JP5020459B2 - 樹脂成形機および樹脂成形方法 - Google Patents
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Description
また、溶融樹脂の流路を備えた樹脂成形機において、前記溶融樹脂は、フロロカーボン系樹脂を含み、前記溶融樹脂に接触する前記流路の表面の少なくとも一部を、メッキされたNi、Ni−P、Ni−B、およびNi−W−Pの少なくとも一つを含む材料から構成し、前記溶融樹脂の原料または前記流路内に不活性ガスを供給し、前記溶融樹脂の原料または前記流路内の少なくとも一部における雰囲気の酸素濃度および水分濃度を10ppm以下に制御することにより、前記溶融樹脂が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記溶融樹脂の温度が380℃の時における粘性まで前記溶融樹脂の粘性を下げ、樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減する手段を備えていることを特徴とする樹脂成形機が得られる。
また、樹脂を溶融する第1の工程と溶融樹脂を射出または押し出しによって成形する第2の工程とを有する樹脂成形方法において、前記樹脂は、フロロカーボン系樹脂を含み、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、前記フロロカーボン系樹脂に接触する前記流路の表面の少なくとも一部を、メッキされたNi、Ni−P、Ni−B、およびNi−W−Pの少なくとも一つを含む材料から構成し前記樹脂の原料または前記樹脂の流路内の少なくとも一部における雰囲気の酸素濃度および水分濃度を10ppm以下に制御することにより、前記樹脂が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記樹脂の温度が380℃の時における粘性まで前記樹脂の粘性を下げて行い、前記第2の工程において樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減することを特徴とする樹脂成形方法が得られる。
(1) 溶融プラスチックの温度を可能な限り高くする。そのために、O2、H2Oを遮断したN2雰囲気で溶融、成形を行い、かつシクロオレフィン(ハイドロカーボン系プラスチックの代表)であれば、CrメッキベースでCr2O3の皮膜で樹脂接触部の表面を覆うことにより、370〜380℃まで昇温が可能である。従来では、可能な温度は280℃以下であり粘性は10倍以上になっている。また、PFA(フロロカーボン系プラスチックの代表)であれば、部材表面をNiメッキすることで、360〜370℃までが可能である。従来では290℃以下しか加熱できない。
炭化水素系樹脂成形において、分解を抑制するため、クロムメッキ表面とすることが好ましいが、それはクロムメッキは表面が自然酸化され酸化クロム皮膜になるからである。ただし、酸化クロム皮膜はCr2O3になるように3価のクロムを使用することが好ましい。通常のクロムメッキは6価クロムを用いるが、6価クロムでは酸化皮膜がCrO3になってしまい好ましくない。また6価クロムは有害物質である点からも好ましくない。クロムメッキは通常0.2ミクロン程度の膜厚で使用されることが好ましい。ところで、微細ピッチを形成した金型表面を実現する場合、メッキ面にダイヤモンド切削技術などで、微細形状を加工する。しかし、クロムメッキを金型表面に適用する場合、表面高度が高く、切削加工が出来ないため、下地として、ニッケルメッキ、あるいはNi-Pメッキ等の加工しやすいメッキ処理を施し、加工してからクロムメッキを施すことが好ましい。
樹脂成形品のわき腹にヘソが有ってもいい場合は、金型のわき腹にマトリックス状にたとえば3×4=12箇所の注入射出点を設ける。成形品のわき腹にヘソがあっては駄目な場合は、側面から注入する。この場合も側面が長い側には複数の注入射出点を設ける。従来は射出点が1つ、温度280℃での注入であり、1,500トンの射出圧が必要だったものが、本発明では380℃で射出点を12にすると、100Kg以下の射出圧力で十分になる。よって金型の型締め圧力、駆動圧力をきわめて小さくすることができる。
本発明の技術により、樹脂の粘度が飛躍的に低減されたため、配管を用いて樹脂を流し、バルブで流路を切り替えることが可能となり、複数の金型へ流し込むことが可能となる。複数の金型を用いることで生産性が飛躍的に向上する。
射出成形の際の金型への射出において、溶融樹脂粘度が下がると金型表面への樹脂の転写性が良くなり、例えば、フレネルレンズや光ディスクのような微細ピッチ(溝)構造を持つ場合、ピッチ内に緻密に充填されるが、その結果として、金型表面との密着性が良くなり、成形品が金型から容易には剥がれなくなる。剥がれ難くなる理由は、金型と成形品の間が密着するため、金型と成形品が剥がれる際に真空状態となるためである。そこで、離型時に金型ピッチに不活性ガスを導入することで、真空状態を解除し、剥がれやすくする。不活性ガスは、成形品品質に影響のない部分から導入される。
通常、フィルムやパイプ、繊維などの押出成形機の厚み調整は、溶融樹脂温度を制御することで行う。しかし、これでは精密な厚み制御が不可能である。そこで、押出成形機の厚み調整を圧電体で行うことが好ましい。圧電体は、溶融樹脂が押し出されるダイ部に配置され、必要に応じてその数を調整し、運用される。
通常、放電電極を用いたイオナイザが静電気除去に使われるが、大気中でイオナイザを使うと、O3(オゾン)が発生し、プラスチック高分子が分解・解離して低分子化する。よってO3を発生するイオナイザは使ってはならない。静電気除去のためには、1〜2オングストローム程度の波長の軟X線発生管で軟X線を空気に照射してO3を作らずに静電気を除去するのが良い。不活性なN2雰囲気中でも気体分子のイオン化は、きわめて効率よく起こり静電気を効率よく除去する。
5 シリンダー
6 ノズル
7 金型
8 射出成形機
9 ホッパー
Claims (16)
- 溶融樹脂の流路を備えた樹脂成形機において、
前記溶融樹脂は、ハイドロカーボン系樹脂を含み、
前記溶融樹脂に接触する前記流路の表面の少なくとも一部を、酸化アルミニウムまたは酸化クロムを含む材料から構成し、前記溶融樹脂の原料または前記流路内に不活性ガスを供給し、前記溶融樹脂の原料または前記流路内の少なくとも一部における雰囲気の酸素濃度および水分濃度を1ppm以下に制御することにより、前記溶融樹脂が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記溶融樹脂の温度が400℃の時における粘性まで前記溶融樹脂の粘性を下げ、樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減する手段を備えていることを特徴とする樹脂成形機。 - 溶融樹脂の流路を備えた樹脂成形機において、
前記溶融樹脂は、フロロカーボン系樹脂を含み、
前記溶融樹脂に接触する前記流路の表面の少なくとも一部を、メッキされたNi、Ni−P、Ni−B、およびNi−W−Pの少なくとも一つを含む材料から構成し、前記溶融樹脂の原料または前記流路内に不活性ガスを供給し、前記溶融樹脂の原料または前記流路内の少なくとも一部における雰囲気の酸素濃度および水分濃度を10ppm以下に制御することにより、前記溶融樹脂が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記溶融樹脂の温度が380℃の時における粘性まで前記溶融樹脂の粘性を下げ、樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減する手段を備えていることを特徴とする樹脂成形機。 - 請求項1または請求項2において、
前記溶融樹脂の成形に用いる金型と、該金型から剥離される樹脂成形品の静電気を除去する軟X線照射手段とを備えていることを特徴とする樹脂成形機。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか1項において、金型を駆動する金型駆動手段および該金型駆動手段に設置された温度制御手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項4において、前記温度制御手段は、水素添加水を含むことを特徴とする樹脂成形機。
- 請求項1乃至請求項5のいずれか1項において、射出成形を行うものであることを特徴とする樹脂成形機。
- 樹脂を溶融する第1の工程と溶融樹脂を射出または押し出しによって成形する第2の工程とを有する樹脂成形方法において、
前記樹脂は、ハイドロカーボン系樹脂を含み、
前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、前記樹脂に接触する前記流路の表面の少なくとも一部を、酸化アルミニウムまたは酸化クロムを含む材料から構成し、前記樹脂の原料または前記樹脂の流路内の少なくとも一部における雰囲気の酸素濃度および水分濃度を1ppm以下に制御することにより、前記樹脂が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記樹脂の温度が400℃の時における粘性まで前記樹脂の粘性を下げて行い、前記第2の工程において樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減することを特徴とする樹脂成形方法。 - 樹脂を溶融する第1の工程と溶融樹脂を射出または押し出しによって成形する第2の工程とを有する樹脂成形方法において、
前記樹脂は、フロロカーボン系樹脂を含み、
前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、前記フロロカーボン系樹脂に接触する前記流路の表面の少なくとも一部を、メッキされたNi、Ni−P、Ni−B、およびNi−W−Pの少なくとも一つを含む材料から構成し前記樹脂の原料または前記樹脂の流路内の少なくとも一部における雰囲気の酸素濃度および水分濃度を10ppm以下に制御することにより、前記樹脂が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記樹脂の温度が380℃の時における粘性まで前記樹脂の粘性を下げて行い、前記第2の工程において樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減することを特徴とする樹脂成形方法。 - 請求項7または請求項8において、前記第2の工程は、樹脂成形品の静電気を除去する軟X線照射を含むことを特徴とする樹脂成形方法。
- 請求項7乃至請求項9のいずれか1項の樹脂成形方法を用いて成形することを特徴とする樹脂成形品の製造方法。
- 溶融樹脂を成形する樹脂成形機において、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制する手段を有し、
前記成形機は射出成形を行うものであり、前記金型から剥離される樹脂成形品の静電気を除去するための軟X線照射手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。 - 溶融樹脂を成形する樹脂成形機において、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記溶融樹脂の粘性を下げる手段を有し、樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減し、
前記成形機は射出成形を行うものであり、前記金型から剥離される樹脂成形品の静電気を除去するための軟X線照射手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。 - 溶融樹脂を成形する樹脂成形機において、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制する手段を有し、
前記成形機はフィルム押し出し成形または繊維押し出し成形を行うものであり、成形品の静電気を除去するための軟X線照射手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。 - 溶融樹脂を成形する樹脂成形機において、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ前記溶融樹脂の粘性を下げる手段を有し、樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減し、
前記成形機はフィルム押し出し成形または繊維押し出し成形を行うものであり、成形品の静電気を除去するための軟X線照射手段を含むことを特徴とする樹脂成形機。 - 樹脂を溶融する第1の工程と溶融樹脂を射出または押し出しによって成形する第2の工程とを有する樹脂成形方法において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制しつつ行い、
前記第2の工程は成形品の静電気を除去するための軟X線照射を含むことを特徴とする樹脂成形方法。 - 樹脂を溶融する第1の工程と溶融樹脂を射出または押し出しによって成形する第2の工程とを有する樹脂成形方法において、前記第1の工程および前記第2の工程の少なくとも一方を、高分子材料が分解または解離して低分子有機物になることを抑制することによって前記溶融樹脂の温度を高めてその粘性を下げつつ行い、前記第2の工程において樹脂成形のための射出または押し出しに必要な圧力を低減し、
前記第2の工程は成形品の静電気を除去するための軟X線照射を含むことを特徴とする樹脂成形方法。
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