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JP4826253B2 - Method for manufacturing ceramic multilayer substrate and ceramic multilayer substrate - Google Patents

Method for manufacturing ceramic multilayer substrate and ceramic multilayer substrate Download PDF

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JP4826253B2 JP2005380695A JP2005380695A JP4826253B2 JP 4826253 B2 JP4826253 B2 JP 4826253B2 JP 2005380695 A JP2005380695 A JP 2005380695A JP 2005380695 A JP2005380695 A JP 2005380695A JP 4826253 B2 JP4826253 B2 JP 4826253B2
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Description

本願発明は、セラミック多層基板の製造方法およびセラミック多層基板に関し、詳しくは、セラミック層間を導通させるためのビアホール導体を備えたセラミック多層基板の製造方法およびセラミック多層基板に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate and a ceramic multilayer substrate, and more particularly to a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate having via-hole conductors for conducting ceramic layers and a ceramic multilayer substrate.

近年、移動体通信端末機器などの電子装置においては、その小型化、高機能化が求められており、半導体デバイスを始めとする各種の実装部品などを搭載する回路基板についても小型化および高信頼化が望まれている。このような要望に応えるため、複数のセラミック層を積層することにより形成され、内部に必要な回路を構成する導体パターンが配設され、かつ、表面に各種の実装部品を実装することが可能で、高密度配線化、薄層化、高周波化などに対応することが可能なセラミック多層基板が広く用いられるに至っている。   In recent years, electronic devices such as mobile communication terminal devices have been required to be downsized and highly functional, and circuit boards on which various mounting components such as semiconductor devices are mounted are also downsized and highly reliable. Is desired. In order to meet such demands, it is formed by laminating a plurality of ceramic layers, inside which a conductor pattern that constitutes a necessary circuit is disposed, and various mounting parts can be mounted on the surface. Ceramic multilayer substrates that can cope with high-density wiring, thin layers, high frequencies, and the like have been widely used.

一般に、セラミック多層基板は、以下に説明するような工程、すなわち、
(1)セラミックグリーンシート用スラリーを塗工して、セラミックグリーンシートを形成する工程、
(2)セラミックグリーンシートに、ビアホール導体形成用の貫通孔を形成する工程、
(3)ビアホール導体形成用の貫通孔に導電性ペーストを充填してビアホール導体を形成する工程、
(4)セラミックグリーンシートの表面に導電性ペーストを印刷して面内導体用導体パターンを形成する工程、
(5)セラミックグリーンシートを順次、積層することにより、未焼成のセラミック積層体を形成する工程、
(6)未焼成のセラミック積層体を焼成する工程
などを経て製造されている。
In general, the ceramic multilayer substrate is processed as described below:
(1) A step of applying a ceramic green sheet slurry to form a ceramic green sheet;
(2) forming a through hole for forming a via-hole conductor in the ceramic green sheet;
(3) forming a via-hole conductor by filling a through-hole for forming a via-hole conductor with a conductive paste;
(4) forming a conductive pattern for in-plane conductors by printing a conductive paste on the surface of the ceramic green sheet;
(5) forming a green ceramic laminate by sequentially laminating ceramic green sheets;
(6) Manufactured through a step of firing an unfired ceramic laminate.

ところで、セラミックグリーンシートに形成したビアホール導体形成用の貫通孔に導電性ペーストを充填する場合、通常は、例えば、図15(a)に示すように、台Pの上に載置したセラミックグリーンシート51の貫通孔52にメタルマスク(あるいはスクリーンマスク)64などを介して導電性ペースト53を充填してビアホール導体54を形成した後、図15(b)に示すように、メタルマスク64及びセラミックグリーンシート51を台P上から持ち上げて、ビアホール導体54が形成されたセラミックグリーンシート51を取り出すようにしているが、このときにビアホール導体54がセラミックグリーンシート51の貫通孔52から脱落する場合がある。特に、セラミックグリーンシート51の厚みTが薄く、貫通孔52の径Dが大きくなるほど、すなわち、D/Tの値が大きくなるほど、ビアホール導体54の脱落が生じやすくなる。   By the way, when a conductive paste is filled in the through hole for forming a via-hole conductor formed in the ceramic green sheet, the ceramic green sheet placed on the table P is usually used as shown in FIG. After the via hole conductor 54 is formed by filling the through hole 52 of 51 with a conductive paste 53 through a metal mask (or screen mask) 64 or the like, as shown in FIG. The sheet 51 is lifted from the base P to take out the ceramic green sheet 51 on which the via-hole conductor 54 is formed. At this time, the via-hole conductor 54 may drop from the through hole 52 of the ceramic green sheet 51 in some cases. . In particular, as the thickness T of the ceramic green sheet 51 is thinner and the diameter D of the through hole 52 is larger, that is, as the value of D / T is larger, the via-hole conductor 54 is more likely to drop off.

さらに、近年、製品の小型、薄型化、実装強度の向上、搭載部品の大型化などに伴って、搭載ランドとしてビアホール導体が用いられることが多くなっており、このような目的で用いられるビアホール導体の場合、その目的から大きな寸法のものを形成することが必要になる場合が多く、また、薄型化も要求されることから、ビアホール導体の脱落の問題はさらに深刻なものとなっている。   Furthermore, in recent years, via hole conductors are often used as mounting lands as products become smaller and thinner, mounting strength is improved, and mounting parts are enlarged. In this case, since it is often necessary to form a large size for the purpose, and a reduction in thickness is also required, the problem of the via-hole conductor falling off becomes more serious.

なお、必要な箇所にビアホール導体が十分に充填されていないセラミックグリーンシート、すなわちビアホール導体の欠落したセラミックグリーンシートを用いてセラミック多層基板を製造した場合、所望の配線パターンを得ることができず、所望の特性を備えたセラミック多層基板を得ることができなくなるという問題点がある。   In addition, when a ceramic multilayer substrate is manufactured using a ceramic green sheet that is not sufficiently filled with a via-hole conductor at a required location, that is, a ceramic green sheet lacking a via-hole conductor, a desired wiring pattern cannot be obtained, There is a problem that it becomes impossible to obtain a ceramic multilayer substrate having desired characteristics.

また、ビアホール導体54の貫通孔52からの脱落は、ビアホール導体54が形成されたセラミックグリーンシート51を搬送したり積層したりする取り扱いの際にも生じる場合がある。   Further, the dropout of the via-hole conductor 54 from the through hole 52 may occur when handling the ceramic green sheet 51 on which the via-hole conductor 54 is formed or stacking it.

そこで、このような問題点を解決するために、図16(a)に示すように、貫通孔52の形成されたセラミックグリーンシート51の下面側にバックテープ61を貼り付けた状態で、図16(b)に示すように、貫通孔52に導電性ペースト53を充填してビアホール導体54を形成した後、ビアホール導体54が脱落しないように、台Pからバックテープ61ごとセラミックグリーンシート51を持ち上げ、その後に、図16(c)に示すように、バックテープ61を取り外すことにより、ビアホール導体54の脱落を防止するようにしたビアホール導体の形成方法が提案されている(特許文献1参照)。   Therefore, in order to solve such a problem, as shown in FIG. 16A, the back tape 61 is attached to the lower surface side of the ceramic green sheet 51 in which the through holes 52 are formed. As shown in FIG. 6B, after the via hole conductor 54 is formed by filling the through hole 52 with the conductive paste 53, the ceramic green sheet 51 is lifted together with the back tape 61 from the base P so that the via hole conductor 54 does not fall off. Then, as shown in FIG. 16C, a via hole conductor forming method is proposed in which the back tape 61 is removed to prevent the via hole conductor 54 from falling off (see Patent Document 1).

また、特許文献1には、図17に示すように、セラミックグリーンシート51の下面にキャリアフィルム55が接合されたキャリアフィルム付きグリーンシート51aを用い、セラミックグリーンシート51とキャリアフィルム55の両方を貫通する貫通孔52aを設けるとともに、キャリアフィルム55の下面にバックテープ61を貼り付け(図17(a))、貫通孔52aに導電性ペースト53を充填してビアホール導体54を形成した後(図17(b))、スクリーン印刷などの方法により所定の回路パターン62をセラミックグリーンシート51の表面に印刷し(図17(c))、導電性ペースト53(ビアホール導体54)が乾燥した後、バックテープ61を剥離し(図17(d))、他のグリーンシート51を積層した後、キャリアフィルム55を除去する(図17(e))ようにした方法も提案されている。   Further, in Patent Document 1, as shown in FIG. 17, a green sheet 51a with a carrier film in which a carrier film 55 is bonded to the lower surface of a ceramic green sheet 51 is used, and both the ceramic green sheet 51 and the carrier film 55 are penetrated. After the through hole 52a is formed, the back tape 61 is pasted on the lower surface of the carrier film 55 (FIG. 17A), and the via hole conductor 54 is formed by filling the through hole 52a with the conductive paste 53 (FIG. 17). (b)) A predetermined circuit pattern 62 is printed on the surface of the ceramic green sheet 51 by a method such as screen printing (FIG. 17C), and after the conductive paste 53 (via-hole conductor 54) is dried, the back tape 61 is peeled off (FIG. 17 (d)), and another green sheet 51 is laminated, and then the carrier film is filled. 55 is removed methods in (FIG. 17 (e)) as has been proposed.

しかしながら、特許文献1の方法の場合、ビアホール用の貫通孔を形成した後に、バックテープをセラミックグリーンシートに1枚ずつ貼り付ける必要があり、工数が大幅に増加するとともに、多量のバックテープが必要になるため、工数の増加、材料費の増加による製造コストの大幅な増大を招くという問題点がある。   However, in the case of the method of Patent Document 1, it is necessary to attach the back tape to the ceramic green sheet one by one after forming the through hole for the via hole, which greatly increases the number of steps and requires a large amount of the back tape. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost is greatly increased due to an increase in man-hours and an increase in material costs.

また、特許文献1の方法の場合、導電性ペースト充填後の、セラミックグリーンシートのハンドリング時における導電性ペースト(ビアホール導体)の脱落は防止することができるが、図17(e)に示すように、キャリアフィルム付きグリーンシート51aに他のセラミックグリーンシート51を積層した後、キャリアフィルム55を剥離する際に、導電性ペースト53がキャリアフィルム55に同伴する(導電性ペースト53がキャリアフィルム55に取られる)現象が発生するという問題点がある。   In addition, in the case of the method of Patent Document 1, it is possible to prevent the conductive paste (via hole conductor) from falling off when handling the ceramic green sheet after the conductive paste is filled, as shown in FIG. Then, after laminating the other ceramic green sheet 51 on the green sheet with carrier film 51a, when peeling off the carrier film 55, the conductive paste 53 accompanies the carrier film 55 (the conductive paste 53 is removed from the carrier film 55). The phenomenon occurs.

この導電性ペースト53がキャリアフィルム55に取られる現象も、セラミックグリーンシート51の厚みTが薄く、貫通孔52aの径Dが大きくなるほど、すなわち、D/Tの値が大きくなるほど、発生しやすい傾向がある。
特開2001−111221号公報
The phenomenon that the conductive paste 53 is taken on the carrier film 55 also tends to occur as the thickness T of the ceramic green sheet 51 decreases and the diameter D of the through hole 52a increases, that is, as the value of D / T increases. There is.
JP 2001-111221 A

本願発明は、上記課題を解決するものであり、キャリアフィルムに裏打ちされたセラミックグリーンシートの貫通孔に充填されたビアホール導体が、セラミックグリーンシートの取り扱いの際や、キャリアフィルムを剥離する際などに脱落することなどを防止して、ビアホール導体の脱落のない信頼性の高いセラミック多層基板を製造することが可能なセラミック多層基板の製造方法およびビアホール導体の脱落のない信頼性の高いセラミック多層基板を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned problem, and the via-hole conductor filled in the through hole of the ceramic green sheet backed by the carrier film is used when handling the ceramic green sheet or peeling the carrier film. A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate capable of manufacturing a highly reliable ceramic multilayer substrate that does not drop off and prevents via hole conductors from dropping, and a highly reliable ceramic multilayer substrate without via hole conductor falling off The purpose is to provide.

上記課題を解決するために、本願請求項1のセラミック多層基板の製造方法は、
キャリアフィルムによって裏打ちされたセラミックグリーンシートに対して、少なくとも前記セラミックグリーンシートを貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性ペーストを充填することによりセラミックグリーンシートにビアホール導体を形成する工程と、
前記セラミックグリーンシートの表面に、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部から、前記セラミックグリーンシートの表面の少なくとも一部に跨るように、前記セラミックグリーンシートから前記ビアホール導体が欠落することを防止するための欠落防止パターンを形成する工程と、
前記セラミックグリーンシートを前記キャリアフィルムから剥離する工程と、
前記キャリアフィルムから剥離した、前記ビアホール導体および前記欠落防止パターンを備えたセラミックグリーンシートを含む複数のセラミックグリーンシートを積層してグリーンシート積層体を形成する工程と、
前記グリーンシート積層体を焼成して、前記グリーンシート積層体を焼結させる工程と
を具備することを特徴としている。
In order to solve the above problems, a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 1 of the present application is as follows.
Forming a through hole penetrating at least the ceramic green sheet with respect to the ceramic green sheet backed by a carrier film;
Forming a via-hole conductor in the ceramic green sheet by filling the through-hole with a conductive paste ;
In order to prevent the via hole conductor from being missing from the ceramic green sheet so as to straddle at least a part of the surface of the ceramic green sheet from at least a part of the end surface of the via hole conductor on the surface of the ceramic green sheet. Forming a loss prevention pattern of
Peeling the ceramic green sheet from the carrier film;
Laminating a plurality of ceramic green sheets including the ceramic green sheet provided with the via-hole conductor and the omission prevention pattern , peeled from the carrier film , and forming a green sheet laminate,
Firing the green sheet laminate and sintering the green sheet laminate.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項の発明の構成において、前記欠落防止パターンを形成した後、前記セラミックグリーンシートの表面に、前記グリーンシート積層体において面内導体となる導体パターンを形成する工程を備えることを特徴としている。 According to a second aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to the first aspect of the present invention, wherein after the omission prevention pattern is formed, an in-plane conductor in the green sheet laminate is formed on the surface of the ceramic green sheet. And a step of forming a conductive pattern.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項1または2の発明の構成において、前記欠落防止パターンを、前記グリーンシート積層体と同時に焼成されるセラミックおよび/またはガラスを主成分とする絶縁性材料によって、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するような態様で形成することを特徴としている。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to the first or second aspect of the invention, wherein the chipping prevention pattern is mainly composed of ceramic and / or glass that is fired simultaneously with the green sheet laminate. The insulating material is formed in such a manner that at least a part of the end face of the via-hole conductor is exposed.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項の発明の構成において、前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体の端面の外周全体を覆うように形成することを特徴としている。 A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 4, in the configuration of the invention of claim 3, said missing prevention pattern is characterized by the formation so as to cover the entire outer periphery of the end face of the via-hole conductor.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項の発明の構成において、前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体の端面の外周の要部を覆い、かつ、少なくとも外周の一部を覆わないような態様で形成することを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to the third aspect of the present invention, wherein the chipping prevention pattern covers an essential part of the outer periphery of the end face of the via-hole conductor and at least a part of the outer periphery. It is characterized in that it is formed in such a manner that it is not covered.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項の発明の構成において、前記面内導体が、前記ビアホール導体の端面の前記露出した部分を覆うように形成される導体接続部と、前記導体接続部に接続される引き出し部とを備えており、前記引き出し部と前記導体接続部との接続部が、前記ビアホール導体の端面の外周の、前記欠落防止パターンにより覆われていない部分に形成されることを特徴としている。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to the fifth aspect, wherein the in-plane conductor is formed so as to cover the exposed portion of the end surface of the via-hole conductor. And a lead part connected to the conductor connection part, and the connection part between the lead part and the conductor connection part is not covered with the omission prevention pattern on the outer periphery of the end face of the via-hole conductor It is characterized by being formed.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項1または2の発明の構成において、前記欠落防止パターンを、前記グリーンシート積層体を焼成する工程で消失する樹脂により形成することを特徴としている。 A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 7, characterized in that in the configuration of the invention of claim 1 or 2, said missing prevention pattern is formed of a resin that disappears in the step of firing the green sheet laminate It is said.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項の発明の構成において、前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体の端面全体を覆うように形成することを特徴としている。 According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to the seventh aspect , wherein the missing prevention pattern is formed so as to cover the entire end face of the via-hole conductor.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法は、請求項の発明の構成において、前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体が形成された前記セラミックグリーンシートの表面全体を覆うように形成することを特徴としている。 A method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 9, in the configuration of the invention of claim 8, said missing prevention pattern, be formed so as to cover the entire surface of the ceramic green sheet where the via-hole conductor is formed It is characterized by.

また、請求項10のセラミック多層基板の製造方法は、請求項1または2の発明の構成において、前記欠落防止パターンを、前記グリーンシート積層体の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料により、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するように形成することを特徴としている。 The method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 10 is characterized in that, in the configuration of the invention according to claim 1 or 2 , the lack prevention pattern does not substantially sinter at the firing temperature of the green sheet laminate. It is characterized in that it is formed of an insulating material mainly composed of ceramic so that at least a part of the end face of the via-hole conductor is exposed.

また、請求項11のセラミック多層基板の製造方法は、請求項10の発明の構成において、難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料よりなる前記欠落防止パターンの厚みを1〜20μmとするとともに、前記欠落防止パターンを前記ビアホール導体の端面の前記露出した部分を除く前記セラミックグリーンシートの表面全体を覆うように形成することを特徴としている。 The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 11 is the configuration of the invention according to claim 10 , wherein the thickness of the omission prevention pattern made of an insulating material whose main component is hardly sinterable ceramic is 1 to 20 μm. In addition, the omission prevention pattern is formed so as to cover the entire surface of the ceramic green sheet excluding the exposed portion of the end face of the via-hole conductor.

また、請求項12のセラミック多層基板の製造方法は、請求項1〜11の発明の構成において、前記セラミックグリーンシートがAg系導体材料またはCu系導体材料と同時に焼成することが可能な低温焼結セラミック材料を主成分とするものであり、前記ビアホール導体はAg系導体材料またはCu系導体材料を主成分とするものであることを特徴としている。 The method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 12 is the low-temperature sintering capable of firing the ceramic green sheet simultaneously with the Ag-based conductor material or the Cu-based conductor material in the configuration of the invention according to claims 1-11. The via hole conductor is mainly composed of an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material.

また、本願請求項13のセラミック多層基板の発明は、
複数のセラミック層を積層してなるセラミック積層体と、前記セラミック積層体を構成する前記セラミック層の層間に配設された面内導体と、前記セラミック層の層間を接続するためのビアホール導体とを備えたセラミック多層基板であって、
前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部から、前記ビアホール導体の端面と同一面となる前記セラミック層の表面の少なくとも一部に跨るように、かつ、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するような態様で絶縁性パターンが設けられているとともに、前記絶縁性パターンが複数のセラミック層に設けられていること、を特徴としている。
The invention of the ceramic multilayer substrate of claim 13 of the present application is
A ceramic laminate formed by laminating a plurality of ceramic layers, an in-plane conductor disposed between the layers of the ceramic layers constituting the ceramic laminate, and a via-hole conductor for connecting the layers of the ceramic layers A ceramic multilayer substrate comprising:
At least part of the end surface of the via hole conductor is exposed from at least part of the end surface of the via hole conductor so as to straddle at least part of the surface of the ceramic layer that is flush with the end surface of the via hole conductor. In this aspect, an insulating pattern is provided, and the insulating pattern is provided in a plurality of ceramic layers .

また、請求項14のセラミック多層基板の発明は、請求項13の発明の構成において、前記絶縁性パターンが、前記セラミック積層体と同時に焼結されるセラミックおよび/またはガラスを主成分とするものであることを特徴としている。 According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided the ceramic multilayer substrate according to the thirteenth aspect , wherein the insulating pattern is mainly composed of ceramic and / or glass that is sintered simultaneously with the ceramic laminate. It is characterized by being.

また、請求項15のセラミック多層基板の発明は、請求項13の発明の構成において、前記絶縁性パターンが、前記セラミック層の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とし、厚みが1〜20μmのものであることを特徴としている。 The invention of claim 15 is the ceramic multilayer substrate according to claim 13 , wherein the insulating pattern is based on a hardly sinterable ceramic that does not substantially sinter at the firing temperature of the ceramic layer. The thickness is 1 to 20 μm.

また、請求項16のセラミック多層基板の発明は、請求項13〜15のいずれかの発明の構成において、前記ビアホール導体の端面が、前記セラミック積層体の最上層および/または最下層に露出していることを特徴としている。 According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided the ceramic multilayer substrate according to any one of the thirteenth to fifteenth aspects, wherein the end surface of the via-hole conductor is exposed to the uppermost layer and / or the lowermost layer of the ceramic laminate. It is characterized by being.

また、請求項17のセラミック多層基板の発明は、請求項13〜16のいずれかの発明の構成において、前記セラミック層が、Ag系導体材料またはCu系導体材料と同時焼成可能な低温焼結セラミック材料を主成分とするものであり、前記ビアホール導体はAg系導体材料またはCu系導体材料を主成分とするものであることを特徴としている。 The invention of claim 17 is the ceramic multilayer substrate according to any one of claims 13 to 16 , wherein the ceramic layer is a low-temperature sintered ceramic capable of co-firing with an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material. The via hole conductor is mainly composed of an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material.

本願請求項1のセラミック多層基板の製造方法は、キャリアフィルムによって裏打ちされたセラミックグリーンシートに対して、少なくともセラミックグリーンシートを貫通する貫通孔を形成する工程と、貫通孔に導電性ペーストを充填することによりセラミックグリーンシートにビアホール導体を形成する工程と、セラミックグリーンシートの表面に、ビアホール導体の端面の少なくとも一部から、セラミックグリーンシートの表面の少なくとも一部に跨るように、セラミックグリーンシートからビアホール導体が欠落することを防止するための欠落防止パターンを形成する工程と、セラミックグリーンシートをキャリアフィルムから剥離する工程と、キャリアフィルムから剥離した、ビアホール導体および欠落防止パターンを備えたセラミックグリーンシートを含む複数のセラミックグリーンシートを積層してグリーンシート積層体を形成する工程と、グリーンシート積層体を焼成して、グリーンシート積層体を焼結させる工程とを具備しているので、欠落防止パターンによりビアホール導体をセラミックグリーンシートにつなぎ止め、外力によりビアホール導体が欠落することを抑制、防止して、所望の特性を備えた信頼性の高いセラミック多層基板を効率よく製造することが可能になる。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a ceramic multilayer substrate manufacturing method comprising: forming a through hole penetrating at least a ceramic green sheet on a ceramic green sheet lined with a carrier film; and filling the through hole with a conductive paste. hole forming a via-hole conductor in a ceramic green sheet, the surface of the ceramic green sheet, from at least a portion of the end face of the via-hole conductors, so as to extend over at least a portion of the ceramic green sheet surface, from the ceramic green sheet by forming a loss preventing pattern for preventing conductor is missing, a step of peeling the ceramic green sheet from the carrier film was peeled off from the carrier film, Serra having a via-hole conductor and the missing prevention pattern A step of laminating a plurality of ceramic green sheets including a green sheet and forming a green sheet laminate, and a step of firing the green sheet laminate to sinter the green sheet laminate. It is possible to efficiently manufacture a highly reliable ceramic multilayer substrate with desired characteristics by connecting via hole conductors to the ceramic green sheet with the omission prevention pattern, and suppressing and preventing the via hole conductors from being lost due to external force. It becomes possible.

また、例えば、従来の導体パターンの印刷工程などを利用して欠落防止パターンを形成するようにした場合、製造工程を特に複雑化させることなく欠落防止パターンを形成することが可能になり、大幅なコストの増大を抑制しつつ、信頼性の高いセラミック多層基板を効率よく製造することが可能になる。   Further, for example, when the omission prevention pattern is formed by using a conventional conductor pattern printing process or the like, the omission prevention pattern can be formed without particularly complicating the manufacturing process. It is possible to efficiently manufacture a highly reliable ceramic multilayer substrate while suppressing an increase in cost.

また、前記セラミックグリーンシートはキャリアフィルムによって裏打ちされており、少なくともセラミックグリーンシートを貫通するビアホール導体充填用の貫通孔を形成し、該貫通孔に導電性ペーストを充填することによりビアホール導体を形成するようにしているので、欠落防止パターンがビアホール導体をセラミックグリーンシートにつなぎ止める機能を果すため、キャリアフィルムを剥離する際の導電性ペーストの脱落を防止することが可能になる。 The ceramic green sheet is lined with a carrier film, and at least a via hole conductor filling through hole penetrating the ceramic green sheet is formed, and a via hole conductor is formed by filling the through hole with a conductive paste. since the way, since the missing prevention pattern functions to anchoring hole conductors in the ceramic green sheet, it is possible to ing to prevent falling off of the conductive paste at the time of peeling the carrier film.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項1の発明の構成において、欠落防止パターンを形成した後、前記セラミックグリーンシートの表面に、グリーンシート積層体において面内導体となる導体パターンを形成する工程を備えるようにした場合、セラミックグリーンシートの取り扱い工程でビアホール導体の欠落が確実に防止され、かつ、グリーンシート積層体において面内導体となる導体パターンとビアホール導体とを確実に導通するような態様で形成することが可能になり、有意義である。 Further, as in the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 2 , in the configuration of the invention according to claim 1, after forming the omission prevention pattern, an in-plane conductor in the green sheet laminate is formed on the surface of the ceramic green sheet. When a process for forming a conductive pattern is provided, missing of the via-hole conductor is reliably prevented in the handling process of the ceramic green sheet, and the conductor pattern that becomes an in-plane conductor in the green sheet laminate and the via-hole conductor It is possible to form the battery in such a manner as to ensure conduction, which is meaningful.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項1または2の発明の構成において、欠落防止パターンを、グリーンシート積層体と同時に焼成されるセラミックおよび/またはガラスを主成分とする絶縁性材料によって、ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するような態様で形成するようにした場合(欠落防止パターンとして絶縁性材料からなるパターン(絶縁性パターン)を形成した場合)、セラミックグリーンシートも欠落防止パターン(絶縁性パターン)もセラミックやガラスを含むことになり、ビアホール導体をセラミックグリーンシートにつなぎ止める機能を果す欠落防止パターンによる欠落防止効果を向上させることが可能になる。 Further, as in the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 3 , in the configuration of the invention according to claim 1 or 2 , the omission prevention pattern is mainly composed of ceramic and / or glass that is fired simultaneously with the green sheet laminate. When the insulating material is formed in such a manner that at least part of the end face of the via-hole conductor is exposed (when a pattern made of an insulating material (insulating pattern) is formed as a missing prevention pattern) , ceramic Both the green sheet and the omission prevention pattern (insulating pattern) include ceramic and glass, and it is possible to improve the omission prevention effect by the omission prevention pattern that functions to connect the via-hole conductor to the ceramic green sheet.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項の発明の構成において、欠落防止パターンを、ビアホール導体の端面の外周全体を覆うように形成することにより、脱落の起点となりやすい端面の外周部をセラミックグリーンシートに確実につなぎ止めることが可能になり、本願発明をより実効あらしめることができる。 Further, as in the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 4 , in the configuration of the invention according to claim 3 , the omission prevention pattern is formed so as to cover the entire outer periphery of the end surface of the via-hole conductor. It becomes possible to securely connect the outer peripheral portion of the easy end face to the ceramic green sheet, and the present invention can be more effectively realized.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項の発明の構成において、欠落防止パターンを、ビアホール導体の端面の外周の要部を覆い、かつ、少なくとも外周の一部を覆わないような態様で形成するようにした場合、例えば、欠落防止パターンが形成されておらず段差のない領域を経て、ビアホール導体に接続されるべき面内導体を、確実にビアホール導体に接続することが可能になる。 Further, as in the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 5 , in the configuration of the invention according to claim 3 , the omission prevention pattern covers the main part of the outer periphery of the end surface of the via-hole conductor, and at least a part of the outer periphery. When formed in such a manner that it does not cover, for example, the in-plane conductor to be connected to the via-hole conductor is securely connected to the via-hole conductor through a region having no step where no omission prevention pattern is formed. It becomes possible.

なお、欠落防止パターンが形成された段差のある領域を経て、面内導体をビアホール導体に接続するようにした場合、段差部分で断線を生じる場合があり、段差のない領域から面内導体を引き出す場合に比べると信頼性が低くなることがある。   Note that if the in-plane conductor is connected to the via-hole conductor through the stepped region where the omission prevention pattern is formed, disconnection may occur at the stepped portion, and the in-plane conductor is drawn out from the region without the step. Compared to the case, reliability may be lowered.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項の発明の構成において、面内導体が、ビアホール導体の端面の前記露出した部分を覆うように形成される導体接続部と、導体接続部に接続される引き出し部とを備えており、引き出し部と導体接続部との接続部が、ビアホール導体の端面の外周の、欠落防止パターンにより覆われていない部分に形成されるように構成した場合、ビアホール導体の露出部分において面内導体が確実にビアホール導体と導通し、かつ、欠落防止パターンの形成されていない、段差のない領域に、引き出し部と導体接続部とを接続する接続部を配設することが可能になり、引き出し部と導体接続部が前記接続部により確実に接続された接続信頼性の高いセラミック多層基板を効率よく製造することが可能になる。 Further, as in the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 6 , in the configuration of the invention according to claim 5 , a conductor connection portion formed so that the in-plane conductor covers the exposed portion of the end face of the via-hole conductor; A lead portion connected to the conductor connecting portion, and the connecting portion between the lead portion and the conductor connecting portion is formed in a portion of the outer periphery of the end surface of the via-hole conductor that is not covered by the missing prevention pattern. In this case, the in-plane conductor is surely connected to the via-hole conductor in the exposed portion of the via-hole conductor, and the lead-out portion and the conductor connecting portion are connected to a region having no step where no omission prevention pattern is formed. It is possible to arrange the connecting portion, and it is possible to efficiently manufacture a ceramic multi-layer substrate with high connection reliability in which the lead portion and the conductor connecting portion are securely connected by the connecting portion. It becomes possible.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項1または2の発明の構成において、欠落防止パターンを、グリーンシート積層体を焼成する工程で消失する樹脂により形成するようにした場合、欠落防止パターンが焼成工程で消失し、配線パターンなどの導体パターンと、ビアホール導体との電気的接続が確保されるため、配線パターンなどの導体パターンと、ビアホール導体との電気的な接続を考慮することなく、製造工程におけるビアホール導体の脱落を防止するのに最適なパターンの欠落防止パターンを形成することが可能になり、ビアホール導体の脱落防止の信頼性を向上させることが可能になる。 Moreover, like the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate of claim 7 , in the configuration of the invention of claim 1 or 2 , the omission prevention pattern is formed of a resin that disappears in the step of firing the green sheet laminate. In this case, the loss prevention pattern disappears in the firing process, and the electrical connection between the conductor pattern such as the wiring pattern and the via-hole conductor is ensured. Therefore, the electrical connection between the conductor pattern such as the wiring pattern and the via-hole conductor must be established. Without consideration, it is possible to form an optimal pattern for preventing the loss of via-hole conductors in the manufacturing process, and to improve the reliability of preventing the via-hole conductors from falling off.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項の発明の構成において、欠落防止パターンを、ビアホール導体の端面全体を覆うように形成するようにした場合、ビアホール導体の脱落防止の信頼性を向上させることが可能になり、有意義である。 Further, in the structure of the invention according to claim 7 , when the missing prevention pattern is formed so as to cover the entire end face of the via-hole conductor as in the method for manufacturing the ceramic multilayer substrate according to claim 8 , the via-hole conductor is dropped. This makes it possible to improve the reliability of prevention and is meaningful.

また、請求項のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項の発明の構成において、欠落防止パターンを、ビアホール導体が形成されたセラミックグリーンシートの表面全体を覆うように形成するようにした場合、例えば、所定の形状の欠落防止パターンを形成するために高精度な印刷マスクなどを用いたり、欠落防止パターンを所定の位置に形成するために光学センサーなどの設備を必要としたりすることなく、ビアホール導体の欠落を効率よく防止することが可能になり、製造工程を簡略化して、コストの低減を図ることが可能になる。 Further, as in the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 9 , in the configuration of the invention according to claim 8 , the missing prevention pattern is formed so as to cover the entire surface of the ceramic green sheet on which the via-hole conductor is formed. In this case, for example, a high-precision printing mask or the like is used to form a predetermined shape omission prevention pattern, or an optical sensor or the like is required to form an omission prevention pattern at a predetermined position. Therefore, it is possible to efficiently prevent missing via-hole conductors, simplify the manufacturing process, and reduce costs.

また、請求項10のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項1または2のいずれかの発明の構成において、欠落防止パターンを、グリーンシート積層体の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料により、ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するように形成するようにした場合、グリーンシート積層体の焼結時の収縮を抑制しつつ、ビアホール導体の欠落のない信頼性の高いセラミック多層基板を効率よく製造することが可能になる。 In addition, as in the method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 10 , in the configuration of the invention according to claim 1 or 2 , it is difficult to prevent the missing prevention pattern from being substantially sintered at the firing temperature of the green sheet laminate. When an insulating material mainly composed of a sinterable ceramic is used so that at least a part of the end face of the via hole conductor is exposed, the via hole is suppressed while shrinking when the green sheet laminate is sintered. It becomes possible to efficiently manufacture a ceramic multilayer substrate with high reliability and no missing conductor.

なお、欠落防止パターンを、グリーンシート積層体の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料から形成した場合(欠落防止パターンとして絶縁性パターンを形成した場合)でも、例えば、セラミック材料として、ガラス成分を含有する低温同時焼成セラミック(LTCC)を用いた場合には、セラミック材料からのガラス成分の拡散により、難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料層が緻密化するため、セラミック層間の接着性を確保して、実用性を備えたセラミック多層基板を得ることができる。 Note that when the omission prevention pattern is formed from an insulating material whose main component is a hardly sinterable ceramic that does not substantially sinter at the firing temperature of the green sheet laminate ( when the insulation pattern is formed as an omission prevention pattern) ) But for example, as a ceramic material, in the case of using the low-temperature co-fired ceramic (LTCC) containing glass component, the diffusion of the glass component from the ceramic material, insulation mainly composed of sintering-resistant ceramic Since the material layer is densified, it is possible to obtain a ceramic multilayer substrate having practicality while ensuring adhesion between ceramic layers.

また、請求項11のセラミック多層基板の製造方法のように、請求項10の発明の構成において、難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料を用いた欠落防止パターンの厚みを1〜20μmとし、かつ、欠落防止パターンをビアホール導体の端面の露出部分を除くセラミックグリーンシートの表面全体を覆うように形成するようにした場合、グリーンシート積層体の焼結時の、積層方向に直交する方向(平面方向)の収縮を確実に抑制することが可能になるとともに、所定のパターンを形成するために複雑なパターンの印刷マスクなどを用いたり、欠落防止パターンを所定の位置に形成するために高価な光学センサーなどの設備を必要としたりすることなく、欠落防止効果の大きい欠落防止パターンを形成することが可能になり、ビアホール導体の欠落を効率よく防止することが可能になる。その結果、製造工程を簡略化して、コストの低減を図ることが可能になる。 Further, 1 to 20 [mu] m as in the method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 11, in the configuration of the invention of claim 10, the thickness of the missing prevention pattern using an insulating material composed mainly of sintering-resistant ceramic And when the omission prevention pattern is formed so as to cover the entire surface of the ceramic green sheet excluding the exposed portion of the end face of the via-hole conductor, the direction perpendicular to the laminating direction when the green sheet laminate is sintered It is possible to reliably suppress shrinkage in the (planar direction), and use a complicated pattern printing mask to form a predetermined pattern, or expensive to form a missing prevention pattern at a predetermined position. Without the need for equipment such as an optical sensor, it is possible to form an omission prevention pattern with a greater omission prevention effect. It is possible to prevent the missing of the conductor efficiently. As a result, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.

また、欠落防止パターンの厚みを1〜20μmとすることにより、上記絶縁性材料よりなる欠落防止パターンをビアホール導体の端面の露出部分を除くセラミックグリーンシートの表面全体を覆うように形成した場合にも、例えば、セラミック材料として、ガラス成分を添加した、低温同時焼成セラミック(LTCC)を用いた場合には、セラミック材料からのガラス成分の拡散により、セラミック層間の接着性を確保して、実用性を備えたセラミック多層基板を得ることができる。   Also, when the thickness of the omission prevention pattern is 1 to 20 μm, the omission prevention pattern made of the insulating material is formed so as to cover the entire surface of the ceramic green sheet excluding the exposed portion of the end face of the via-hole conductor. For example, when a low-temperature co-fired ceramic (LTCC) added with a glass component is used as the ceramic material, the adhesion between the ceramic layers is ensured by diffusion of the glass component from the ceramic material, and practicality is improved. The provided ceramic multilayer substrate can be obtained.

なお、欠落防止パターンの厚みを1〜20μmとしているのは、厚みが1μm未満になると、収縮を抑制する効果が不十分になり、また厚みが20μmを超えると、セラミック材料からのガラス成分の欠落防止パターンへの拡散が十分にゆきわたらず、そのためセラミック層間の接着性が確保できなくなることがあることによる。   The thickness of the omission prevention pattern is set to 1 to 20 μm. When the thickness is less than 1 μm, the effect of suppressing shrinkage is insufficient, and when the thickness exceeds 20 μm, the glass component is missing from the ceramic material. This is because the diffusion to the prevention pattern is not sufficiently diffused, so that the adhesion between the ceramic layers may not be ensured.

また、請求項12のセラミック多層基板の製造方法のように、セラミックグリーンシートとして、Ag系導体材料またはCu系導体材料と同時に焼成することが可能な低温焼結セラミック材料を主成分とするものを用い、ビアホール導体として、Ag系導体材料またはCu系導体材料を主成分とするものを用いることにより、セラミック材料と導体材料とを同時焼成して、欠落のないビアホール導体を備えたセラミック多層基板を効率よく製造することが可能になる。 Further, as in the method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 12 , the ceramic green sheet is mainly composed of a low-temperature sintered ceramic material that can be fired simultaneously with an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material. A ceramic multilayer substrate provided with a via-hole conductor that is free from defects by simultaneously firing a ceramic material and a conductor material by using a material mainly composed of an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material as a via-hole conductor. It becomes possible to manufacture efficiently.

また、本願請求項13のセラミック多層基板は、複数のセラミック層を積層してなるセラミック積層体と、セラミック積層体を構成するセラミック層の層間に配設された面内導体と、セラミック層の層間を接続するためのビアホール導体とを備えたセラミック多層基板であって、ビアホール導体の端面の少なくとも一部から、ビアホール導体の端面と同一面となるセラミック層の表面の少なくとも一部に跨るように、かつ、ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するような態様で絶縁性パターン(絶縁性材料からなる欠落防止パターン)が設けられているとともに、絶縁性パターンが複数のセラミック層に設けられているので、ビアホール導体が、ビアホール導体の端面からセラミック層の表面の少なくとも一部に跨るように配設された絶縁性パターンにより確実に保持された、信頼性の高いセラミック多層基板を提供することが可能になる。 A ceramic multilayer substrate according to claim 13 of the present invention includes a ceramic laminate formed by laminating a plurality of ceramic layers, an in-plane conductor disposed between ceramic layers constituting the ceramic laminate, and an interlayer between ceramic layers. A multilayer ceramic substrate having a via-hole conductor for connecting the at least one portion of the end face of the via-hole conductor to at least a portion of the surface of the ceramic layer that is flush with the end face of the via-hole conductor, In addition, an insulating pattern (a missing prevention pattern made of an insulating material) is provided in such a manner that at least a part of the end face of the via-hole conductor is exposed, and the insulating pattern is provided in a plurality of ceramic layers. Therefore, the via-hole conductor is disposed so as to straddle at least part of the surface of the ceramic layer from the end face of the via-hole conductor. Is securely held by the insulating pattern, it is possible to provide a highly reliable ceramic multilayer substrate.

また、請求項14のセラミック多層基板のように、請求項13の発明の構成において、絶縁性パターン(絶縁性材料からなる欠落防止パターン)として、セラミック積層体と同時に焼結されるセラミックおよび/またはガラスを主成分とするものを用いることにより、同時焼成により、ビアホールの欠落を防止するための絶縁性パターンを備え、信頼性が高く、かつ、焼成工程が簡潔で製造コストの低いセラミック多層基板を提供することが可能になる。 Further, as in the ceramic multilayer substrate according to claim 14 , in the structure of the invention according to claim 13 , as the insulating pattern (a missing prevention pattern made of an insulating material) , a ceramic sintered simultaneously with the ceramic laminate and / or By using a glass-based component, a ceramic multilayer substrate with an insulating pattern to prevent the loss of via holes by simultaneous firing, a high reliability, a simple firing process, and low manufacturing costs It becomes possible to provide.

また、請求項15のセラミック多層基板の発明のように、請求項13の発明の構成において、絶縁性パターンを、厚みが1〜20μmの範囲にあり、セラミック層の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とするものとした場合、焼成工程における収縮を抑制し、かつビアホール導体の欠落のない信頼性の高いセラミック多層基板を提供することが可能になる。 Further, as in the invention of the ceramic multilayer substrate of claim 15 , in the structure of the invention of claim 13 , the insulating pattern has a thickness in the range of 1 to 20 μm and is substantially sintered at the firing temperature of the ceramic layer. When the non-sinterable ceramic is used as a main component, it is possible to provide a highly reliable ceramic multilayer substrate that suppresses shrinkage in the firing process and does not have a missing via-hole conductor.

また、請求項16のセラミック多層基板のように、請求項13〜15のいずれかの発明の構成において、ビアホール導体の端面が、セラミック積層体の最上層および/または最下層に露出している構成の場合、露出したビアホール導体の端面を、実装基板上に搭載する際の搭載ランドとして利用することが可能になる。 Further, as in the ceramic multilayer substrate of claim 16 , in the configuration of any one of claims 13 to 15 , the end face of the via-hole conductor is exposed in the uppermost layer and / or the lowermost layer of the ceramic laminate. In this case, the exposed end face of the via-hole conductor can be used as a mounting land for mounting on the mounting board.

また、請求項17のセラミック多層基板のように、請求項13〜16のいずれかの発明の構成において、セラミック層が、Ag系導体材料またはCu系導体材料と同時焼成可能な低温焼結セラミック材料を主成分とするものであり、ビアホール導体はAg系導体材料またはCu系導体材料を主成分とするものであるような構成とした場合、セラミック材料と導体材料とが同時焼成され、低コストで製造された、ビアホール導体の欠落がなく、信頼性の高い多層基板を提供することが可能になる。 Further, as in the ceramic multilayer substrate of claim 17 , in the structure of any one of claims 13 to 16 , the ceramic layer is a low-temperature sintered ceramic material that can be fired simultaneously with an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material In the case where the via-hole conductor is composed mainly of an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material, the ceramic material and the conductor material are simultaneously fired, so that the cost is low. It is possible to provide a manufactured multilayer substrate with no via hole conductor missing and high reliability.

以下に本願発明の実施例を示して、本願発明の特徴とするところをさらに詳しく説明する。   The features of the present invention will be described in more detail below with reference to examples of the present invention.

図1〜8は本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。以下、図1〜8を参照しつつ、本願発明の実施例1のセラミック多層基板の製造方法について説明する。   FIGS. 1-8 is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention. Hereinafter, the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate of Example 1 of the present invention will be described with reference to FIGS.

(1)まず、図1(a)に示すように、キャリアフィルム2に裏打ちされたセラミックグリーンシート1を用意する。
なお、この実施例では、セラミックグリーンシート1として、例えば、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化カルシウムおよび酸化ホウ素などを混合した低温焼結セラミック原料粉末に、ポリビニルブチラールなどの有機バインダ、ジ−n−ブチルフタレートなどの可塑剤、トルエンやイソプロピルアルコールなどの溶剤をそれぞれ添加、混合して調製したスラリーをドクターブレード法などの方法によってキャリアフィルム2上にシート状に成形したものを用いた。
(1) First, as shown in FIG. 1A, a ceramic green sheet 1 backed by a carrier film 2 is prepared.
In this embodiment, as the ceramic green sheet 1, for example, a low-temperature sintered ceramic raw material powder in which barium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, calcium oxide, boron oxide and the like are mixed, an organic binder such as polyvinyl butyral, di- A slurry prepared by adding and mixing a plasticizer such as n-butyl phthalate and a solvent such as toluene or isopropyl alcohol and molding the slurry on a carrier film 2 by a method such as a doctor blade method was used.

なお、上記の低温焼結セラミック原料粉末は、1050℃以下で焼成が可能であり、CuやAgなどと同時焼成が可能なセラミック原料粉末である。具体的には、アルミナなどのセラミックフィラーに非晶質ガラスや結晶化ガラスなどの助剤を含有したガラス複合系セラミック原料粉末、コージェライトなどの結晶を析出する結晶化ガラス系セラミック原料粉末、あるいは、焼成サイクル中に助剤となるガラスを生成する非ガラス系セラミック原料粉末などが例示される。
また、有機バインダ、可塑剤、溶剤などについては、公知の種々のものを用いることが可能である。さらに、分散剤などの添加物を添加することも可能である。
The low-temperature sintered ceramic raw material powder is a ceramic raw material powder that can be fired at 1050 ° C. or less and can be fired simultaneously with Cu, Ag, or the like. Specifically, a glass composite ceramic raw material powder containing an auxiliary such as amorphous glass or crystallized glass in a ceramic filler such as alumina, a crystallized glass ceramic raw material powder that precipitates crystals such as cordierite, or Examples thereof include non-glass-based ceramic raw material powder that generates glass as an auxiliary agent during the firing cycle.
In addition, various known organic binders, plasticizers, solvents and the like can be used. Furthermore, additives such as a dispersant can be added.

(2)次に、図1(b)に示すように、セラミックグリーンシート1にビアホール用の貫通孔3を形成する。なお、このとき、セラミックグリーンシート1とともに、キャリアフィルム2を貫通するように貫通孔3を形成する。   (2) Next, as shown in FIG. 1B, a through hole 3 for a via hole is formed in the ceramic green sheet 1. At this time, the through hole 3 is formed so as to penetrate the carrier film 2 together with the ceramic green sheet 1.

なお、ビアホール用の貫通孔3は、その直径が大きいほど、また、セラミックグリーンシート1の厚みが薄いほど、ビアホール導体4(図1(c))のビア脱落が発生し易い。特に、ビアホール用の貫通孔3の平面形状の最大寸法(例えば、貫通孔3の平面形状が円形の場合は直径、平面形状が方形の場合は対角線の長さ)をDとし、セラミックグリーンシート1とキャリアフィルム2の厚みを加算した厚さをtとしたとき、以下の式(1)を満たす場合、セラミックグリーンシートの取り扱い工程中におけるビアホール導体4(図1(c))の欠落が発生しやすいので、本願発明を適用することが、特に有意義である。
D/t>3.0 ……(1)
The via-hole 3 for via holes is more likely to drop out of the via-hole conductor 4 (FIG. 1C) as the diameter of the through-hole 3 is larger and the thickness of the ceramic green sheet 1 is thinner. In particular, the maximum dimension of the planar shape of the through hole 3 for via holes (for example, the diameter when the planar shape of the through hole 3 is circular, and the length of the diagonal line when the planar shape is square) is D, and the ceramic green sheet 1 When the thickness obtained by adding the thickness of the carrier film 2 is t, and the following equation (1) is satisfied, the via-hole conductor 4 (FIG. 1 (c)) is missing during the ceramic green sheet handling process. Since it is easy, it is particularly meaningful to apply the present invention.
D / t> 3.0 (1)

また、平面面積の大きなビアホール導体は、表面実装部品や、ICパッケージの搭載ランドとして、もしくは、セラミック多層基板のマザーボードヘの搭載ランドとして用いられることが多く、通常、セラミック多層基板の表裏面に形成されることが多い。なお、このようなビアホール導体を搭載ランドとして用いることにより、接合強度を向上させることが可能になる。   In addition, via-hole conductors with a large planar area are often used as mounting lands for surface-mounted components and IC packages, or as mounting lands on the motherboard of ceramic multilayer substrates, and are usually formed on the front and back surfaces of ceramic multilayer substrates. Often done. In addition, it becomes possible to improve joint strength by using such a via-hole conductor as a mounting land.

(3)それから、図1(c)に示すように、上述のようにして作製したセラミックグリーンシート1のビアホール用の貫通孔3に導電性ペーストを充填して、ビアホール導体4を形成する。   (3) Then, as shown in FIG. 1 (c), the via hole conductor 4 is formed by filling the through hole 3 for the via hole of the ceramic green sheet 1 manufactured as described above with a conductive paste.

(4)次に、図1(d)および図4(a)に示すように、導電性ペーストを充填して形成したビアホール導体4のうち、所定のビアホール導体4について、ビアホール導体4の欠落を防止するための欠落防止パターン5を形成する。   (4) Next, as shown in FIG. 1 (d) and FIG. 4 (a), among the via-hole conductors 4 formed by filling the conductive paste, the predetermined via-hole conductors 4 are not missing. A missing prevention pattern 5 is formed for prevention.

なお、欠落防止パターン5は、すべてのビアホール用の貫通孔3について形成することも可能であるが、ビアホール導体の欠落の生じやすい、径の大きい貫通孔についてのみ欠落防止パターンを形成するようにしてもよい。   The omission prevention pattern 5 can be formed for all the through holes 3 for via holes. However, the omission prevention pattern is formed only for the through holes having a large diameter, in which the via hole conductor is easily lost. Also good.

欠落防止パターン5を形成するために用いられる材料としては、例えば、以下に説明するような、樹脂ペースト、導電性ペースト、あるいはセラミックペーストなどが例示される。   Examples of the material used for forming the omission prevention pattern 5 include a resin paste, a conductive paste, or a ceramic paste as described below.

<樹脂ペースト>
欠落防止パターン5を形成するためのペーストとして、例えば、ポリプロピレンなどの樹脂を主成分とする樹脂ペーストを用いることが可能である。このような樹脂ペーストを用いた場合、グリーンシート積層体の焼成時に欠落防止パターンが焼失するため、欠落防止パターンの形状を自由に選択することが可能になり、製造工程の自由度を向上させることが可能になる。
例えば、樹脂ペーストを用いた場合、ビアホール導体4の端面4aを含むセラミックグリーンシート1の全面に欠落防止パターン5を配設することが可能であり、このとき欠落防止パターン5がビアホール導体4の端面4aの全体およびセラミックグリーンシート1の表面全体の広い領域と接しているため、ビアホール導体4の欠落防止効果をより大きくすることが可能になる。
<Resin paste>
As a paste for forming the omission prevention pattern 5, for example, a resin paste whose main component is a resin such as polypropylene can be used. When such a resin paste is used, the omission prevention pattern is burned out when the green sheet laminate is baked, so the shape of the omission prevention pattern can be freely selected and the degree of freedom in the manufacturing process can be improved. Is possible.
For example, when a resin paste is used, it is possible to dispose the missing prevention pattern 5 over the entire surface of the ceramic green sheet 1 including the end face 4 a of the via hole conductor 4, and at this time, the missing prevention pattern 5 serves as the end face of the via hole conductor 4. Since it is in contact with a wide area of the entire surface of 4a and the entire surface of the ceramic green sheet 1, the effect of preventing the via-hole conductor 4 from being lost can be further increased.

<導電性ペースト>
欠落防止パターン5を形成するためのペーストとして、金属を主成分とする導電性ペーストを用いてもよい。この場合、配線パターンなどを構成する導体パターン6に使用している導電性ペーストと同系統の組成のものを用いることが焼結性の点から望ましい。
また、欠落防止パターン5を形成するのに導電性ペーストを用いた場合、欠落防止パターン5はビアホール導体4の端面4aの全体およびビアホール導体4の端面4aの周囲のセラミックグリーンシート1の表面を覆うように配設することができる。また、このとき、欠落防止パターン5はビアホール導体4の端面4a全体と接しており、さらに、ビアホール導体4との密着性にも優れるため、ビアホール導体4をより確実に保持し、大きな欠落防止効果を得ることができる。
また、欠落防止パターン5を形成するためのペーストとして、導電性ペーストを用いた場合、欠落防止パターン5の、ビアホール導体4の端面4aの外周部からセラミックグリーンシート1の表面への突出距離(例えば、図4(a),(c)、及び、図5(a),(b)の距離A)は、20〜200μmとすることが望ましく、50〜100μmとすることが最も望ましい。距離Aが20μm未満になると十分な欠落防止効果が得られず、また、200μmを超えると、小型化への障害となるため好ましくない。一方、距離Aを50〜100μmとすることにより、製品の小型化を妨げることなく、十分な欠落防止効果を確保することが可能になる。
<Conductive paste>
As a paste for forming the omission prevention pattern 5, a conductive paste mainly composed of metal may be used. In this case, it is desirable from the viewpoint of sinterability to use the same type of composition as the conductive paste used for the conductor pattern 6 constituting the wiring pattern or the like.
Further, when the conductive paste is used to form the omission prevention pattern 5, the omission prevention pattern 5 covers the entire end face 4a of the via-hole conductor 4 and the surface of the ceramic green sheet 1 around the end face 4a of the via-hole conductor 4. Can be arranged as follows. At this time, the omission prevention pattern 5 is in contact with the entire end face 4a of the via-hole conductor 4, and also has excellent adhesion to the via-hole conductor 4, so that the via-hole conductor 4 is held more securely and has a great omission prevention effect. Can be obtained.
Further, when a conductive paste is used as the paste for forming the omission prevention pattern 5, the omission prevention pattern 5 protrudes from the outer peripheral portion of the end surface 4a of the via-hole conductor 4 to the surface of the ceramic green sheet 1 (for example, 4 (a), 4 (c) and FIG. 5 (a), (b), the distance A) is preferably 20 to 200 μm, and most preferably 50 to 100 μm. If the distance A is less than 20 μm, a sufficient omission prevention effect cannot be obtained, and if it exceeds 200 μm, it becomes an obstacle to miniaturization. On the other hand, by setting the distance A to 50 to 100 μm, it is possible to ensure a sufficient omission prevention effect without hindering downsizing of the product.

<セラミックペースト>
欠落防止パターン5を形成するためのペーストとして、セラミックを主成分として含むセラミックペーストを用いてもよい。欠落防止パターン5を形成するのにセラミックペーストを用いる場合、セラミックグリーンシート1(すなわち、セラミック積層体21(図2))を構成するセラミックと同系統のセラミックを用いることが焼結性の点から望ましい。
また、欠落防止パターン5を形成するのにセラミックペーストを用いる場合、欠落防止パターン5は、ビアホール導体4の端面4aの少なくとも一部が露出するような態様でビアホール導体4の端面4aの外周部から、ビアホール導体4の端面4aの周囲のセラミックグリーンシート1の表面に跨るように配設することができる。また、セラミックペーストを用いた場合、絶縁体からなる欠落防止パターン(絶縁性パターン)5が形成されるため、導電性ペーストを用いる場合に比べて、ビアホール導体4の端面4aの面積、すなわち、電極面積が大きくなりすぎることを回避しつつ、ビアホール導体4の欠落を防止することが可能になる。
なお、欠落防止パターン5を形成するためのペーストとして、セラミックペーストを用いた場合も、欠落防止パターン5の、ビアホール導体4の端面4aの外周部からセラミックグリーンシート1の表面への突出距離(例えば、図5(a),(b)の距離A)は、20〜200μmとすることが望ましく、50〜100μmとすることが最も望ましい。距離Aが20μm未満になると十分な欠落防止効果が得られず、また、200μmを超えると、小型化への障害となるため好ましくない。ただし、セラミックペーストの場合は200μmを超えた場合でも、他のビアホール導体の全面を覆うことがなければ問題はない。一方、距離Aを50〜100μmとすることにより、製品の小型化を妨げることなく、十分な欠落防止効果を確保することが可能になる。
<Ceramic paste>
A ceramic paste containing ceramic as a main component may be used as the paste for forming the omission prevention pattern 5. In the case of using a ceramic paste to form the omission prevention pattern 5, it is necessary to use a ceramic of the same system as the ceramic constituting the ceramic green sheet 1 (that is, the ceramic laminate 21 (FIG. 2)) from the viewpoint of sinterability. desirable.
When ceramic paste is used to form the omission prevention pattern 5, the omission prevention pattern 5 is formed from the outer peripheral portion of the end face 4a of the via-hole conductor 4 in such a manner that at least a part of the end face 4a of the via-hole conductor 4 is exposed. The via hole conductor 4 can be disposed so as to straddle the surface of the ceramic green sheet 1 around the end face 4a. Further, when the ceramic paste is used, a loss prevention pattern (insulating pattern) 5 made of an insulator is formed. Therefore, compared with the case where the conductive paste is used, the area of the end face 4a of the via-hole conductor 4, that is, the electrode It is possible to prevent the via-hole conductor 4 from being lost while avoiding an excessively large area.
Even when a ceramic paste is used as a paste for forming the omission prevention pattern 5, a protrusion distance (for example, from the outer peripheral portion of the end face 4 a of the via hole conductor 4 to the surface of the ceramic green sheet 1 of the omission prevention pattern 5 (for example, 5 (a) and 5 (b), the distance A) is preferably 20 to 200 μm, and most preferably 50 to 100 μm. If the distance A is less than 20 μm, a sufficient omission prevention effect cannot be obtained, and if it exceeds 200 μm, it becomes an obstacle to miniaturization. However, in the case of ceramic paste, even if it exceeds 200 μm, there is no problem if the entire surface of other via-hole conductors is not covered. On the other hand, by setting the distance A to 50 to 100 μm, it is possible to ensure a sufficient omission prevention effect without hindering downsizing of the product.

(5)それから、上記(4)で欠落防止パターンを形成した後、さらに導電性ペーストを印刷することにより、図1(e)および図4(b),(c)に示すように、表面導体6'、面内導体6''を構成する導体パターン6を構成する導体パターン6を形成する。なお、図3および図5(a),(b)に示すように、この実施例1では、端子電極6'''は、ビアホール導体4の端面4aによって形成されている。
面内導体を構成する導体パターン6は、欠落防止パターン5を乗り越えてビアホール導体4の端面4a上に達するように配設される導通接続部6aと、引き出し部6bと、前記導体接続部6aと引き出し部6bを接続する接続部6cとを含んでおり、引き出し部6b、接続部6c、導体接続部6aを介して、ビアホール導体4に接続されている。
また、端子電極を構成する導体パターン6は、欠落防止パターン5の上からビアホール導体4の端面4a上に至る領域に配設され、ビアホール導体4に確実に接続されている。
(5) Then, after forming the omission prevention pattern in (4) above, further printing a conductive paste, as shown in FIGS. 1 (e), 4 (b) and 4 (c), the surface conductor The conductor pattern 6 constituting the conductor pattern 6 constituting the in-plane conductor 6 '' is formed. As shown in FIG. 3 and FIGS. 5A and 5B, in the first embodiment, the terminal electrode 6 ′ ″ is formed by the end face 4a of the via-hole conductor 4.
The conductor pattern 6 constituting the in-plane conductor includes a conduction connecting portion 6a disposed so as to reach the end face 4a of the via-hole conductor 4 over the omission prevention pattern 5, the lead portion 6b, and the conductor connecting portion 6a. A connection portion 6c for connecting the lead portion 6b, and is connected to the via-hole conductor 4 via the lead portion 6b, the connection portion 6c, and the conductor connection portion 6a.
The conductor pattern 6 constituting the terminal electrode is disposed in a region from the top of the missing prevention pattern 5 to the end face 4a of the via-hole conductor 4, and is securely connected to the via-hole conductor 4.

なお、ビアホール導体4に接続するように面内導体を構成する導体パターン6を形成するにあたっては、図6(a)に示すように、ビアホール導体4の端面4aの互いに対向する一対の辺側の外周部を覆うように導電性ペーストを印刷して欠落防止パターン5を形成してもよい。また、さらに図6(b)に示すように、その上から導電性ペーストを印刷することにより、ビアホール導体4の端面4aと導通する導体接続部6aと、引き出し部6bと、導体接続部6aと引き出し部6bを接続する接続部6cとを含む導体パターン6が形成されるように構成することも可能である。   In forming the conductor pattern 6 constituting the in-plane conductor so as to be connected to the via-hole conductor 4, as shown in FIG. 6A, the end surfaces 4a of the via-hole conductor 4 are arranged on a pair of sides facing each other. The loss prevention pattern 5 may be formed by printing a conductive paste so as to cover the outer peripheral portion. Further, as shown in FIG. 6 (b), by printing a conductive paste from above, a conductor connecting portion 6a that conducts with the end face 4a of the via-hole conductor 4, a lead portion 6b, a conductor connecting portion 6a, It is also possible to configure so that a conductor pattern 6 including a connection portion 6c for connecting the lead portion 6b is formed.

図6(a),(b)に示すように、欠落防止パターン5を、外周の少なくとも一部を覆わないような態様で形成し、この欠落防止パターンの形成されていない、段差がなく平坦な領域を経て、導体パターン6をビアホール導体4と導通させるようにした場合、面内導体(配線パターン)を構成する導体パターンに断線が生じることを抑制、防止して、所望の特性を備えたセラミック多層基板を得ることが可能になる。   As shown in FIGS. 6A and 6B, the omission prevention pattern 5 is formed in such a manner as not to cover at least a part of the outer periphery, and this omission prevention pattern is not formed. When the conductor pattern 6 is electrically connected to the via-hole conductor 4 through the region, a ceramic having desired characteristics is suppressed and prevented from being broken in the conductor pattern constituting the in-plane conductor (wiring pattern). A multilayer substrate can be obtained.

さらに、欠落防止パターン5は、例えば、図7(a),(b)に示すように、ビアホール導体4の端面4aの、各辺のうち一つの辺側だけが欠落防止パターン5に覆われないような構成とすることも可能であり、欠落防止パターン5の具体的な形状に特別の制約はない。   Furthermore, as shown in FIGS. 7A and 7B, for example, as shown in FIGS. 7A and 7B, the omission prevention pattern 5 is not covered with the omission prevention pattern 5 on only one side of each side of the end face 4a of the via-hole conductor 4. Such a configuration is also possible, and the specific shape of the omission prevention pattern 5 is not particularly limited.

また、ビアホール用の貫通孔に充填するための導電性ペースト、導体パターンを形成するための導電性ペースト、および欠落防止パターンを導電性ペーストにより形成する場合の導電性ペーストとしては、同じ導電性ペーストを用いることが可能であり、また、種類の異なる導電性ペーストを用いることも可能である。   The same conductive paste is used as the conductive paste for filling the through holes for via holes, the conductive paste for forming the conductor pattern, and the conductive paste for forming the omission prevention pattern with the conductive paste. It is also possible to use different types of conductive paste.

また、導電性ペーストとしては、例えば、Ag、Au、Cu、Ni、Ag/Pt、Ag/Pdなどの金属を主成分とする導体粉末に、所定量の有機ビヒクルを加えたものを、ライカイ機、3本ロールなどで攪拌、混練することによって得た導電性ペーストなどを用いることが可能である。導体粉末の平均粒径や粒子形状は特に限定されるものではないが、たとえば、平均粒径0.3μm〜10μmであって粗大粉や凝集粉を含んでいないことが望ましい。   Further, as the conductive paste, for example, a conductive powder mainly composed of a metal such as Ag, Au, Cu, Ni, Ag / Pt, Ag / Pd, and the like, in which a predetermined amount of an organic vehicle is added, It is possible to use a conductive paste obtained by stirring and kneading with three rolls or the like. The average particle diameter and particle shape of the conductor powder are not particularly limited. For example, it is desirable that the average particle diameter is 0.3 μm to 10 μm and no coarse powder or aggregated powder is included.

また、ビアホール用の貫通孔に充填するための導電性ペーストについては、セラミックグリーンシートとの焼結収縮の整合性を図るため、ガラスフリットやセラミック原料粉末を70重量%以下の割合で含有してもよい。すなわち、導電性ペーストは、セラミックグリーンシートなどとの収縮率の整合性を図ること、抵抗率を調整すること、セラミックグリーンシートなどとの密着強度を調整することなどを目的として、種々の組成比のものを用いることが可能である。   The conductive paste for filling the through holes for via holes contains glass frit and ceramic raw material powder in a proportion of 70% by weight or less in order to match the sintering shrinkage with the ceramic green sheet. Also good. In other words, the conductive paste has various composition ratios for the purpose of matching the shrinkage rate with the ceramic green sheet, adjusting the resistivity, and adjusting the adhesion strength with the ceramic green sheet. Can be used.

(6)それから、図2(a),(b)に示すように、上述のようにして作製したセラミックグリーンシート1を所定の順序で積層し、グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を形成する。セラミックグリーンシート1を積層するにあたっては、セラミックグリーンシート1をキャリアフィルム2から剥がし、必要に応じて、他のセラミックグリーンシートとともに、順次積層することにより、図2(b)に示すようなグリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を形成する。   (6) Then, as shown in FIGS. 2A and 2B, the ceramic green sheets 1 produced as described above are laminated in a predetermined order, and a green sheet laminate (unfired ceramic laminate) 11 is obtained. Form. When the ceramic green sheets 1 are laminated, the ceramic green sheets 1 are peeled off from the carrier film 2 and laminated together with other ceramic green sheets as necessary, so that the green sheets as shown in FIG. A laminate (unfired ceramic laminate) 11 is formed.

(7)それから、グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を所定の条件で焼成することにより、図2(c)に示すように、表面導体6'、面内導体6''などを構成する導体パターン6、ビアホール導体4、所定のビアホール導体4の端面4aにより形成された端子電極6'''などを備えたセラミック多層基板(セラミック積層体)21を得る。
なお、この実施例1では、図2(c)に示すように、セラミック多層基板(セラミック積層体)21の下面側に露出したビアホール導体4の下側の端面4aがセラミック多層基板の端子電極6'''となっている。
(7) Then, by firing the green sheet laminate (unfired ceramic laminate) 11 under predetermined conditions, as shown in FIG. 2 (c), the surface conductor 6 ′, the in-plane conductor 6 ″, etc. A ceramic multilayer substrate (ceramic laminate) 21 including the conductor pattern 6 to be formed, the via-hole conductor 4, the terminal electrode 6 ′ ″ formed by the end face 4 a of the predetermined via-hole conductor 4 is obtained.
In the first embodiment, as shown in FIG. 2C, the lower end face 4a of the via-hole conductor 4 exposed on the lower surface side of the ceramic multilayer substrate (ceramic laminate) 21 is the terminal electrode 6 of the ceramic multilayer substrate. '''.

(8)その後、表面に露出した導体にめっきを施した後、半導体デバイス7、表面実装部品(例えば、チップコンデンサ)8などをリフローはんだ付けなどの方法により、はんだ10を介してセラミック多層基板21の表面に実装することにより、セラミック多層モジュール31を完成する(図2(c))。   (8) Then, after plating the conductor exposed on the surface, the semiconductor device 7, the surface mounting component (for example, chip capacitor) 8, etc. are reflow-soldered or the like and the ceramic multilayer substrate 21 through the solder 10. By mounting on the surface of the ceramic multilayer module 31, the ceramic multilayer module 31 is completed (FIG. 2C).

なお、図3に示すように、さらに、セラミック多層モジュール31の上面側に金属ケース9を取り付けて、金属ケース付きセラミック多層モジュール31aとすることも可能である。
なお、図2(c),図3は、焼成後にも欠落防止パターン5が残留している例を示している。
In addition, as shown in FIG. 3, it is also possible to attach the metal case 9 to the upper surface side of the ceramic multilayer module 31, and to make the ceramic multilayer module 31a with a metal case.
2C and 3 show an example in which the missing prevention pattern 5 remains even after baking.

また、一つの親基板を分割して、複数のセラミック多層基板が同時に得られるようにする、いわゆる多数個取りの方法の場合、前記(6)のセラミックグリーンシートを積層、圧着して、グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を形成した時点で、ブレイクライン上に溝を形成しておき、前記(8)の工程で半導体デバイス7、表面実装部品(例えば、チップコンデンサ)8などをセラミック多層基板21の表面に実装した後、分割することにより、図2(c)に示すようなセラミック多層モジュール31を得ることができる。   Further, in the case of a so-called multi-cavity method in which one parent substrate is divided so that a plurality of ceramic multilayer substrates can be obtained simultaneously, the ceramic green sheets of (6) above are laminated and pressure-bonded. At the time when the multilayer body (unfired ceramic multilayer body) 11 is formed, grooves are formed on the break line, and the semiconductor device 7, surface mount component (for example, chip capacitor) 8, etc. are formed in the step (8). A ceramic multilayer module 31 as shown in FIG. 2C can be obtained by mounting on the surface of the ceramic multilayer substrate 21 and then dividing.

上記実施例1のセラミック多層基板の製造方法においては、欠落防止パターン5がビアホール導体4とセラミックグリーンシート1をつなぎ止め、外力によりビアホール導体4が欠落することを抑制、防止する機能を果たすため、ビアホール導体4の欠落のない、所望の特性を備えた信頼性の高いセラミック多層基板21を効率よく製造することができる。   In the method for manufacturing the ceramic multilayer substrate of Example 1, the missing prevention pattern 5 serves to suppress the via hole conductor 4 and the ceramic green sheet 1 from being connected, and to suppress and prevent the via hole conductor 4 from being lost due to external force. A highly reliable ceramic multilayer substrate 21 having desired characteristics without missing the via-hole conductor 4 can be efficiently manufactured.

なお、上記実施例1では、ビアホール導体用の貫通孔が、セラミックグリーンシートを支持するキャリアフィルムにも形成されている場合を例にとって説明したが、図8に示すように、セラミックグリーンシート1にのみ貫通孔3が形成され、キャリアフィルム2には貫通孔が形成されていない場合にも、本願発明を適用することが可能であり、その場合にも、ビアホール導体4の欠落を防止する効果を得ることができる。   In the first embodiment, the case where the through hole for the via hole conductor is also formed in the carrier film supporting the ceramic green sheet has been described as an example. However, as shown in FIG. The present invention can also be applied to the case where only the through hole 3 is formed and the through hole is not formed in the carrier film 2, and also in this case, the effect of preventing the via hole conductor 4 from being lost is obtained. Obtainable.

図9〜図12は本願発明の他の実施例(実施例2)にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。なお、図9〜図12において、図1〜8と同一符号を付した部分は同一または相当する部分を示している。
この実施例2では、欠落防止パターンの形成用材料として、樹脂ペーストを用い、セラミックグリーンシートの全面に欠落防止パターンを形成した。
FIGS. 9-12 is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning the other Example (Example 2) of this invention. 9-12, the part which attached | subjected the same code | symbol as FIGS. 1-8 has shown the part which is the same or it corresponds.
In Example 2, a resin paste was used as a material for forming a missing prevention pattern, and the missing prevention pattern was formed on the entire surface of the ceramic green sheet.

以下、この実施例2のセラミック多層基板の製造方法について説明する。
(1)まず、図9(a)に示すように、キャリアフィルム2に裏打ちされたセラミックグリーンシート1を用意する。
Hereinafter, a method for manufacturing the ceramic multilayer substrate of Example 2 will be described.
(1) First, as shown in FIG. 9A, a ceramic green sheet 1 lined with a carrier film 2 is prepared.

(2)それから、図9(b)に示すように、セラミックグリーンシート1にビアホール用の貫通孔3を形成する。なお、このとき、セラミックグリーンシート1とともに、キャリアフィルム2を貫通するように貫通孔3を形成する。   (2) Then, as shown in FIG. 9B, a through hole 3 for a via hole is formed in the ceramic green sheet 1. At this time, the through hole 3 is formed so as to penetrate the carrier film 2 together with the ceramic green sheet 1.

(3)それから、図9(c)に示すように、上述のようにして作製したセラミックグリーンシート1のビアホール用の貫通孔3に導電性ペーストを充填して、ビアホール導体4を形成する。   (3) Then, as shown in FIG. 9C, the via hole conductor 4 is formed by filling the via hole 3 for the via hole of the ceramic green sheet 1 manufactured as described above with a conductive paste.

(4)次に、図9(d)に示すように、ビアホール導体4の端面4aがセラミック多層基板21の表面に露出することになるような態様で用いられる、所定のセラミックグリーンシート1の上面全体に樹脂ペーストを塗布して、樹脂ペースト層からなる欠落防止パターン5(5a)を形成する。なお、この実施例2では、樹脂ペーストとして、ポリプロピレンなどを主成分とする樹脂ペーストを用いることができる。   (4) Next, as shown in FIG. 9 (d), the upper surface of a predetermined ceramic green sheet 1 used in such a manner that the end face 4a of the via-hole conductor 4 is exposed on the surface of the ceramic multilayer substrate 21. A resin paste is applied to the entire surface to form a missing prevention pattern 5 (5a) made of a resin paste layer. In Example 2, a resin paste mainly composed of polypropylene or the like can be used as the resin paste.

(5)その後、図10(a)に示すように、上記(4)の工程で形成された、ビアホール導体4,欠落防止パターン5(5a)を備えたセラミックグリーンシート1と、導体パターン6を備え、欠落防止パターン5(5a)を備えていない他のセラミックグリーンシートとを、欠落防止パターン5(5a)を備えたセラミックグリーンシート1におけるビアホール導体4の端面4aが、セラミック多層基板21の表面(下面)に露出することになるように、所定の順序で積層し、グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)を形成する。セラミックグリーンシート1を積層するにあたっては、セラミックグリーンシート1をキャリアフィルム2から剥がし、必要に応じて、他のセラミックグリーンシートとともに、順次積層することにより、図10(b)に示すようなグリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を形成する。
なお、上記実施例では焼結性の観点から、前記欠落防止パターンは積層体の最外層となる位置に配設するように積層しているが、場合によっては最外層以外のセラミックグリーンシートにも、樹脂ペースト層からなる欠落防止パターン5(5a)を設けるように構成することも可能である。
(5) Thereafter, as shown in FIG. 10 (a), the ceramic green sheet 1 provided with the via-hole conductor 4, the omission prevention pattern 5 (5a), and the conductor pattern 6 formed in the step (4) above. The end face 4a of the via-hole conductor 4 in the ceramic green sheet 1 provided with the missing prevention pattern 5 (5a) and the other ceramic green sheet provided with the missing prevention pattern 5 (5a) is the surface of the ceramic multilayer substrate 21. The green sheet laminate (unfired ceramic laminate) is formed by laminating in a predetermined order so as to be exposed on the (lower surface). When the ceramic green sheets 1 are laminated, the ceramic green sheets 1 are peeled off from the carrier film 2 and are laminated together with other ceramic green sheets as necessary, whereby a green sheet as shown in FIG. A laminate (unfired ceramic laminate) 11 is formed.
In the above embodiment, from the viewpoint of sinterability, the omission prevention pattern is laminated so as to be disposed at a position to be the outermost layer of the laminate, but depending on the case, it may be applied to ceramic green sheets other than the outermost layer. It is also possible to provide a missing prevention pattern 5 (5a) made of a resin paste layer.

(6)それから、グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を所定の条件で焼成することにより、樹脂ペーストを燃焼、分解させて、消失させるとともに、セラミックグリーンシートおよび導電性ペーストを焼結させることによ
り、図11(a)に示すような、ビアホール導体4が表面に露出した表面導体6'(4)、面内導体6''、ビアホール導体4の端面4aによって形成されている端子電極6'''(4a)などを構成する導体パターン6、ビアホール導体4などを備えたセラミック多層基板(セラミック積層体)21を得る。
(6) Then, by firing the green sheet laminate (unfired ceramic laminate) 11 under predetermined conditions, the resin paste is burnt, decomposed and disappeared, and the ceramic green sheet and the conductive paste are sintered. 11A, the terminal electrode formed by the surface conductor 6 ′ (4) with the via-hole conductor 4 exposed on the surface, the in-plane conductor 6 ″, and the end face 4a of the via-hole conductor 4 as shown in FIG. A ceramic multilayer substrate (ceramic laminate) 21 provided with the conductor pattern 6 constituting 6 ′ ″ (4a), the via-hole conductor 4 and the like is obtained.

(7)その後、表面に露出した導体にめっきを施した後、図11(b)に示すように、半導体デバイス7、表面実装部品(例えば、チップコンデンサ)8などをセラミック多層基板21の表面に実装することにより、セラミック多層モジュール31を完成する。   (7) Then, after plating the conductor exposed on the surface, as shown in FIG. 11 (b), the semiconductor device 7, surface mount component (for example, chip capacitor) 8, etc. are placed on the surface of the ceramic multilayer substrate 21. By mounting, the ceramic multilayer module 31 is completed.

なお、図3に示すように、さらに、セラミック多層モジュール31の上面側に金属ケース9を取り付けて、金属ケース付きセラミック多層モジュール31aとすることも可能である。   In addition, as shown in FIG. 3, it is also possible to attach the metal case 9 to the upper surface side of the ceramic multilayer module 31, and to make the ceramic multilayer module 31a with a metal case.

上記実施例2のセラミック多層基板の製造方法においては、欠落防止パターン5(5a)に用いられている樹脂ペーストが焼成工程で消失するため、欠落防止パターン5(5a)の形状や構造を決定するにあたって、ビアホール導体4と、配線パターンなどを構成する導体パターン6との電気的な接続を確保するために欠落防止パターン5(5a)の形状や構造が制約されるようなことがなく、製造工程におけるビアホール導体4の脱落を防止するのに最適なパターンの欠落防止パターン5(5a)を形成することが可能になり、ビアホール導体4の脱落防止の信頼性を向上させることが可能になる。   In the method for manufacturing the ceramic multilayer substrate of Example 2, since the resin paste used for the missing prevention pattern 5 (5a) disappears in the firing step, the shape and structure of the missing prevention pattern 5 (5a) are determined. In the manufacturing process, the shape and structure of the omission prevention pattern 5 (5a) are not restricted in order to ensure electrical connection between the via-hole conductor 4 and the conductor pattern 6 constituting the wiring pattern or the like. It is possible to form an omission prevention pattern 5 (5a) that is optimal for preventing the via-hole conductor 4 from falling off, and to improve the reliability of preventing the via-hole conductor 4 from falling off.

なお、この実施例2では、セラミックグリーンシート1の表面全体に樹脂ペーストを塗布して、ビアホール導体4の欠落防止パターン5(5a)を形成するようにしているが、図12に示すように、ビアホール導体4の端面4a及びその周囲にのみ樹脂ペーストを塗布して、セラミックグリーンシート1の上面の所定の位置にのみ欠落防止パターン5(5a)を形成するように構成することも可能である。   In Example 2, a resin paste is applied to the entire surface of the ceramic green sheet 1 to form the omission prevention pattern 5 (5a) of the via-hole conductor 4, but as shown in FIG. It is also possible to apply the resin paste only to the end face 4a of the via-hole conductor 4 and the periphery thereof to form the missing prevention pattern 5 (5a) only at a predetermined position on the upper surface of the ceramic green sheet 1.

図13および図14は本願発明のさらに他の実施例(実施例3)にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。なお、図13および図14において、図1〜8と同一符号を付した部分は同一または相当する部分を示している。
この実施例3では、グリーンシート積層体の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とする材料からなる欠落防止パターンを形成することにより、欠落防止パターンがビアホール導体の脱落を防止する機能を果たすとともに、焼成工程において、グリーンシート積層体の積層方向に直交する方向(平面方向)の収縮を抑制する機能を果たすようにした。
13 and 14 are views showing a method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to still another embodiment (Example 3) of the present invention. In FIGS. 13 and 14, the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 8 denote the same or corresponding parts.
In this example 3, the omission prevention pattern is formed of a material mainly composed of a hardly sinterable ceramic that does not substantially sinter at the firing temperature of the green sheet laminate. And the function of suppressing shrinkage in the direction (plane direction) orthogonal to the stacking direction of the green sheet laminate in the firing step.

以下、この実施例3のセラミック多層基板の製造方法について説明する。
(1)まず、図13(a)に示すように、キャリアフィルム2に裏打ちされたセラミックグリーンシート1を用意する。
Hereinafter, a method for manufacturing the ceramic multilayer substrate of Example 3 will be described.
(1) First, as shown in FIG. 13A, a ceramic green sheet 1 backed by a carrier film 2 is prepared.

(2)それから、図13(b)に示すように、セラミックグリーンシート1にビアホール用の貫通孔3を形成する。なお、このとき、セラミックグリーンシート1とともに、キャリアフィルム2を貫通するように貫通孔3を形成する。   (2) Then, as shown in FIG. 13 (b), a through hole 3 for a via hole is formed in the ceramic green sheet 1. At this time, the through hole 3 is formed so as to penetrate the carrier film 2 together with the ceramic green sheet 1.

(3)それから、図13(c)に示すように、上述のようにして作製したセラミックグリーンシート1のビアホール用の貫通孔3に導電性ペーストを充填して、ビアホール導体4を形成する。   (3) Then, as shown in FIG. 13C, the via hole conductor 4 is formed by filling the through hole 3 for the via hole of the ceramic green sheet 1 produced as described above with a conductive paste.

(4)次に、図13(d)に示すように、ビアホール導体4の端面4aの中央部を除く、セラミックグリーンシート1の上面全体に、グリーンシート(グリーンシート積層体)の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とし、焼成工程で、グリーンシート積層体の積層方向に直交する方向(平面方向)の収縮を抑制する機能を果たす収縮抑制層5bを、欠落防止パターン5として形成する。   (4) Next, as shown in FIG. 13 (d), the entire upper surface of the ceramic green sheet 1 excluding the central portion of the end face 4a of the via-hole conductor 4 is substantially at the firing temperature of the green sheet (green sheet laminate). The shrinkage-suppressing layer 5b, which has a function of suppressing shrinkage in the direction (plane direction) perpendicular to the stacking direction of the green sheet laminate, is prevented from being lost in the firing process. The pattern 5 is formed.

なお、欠落防止パターン5(収縮抑制層5b)を形成するにあたっては、有機ビヒクル中にアルミナ粉末を分散させてスラリーを調製し、このスラリーをビアホール導体4の端面4aの中央部を除く、セラミックグリーンシート1の上面全体に塗布することにより、欠落防止パターン5(収縮抑制層5b)を形成する。
また、欠落防止パターン5(収縮抑制層5b)は、焼成後の厚みが1〜20μmとなるように、塗布厚みを調整する。これは、焼成後の厚みが1μm未満になると、収縮を抑制する効果が不十分になり、また厚みが20μmを超えると、セラミック材料からのガラス成分の欠落防止パターンへの拡散が十分にゆきわたらず、そのためセラミック層間の接着性が確保できなくなることがあることによる。
なお、難焼結性セラミックを主成分とする欠落防止パターン5(収縮抑制層5b)は、焼成工程における収縮がほとんどなく、焼成の前後においてその厚みに大きな変化が起こることはない。
In forming the omission prevention pattern 5 (shrinkage suppression layer 5b), an alumina powder is dispersed in an organic vehicle to prepare a slurry, and this slurry is removed from the central portion of the end face 4a of the via-hole conductor 4 by using a ceramic green. By applying to the entire upper surface of the sheet 1, the missing prevention pattern 5 (shrinkage suppression layer 5b) is formed.
Moreover, the missing prevention pattern 5 (shrinkage suppression layer 5b) adjusts the coating thickness so that the thickness after firing becomes 1 to 20 μm. This is because when the thickness after firing is less than 1 μm, the effect of suppressing shrinkage becomes insufficient, and when the thickness exceeds 20 μm, the diffusion of the glass component from the ceramic material to the omission prevention pattern is sufficiently suppressed. Therefore, the adhesiveness between the ceramic layers may not be ensured.
In addition, the omission prevention pattern 5 (shrinkage suppression layer 5b) mainly composed of a hardly sinterable ceramic has almost no shrinkage in the firing step, and the thickness thereof does not change greatly before and after firing.

(5)次に、図13(e)に示すように、セラミックグリーンシート1の上面の、ビアホール導体4の端面4aを含む領域に、導電性ペーストを印刷して導体パターン6を形成する。   (5) Next, as shown in FIG. 13 (e), a conductive paste 6 is printed on the upper surface of the ceramic green sheet 1 including the end face 4 a of the via-hole conductor 4 to form a conductor pattern 6.

(6)その後、図14(a)に示すように、上記(5)の工程で形成された、ビアホール導体4,欠落防止パターン5(5b)、導体パターン6などを備えたセラミックグリーンシート1を所定の順序で積層することにより、図14(b)に示すように、グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を形成する。なお、セラミックグリーンシート1を積層するにあたっては、セラミックグリーンシート1をキャリアフィルム2から剥がし、必要に応じて、他のセラミックグリーンシートとともに、順次積層することにより、図14(b)に示すようなグリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を形成する。   (6) Thereafter, as shown in FIG. 14 (a), the ceramic green sheet 1 provided with the via-hole conductor 4, the omission prevention pattern 5 (5b), the conductor pattern 6, etc., formed in the step (5). By laminating in a predetermined order, a green sheet laminate (unfired ceramic laminate) 11 is formed as shown in FIG. When the ceramic green sheets 1 are laminated, the ceramic green sheets 1 are peeled off from the carrier film 2 and sequentially laminated together with other ceramic green sheets as shown in FIG. 14B. A green sheet laminate (unfired ceramic laminate) 11 is formed.

(7)それから、グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)11を所定の条件で焼成することにより、図14(c)に示すような、表面導体6'、面内導体6''、端子電極6'''などを構成する導体パターン6、ビアホール導体4などを備えたセラミック多層基板(セラミック積層体)21を得る。
なお、この実施例3では、欠落防止パターン5として、収縮抑制層5bが用いられているので、グリーンシート積層体11の焼成工程で、グリーンシート積層体11が積層方向には収縮するが、積層方向に直交する方向(平面方向)にはほとんど収縮しないようにすることが可能になり、所望の寸法精度、形状精度を備え、かつ、ビアホール導体4の欠落のない信頼性の高いセラミック多層基板を得ることができる。また、欠落防止パターンとしての収縮抑制層が、ビアホール導体とセラミックグリーンシートとの両者にまたがっているので、焼成時、それらの間に生じることのあるボイドの発生を防ぐことができる。
(7) Then, the green sheet laminate (unfired ceramic laminate) 11 is fired under predetermined conditions, whereby a surface conductor 6 ′, an in-plane conductor 6 ″, a terminal as shown in FIG. A ceramic multilayer substrate (ceramic laminate) 21 including the conductor pattern 6 constituting the electrode 6 ′ ″ and the like, the via-hole conductor 4 and the like is obtained.
In Example 3, since the shrinkage suppression layer 5 b is used as the omission prevention pattern 5, the green sheet laminate 11 is shrunk in the laminating direction in the firing process of the green sheet laminate 11. A highly reliable ceramic multilayer substrate having a desired dimensional accuracy and shape accuracy, and having no via-hole conductor 4 missing, can be prevented from shrinking in a direction orthogonal to the direction (plane direction). Obtainable. Moreover, since the shrinkage | contraction suppression layer as a missing prevention pattern straddles both the via-hole conductor and a ceramic green sheet, generation | occurrence | production of the void which may arise between them at the time of baking can be prevented.

(8)その後、表面に露出した表面導体6'にめっきを施した後、図14(c)に示すように、半導体デバイス7、表面実装部品(例えば、チップコンデンサ)8などをセラミック多層基板21の表面に実装することにより、セラミック多層モジュール31を完成する。   (8) Then, after plating the surface conductor 6 ′ exposed on the surface, the semiconductor device 7, the surface mount component (for example, chip capacitor) 8 and the like are mounted on the ceramic multilayer substrate 21 as shown in FIG. The ceramic multilayer module 31 is completed by mounting on the surface.

なお、図3に示すように、さらに、セラミック多層モジュール31の上面側に金属ケース9を取り付けて、金属ケース付きセラミック多層モジュール31aとすることも可能である。   In addition, as shown in FIG. 3, it is also possible to attach the metal case 9 to the upper surface side of the ceramic multilayer module 31, and to make the ceramic multilayer module 31a with a metal case.

上記実施例3のセラミック多層基板の製造方法においては、欠落防止パターン5としても用いられている収縮抑制層5bが、ビアホール導体4の欠落を防止する機能を果たすとともに、焼成工程におけるグリーンシート積層体(焼成後のセラミック積層体)11の平面方向における収縮を抑制する機能を果たすため、平面的な寸法精度が高く、かつ、ビアホール導体4の欠落のない信頼性の高いセラミック多層基板21を得ることができる。   In the method for producing a ceramic multilayer substrate of Example 3, the shrinkage suppression layer 5b also used as the missing prevention pattern 5 functions to prevent the via hole conductor 4 from being lost, and the green sheet laminate in the firing step (Ceramic laminate after firing) In order to fulfill the function of suppressing the shrinkage in the planar direction of 11, a highly reliable ceramic multilayer substrate 21 having a high planar dimensional accuracy and no missing via-hole conductor 4 is obtained. Can do.

なお、本願発明は、上記の各実施例に限定されるものではなく、ビアホール導体を構成する材料の種類やビアホール導体の形状、セラミック多層基板へのビアホール導体の配設態様、欠落防止パターンの構成材料や具体的な形状などに関し、発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。   The present invention is not limited to the above embodiments, but the type of material constituting the via-hole conductor, the shape of the via-hole conductor, the arrangement of the via-hole conductor on the ceramic multilayer substrate, and the configuration of the omission prevention pattern Various applications and modifications can be made within the scope of the invention with respect to materials and specific shapes.

上述のように、本願発明によれば、ビアホール導体の欠落のない信頼性の高いセラミック多層基板を、効率よく、しかも、確実に製造することが可能になる。
したがって、本願発明は、セラミック多層基板やそれを用いたセラミック多層モジュールおよびそれらの製造技術の分野に広く適用することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to efficiently and surely manufacture a highly reliable ceramic multilayer substrate with no missing via-hole conductors.
Therefore, the present invention can be widely applied to the field of ceramic multilayer substrates, ceramic multilayer modules using the same, and manufacturing techniques thereof.

(a)〜(e)は本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。(a)-(e) is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention. (a)〜(c)は本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。(a)-(c) is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention. 本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板を用いた金属ケース付きセラミック多層モジュールを示す図である。It is a figure which shows the ceramic multilayer module with a metal case using the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention. 本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法の特徴を説明する図であり、(a)は欠落防止パターンを形成した状態を示す平面図,(b)は欠落防止パターンの上から面内導体となる導体パターンを形成した状態を示す平面図、(c)は(b)のc−c線断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure explaining the characteristic of the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention, (a) is a top view which shows the state which formed the omission prevention pattern, (b) is a surface from the top of an omission prevention pattern. The top view which shows the state which formed the conductor pattern used as an inner conductor, (c) is the cc sectional view taken on the line of (b). 本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法の特徴を説明する図であり、(a)は端子電極の近傍を示す正面断面図、(b)は底面図である。It is a figure explaining the characteristic of the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention, (a) is front sectional drawing which shows the vicinity of a terminal electrode, (b) is a bottom view. 本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法の変形例を説明する図であり、(a)は欠落防止パターンを形成した状態を示す図,(b)は欠落防止パターンの上から導体パターンを形成した状態を示す図である。It is a figure explaining the modification of the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention, (a) is a figure which shows the state which formed the omission prevention pattern, (b) is a conductor from the omission prevention pattern. It is a figure which shows the state in which the pattern was formed. 本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法の他の変形例を説明する図であり、(a)は欠落防止パターンを形成した状態を示す図,(b)は欠落防止パターンの上から導体パターンを形成した状態を示す図である。It is a figure explaining the other modification of the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention, (a) is a figure which shows the state in which the omission prevention pattern was formed, (b) is the top of the omission prevention pattern It is a figure which shows the state which formed the conductor pattern from. 本願発明の実施例1にかかるセラミック多層基板の製造方法のさらに他の変形例を示す図である。It is a figure which shows the further another modification of the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 1 of this invention. (a)〜(d)は本願発明の実施例2にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。(a)-(d) is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 2 of this invention. (a),(b)は本願発明の実施例2にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。(a), (b) is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 2 of this invention. (a),(b)は本願発明の実施例2にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。(a), (b) is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 2 of this invention. 本願発明の実施例2にかかるセラミック多層基板の製造方法の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 2 of this invention. (a)〜(e)は本願発明の実施例3にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。(a)-(e) is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 3 of this invention. (a)〜(c)は本願発明の実施例3にかかるセラミック多層基板の製造方法を示す図である。(a)-(c) is a figure which shows the manufacturing method of the ceramic multilayer substrate concerning Example 3 of this invention. (a)、(b)は、従来のセラミック多層基板の製造工程におけるビアホール導体の形成方法を示す図である。(a), (b) is a figure which shows the formation method of the via-hole conductor in the manufacturing process of the conventional ceramic multilayer substrate. (a)〜(c)は従来の他のビアホール導体の形成方法を示す図である。(a)-(c) is a figure which shows the formation method of the other conventional via-hole conductor. (a)〜(e)は従来のさらに他のビアホール導体の形成方法を示す図である。(a)-(e) is a figure which shows the conventional formation method of another via-hole conductor.

1 セラミックグリーンシート
2 キャリアフィルム
3 ビアホール用の貫通孔
4 ビアホール導体
4a ビアホール導体の端面
5(5a) 欠落防止パターン
5b 収縮抑制層
6 導体パターン
6' 表面導体
6'' 面内導体
6''' 端子電極
6a 導体接続部
6b 引き出し部
6c 接続部
7 半導体デバイス
8 表面実装部品
9 金属ケース
10 はんだ
11 グリーンシート積層体(未焼成セラミック積層体)
21 セラミック多層基板(セラミック積層体)
31 セラミック多層モジュール
31a 金属ケース付きセラミック多層モジュール
D ビアホール用の貫通孔の平面形状の最大寸法
t セラミックグリーンシートとキャリアフィルムの厚みを加算した厚さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic green sheet 2 Carrier film 3 Via hole for via hole 4 Via hole conductor 4a End surface of via hole conductor 5 (5a) Missing prevention pattern 5b Shrinkage suppression layer 6 Conductor pattern 6 'Surface conductor 6''In-plane conductor 6''' Terminal Electrode 6a Conductor connection portion 6b Lead portion 6c Connection portion 7 Semiconductor device 8 Surface mount component 9 Metal case 10 Solder 11 Green sheet laminate (unfired ceramic laminate)
21 Ceramic multilayer substrate (ceramic laminate)
31 Ceramic multilayer module 31a Ceramic multilayer module with metal case D Maximum dimension of planar shape of via hole for via hole t Thickness of ceramic green sheet plus carrier film thickness

Claims (17)

キャリアフィルムによって裏打ちされたセラミックグリーンシートに対して、少なくとも前記セラミックグリーンシートを貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電性ペーストを充填することによりビアホール導体を形成する工程と、
前記セラミックグリーンシートの表面に、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部から、前記セラミックグリーンシートの表面の少なくとも一部に跨るように、前記セラミックグリーンシートから前記ビアホール導体が欠落することを防止するための欠落防止パターンを形成する工程と、
前記セラミックグリーンシートを前記キャリアフィルムから剥離する工程と、
前記キャリアフィルムから剥離した、前記ビアホール導体および前記欠落防止パターンを備えたセラミックグリーンシートを含む複数のセラミックグリーンシートを積層してグリーンシート積層体を形成する工程と、
前記グリーンシート積層体を焼成して、前記グリーンシート積層体を焼結させる工程と
を具備することを特徴とする、セラミック多層基板の製造方法。
Forming a through hole penetrating at least the ceramic green sheet with respect to the ceramic green sheet backed by a carrier film;
Forming a via-hole conductor by filling the through hole with a conductive paste ;
In order to prevent the via hole conductor from being missing from the ceramic green sheet so as to straddle at least a part of the surface of the ceramic green sheet from at least a part of the end surface of the via hole conductor on the surface of the ceramic green sheet. Forming a loss prevention pattern of
Peeling the ceramic green sheet from the carrier film;
Laminating a plurality of ceramic green sheets including the ceramic green sheet provided with the via-hole conductor and the omission prevention pattern , peeled from the carrier film , and forming a green sheet laminate,
Firing the green sheet laminate, and sintering the green sheet laminate. A method for producing a ceramic multilayer substrate, comprising:
前記欠落防止パターンを形成した後、前記セラミックグリーンシートの表面に、前記グリーンシート積層体において面内導体となる導体パターンを形成する工程を備えることを特徴とする、請求項1記載のセラミック多層基板の製造方法。 After forming the missing prevention pattern, said ceramic green sheet surface, said characterized in that it comprises a step of forming a conductive pattern serving as a plane conductors in the green sheet laminate, the multilayer ceramic substrate of claim 1, wherein Manufacturing method. 前記欠落防止パターンを、前記グリーンシート積層体と同時に焼成されるセラミックおよび/またはガラスを主成分とする絶縁性材料によって、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するような態様で形成することを特徴とする、請求項1または2記載のセラミック多層基板の製造方法。 The omission prevention pattern is formed in such a manner that at least a part of the end face of the via-hole conductor is exposed by an insulating material mainly composed of ceramic and / or glass that is fired simultaneously with the green sheet laminate. The method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein: 前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体の端面の外周全体を覆うように形成することを特徴とする、請求項記載のセラミック多層基板の製造方法。 4. The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 3 , wherein the missing prevention pattern is formed so as to cover the entire outer periphery of the end face of the via-hole conductor. 前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体の端面の外周の要部を覆い、かつ、少なくとも外周の一部を覆わないような態様で形成することを特徴とする、請求項記載のセラミック多層基板の製造方法。 4. The ceramic multilayer substrate according to claim 3 , wherein the missing prevention pattern is formed in such a manner as to cover a main part of the outer periphery of the end face of the via-hole conductor and not to cover at least a part of the outer periphery. Production method. 前記面内導体が、前記ビアホール導体の端面の前記露出した部分を覆うように形成される導体接続部と、前記導体接続部に接続される引き出し部とを備えており、前記引き出し部と前記導体接続部との接続部が、前記ビアホール導体の端面の外周の、前記欠落防止パターンにより覆われていない部分に形成されることを特徴とする、請求項記載のセラミック多層基板の製造方法。 The in-plane conductor includes a conductor connection portion formed so as to cover the exposed portion of the end surface of the via-hole conductor, and a lead portion connected to the conductor connection portion, and the lead portion and the conductor 6. The method of manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 5 , wherein the connection portion with the connection portion is formed in a portion of the outer periphery of the end face of the via-hole conductor that is not covered with the missing prevention pattern. 前記欠落防止パターンを、前記グリーンシート積層体を焼成する工程で消失する樹脂により形成することを特徴とする、請求項1または2記載のセラミック多層基板の製造方法。 3. The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the loss prevention pattern is formed of a resin that disappears in the step of firing the green sheet laminate. 前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体の端面全体を覆うように形成することを特徴とする、請求項記載のセラミック多層基板の製造方法。 8. The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 7 , wherein the missing prevention pattern is formed so as to cover the entire end face of the via-hole conductor. 前記欠落防止パターンを、前記ビアホール導体が形成された前記セラミックグリーンシートの表面全体を覆うように形成することを特徴とする、請求項記載のセラミック多層基板の製造方法。 9. The method for manufacturing a ceramic multilayer substrate according to claim 8 , wherein the missing prevention pattern is formed so as to cover the entire surface of the ceramic green sheet on which the via-hole conductor is formed. 前記欠落防止パターンを、前記グリーンシート積層体の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料により、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するように形成することを特徴とする、請求項1または2記載のセラミック多層基板の製造方法。 At least a part of the end face of the via-hole conductor is exposed by an insulating material whose main component is a hard-to-sinter ceramic that is not substantially sintered at the firing temperature of the green sheet laminate. The method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the method is formed. 難焼結性セラミックを主成分とする絶縁性材料よりなる前記欠落防止パターンの厚みを1〜20μmとするとともに、前記欠落防止パターンを前記ビアホール導体の端面の前記露出した部分を除く前記セラミックグリーンシートの表面全体を覆うように形成することを特徴とする、請求項10記載のセラミック多層基板の製造方法。 The ceramic green sheet excluding the exposed portion of the end face of the via-hole conductor while the thickness of the omission prevention pattern made of an insulating material whose main component is hardly sinterable ceramic is 1 to 20 μm. The method for producing a ceramic multilayer substrate according to claim 10 , wherein the ceramic multilayer substrate is formed so as to cover the entire surface. 前記セラミックグリーンシートがAg系導体材料またはCu系導体材料と同時に焼成することが可能な低温焼結セラミック材料を主成分とするものであり、前記ビアホール導体はAg系導体材料またはCu系導体材料を主成分とするものであることを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載のセラミック多層基板の製造方法。 The ceramic green sheet is mainly composed of a low-temperature sintered ceramic material that can be fired simultaneously with an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material, and the via-hole conductor is made of an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material. The method for producing a ceramic multilayer substrate according to any one of claims 1 to 11 , wherein the method is a main component. 複数のセラミック層を積層してなるセラミック積層体と、前記セラミック積層体を構成する前記セラミック層の層間に配設された面内導体と、前記セラミック層の層間を接続するためのビアホール導体とを備えたセラミック多層基板であって、
前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部から、前記ビアホール導体の端面と同一面となる前記セラミック層の表面の少なくとも一部に跨るように、かつ、前記ビアホール導体の端面の少なくとも一部が露出するような態様で絶縁性パターンが設けられているとともに、前記絶縁性パターンが複数のセラミック層に設けられていること、を特徴とするセラミック多層基板。
A ceramic laminate formed by laminating a plurality of ceramic layers, an in-plane conductor disposed between the layers of the ceramic layers constituting the ceramic laminate, and a via-hole conductor for connecting the layers of the ceramic layers A ceramic multilayer substrate comprising:
At least part of the end surface of the via hole conductor is exposed from at least part of the end surface of the via hole conductor so as to straddle at least part of the surface of the ceramic layer that is flush with the end surface of the via hole conductor. An insulating pattern is provided in such a manner, and the insulating pattern is provided on a plurality of ceramic layers .
前記絶縁性パターンが、前記セラミック積層体と同時に焼結されるセラミックおよび/またはガラスを主成分とするものであることを特徴とする、請求項13記載のセラミック多層基板。 14. The ceramic multilayer substrate according to claim 13 , wherein the insulating pattern is mainly composed of ceramic and / or glass that is sintered simultaneously with the ceramic laminate. 前記絶縁性パターンが、前記セラミック層の焼成温度では実質的に焼結しない難焼結性セラミックを主成分とし、厚みが1〜20μmのものであることを特徴とする、請求項13のセラミック多層基板。 The ceramic multilayer according to claim 13 , wherein the insulating pattern is mainly composed of a hardly-sinterable ceramic that does not substantially sinter at the firing temperature of the ceramic layer, and has a thickness of 1 to 20 µm. substrate. 前記ビアホール導体の端面が、前記セラミック積層体の最上層および/または最下層に露出していることを特徴とする、請求項13〜15のいずれかに記載のセラミック多層基板。 The ceramic multilayer substrate according to any one of claims 13 to 15 , wherein an end face of the via-hole conductor is exposed in an uppermost layer and / or a lowermost layer of the ceramic laminate. 前記セラミック層が、Ag系導体材料またはCu系導体材料と同時焼成可能な低温焼結セラミック材料を主成分とするものであり、前記ビアホール導体はAg系導体材料またはCu系導体材料を主成分とするものであることを特徴とする、請求項13〜16のいずれかに記載のセラミック多層基板。 The ceramic layer is mainly composed of a low-temperature sintered ceramic material that can be simultaneously fired with an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material, and the via-hole conductor is mainly composed of an Ag-based conductor material or a Cu-based conductor material. The ceramic multilayer substrate according to any one of claims 13 to 16 , wherein
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