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JP5076869B2 - Optical substrate manufacturing method - Google Patents

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JP5076869B2
JP5076869B2 JP2007328566A JP2007328566A JP5076869B2 JP 5076869 B2 JP5076869 B2 JP 5076869B2 JP 2007328566 A JP2007328566 A JP 2007328566A JP 2007328566 A JP2007328566 A JP 2007328566A JP 5076869 B2 JP5076869 B2 JP 5076869B2
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure for connecting a light receiving/emitting element to an optical waveguide and an optical signal path changing component by using an inexpensive material and a simple process, and also to provide an inexpensive optical substrate having excellent connection characteristics and a method of manufacturing the optical substrate, using this structure. <P>SOLUTION: The optical substrate has: an insulation resin layer on the first face the electric wiring of which is patterned; the light receiving/emitting element which is provided on the first face of the insulation resin layer so that the light receiving/emitting face is directed to the side facing the first face of the insulation resin layer; an optical wiring; and the optical signal path changing component which connects the light receiving/emitting element and the optical wiring, wherein the positioning frame of the light receiving/emitting element is formed integrally with the optical signal path changing component. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、電気配線及び光配線を有する光基板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical substrate having electrical wiring and optical wiring, and a method for manufacturing the same.

近年の高度情報化の進展に伴い、情報通信に用いられるルータやサーバ等の情報処理装置の高性能化はめざましく進んでおり、これら機器においては、通信信号の更なる高速化が求められている。この高速化においては、電子回路や電気回路における電気配線の通信品質が性能向上の障害となるために、通信速度を高速化する上でこの障害が無視できなくなってきている。そのため、処理信号の高速化や電気ノイズの低減を始めとして、高速通信の障害となる課題解決に向けた有望な技術として、光信号を利用することで、高速の伝送速度で情報を送受信することが可能な光配線を用いた技術が注目を集めている。特に、光配線を用いた大容量光インターコネクションを実現するために、光配線の高密度化や低損失接続が重要であり、高性能かつ価格低減に向けての様々な技術検討が行われている。   With the advancement of advanced information technology in recent years, the performance improvement of information processing devices such as routers and servers used for information communication has progressed remarkably, and further speeding up of communication signals is required in these devices. . In this speeding up, the communication quality of the electrical wiring in the electronic circuit or the electric circuit becomes an obstacle to improving the performance, so that this obstacle cannot be ignored in increasing the communication speed. Therefore, as a promising technology for solving problems that hinder high-speed communication, such as speeding up processing signals and reducing electrical noise, information can be transmitted and received at high transmission speeds using optical signals. The technology using optical wiring that can be used is attracting attention. In particular, in order to realize large-capacity optical interconnection using optical wiring, high density optical wiring and low loss connection are important, and various technical studies for high performance and cost reduction have been conducted. Yes.

光信号は、発光素子や光配線から出力されると拡散される。このため、光信号の接続部品はできるだけ近い間隔で接続する必要がある。また、光接続はその接続位置がずれると光信号が漏洩損失するため、正確に位置をあわせて接続する必要がある。また、光信号を伝播する光導波路は基板平面内に水平方向に設けられるため、受発光素子の受発光面に光信号を入出力するためには、光信号路を概略90°変換する必要がある。   The optical signal is diffused when output from the light emitting element or the optical wiring. For this reason, it is necessary to connect the optical signal connection components at intervals as close as possible. Further, since the optical signal leaks and loses when the connection position of the optical connection is shifted, it is necessary to accurately connect the positions. In addition, since the optical waveguide for propagating the optical signal is provided in the horizontal direction in the substrate plane, it is necessary to convert the optical signal path by approximately 90 ° in order to input / output the optical signal to / from the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element. is there.

従来これらの部品を高精度に実装するために、シリコン等をエッチングした実装枠を用い、各部品を枠にはめ込む形で実装を行う手法がとられてきた(特許文献1参照)。しかし、こうした実装はモジュール製造には向くものの、高密度実装基板に適用するには実装密度が上がらない問題がある。   Conventionally, in order to mount these components with high accuracy, a mounting frame in which silicon or the like is etched is used to mount each component in the frame (see Patent Document 1). However, although such mounting is suitable for module manufacturing, there is a problem that the mounting density does not increase when applied to a high-density mounting substrate.

また、光導波路の端面に90°ミラーを形成し、受発光素子をサブマウント基板に実装し、サブマウント基板をセルフアライメント実装する手法が報告されている(特許文献2)。しかしこの手法では受発光素子の実装精度、セルフアライメント実装精度、光導波路の実装精度の各プロセスを全て高精度に保つ必要があり、歩留まりが低下する問題がある。また基板上にミラー部品を設置し、光導波路と受発光素子を実装する手法が報告されている(特許文献3)。しかしこの手法では、ミラー部品の実装に高い精度が要求され、後の受発光素子実装時などにミラー部品の位置ずれ、変形等が発生する可能性がある。   In addition, a method has been reported in which a 90 ° mirror is formed on the end face of an optical waveguide, a light emitting / receiving element is mounted on a submount substrate, and the submount substrate is self-aligned (Patent Document 2). However, with this method, it is necessary to maintain each process of mounting / receiving element mounting accuracy, self-alignment mounting accuracy, and optical waveguide mounting accuracy with high accuracy, and there is a problem that yield decreases. In addition, a technique has been reported in which a mirror component is installed on a substrate and an optical waveguide and a light emitting / receiving element are mounted (Patent Document 3). However, with this method, high accuracy is required for mounting the mirror component, and there is a possibility that the mirror component is displaced or deformed when the light emitting / receiving element is mounted later.

特開昭63−266407JP 63-266407 A 特開2006−234850JP 2006-234850 A 特開2002−82244JP2002-82244

本発明はかかる従来技術の欠点に鑑みてなされたもので、受発光素子と光導波路及び光信号路変換部品が接続する構造を、安価な材料かつ簡便なプロセスで提供する。これにより低コストかつ接続特性のよい光基板とその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the drawbacks of the prior art, and provides a structure in which a light emitting / receiving element, an optical waveguide, and an optical signal path conversion component are connected by an inexpensive material and a simple process. Accordingly, it is an object of the present invention to provide an optical substrate with low cost and good connection characteristics and a method for manufacturing the same.

本発明において上記の課題を達成するために為された第1の発明は、第1面に電気配線がパターニングされた絶縁樹脂層と、前記絶縁樹脂層の前記第1面上に設けられ、受発光面を、前記絶縁樹脂層の前記第1面に対向する側に向けて配置した受発光素子と、光配線と、前記受発光素子と前記光配線を接続する光信号路変換部品と、を有する光基板であって、前記光信号路変換部品に受発光素子の位置決め枠が一体成形されていることを特徴とする光基板である。   According to a first aspect of the present invention, there is provided an insulating resin layer having an electric wiring patterned on a first surface, and an insulating resin layer provided on the first surface of the insulating resin layer. A light emitting / receiving element arranged with the light emitting surface facing the first surface of the insulating resin layer, an optical wiring, and an optical signal path conversion component for connecting the light receiving / emitting element and the optical wiring; An optical substrate having a light receiving / emitting element positioning frame integrally formed with the optical signal path conversion component.

第2の発明は、前記光基板の発明において、前記光配線及び前記一体成型部品は、前記絶縁樹脂層がパターニング除去された領域に配置されていることを特徴とする光基板である。   A second invention is the optical substrate according to the invention of the optical substrate, wherein the optical wiring and the integrally molded component are arranged in a region where the insulating resin layer is removed by patterning.

第3の発明は、上記光基板の発明において、前記絶縁樹脂層が感光性絶縁樹脂で形成されており、フォトリソグラフィーにより前記光配線の配置部及び前記光信号路変換部品の設置部がパターニング除去されていることを特徴とする光基板である。   According to a third aspect of the present invention, in the optical substrate invention, the insulating resin layer is formed of a photosensitive insulating resin, and the optical wiring placement portion and the optical signal path conversion component placement portion are removed by patterning by photolithography. It is an optical substrate characterized by being made.

第4の発明は、上記光基板の発明において、前記光配線は、前記光信号路変換部品と接続された光導波路と、該光導波路と接続された光ファイバを有することを特徴とする光基板である。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the optical substrate according to the above-described optical substrate, wherein the optical wiring includes an optical waveguide connected to the optical signal path conversion component and an optical fiber connected to the optical waveguide. It is.

第5の発明は、上記光基板の発明において、少なくとも光基板上の前記光配線及び受発光素子がモールド樹脂で覆われていることを特徴とする光基板である。   A fifth invention is the optical substrate according to the invention of the optical substrate, wherein at least the optical wiring and the light receiving and emitting elements on the optical substrate are covered with a mold resin.

第6の発明は、
金属層上の絶縁樹脂層をパターニングして、除去領域を設ける絶縁樹脂層形成工程と、
キャリアフィルム上に、絶縁樹脂層面を該キャリアフィルムに対向させて貼り合せる絶縁樹脂基板設置工程と、
前記金属層をパターニングし、配線パターンを形成する電気配線形成工程と、
前記除去領域に光信号路変換部品及び受発光素子の位置決め枠からなる一体成型部品を配置する工程と、
前記位置決め枠に受発光素子配置して実装するとともに、光配線を前記除去領域に配置し前記光信号路変換部品に接続して実装する実装工程と、
前記キャリアフィルムを除去するキャリアフィルム除去工程と、
を備える事を特徴とする光基板の製造方法である。
また、第7の発明は、該光基板の製造方法において、
絶縁樹脂層の一部もしくは全体をモールド樹脂で覆うモールド樹脂形成工程を供えることを特徴とする。
The sixth invention is:
An insulating resin layer forming step of patterning the insulating resin layer on the metal layer to provide a removal region;
On the carrier film, an insulating resin substrate installation step in which the insulating resin layer surface is bonded to face the carrier film; and
Patterning the metal layer and forming a wiring pattern;
A step of arranging an integrally molded component comprising an optical signal path conversion component and a positioning frame of the light emitting and receiving element in the removal region;
A mounting step for mounting the light receiving / emitting element on the positioning frame and mounting the optical wiring in the removal region and connecting to the optical signal path conversion component, and mounting.
A carrier film removing step for removing the carrier film;
It is a manufacturing method of the optical board | substrate characterized by providing.
The seventh invention provides a method for producing the optical substrate,
A mold resin forming step of covering a part or the whole of the insulating resin layer with a mold resin is provided.

第8の発明は、
金属層上の絶縁樹脂層をパターニングして、除去領域を設ける絶縁樹脂層形成工程と、
キャリアフィルム上に、絶縁樹脂層面を該キャリアフィルムに対向させて貼り合せる絶縁樹脂基板設置工程と、
前記金属層をパターニングし、配線パターンを形成する電気配線形成工程と、
前記除去領域に光信号路変換部品及び受発光素子の位置決め枠からなる一体成型部品を配置する工程と、
前記位置決め枠に受発光素子配置して実装するとともに、光配線のダミーフィルムを前記除去領域に前記光信号路変換部品に突き合わせて配置する工程と、
前記キャリアフィルム上の少なくとも前記ダミーフィルムをモールド樹脂で覆うモールド樹脂形成工程と、
前記キャリアフィルム及び前記ダミーフィルムを除去するフィルム除去工程と、
前記ダミーフィルムが配置されていた部位に光配線を配置する光配線配置工程と、
備える光基板の製造方法である。
The eighth invention
An insulating resin layer forming step of patterning the insulating resin layer on the metal layer to provide a removal region;
On the carrier film, an insulating resin substrate installation step in which the insulating resin layer surface is bonded to face the carrier film; and
Patterning the metal layer and forming a wiring pattern;
A step of arranging an integrally molded component comprising an optical signal path conversion component and a positioning frame of the light emitting and receiving element in the removal region;
A step of arranging and mounting the light emitting / receiving element on the positioning frame, and placing a dummy film of an optical wiring in contact with the optical signal path conversion component in the removal region;
A mold resin forming step of covering at least the dummy film on the carrier film with a mold resin;
A film removal step of removing the carrier film and the dummy film;
An optical wiring arrangement step of arranging an optical wiring in a portion where the dummy film has been arranged;
It is a manufacturing method of an optical substrate provided.

第9の発明は、上記光基板の製造方法の発明において、
前記絶縁樹脂層形成工程において、前記絶縁樹脂層は感光性樹脂からなり、該感光性樹脂をフォトリソグラフィーによりパターニングして前記除去領域を形成することを特徴とする光基板の製造方法である。
A ninth invention is an invention of a manufacturing method of the optical substrate,
In the insulating resin layer forming step, the insulating resin layer is made of a photosensitive resin, and the removal region is formed by patterning the photosensitive resin by photolithography.

第10の発明は、上記光基板を備える事を特徴とする光部品である。
また第11の発明は、上記光基板を備える事を特徴とする電子機器である。
A tenth aspect of the invention is an optical component comprising the above optical substrate.
An eleventh aspect of the invention is an electronic apparatus comprising the optical substrate.

本発明は、次のような効果がある。
第1の発明によれば、光信号路変換部品と受発光素子の位置決め枠とが一体成型されていることで、受発光素子と光信号路変換部品との位置決めを高精度かつ容易に行うことが可能となる。
The present invention has the following effects.
According to the first invention, the optical signal path conversion component and the positioning frame of the light receiving and emitting element are integrally molded, so that the positioning of the light receiving and emitting element and the optical signal path converting component can be performed with high accuracy and ease. Is possible.

第2の発明によれば、絶縁樹脂層において光配線及び一体成型部品の配置部がパターニング除去されているため、光配線及び一体成型部品の位置合わせが容易であり、また高密度に実装することが可能となる。   According to the second invention, the arrangement portion of the optical wiring and the integrally molded component is removed by patterning in the insulating resin layer, so that the alignment of the optical wiring and the integrally molded component is easy, and the mounting is performed at a high density. Is possible.

第3の発明によれば、絶縁樹脂層が感光性絶縁樹脂で形成されていることにより、膜厚を薄くすることができ、作製時に容易に制御することが可能であることから、光信号路変換部品45の受発光素子位置決め枠部45bの下面の高さ、つまり光信号変換部45aの高さと、絶縁樹脂層及び電気配線、半田バンプ90の受発光素子接合部分を足し合わせた厚さを合わせることができるため、電気配線との接続が容易となる。また、フォトリソグラフィーにより高精度にパターニングできることから、精度良く各部品を位置合わせすることが可能であるため、低損失接続が可能な光基板が実現できる。   According to the third invention, since the insulating resin layer is formed of the photosensitive insulating resin, the film thickness can be reduced and can be easily controlled at the time of manufacture. The height of the lower surface of the light receiving / emitting element positioning frame 45b of the conversion component 45, that is, the height of the optical signal converting part 45a, and the thickness of the insulating resin layer, the electrical wiring, and the joint of the light receiving / emitting element of the solder bump 90 are added. Since it can match | combine, a connection with an electrical wiring becomes easy. In addition, since patterning can be performed with high accuracy by photolithography, each component can be aligned with high accuracy, so that an optical substrate capable of low-loss connection can be realized.

第4の発明によれば、光基板中に光導波路及び光ファイバを配置することによって、両者を同時に高精度実装することが可能となる。これにより光接続効率が向上し、製造コストも低減する。   According to the fourth invention, by disposing the optical waveguide and the optical fiber in the optical substrate, it becomes possible to mount both at the same time with high accuracy. Thereby, the optical connection efficiency is improved and the manufacturing cost is also reduced.

第5の発明によれば、光基板上をモールド樹脂でモールドすることにより光基板の環境信頼性が向上する。   According to the fifth aspect, the environmental reliability of the optical substrate is improved by molding the optical substrate with the molding resin.

第6の発明によれば、キャリアフィルム上で光基板を製造する事で、一体成型部品及び光配線はキャリアフィルム状に配置されるため、光基板下面はキャリアフィルム面を基準として平坦となる。これにより光基板下面へのLGA実装や電気コネクタ実装が容易となる。
また第7の発明によれば、光基板上をモールド樹脂でモールドすることにより光基板の環境信頼性が向上する。
According to the sixth invention, by manufacturing the optical substrate on the carrier film, the integrally molded component and the optical wiring are arranged in a carrier film shape, so that the lower surface of the optical substrate is flat with respect to the carrier film surface. This facilitates LGA mounting and electrical connector mounting on the lower surface of the optical substrate.
According to the seventh invention, the environmental reliability of the optical substrate is improved by molding the optical substrate with the molding resin.

第8の発明によれば、前述のように光基板上面をモールド樹脂で覆うことで光基板の環境信頼性を向上させることができるが、この場合、光導波路設置部分および光ファイバ設置部分にまずダミーフィルムを設置して、モールドを行うことで、モールド工程の高温プロセスによる光導波路の破損を防ぐ事ができる。また、光配線部分を除く電気回路パッケージの中間体をあらかじめ製造することにより、光基板を生産性良く製造することが可能となる。   According to the eighth invention, it is possible to improve the environmental reliability of the optical substrate by covering the upper surface of the optical substrate with the mold resin as described above. By installing the dummy film and performing the molding, it is possible to prevent the optical waveguide from being damaged by the high temperature process of the molding process. In addition, it is possible to manufacture the optical substrate with high productivity by manufacturing the intermediate body of the electric circuit package excluding the optical wiring portion in advance.

第9の発明によれば、絶縁樹脂層に感光性絶縁樹脂を用いる事で、紫外線照射によるフォトリソグラフィーで、絶縁樹脂をパターニングすることができる。これにより、光配線設置部分及び光信号路変換部品設置部分を高精度に造形することが可能となり、外形突き当て位置合わせにより光導波路及び光信号路変換部品を実装することができる。   According to the ninth aspect, by using a photosensitive insulating resin for the insulating resin layer, the insulating resin can be patterned by photolithography by ultraviolet irradiation. Thereby, it becomes possible to model an optical wiring installation part and an optical signal path conversion component installation part with high accuracy, and an optical waveguide and an optical signal path conversion component can be mounted by external abutment alignment.

本発明の光基板を備えた光部品、電子機器とすることで、ノイズの影響を受けずに効率的に信号の送受信が可能となる。     By using an optical component or an electronic device provided with the optical substrate of the present invention, signals can be efficiently transmitted and received without being affected by noise.

<光基板>
本発明に係る光基板の断面図を図1(A)に、その平面図を図1(B)に示した。本発明の光基板では、第1面に金属層がパターニングされた配線パターン21を有する絶縁樹脂層11があり、この絶縁樹脂層の第1面上に受発光素子60が設けられている。受発光素子は、受発光素子位置決め枠45aよって位置決めされて配置されている。また受発光素子位置決め枠45aは、図2に示すように光信号路変換部品45bと一体成形されて一体成形部品45を構成している。また受発光素子は光信号変換部45bに光学的に接続されている。さらに、光信号路変換部品は、光導波路50と、光ファイバ55とを有する光配線の接続部に光学的に接続されている。そして、光配線及び一体成型部品は、絶縁樹脂層がパターニング除去された領域に配置されている。以下、本発明の光基板について詳細に説明する。
<Optical substrate>
A cross-sectional view of the optical substrate according to the present invention is shown in FIG. 1 (A), and a plan view thereof is shown in FIG. 1 (B). In the optical substrate of the present invention, there is an insulating resin layer 11 having a wiring pattern 21 in which a metal layer is patterned on a first surface, and a light emitting / receiving element 60 is provided on the first surface of the insulating resin layer. The light emitting / receiving elements are positioned and arranged by the light emitting / receiving element positioning frame 45a. The light emitting / receiving element positioning frame 45a is integrally formed with the optical signal path conversion component 45b as shown in FIG. The light emitting / receiving element is optically connected to the optical signal converter 45b. Further, the optical signal path conversion component is optically connected to a connection portion of the optical wiring having the optical waveguide 50 and the optical fiber 55. The optical wiring and the integrally molded component are disposed in the region where the insulating resin layer is removed by patterning. Hereinafter, the optical substrate of the present invention will be described in detail.

絶縁樹脂層11は、図3に示すように一体成形部品45及び光配線に応じた領域が除去されてパターニングされている。また、多層基板配線を構成する場合には、絶縁樹脂層の第1面に形成される配線パターンと裏面とで導通をとるためのバイアホール部分を除去しても良い。光配線領域において、複数の光ファイバを配置する場合、光ファイバ間の絶縁樹脂層部分は独立している場合があるが、これらはモールド樹脂70あるいはキャリアフィルムにより保持される。絶縁樹脂層は、任意の有機材料及び無機材料を選択することができる。具体的にはアクリル材料、シリコーン材料、シリコンウェハ、金属材料、硝子材料、プリプレグ、積層板材料などが使用できるが、特に感光性樹脂で形成されていることが望ましい。これは、後述のように感光性樹脂を用いて絶縁樹脂層を形成することで、精度良くパターニング可能であり、このため光導波路及び光ファイバが位置精度良く接続できるためである。このため、本発明により低損失接続が可能な光基板を実現することができる。感光性樹脂の例としては、感光性ポリイミド樹脂、感光性アクリル樹脂、感光性エポキシ樹脂、またこれらを重合させた感光性エポキシアクリレート樹脂などを用いることができる。   As shown in FIG. 3, the insulating resin layer 11 is patterned by removing a region corresponding to the integrally molded component 45 and the optical wiring. In the case of forming a multilayer substrate wiring, a via hole portion for establishing electrical connection between the wiring pattern formed on the first surface of the insulating resin layer and the back surface may be removed. When arranging a plurality of optical fibers in the optical wiring region, the insulating resin layer portions between the optical fibers may be independent, but these are held by the mold resin 70 or the carrier film. Arbitrary organic materials and inorganic materials can be selected for the insulating resin layer. Specifically, an acrylic material, a silicone material, a silicon wafer, a metal material, a glass material, a prepreg, a laminated plate material, and the like can be used, but it is particularly preferable that the material is formed of a photosensitive resin. This is because, as will be described later, by forming an insulating resin layer using a photosensitive resin, patterning can be performed with high accuracy, so that the optical waveguide and the optical fiber can be connected with high positional accuracy. Therefore, an optical substrate capable of low loss connection can be realized by the present invention. Examples of the photosensitive resin include a photosensitive polyimide resin, a photosensitive acrylic resin, a photosensitive epoxy resin, and a photosensitive epoxy acrylate resin obtained by polymerizing these.

さらに絶縁樹脂層11の膜厚についても、感光性樹脂であれば膜厚を薄くすることができ、作製時に容易に制御することが可能である。絶縁樹脂層の膜厚には特に制限はないが、絶縁樹脂層の膜厚の調整によって、光信号路変換部品45の受発光素子位置決め枠部45bの下面の高さ、つまり光信号変換部45aの高さと、絶縁樹脂層及び電気配線、半田バンプ90の受発光素子接合部分を足し合わせた厚さを合わせることができるため、電気配線との接続が容易となる。半田バンプの厚さは電気配線のピッチによっても変わるため、要求される電気配線基板によって異なるからである。そのため絶縁樹脂層の膜厚を制御することが好ましい。また当然ながら、少なくとも受発光素子位置決め枠部の高さ以下であることが必要である。受発光素子位置決め枠部の高さ、つまり光信号変換部の高さは、光導波路の高さと一致している場合に、最も光基板を高密度化することができるために望ましい。従って、この場合には絶縁樹脂層の厚さは光導波路の厚さ以下であることが望ましい。例えば、マルチモードの場合の光導波路の厚さは100μm程度であり、電気配線の膜厚を10μm程度であることから、半田バンプの高さが40μmの場合は、絶縁樹脂層の膜厚を50μmとする。   Further, the film thickness of the insulating resin layer 11 can be reduced if it is a photosensitive resin, and can be easily controlled during production. The film thickness of the insulating resin layer is not particularly limited, but by adjusting the film thickness of the insulating resin layer, the height of the lower surface of the light receiving and emitting element positioning frame 45b of the optical signal path conversion component 45, that is, the optical signal conversion unit 45a. Can be combined with the thickness of the insulating resin layer, the electric wiring, and the joint portion of the solder bump 90 on the light emitting / receiving element, so that the connection with the electric wiring is facilitated. This is because the thickness of the solder bump varies depending on the pitch of the electric wiring, and thus varies depending on the required electric wiring board. Therefore, it is preferable to control the film thickness of the insulating resin layer. Needless to say, it is necessary that the height of the light receiving and emitting element positioning frame is at least the height of the frame. The height of the light receiving / emitting element positioning frame, that is, the height of the optical signal converter is desirable because the optical substrate can be most highly densified when it matches the height of the optical waveguide. Therefore, in this case, it is desirable that the thickness of the insulating resin layer is not more than the thickness of the optical waveguide. For example, the thickness of the optical waveguide in the multimode is about 100 μm, and the thickness of the electric wiring is about 10 μm. Therefore, when the solder bump height is 40 μm, the thickness of the insulating resin layer is 50 μm. And

一体成形部品45は、前述のように、受発光素子位置決め枠45aと光信号路変換部品45bとで構成されている。受発光素子位置決め枠は、受発光素子外形に概略等しい形状をとり、受発光素子を受発光素子位置決め枠にはめ込むことで高精度位置決め実装を行うことができる。光信号路変換部品は、受発光素子から光配線あるいは光配線から受発光素子への光信号の進行方向を変換する。従来、受発光素子と、光信号路変換部品の実装には高精度な位置合わせが必要とされていた。そこで本発明では、受発光素子位置決め枠によって、受発光素子の高精度位置決め実装を可能とし、また光信号路変換部品が受発光素子位置決め枠と一体成形されていることにより、実装段階において受発光素子の受発光部(光信号の入出力位置)を所定の光信号路変換部品の光信号路変換位置に一致させる位置合わせが不要となる。このことにより、容易に受発光素子の高精度な位置決め実装が可能な光基板を製造することが可能となる。   As described above, the integrally molded component 45 includes the light receiving and emitting element positioning frame 45a and the optical signal path conversion component 45b. The light receiving / emitting element positioning frame has a shape substantially equal to the outer shape of the light receiving / emitting element and can be mounted with high accuracy by fitting the light receiving / emitting element into the light receiving / emitting element positioning frame. The optical signal path conversion component converts the traveling direction of the optical signal from the light receiving / emitting element to the optical wiring or from the optical wiring to the light receiving / emitting element. Conventionally, high-accuracy alignment has been required for mounting the light emitting / receiving element and the optical signal path conversion component. Therefore, in the present invention, the light receiving / emitting element positioning frame enables high-precision positioning mounting of the light receiving / emitting element, and the optical signal path conversion component is integrally formed with the light receiving / emitting element positioning frame, so that light receiving / emitting light is received in the mounting stage. Positioning to match the light emitting / receiving portion (input / output position of the optical signal) of the element with the optical signal path conversion position of a predetermined optical signal path conversion component becomes unnecessary. As a result, it is possible to manufacture an optical substrate capable of easily positioning and mounting the light emitting / receiving elements.

光信号路変換部品45bは、ミラー、グレーティング、MEMSなどの構造を用いる事ができる。光信号路変換部品を構成する材料としては、ポリマー材料、金属材料等を用いることができ、ミラー構造を形成する場合には、ミラー面への金属蒸着、同ミラー面への誘電体多層膜蒸着などを選択することができる。前述のように、光信号路変換部品の高さは、光導波路の厚さと一致していることが好ましい。光導波路の厚さよりも光信号路変換部品の高さが低いと、受発光素子の下面が光導波路と接触してしまうことから突合せにより接合することができなくなり、また光導波路の厚さよりも光信号路変換部品の高くなると、光信号路変換部品が不必要に大きくなり高密度化の妨げとなる。   The optical signal path conversion component 45b can use a structure such as a mirror, a grating, or a MEMS. As a material constituting the optical signal path conversion component, a polymer material, a metal material, or the like can be used. When a mirror structure is formed, metal deposition on the mirror surface, dielectric multilayer film deposition on the mirror surface Etc. can be selected. As described above, the height of the optical signal path conversion component preferably matches the thickness of the optical waveguide. If the height of the optical signal path conversion component is lower than the thickness of the optical waveguide, the lower surface of the light receiving and emitting element will be in contact with the optical waveguide, so that it cannot be joined by butt contact. When the signal path conversion component becomes high, the optical signal path conversion component becomes unnecessarily large, which hinders high density.

受発光素子位置決め枠45aは、光信号路変換部品上で受発光素子を固定可能な形状であれば特に制限はない。受発光素子位置決め枠を形成する材料としては、光信号路変換部品と同様の材料を用いる事ができる。一体成形部品は、外形加工精度を向上させるため、金型加工もしくは切削加工などの手段を用いて成形することが望ましい。   The light receiving / emitting element positioning frame 45a is not particularly limited as long as the light receiving / emitting element can be fixed on the optical signal path conversion component. As a material for forming the light receiving / emitting element positioning frame, the same material as that of the optical signal path conversion component can be used. The integrally molded part is desirably molded using means such as die machining or cutting in order to improve the accuracy of external processing.

光配線は、少なくとも光変換部品45に光学接続された光導波路50と、該光導波路と光学接続された光ファイバ55で構成されている。また、本発明の光基板に実装する光配線を光導波路部分のみとして、光基板外で光ファイバと接続するような構成としても良い。この場合には、絶縁樹脂層11は、光導波路部分がパターニング除去されて、絶縁樹脂層の縁部に切り欠き部分が形成されていることになる。   The optical wiring includes at least an optical waveguide 50 optically connected to the optical conversion component 45 and an optical fiber 55 optically connected to the optical waveguide. Further, the optical wiring to be mounted on the optical substrate of the present invention may be configured so that only the optical waveguide portion is connected to the optical fiber outside the optical substrate. In this case, the optical waveguide portion of the insulating resin layer 11 is removed by patterning, and a cutout portion is formed at the edge of the insulating resin layer.

光導波路50には、コアと、コアの外周を覆うクラッドとで構成される一般的な光配線光導波路を用いる事ができる。材質として、カーボネート系、エポキシ系、アクリル系、イミド系、ウレタン系、ノルボルネン系などの高分子材料及び石英などの無機材料を用いる事ができる。伝送モードとして、シングルモード、マルチモード、シングルマルチ混合配線などの構成をとることができる。   As the optical waveguide 50, a general optical wiring optical waveguide composed of a core and a clad covering the outer periphery of the core can be used. As materials, polymer materials such as carbonate-based, epoxy-based, acrylic-based, imide-based, urethane-based and norbornene-based materials and inorganic materials such as quartz can be used. As the transmission mode, a single mode, a multi mode, a single multi mixed wiring, or the like can be employed.

光ファイバ55には、一般的な光ファイバを用いる事ができる。具体的には、石英系光ファイバ、ポリマー光ファイバなどを用いる事ができる。光接続損失を低減するため、光導波路50と膜厚(あるいは光ファイバ直径)をあわせる事が望ましい。また光導波路の膜厚と光ファイバの膜厚を一致させることにより、図1に示したように絶縁樹脂層の下面と、光導波路及び光ファイバの下面が同一平面で平坦となることから光基板下面に高精度にコネクタを設置することができる。具体的には、LGA、PGA、小型電気コネクタ等を設置することができる。   As the optical fiber 55, a general optical fiber can be used. Specifically, a quartz optical fiber, a polymer optical fiber, or the like can be used. In order to reduce the optical connection loss, it is desirable to match the optical waveguide 50 and the film thickness (or optical fiber diameter). Further, by matching the film thickness of the optical waveguide with the film thickness of the optical fiber, the lower surface of the insulating resin layer and the lower surface of the optical waveguide and the optical fiber become flat on the same plane as shown in FIG. The connector can be installed on the lower surface with high accuracy. Specifically, an LGA, a PGA, a small electrical connector, or the like can be installed.

受発光素子60には、単チャンネルもしくは複数チャンネルの光素子を用いる事ができる。具体的には、端面発光型LD、面発光型LD、面受光型PDなどを使用する事ができる。受発光素子60の実装は、図1に示したような半田バンプ90によるフリップチップ実装以外にも、ワイヤボンディングなどの方法を取る事ができる。   As the light emitting / receiving element 60, a single channel or a plurality of channels of optical elements can be used. Specifically, an edge-emitting LD, a surface-emitting LD, a surface-receiving PD, or the like can be used. The light receiving and emitting element 60 can be mounted by wire bonding or the like other than the flip chip mounting by the solder bump 90 as shown in FIG.

また必要に応じて、配線パターン21上に、受発光素子60のコントロールチップ40を実装することができる。コントロールチップ40の実装は、ワイヤボンディング、フリップチップ実装などの方法を取る事ができる。   Moreover, the control chip 40 of the light emitting / receiving element 60 can be mounted on the wiring pattern 21 as necessary. The control chip 40 can be mounted by wire bonding or flip chip mounting.

また必要に応じて光路変換品と光導波路50の光入出力面界面や、光導波路50と光ファイバ55の間隙に透明樹脂80を充填する事ができる。透明樹脂80には一般に用いられている高分子材料を用いる事ができる。具体的には、カーボネート材料、エポキシ材料、アクリル材料、イミド材料、ウレタン材料、シリコーン材料、無機フィラー混入有機材料などが使用できるが、これに限定されるものではない。また、界面の屈折率差を無くすため、光導波路50と同等の屈折率を持った光学樹脂を用いる事が望ましい。透明樹脂80を充填する事により、受発光素子と光導波路の接続部分での光学損失を低減しつつ、接続部分の強度を向上させて環境信頼性の高い光基板とすることができる。   Further, the transparent resin 80 can be filled in the light input / output surface interface between the optical path conversion product and the optical waveguide 50 and the gap between the optical waveguide 50 and the optical fiber 55 as necessary. As the transparent resin 80, a generally used polymer material can be used. Specifically, a carbonate material, an epoxy material, an acrylic material, an imide material, a urethane material, a silicone material, an organic material mixed with an inorganic filler, and the like can be used. However, the material is not limited thereto. It is desirable to use an optical resin having a refractive index equivalent to that of the optical waveguide 50 in order to eliminate the difference in refractive index at the interface. By filling the transparent resin 80, the optical loss at the connection portion between the light receiving and emitting element and the optical waveguide can be reduced, and the strength of the connection portion can be improved to obtain an optical substrate with high environmental reliability.

さらに基板上の任意の部分をモールド樹脂70によりモールドすることで、基板及び実装部品の環境信頼性を高める事ができる。この場合、受発光素子60と光信号路変換部品45bとの界面にモールド樹脂が入る事を防ぐため、あらかじめ前記透明樹脂80を充填することが望ましい。   Furthermore, by molding an arbitrary part on the substrate with the mold resin 70, the environmental reliability of the substrate and the mounted component can be improved. In this case, in order to prevent mold resin from entering the interface between the light emitting / receiving element 60 and the optical signal path conversion component 45b, it is desirable to fill the transparent resin 80 in advance.

本発明の光基板は、多量の情報入出力を伴う電子機器、あるいは光部品に有効である。光基板を搭載した電子機器の具体例としては、ノートパソコンや業務用大型コンピュータを含む様々な電子計算機、家庭用ゲーム機、録画再生機、テレビ、あるいは、ルータなどの大きな情報の入出力を伴う情報・通信機器に用いることで、ノイズの影響を受けずに効率的に信号の送受信が可能となるために有効である。また、光基板1を搭載する光部品の具体例としては、光インターコネクション(光電気配線板)、光コネクタ、光カプラ、光結合器、光スイッチ、光スプリッタ、あるいは、光送受信機などの、光部品にも搭載することで、同様の効果を期待することができる。   The optical substrate of the present invention is effective for electronic devices or optical components that involve a large amount of information input / output. Specific examples of electronic devices equipped with optical substrates include input and output of large information such as various electronic computers including notebook computers and large commercial computers, home game machines, recording / playback machines, televisions, and routers. Use in information / communication equipment is effective because it enables efficient signal transmission and reception without being affected by noise. In addition, specific examples of the optical component on which the optical substrate 1 is mounted include an optical interconnection (photoelectric wiring board), an optical connector, an optical coupler, an optical coupler, an optical switch, an optical splitter, or an optical transceiver, The same effect can be expected by mounting on optical components.

<光基板の製造方法>
次に、本発明の光基板の製造方法について説明する。以下の説明では、特に絶縁樹脂層に感光性樹脂を用いた場合について説明する。
<Optical substrate manufacturing method>
Next, the manufacturing method of the optical board | substrate of this invention is demonstrated. In the following description, a case where a photosensitive resin is used for the insulating resin layer will be described.

まず配線パターンを形成する金属層20と、絶縁樹脂層10を張り合わせたフィルムを用いて、絶縁樹脂フィルムの絶縁樹脂層をパターニングし、光配線設置部、一体成型部品設置部、バイアホール領域の絶縁樹脂層を除去する。上記配線パターンを形成する金属層としては、例えば銅箔を用いることができる。絶縁樹脂層に用いる感光性樹脂としては、感光性ポリイミド樹脂、感光性アクリル樹脂、感光性エポキシ樹脂、またこれらを重合させた感光性エポキシアクリレート樹脂などを用いることができる。フォトリソグラフィー工程として、図3のような感光性樹脂のパターンに対応するマスクを用いて露光し、現像を行って絶縁樹脂層を形成する(図4(b))。   First, the insulating resin layer of the insulating resin film is patterned using the metal layer 20 that forms the wiring pattern and the film in which the insulating resin layer 10 is laminated, and the optical wiring installation part, the integrally molded part installation part, the insulation of the via hole region Remove the resin layer. As the metal layer for forming the wiring pattern, for example, a copper foil can be used. As the photosensitive resin used for the insulating resin layer, a photosensitive polyimide resin, a photosensitive acrylic resin, a photosensitive epoxy resin, a photosensitive epoxy acrylate resin obtained by polymerizing these, or the like can be used. As a photolithography process, exposure is performed using a mask corresponding to the pattern of the photosensitive resin as shown in FIG. 3, and development is performed to form an insulating resin layer (FIG. 4B).

このとき絶縁樹脂層10の厚さは、光導波路50の厚さより薄くし、絶縁樹脂10、金属層20、実装用半田バンプ90の各膜厚の合計が、光導波路50の厚さと同じとする事が望ましい。これにより受発光素子と光導波路との高さが合致し、互いが直接接合する事ができる。   At this time, the thickness of the insulating resin layer 10 is made thinner than the thickness of the optical waveguide 50, and the total thickness of the insulating resin 10, the metal layer 20, and the mounting solder bump 90 is the same as the thickness of the optical waveguide 50. Things are desirable. As a result, the heights of the light emitting / receiving element and the optical waveguide are matched to each other and can be directly joined to each other.

次に絶縁樹脂面をキャリアフィルム30上に張り合わせる(図4(c))。張り合わせには一般的なラミネート方法を用いることができる。キャリアフィルム30には、一般に用いられている高分子材料を用いることができる。具体的には、カーボネート材料、エポキシ材料、アクリル材料、イミド材料、ウレタン材料、シリコーン材料、無機フィラー混入有機材料などが使用できるが、これに限定されるものではない。また、キャリアフィルム30上に紫外線剥離型の粘着層を設けることもできる。   Next, the insulating resin surface is laminated on the carrier film 30 (FIG. 4C). A general laminating method can be used for bonding. For the carrier film 30, a commonly used polymer material can be used. Specifically, a carbonate material, an epoxy material, an acrylic material, an imide material, a urethane material, a silicone material, an organic material mixed with an inorganic filler, and the like can be used. However, the material is not limited thereto. Further, an ultraviolet peelable adhesive layer can be provided on the carrier film 30.

キャリアフィルム上で各プロセスを行う事で、光基板下面を平坦とすることができる。これにより、光基板下面に高精度にコネクタを設置することができる。具体的には、LGA、PGA、小型電気コネクタ等を設置することができる。また、キャリアフィルムにより絶縁樹脂層が保持固定されるため、絶縁樹脂層の膜厚が薄い場合でも安定して光基板を実装することができる。   By performing each process on the carrier film, the lower surface of the optical substrate can be made flat. Thereby, a connector can be installed with high accuracy on the lower surface of the optical substrate. Specifically, an LGA, a PGA, a small electrical connector, or the like can be installed. Further, since the insulating resin layer is held and fixed by the carrier film, the optical substrate can be stably mounted even when the insulating resin layer is thin.

次に銅箔20をパターニングし、配線パターンや実装用パットを形成する(図4(d))。銅箔のパターニング方法としては、公知の金属加工方法を用いることが可能である。具体的には、配線パターン、実装用パットに合わせてレジストパターンを形成し、エッチングにより配線パターンを形成する。また必要に応じてNi,Auメッキやソルダーレジスト印刷を行っても良い。   Next, the copper foil 20 is patterned to form a wiring pattern and a mounting pad (FIG. 4D). As a method for patterning the copper foil, a known metal processing method can be used. Specifically, a resist pattern is formed according to the wiring pattern and the mounting pad, and the wiring pattern is formed by etching. Further, if necessary, Ni, Au plating or solder resist printing may be performed.

また前述のように、必要に応じて受発光素子のコントロールチップを実装しても良い(図5(e))。この場合はパターニングされた銅箔21上に、受発光素子60のコントロールチップ40を実装することができる。コントロールチップ40の実装は、ワイヤボンディング、フリップチップ実装などの方法を取る事ができる。   Further, as described above, a control chip for the light emitting / receiving element may be mounted as necessary (FIG. 5E). In this case, the control chip 40 of the light emitting / receiving element 60 can be mounted on the patterned copper foil 21. The control chip 40 can be mounted by wire bonding or flip chip mounting.

次に、一体成型部品45を実装する(図5(f))。一体成型部品配置領域の絶縁樹脂層11が図4(b)の工程でパターニング除去されているため、除去領域に合わせて容易に精確な位置あわせをすることが可能である。   Next, the integrally molded component 45 is mounted (FIG. 5F). Since the insulating resin layer 11 in the integrally molded component arrangement region is removed by patterning in the step of FIG. 4B, it is possible to easily and accurately align the region in accordance with the removal region.

次に、一体成型部品45の受発光素子位置決め枠45bに合わせて受発光素子60を実装する(図5(g))。受発光素子と配線パターンとの実装は、図に示したような半田バンプ90によるフリップチップ実装以外にも、ワイヤボンディングなどの方法を取る事ができる。   Next, the light emitting / receiving element 60 is mounted in alignment with the light emitting / receiving element positioning frame 45b of the integrally molded component 45 (FIG. 5G). For the mounting of the light emitting / receiving element and the wiring pattern, a method such as wire bonding can be used in addition to the flip chip mounting by the solder bump 90 as shown in the figure.

次に、絶縁樹脂層を除去した光配線設置部分に、光導波路及び光ファイバを実装する(図4(h))。このとき一体成型部品同様、絶縁樹脂層11が図4(b)の工程でパターニング除去されているため、各光配線の除去領域に合わせて容易に精確な位置あわせをすることが可能である。また、光導波路の高さと光ファイバの高さが一致していれば、両コア領域の中心位置を合わせることができるため、光学的な接続が容易にできる。なお、光配線及び受発光素子の実装工程の順序は特に限定されず、各光配線の実装を受発光素子の実装の前に行っても良い。   Next, an optical waveguide and an optical fiber are mounted on the optical wiring installation portion from which the insulating resin layer has been removed (FIG. 4 (h)). At this time, since the insulating resin layer 11 is removed by patterning in the process of FIG. 4B as in the case of the integrally molded component, it is possible to easily and accurately align the area in accordance with the removal region of each optical wiring. Further, if the height of the optical waveguide and the height of the optical fiber match, the center positions of both core regions can be matched, so that optical connection can be facilitated. The order of the mounting process of the optical wiring and the light receiving / emitting element is not particularly limited, and each optical wiring may be mounted before mounting the light receiving / emitting element.

次に基板全体もしくは任意の箇所をモールド樹脂でモールドすることができる(図5(i))。前述のように、光配線及び受発光素子をモールド樹脂で覆うことにより、光基板の環境信頼性を向上させることができる。この場合にはモールド樹脂により最後にキャリアフィルムを剥離して、本発明の光基板101とすることができる(図5(j))。なお、キャリアフィルム30に紫外線剥離型の粘着層を設けた場合には、紫外線照射によりキャリアフィルムを剥離することができる。   Next, the entire substrate or an arbitrary portion can be molded with a molding resin (FIG. 5 (i)). As described above, the environmental reliability of the optical substrate can be improved by covering the optical wiring and the light emitting / receiving element with the mold resin. In this case, the carrier film can be finally peeled off with the mold resin to obtain the optical substrate 101 of the present invention (FIG. 5 (j)). In addition, when the ultraviolet peeling type adhesion layer is provided in the carrier film 30, the carrier film can be peeled by ultraviolet irradiation.

以上のように、キャリアフィルム上で各光基板の製造プロセスを行うことで、光基板下面を平坦とすることができる。これにより光基板下面へのバンプ実装や高精度にコネクタ等を実装することが可能となり、光基板の電気的接続方法の選択枝が増える効果がある。具体的には、LGA、PGA、小型電気コネクタ等を設置することができる。また、光配線及び光信号路変換部品が、絶縁樹脂層の除去領域に一致させて配置して行われ、さらには光信号路変換部分と受発光素子が一体成型部品により位置決めされることから、精度良く実装することができる。   As described above, the bottom surface of the optical substrate can be flattened by performing the manufacturing process of each optical substrate on the carrier film. This makes it possible to mount bumps on the lower surface of the optical substrate and to mount connectors and the like with high accuracy, and has the effect of increasing the number of choices for the electrical connection method of the optical substrate. Specifically, an LGA, a PGA, a small electrical connector, or the like can be installed. In addition, since the optical wiring and the optical signal path conversion component are arranged so as to coincide with the removal region of the insulating resin layer, and the optical signal path conversion portion and the light receiving and emitting element are positioned by the integrally molded component, Can be mounted with high accuracy.

また図5(h)〜(j)の代わりに、ダミーフィルムを用いて本発明の光基板を作製することができる。この場合には、受発光素子を実装した後(図6(g))、光導波路及び光ファイバの配置位置に、光導波路及び光ファイバとそれぞれ同じ高さのダミーフィルム53及びダミーフィルム58を配置する(図6(h))。各ダミーフィルムは別個のものでも一体となったものでも良い。また、受発光素子の実装前にダミーフィルムを配置しても良い。ダミーフィルム53及び58には、高分子フィルムを使用することができる。具体的には、カーボネート材料、エポキシ材料、アクリル材料、イミド材料、ウレタン材料、シリコーン材料、無機フィラー混入有機材料などが使用できるが、これに限定されるものではない。ダミーフィルムには、モールド時の加熱工程を通すため、同加熱工程に耐えうるフィルムを用いることが望ましい。またダミーフィルム上下面に耐熱粘着層を設けることで、モールド樹脂のしみ込みを防ぐこともできる。   Moreover, the optical board | substrate of this invention can be produced using a dummy film instead of FIG.5 (h)-(j). In this case, after mounting the light emitting / receiving element (FIG. 6G), the dummy film 53 and the dummy film 58 having the same height as the optical waveguide and the optical fiber are arranged at the arrangement positions of the optical waveguide and the optical fiber, respectively. (FIG. 6 (h)). Each dummy film may be separate or integrated. Further, a dummy film may be disposed before mounting the light emitting / receiving element. As the dummy films 53 and 58, polymer films can be used. Specifically, a carbonate material, an epoxy material, an acrylic material, an imide material, a urethane material, a silicone material, an organic material mixed with an inorganic filler, and the like can be used. However, the material is not limited thereto. Since the heating process at the time of molding is passed through the dummy film, it is desirable to use a film that can withstand the heating process. Further, by providing a heat-resistant adhesive layer on the upper and lower surfaces of the dummy film, it is possible to prevent penetration of the mold resin.

次に、光基板をモールド樹脂でモールドする前に、図6(i)のように受発光素子60の受発光面と光信号路変換部品45bの界面に透明樹脂を充填することが好ましい。前述のように、モールド樹脂が受発光素子と光導波路の間に入り込むことを防ぎ、受発光素子と光導波路の接続部分での光学損失を低減することができるからである。同様に、光信号路変換部品と光導波路配置箇所に相当するダミーフィルムの界面、光導波路配置箇所に相当するダミーフィルムと、光ファイバ配置箇所に相当するダミーフィルムの界面でも透明樹脂を充填しても良い。   Next, before the optical substrate is molded with a molding resin, it is preferable to fill the interface between the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element 60 and the optical signal path conversion component 45b with a transparent resin as shown in FIG. 6 (i). This is because, as described above, the mold resin can be prevented from entering between the light emitting / receiving element and the optical waveguide, and the optical loss at the connection portion between the light receiving / emitting element and the optical waveguide can be reduced. Similarly, transparent resin is also filled at the interface between the optical signal path conversion component and the dummy film corresponding to the optical waveguide placement location, the dummy film corresponding to the optical waveguide placement location, and the dummy film equivalent to the optical fiber placement location. Also good.

次に基板全体もしくは任意の箇所をモールド樹脂でモールドし(図6(j))、キャリアフィルム及び各ダミーフィルムを剥離する(図6(k))。少なくともダミーフィルムをモールド樹脂で覆うことにより、ダミーフィルムを剥離した箇所が、光配線の配置部分として形成される。キャリアフィルム30に紫外線剥離型の粘着層を設けた場合には、前述のように紫外線照射によりキャリアフィルムを剥離することができる。   Next, the entire substrate or an arbitrary portion is molded with a molding resin (FIG. 6 (j)), and the carrier film and each dummy film are peeled off (FIG. 6 (k)). By covering at least the dummy film with the mold resin, a portion where the dummy film is peeled is formed as an arrangement portion of the optical wiring. When the ultraviolet peelable adhesive layer is provided on the carrier film 30, the carrier film can be peeled off by ultraviolet irradiation as described above.

以上の工程により、光導波路及び光ファイバの光配線以外の部分が実装された電気回路パッケージ100が製造される。電気回路パッケージは、平面視において略四角形に形成することができる。従って、絶縁樹脂基板20として、公知のロールツーロール方式の製造装置等に適用できる材質からなるものを選択すれば、電気回路パッケージの中間体を水平方向に連続して形成して一括に樹脂モールドし、単位パッケージごとに裁断することによって電気回路パッケージを大量に製造することができる。つまり、光導波路及び光ファイバからなる光配線部分を除いた電気回路パッケージを前段階として製造することにより、光基板を生産性良く製造することが可能となる。   Through the above steps, the electric circuit package 100 in which the portions other than the optical waveguide and the optical wiring of the optical fiber are mounted is manufactured. The electric circuit package can be formed in a substantially rectangular shape in plan view. Therefore, if an insulating resin substrate 20 made of a material that can be applied to a known roll-to-roll manufacturing apparatus or the like is selected, an intermediate body of the electric circuit package is continuously formed in the horizontal direction to collectively form a resin mold. In addition, a large number of electric circuit packages can be manufactured by cutting each unit package. That is, it is possible to manufacture an optical substrate with high productivity by manufacturing an electrical circuit package excluding an optical wiring portion made of an optical waveguide and an optical fiber as a previous stage.

最後に、ダミーフィルムを除去した箇所に光導波路及び光ファイバをそれぞれはめ込んで接合することで、本発明の光基板101を製造することができる(図6(l))。本製造方法では、絶縁樹脂層のパターン及びモールド樹脂によって、光導波路及び光ファイバの配置部分が溝状の開口部となっているので、光導波路と受発光素子との接続、光導波路と光ファイバとの接続が容易であり、精度良く実装することができる。また光導波路の実装より前にモールドするために、モールド工程の高温プロセスによる光導波路の破損を防ぐ事ができる。   Finally, the optical substrate 101 of the present invention can be manufactured by fitting and joining the optical waveguide and the optical fiber to the place where the dummy film is removed (FIG. 6 (l)). In this manufacturing method, since the arrangement portion of the optical waveguide and the optical fiber is a groove-shaped opening due to the pattern of the insulating resin layer and the mold resin, the connection between the optical waveguide and the light emitting and receiving element, the optical waveguide and the optical fiber And can be mounted with high accuracy. In addition, since the molding is performed before the optical waveguide is mounted, the optical waveguide can be prevented from being damaged due to a high temperature process in the molding process.

以下に本発明の実施例を説明するが、本発明がそれらに限定解釈されるものではない。また、例えば、光基板の光導波路を1層として説明するが、必ずしも1層である必要はない。また、以下の記載では光導波路をマルチモードとして説明するが、必ずしもマルチモードである必要はない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not construed as being limited thereto. For example, although the optical waveguide of the optical substrate is described as one layer, it is not always necessary to have one layer. In the following description, the optical waveguide is described as multimode, but it is not necessarily required to be multimode.

<実施例1>
まず感光性絶縁材料として、ビスフェノールA型エポキシアクリレート(リポキシVR−90:昭和高分子)52重量部と無水フタル酸15重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶媒中で110℃30分攪拌してアルカリ現像型感光性絶縁樹脂ワニス原料を調製した。更に、前記アルカリ現像型感光性絶縁樹脂ワニス原料を50重量部、脂環式エポキシ類化合物(EHPE3150:ダイセル化学)17重量部、光硬化型エポキシ樹脂(サイクロマーM100:ダイセル化学)30重量部、光開始剤(LucirinTPO:BASF)3重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤を加えて連続式横型サンドミルにて約3時間分散し、アルカリ現像型感光性絶縁樹脂ワニスを調製した。
<Example 1>
First, as a photosensitive insulating material, 52 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate (Lipoxy VR-90: Showa High Polymer) and 15 parts by weight of phthalic anhydride are stirred in a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent at 110 ° C. for 30 minutes for alkali development. Type photosensitive insulating resin varnish raw material was prepared. Furthermore, 50 parts by weight of the alkali-developable photosensitive insulating resin varnish raw material, 17 parts by weight of an alicyclic epoxy compound (EHPE3150: Daicel Chemical), 30 parts by weight of a photocurable epoxy resin (Cyclomer M100: Daicel Chemical), Propylene glycol monomethyl ether acetate solvent was added to 3 parts by weight of a photoinitiator (LucirinTPO: BASF) and dispersed in a continuous horizontal sand mill for about 3 hours to prepare an alkali development type photosensitive insulating resin varnish.

次に銅箔上に前記アルカリ現像型感光性絶縁樹脂ワニスをスリットコーターにて塗布し、70℃20分乾燥して、約50μm厚の半硬化状態の感光性絶縁樹脂層を形成し、片側銅箔付き感光性絶縁樹脂を製造した。   Next, the alkali development type photosensitive insulating resin varnish is applied onto the copper foil with a slit coater and dried at 70 ° C. for 20 minutes to form a semi-cured photosensitive insulating resin layer having a thickness of about 50 μm. A foil-coated photosensitive insulating resin was produced.

次に感光性絶縁樹脂層10にフォトマスクを密着させ、超高圧水銀灯により500mJ/cmで露光、紫外線硬化させた。その後約5%有機アミン系アルカリ水溶液にて現像、水洗し、90℃オーブンで十分乾燥させることで、パターニングされた絶縁樹脂層11を得た。 Next, a photomask was brought into close contact with the photosensitive insulating resin layer 10, exposed to 500 mJ / cm 2 with an ultra-high pressure mercury lamp, and cured with ultraviolet rays. Thereafter, development with about 5% organic amine-based alkaline aqueous solution, washing with water, and sufficient drying in a 90 ° C. oven were performed to obtain a patterned insulating resin layer 11.

次に、絶縁樹脂層11をキャリアフィルム30(PET:東洋インキ製)にラミネートした。   Next, the insulating resin layer 11 was laminated on the carrier film 30 (PET: manufactured by Toyo Ink).

次に、銅箔20上にエッチングレジストパターン25を形成し、銅箔をエッチングすることで、パターニングされた銅箔(配線パターン21)を得た。   Next, an etching resist pattern 25 was formed on the copper foil 20, and the copper foil was etched to obtain a patterned copper foil (wiring pattern 21).

次に、配線パターン21上にコントロールチップ40(VCSELドライバーチップ:HELIX AG製)を実装し、ワイヤボンディングにより電気接続を行った。   Next, a control chip 40 (VCSEL driver chip: manufactured by HELIX AG) was mounted on the wiring pattern 21, and electrical connection was performed by wire bonding.

次に、パターニングにより絶縁樹脂が除去されたキャリアフィルム上に一体成型部品45(ステンレス製、切削加工品)を設置した。設置位置合わせは、絶縁樹脂層11の外形を利用した突き当て位置合わせを行った。   Next, an integrally molded part 45 (stainless steel, cut product) was placed on the carrier film from which the insulating resin was removed by patterning. The installation position alignment performed abutment alignment using the outer shape of the insulating resin layer 11.

次に、パターニングにより絶縁樹脂が除去されたキャリアフィルム上に光導波路フィルム51(マルチモードエポキシ系光導波路フィルム:NTT−AT製)を設置した。設置位置合わせは、絶縁樹脂層11の外形を利用した突き当て位置合わせを行った。   Next, an optical waveguide film 51 (multimode epoxy optical waveguide film: manufactured by NTT-AT) was placed on the carrier film from which the insulating resin was removed by patterning. The installation position alignment performed abutment alignment using the outer shape of the insulating resin layer 11.

次に、パターニングにより絶縁樹脂が除去されたキャリアフィルム上に光ファイバ56(マルチモード石英系裸芯光ファイバ:フジクラ製)を設置した。   Next, an optical fiber 56 (multimode quartz-based bare core optical fiber: manufactured by Fujikura) was placed on the carrier film from which the insulating resin was removed by patterning.

次に、銅箔21上及び、光信号路変換部品及び一体成形された受発光素子位置合わせ枠45上に発光素子61(4ch VCSEL:ULM製)を実装した。また、光素子61と銅箔21の接続にはマイクロ半田バンプ90を使用した。   Next, the light emitting element 61 (4ch VCSEL: made by ULM) was mounted on the copper foil 21 and the optical signal path conversion component and the integrally formed light receiving and emitting element alignment frame 45. Further, a micro solder bump 90 was used for connection between the optical element 61 and the copper foil 21.

次に、キャリアフィルム30を剥離することで、光基板100を作製した。   Next, the optical film 100 was produced by peeling the carrier film 30.

作製した光基板を光学特性評価した結果、各チャンネルで0.9〜1.1mWの安定した光出力を確認した。   As a result of evaluating the optical characteristics of the produced optical substrate, a stable light output of 0.9 to 1.1 mW was confirmed in each channel.

<実施例2>
まず実施例1と同様に、アルカリ現像型感光性絶縁樹脂ワニスを調製した後、該ワニスを用いて片側銅箔付き感光性絶縁樹脂を製造した。
<Example 2>
First, in the same manner as in Example 1, after preparing an alkali development type photosensitive insulating resin varnish, a photosensitive insulating resin with a copper foil on one side was produced using the varnish.

次に、感光性絶縁樹脂層10にフォトマスクを密着させ、超高圧水銀灯により500mJ/cmで露光、紫外線硬化させた。その後約5%有機アミン系アルカリ水溶液にて現像、水洗し、90℃オーブンで十分乾燥させることで、パターニングされた絶縁樹脂層11を得た。 Next, a photomask was brought into close contact with the photosensitive insulating resin layer 10, exposed to 500 mJ / cm 2 with an ultra-high pressure mercury lamp, and cured with ultraviolet rays. Thereafter, development with about 5% organic amine-based alkaline aqueous solution, washing with water, and sufficient drying in a 90 ° C. oven were performed to obtain a patterned insulating resin layer 11.

次に、絶縁樹脂層11をキャリアフィルム30(PET:東洋インキ製)にラミネートした。   Next, the insulating resin layer 11 was laminated on the carrier film 30 (PET: manufactured by Toyo Ink).

次に、銅箔20上にエッチングレジストパターン25を形成し、銅箔をエッチングすることで、パターニングされた銅箔21を得た。   Next, a patterned copper foil 21 was obtained by forming an etching resist pattern 25 on the copper foil 20 and etching the copper foil.

次に、銅箔21上にコントロールチップ40(VCSELドライバーチップ:HELIX AG製)を実装し、ワイヤボンディングにより電気接続を行った。   Next, a control chip 40 (VCSEL driver chip: manufactured by HELIX AG) was mounted on the copper foil 21, and electrical connection was performed by wire bonding.

次に、パターニングにより絶縁樹脂が除去されたキャリアフィルム上に光信号路変換部品及び一体成形された受発光素子位置合わせ枠45(ステンレス製、切削加工品)を設置した。設置位置合わせは、絶縁樹脂層11の外形を利用した突き当て位置合わせを行った。   Next, an optical signal path conversion component and an integrally formed light receiving / emitting element alignment frame 45 (stainless steel, cut product) were placed on the carrier film from which the insulating resin was removed by patterning. The installation position alignment performed abutment alignment using the outer shape of the insulating resin layer 11.

次に、パターニングにより絶縁樹脂が除去されたキャリアフィルム上に光導波路ダミーフィルム53(ポリイミドフィルム:デュポン製)を設置した。設置位置合わせは、絶縁樹脂層11の外形を利用した突き当て位置合わせを行った。   Next, an optical waveguide dummy film 53 (polyimide film: manufactured by DuPont) was placed on the carrier film from which the insulating resin was removed by patterning. The installation position alignment performed abutment alignment using the outer shape of the insulating resin layer 11.

次に、パターニングにより絶縁樹脂が除去されたキャリアフィルム上に光ファイバダミーフィルム58(ポリイミドフィルム:デュポン製)を設置した。設置位置合わせは、絶縁樹脂層11の外形を利用した突き当て位置合わせを行った。   Next, an optical fiber dummy film 58 (polyimide film: DuPont) was placed on the carrier film from which the insulating resin was removed by patterning. The installation position alignment performed abutment alignment using the outer shape of the insulating resin layer 11.

次に、銅箔21上及び、光信号路変換部品及び一体成形された受発光素子位置合わせ枠45上に発光素子61(4ch VCSEL:ULM製)を実装した)。また、光素子61と銅箔21の接続にはマイクロ半田バンプ90を使用した。   Next, the light emitting element 61 (4ch VCSEL: manufactured by ULM) was mounted on the copper foil 21 and the optical signal path conversion component and the integrally formed light receiving and emitting element alignment frame 45). Further, a micro solder bump 90 was used for connection between the optical element 61 and the copper foil 21.

次に、光導波路ダミーフィルム53と発光素子61の界面及び光導波路ダミーフィルム53と光ファイバダミーフィルム58の界面に、屈折率整合材料81(エポキシ系接着剤:NTT−AT製)を注入し、屈折率整合材料81周辺を500mJ/cmの紫外線露光により硬化した。 Next, a refractive index matching material 81 (epoxy adhesive: manufactured by NTT-AT) is injected into the interface between the optical waveguide dummy film 53 and the light emitting element 61 and the interface between the optical waveguide dummy film 53 and the optical fiber dummy film 58. The periphery of the refractive index matching material 81 was cured by exposure to ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 .

次に、全体をモールド樹脂70によりモールドした。   Next, the whole was molded with a mold resin 70.

次に、キャリアフィルム30及び光導波路ダミーフィルム53及び光ファイバダミーフィルム58を剥離した。   Next, the carrier film 30, the optical waveguide dummy film 53, and the optical fiber dummy film 58 were peeled off.

次に、光導波路ダミーフィルムを剥離した場所に、光導波路フィルム52(マルチモードエポキシ系光導波路フィルム:NTT−AT製)を設置した。設置位置合わせは、絶縁樹脂層11の外形を利用した突き当て位置合わせを行った。   Next, an optical waveguide film 52 (multimode epoxy-based optical waveguide film: manufactured by NTT-AT) was installed at the place where the optical waveguide dummy film was peeled off. The installation position alignment performed abutment alignment using the outer shape of the insulating resin layer 11.

次に、光ファイバダミーフィルムを剥離した場所に、光ファイバ57(マルチモード石英系裸芯光ファイバ:フジクラ製)を設置した。設置位置合わせは、絶縁樹脂層11の外形を利用した突き当て位置合わせを行った。以上の工程により、光基板100を作製した。   Next, an optical fiber 57 (multimode quartz-based bare core optical fiber: manufactured by Fujikura) was installed at the place where the optical fiber dummy film was peeled off. The installation position alignment performed abutment alignment using the outer shape of the insulating resin layer 11. The optical substrate 100 was produced through the above steps.

作製した光基板を光学特性評価した結果、各チャンネルで0.9〜1.1mWの安定した光出力を確認した。   As a result of evaluating the optical characteristics of the produced optical substrate, a stable light output of 0.9 to 1.1 mW was confirmed in each channel.

本発明の光基板の説明図である((A):平面図、(B):断面図)。It is explanatory drawing of the optical board | substrate of this invention ((A): Top view, (B): Sectional drawing). 本発明の光基板に係る一体成型部品の説明図である((A):平面図、(B):断面図)。It is explanatory drawing of the integrally molded component which concerns on the optical board | substrate of this invention ((A): Top view, (B): Sectional drawing). 本発明の光基板に係るパターニングされた絶縁樹脂層の説明図である。It is explanatory drawing of the patterned insulating resin layer which concerns on the optical board | substrate of this invention. 本発明の光基板の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the optical board | substrate of this invention. 本発明の光基板の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the optical board | substrate of this invention. 本発明の光基板の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the optical board | substrate of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 絶縁樹脂層
11 パターニングされた絶縁樹脂層
20 金属層
21 配線パターン
30 キャリアフィルム
40 コントロールチップ
45 一体成形部品
45a 受発光素子位置決め枠
45b 光信号路変換部品
50 光導波路
51 光導波路フィルム
52 光導波路フィルム
53 光導波路ダミーフィルム
55 光ファイバ
56 光ファイバ
57 光ファイバ
58 光ファイバダミーフィルム
60 受発光素子
61 光学素子(VCSEL)
70 モールド樹脂
80 透明樹脂
90 半田バンプ
100 電気回路パッケージ
101 光基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Insulating resin layer 11 Patterned insulating resin layer 20 Metal layer 21 Wiring pattern 30 Carrier film 40 Control chip 45 Integrated molding component 45a Light emitting / receiving element positioning frame 45b Optical signal path conversion component 50 Optical waveguide 51 Optical waveguide film 52 Optical waveguide film 53 Optical waveguide dummy film 55 Optical fiber 56 Optical fiber 57 Optical fiber 58 Optical fiber dummy film 60 Light emitting / receiving element 61 Optical element (VCSEL)
70 Mold resin 80 Transparent resin 90 Solder bump 100 Electric circuit package 101 Optical substrate

Claims (4)

金属層上の絶縁樹脂層をパターニングして、除去領域を設ける絶縁樹脂層形成工程と、
キャリアフィルム上に、絶縁樹脂層面を該キャリアフィルムに対向させて貼り合せる絶縁樹脂基板設置工程と、
前記金属層をパターニングし、配線パターンを形成する電気配線形成工程と、
前記除去領域に光信号路変換部品及び受発光素子の位置決め枠からなる一体成型部品を配置する工程と、
前記位置決め枠に受発光素子配置して実装するとともに、光配線を前記除去領域に配置し前記光信号路変換部品に接続して実装する実装工程と、
前記キャリアフィルムを除去するキャリアフィルム除去工程と、
を備える事を特徴とする光基板の製造方法。
An insulating resin layer forming step of patterning the insulating resin layer on the metal layer to provide a removal region;
On the carrier film, an insulating resin substrate installation step in which the insulating resin layer surface is bonded to face the carrier film; and
Patterning the metal layer and forming a wiring pattern;
A step of arranging an integrally molded component comprising an optical signal path conversion component and a positioning frame of the light emitting and receiving element in the removal region;
A mounting step for mounting the light receiving / emitting element on the positioning frame and mounting the optical wiring in the removal region and connecting to the optical signal path conversion component, and mounting.
A carrier film removing step for removing the carrier film;
A method for producing an optical substrate, comprising:
絶縁樹脂層の一部もしくは全体をモールド樹脂で覆うモールド樹脂形成工程を供えることを特徴とする請求項に記載の光基板の製造方法。 The method for producing an optical substrate according to claim 1 , further comprising a molding resin forming step of covering a part or the whole of the insulating resin layer with a molding resin. 金属層上の絶縁樹脂層をパターニングして、除去領域を設ける絶縁樹脂層形成工程と、
キャリアフィルム上に、絶縁樹脂層面を該キャリアフィルムに対向させて貼り合せる絶縁樹脂基板設置工程と、
前記金属層をパターニングし、配線パターンを形成する電気配線形成工程と、
前記除去領域に光信号路変換部品及び受発光素子の位置決め枠からなる一体成型部品を配置する工程と、
前記位置決め枠に受発光素子配置して実装するとともに、光配線のダミーフィルムを前記除去領域に前記光信号路変換部品に突き合わせて配置する工程と、
前記キャリアフィルム上の少なくとも前記ダミーフィルムをモールド樹脂で覆うモールド樹脂形成工程と、
前記キャリアフィルム及び前記ダミーフィルムを除去するフィルム除去工程と、
前記ダミーフィルムが配置されていた部位に光配線を配置する光配線配置工程と、
備える光基板の製造方法。
An insulating resin layer forming step of patterning the insulating resin layer on the metal layer to provide a removal region;
On the carrier film, an insulating resin substrate installation step in which the insulating resin layer surface is bonded to face the carrier film; and
Patterning the metal layer and forming a wiring pattern;
A step of arranging an integrally molded component comprising an optical signal path conversion component and a positioning frame of the light emitting and receiving element in the removal region;
A step of arranging and mounting the light emitting / receiving element on the positioning frame, and placing a dummy film of an optical wiring in contact with the optical signal path conversion component in the removal region;
A mold resin forming step of covering at least the dummy film on the carrier film with a mold resin;
A film removal step of removing the carrier film and the dummy film;
An optical wiring arrangement step of arranging an optical wiring in a portion where the dummy film has been arranged;
A method for manufacturing an optical substrate.
前記絶縁樹脂層形成工程において、前記絶縁樹脂層は感光性樹脂からなり、該感光性樹脂をフォトリソグラフィーによりパターニングして前記除去領域を形成することを特徴とする請求項乃至に記載の光基板の製造方法。 Wherein the insulating resin layer forming step, the insulating resin layer is made of photosensitive resin, light as claimed in claim 1, wherein the forming the removal area of the photosensitive resin is patterned by photolithography A method for manufacturing a substrate.
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