グルコース単位において、６位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下「６位のアシル置換度」という）である。

本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が用いられてもよい。２種類以上のアシル基を用いるときには、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位、３位及び６位の水酸基がアセチル基により置換されている度合いの総和をＤＳＡとし、２位、３位及び６位の水酸基がアセチル基以外のアシル基によって置換されている度合いの総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、２．２２〜２．９０であることが好ましく、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。

また、ＤＳＢは０．３０以上であることが好ましく、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢは、その２０％以上が６位の水酸基の置換基であることが好ましく、より好ましくは２５％以上であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上であることが好ましい。さらに、セルロースアシレートの６位におけるＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であり、さらに好ましくは０．８０以上であり、特には０．８５以上であるセルロースアシレートも好ましく、これらのセルロースアシレートを用いることで、より溶解性に優れたドープを作製することができる。特に、非塩素系有機溶剤を使用すると、優れた溶解性を示し、低粘度で濾過性に優れるドープを作製することができる。

セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター、パルプのいずれかから得られたものでもよい。

本発明におけるセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特には限定されない。例えば、セルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどが挙げられ、それぞれ、さらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレノイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが挙げられる。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくは、プロピオニル基、ブタノイル基である。

（溶剤）
ドープを調製する溶剤としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブなど）などが挙げられる。

上記のハロゲン化炭化水素の中でも、炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。セルロースアシレートの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度及び光学特性など物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対して２〜２５質量％が好ましく、より好ましくは５〜２０質量％である。アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。

最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない溶剤組成も検討されている。この場合には、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素原子数１〜１２のアルコールが好ましく、これらを適宜混合して用いる場合もある。例えば、酢酸メチル、アセトン、エタノール、ｎ−ブタノールの混合溶剤が挙げられる。これらのエーテル、ケトン、エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン、エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−および−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も溶剤として用いることができる。

以下に本発明の効果を確認するために、実験１〜６を行った。各実験の詳細は実験１にて説明し、実験２〜６については、実験１と異なる条件のみを示す。

（実験１）
図１に示すバンド製造設備１０において、ＳＵＳ３１６製の側部材１１（幅１５０ｍｍ）とＳＵＳ３１６製の中央部材１２（幅２０００ｍｍ）とから、バンド（Ａ−１）を製造した。

バンド（Ａ−１）について、図１４に示すバンド検査装置２００を用いて、図２１に示すバンド検査工程２３０を行った。バンド検査工程２３０では、測定位置ＭＰ１における浮き量ＣＬ、及び測定位置ＭＡにおける浮き量ＣＬを測定した。測定位置ＭＰ１における浮き量ＣＬの最大値ＣＬ_ＭＰ、及び測定位置ＭＡにおける浮き量ＣＬの最大値ＣＬ_ＭＡは、表１に示すとおりである。バンド検査工程２３０の際、被検査対象となるバンドに印加した移動テンションＴ２は６０Ｎ／ｍｍ^２であった。

溶液製膜設備１１０（図１０参照）において、セルロースジアセテート（ＤＡＣ）及び溶剤を含むドープ１１３からフィルム１１６を製造した。バンドＡをバンド９１として用いた。バンド９１の移動速度は４０ｍ／分であった。流延ダイ１３３は、移動状態のバンド９１へドープ１１３を連続的に流出した。バンド９１の表面９１ａ上には、ドープ１１３からなる流延膜１３６が形成された。

各ダクト１４１〜１４３からの乾燥風を用いて、バンド９１上の流延膜１３６から溶剤を蒸発させた。剥取ローラ１３５が、流延膜１３６をバンド９１から剥ぎ取って、フィルム１１６とした。フィルム１１６は、第１テンタ１２０、ローラ乾燥装置１２４、第２テンタ１２５、スリッタ１２６へと順次送られた。

（実験２〜６）
バンド（Ａ−１）に代えてバンド製造設備１０により得られたバンド（Ａ−２）〜（Ａ−６）を用いたこと以外は、実験１と同様にしてフィルム１１６を製造した。但し、浮き量ＣＬの最大値ＣＬ_ＭＰ、及び浮き量ＣＬの最大値ＣＬ_ＭＡは、表１に示すとおりである。

実験１〜実験６で得られたフィルムについて、以下の評価を行った。

１．剥げ残り評価
バンドにおける流延膜の剥げ残りの有無について調べた。
○：バンドにおける流延膜の剥げ残りが起こらなかった。
×：バンドにおける流延膜の剥げ残りが起こった。

２．厚みムラの有無の評価
以下の手順で、流延膜の厚みムラの有無を評価した。巻き取り部１２７にて、巻き芯に巻き取られる前のフィルムから、サンプルフィルムを切り出した。サンプルフィルムに光を透過させた際、サンプルフィルムの表面に現れる陰影を目視で観察した。サンプルフィルムにて観察された陰影の強弱が、位相差フィルムや偏光板保護フィルムとしての厚みムラの評価試験をパスした製品フィルムのものよりも大きい場合には、当該厚みムラが許容できない（×）と判断した。また、サンプルフィルムにて観察された陰影の規模が、位相差フィルムや偏光板保護フィルムとしての性能試験をパスした製品フィルムのものと同程度、それよりも小さい場合には、当該厚みムラが許容できる（○）と判断した。

実験１〜６の評価結果について、表１に示す。なお、表１において、評価結果に付した番号は、上記評価項目に付した番号を表す。

９１ バンド
２００ バンド検査装置
２０１、２０２ 検査用ローラ
２０３ シフト部
２０５ モータ
２０６ 駆動部
２０７ ロードセル
２０８ センサユニット
２０８ｘ 測距センサ
２０８ｙ 基準位置検知センサ
２１１ ＣＰＵ
２１２ 記憶部
２１６ 距離算出部
２１７ 浮き量算出部
２１８ 判定部
２３０ バンド検査工程
２３７ 減圧チャンバ

Claims (10)

1. 流延ダイから流下したドープが到達する到達位置が設定され前記到達したドープからなる流延膜を形成するための表面と、循環移動する際製膜用ローラに支持されるための裏面とを備えた金属製のエンドレスバンドの検査方法において、
   前記裏面が検査用ローラによって支持され移動テンションが印加された状態の前記エンドレスバンドのうち前記到達位置に対応した前記表面上の測定位置から前記検査用ローラの支持面までの距離Ｈを算出する距離Ｈ算出工程と、
   式（１）により、前記測定位置における前記支持面から前記裏面までの浮き量ＣＬを算出する浮き量算出工程と、
   前記算出された浮き量ＣＬが閾値以下であるか否かを判定する判定工程とを有することを特徴とするエンドレスバンドの検査方法。
   式（１）ＣＬ＝Ｈ−Ｄ
   Ｄ：前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚み
2. 前記検査用ローラは軸方向端部が露出するように軸方向中央部で前記エンドレスバンドを支持し、
   前記距離算出工程では、測距手段を用いて、前記測定位置から前記測距手段までの距離Ａ及び前記測定位置における前記軸方向端部から前記測距手段までの距離Ｂを測定し、式（２）により前記距離Ｈを算出することを特徴とする請求項１記載のエンドレスバンドの検査方法。
   式（２） Ｈ＝Ｂ−Ａ
3. 前記浮き量算出工程では、前記エンドレスバンドに設定された基準位置から前記測定位置までの位置情報と前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚みＤとが関連付けられて記憶された記憶手段から前記エンドレスバンドの厚みＤを読み取り、
   前記記憶手段から読み取った前記エンドレスバンドの厚みＤを用いて、前記浮き量ＣＬを算出することを特徴とする請求項１または２記載のエンドレスバンドの検査方法。
4. 前記エンドレスバンドは、金属製の第１ウェブ及びこの第１ウェブの幅方向片側に溶接された金属製の第２ウェブからなることを特徴とする請求項１ないし３のうちいずれか１項記載のエンドレスバンドの検査方法。
5. 前記製膜用ローラと前記検査用ローラとが同一のローラであることを特徴とする請求項１ないし４のうちいずれか１項記載のエンドレスバンドの検査方法。
6. 前記移動テンションは６０Ｎ／ｍｍ^２であり、
   前記閾値が０．１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし５のうちいずれか１項記載のエンドレスバンドの検査方法。
7. 流延ダイから流下したドープが到達する到達位置が設定され前記到達したドープからなる流延膜を形成するための表面と、循環移動する際製膜用ローラに支持されるための裏面とを備えた金属製のエンドレスバンドの検査装置において、
   前記裏面が検査用ローラによって支持され移動テンションが印加された状態の前記エンドレスバンドのうち前記到達位置に対応した前記表面上の測定位置から前記検査用ローラの支持面までの距離Ｈを算出する距離算出手段と、
   式（１）により、前記測定位置における前記支持面から前記裏面までの浮き量ＣＬを算出する浮き量算出手段と、
   前記算出された浮き量ＣＬが閾値以下であるか否かを判定する判定手段とを有することを特徴とするエンドレスバンドの検査装置。
   式（１）ＣＬ＝Ｈ−Ｄ
   Ｄ：前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚み
8. 前記検査用ローラは軸方向端部が露出するように軸方向中央部で前記エンドレスバンドを支持し、
   前記測定位置までの距離Ａ及び前記測定位置における前記軸方向端部までの距離Ｂを測定する測距手段が設けられ、
   前記距離算出手段は、式（２）により、前記距離Ｈを算出することを特徴とする請求項７記載のエンドレスバンドの検査装置。
   式（２） Ｈ＝Ｂ−Ａ
9. 前記エンドレスバンドに設定された基準位置から前記測定位置までの位置情報と前記測定位置における前記エンドレスバンドの厚みＤとが関連付けられて記憶された記憶手段を有し、
   前記浮き量算出手段は、前記記憶手段に記憶された前記エンドレスバンドの厚みＤを用いて、前記浮き量ＣＬを算出することを特徴とする請求項７または８記載のエンドレスバンドの検査装置。
10. 前記製膜用ローラと前記検査用ローラとが同一のローラであることを特徴とする請求項７ないし９のうちいずれか１項記載のエンドレスバンドの検査装置。

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