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JP4826196B2 - Release film and circuit board manufacturing method - Google Patents

Release film and circuit board manufacturing method Download PDF

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JP4826196B2
JP4826196B2 JP2005293042A JP2005293042A JP4826196B2 JP 4826196 B2 JP4826196 B2 JP 4826196B2 JP 2005293042 A JP2005293042 A JP 2005293042A JP 2005293042 A JP2005293042 A JP 2005293042A JP 4826196 B2 JP4826196 B2 JP 4826196B2
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Description

本発明は、離型フィルムおよび回路基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a release film and a method for producing a circuit board.

プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、多層プリント配線基板等の回路基板のプレス工程では、当て板に回路基板が付着するのを防止するために離型フィルムが用いられている。例えばフレキシブルプリント配線基板の場合、所定の回路部を有する基材(例えばポリイミドフィルム)の回路部を保護するために、回路部を接着剤付き樹脂フィルムで被覆して、さらに離型フィルムを積層してプレスすることが行なわれている。   In a pressing process for circuit boards such as printed wiring boards, flexible printed wiring boards, and multilayer printed wiring boards, a release film is used to prevent the circuit board from adhering to the backing plate. For example, in the case of a flexible printed circuit board, in order to protect the circuit part of a base material (for example, polyimide film) having a predetermined circuit part, the circuit part is covered with a resin film with an adhesive, and a release film is further laminated. And pressing.

このような離型フィルムとしては、ポリフェニレンエーテル系樹脂、フッ素系樹脂等で構成されているものが用いられている(例えば、特許文献1参照)。
しかし、このような離型フィルムでは、接着剤付き樹脂フィルムがプレス工程中にはみ出してしまい、回路基板の端部に不良が発生したりする場合があった。
As such a release film, a film composed of a polyphenylene ether resin, a fluorine resin, or the like is used (for example, see Patent Document 1).
However, in such a release film, the resin film with an adhesive protrudes during the pressing process, and a defect may occur at the end of the circuit board.

特開2004−339491号公報JP 2004-339491 A

本発明の目的は、回路基板を製造する際にカバーレイ接着剤等の染み出しを防止できる離型フィルムを提供することにある。
また、不良等の発生が少ない回路基板の製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a release film that can prevent a coverlay adhesive or the like from exude when a circuit board is manufactured.
It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a circuit board with less occurrence of defects.

このような目的は、下記(1)〜(7)に記載の本発明により達成される。
(1)平均高さA[μm]の凸状の回路部を有するコア基板を用いて回路基板を製造する際に用いられ、第1層、第2層および第3層がこの順で積層されてなる離型フィルムであって、
前記第1層は、その厚さが7〜40μmであり、180℃での弾性率が30〜150MPaのポリエステル系樹脂で構成され、
前記第2層は、その厚さが50〜100μmであり、前記ポリエステル系樹脂と異なる、90℃での弾性率が2〜8MPaの第2樹脂で構成され、
前記第3層は、その厚さが5〜20μmであり、軟化点が120℃以上で、かつ前記第2樹脂の軟化点よりも高いオレフィン系樹脂からなる第3樹脂で構成され、
前記第1層と前記回路部とを前記ポリエステル系樹脂の融点より50℃低い温度で、圧力4MPaで圧接したとき、隣接する凸状の回路部の間隙に前記第1層が入り込む平均高さをB[μm]としたとき、
B/A×100=70%以上となることを特徴とする離型フィルム。
(2)前記ポリエステル系樹脂は、ポリブチレンテレフタレート樹脂を主として含むものである上記(1)に記載の離型フィルム。
(3)前記ポリブチレンテレフタレート樹脂は、ポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体である上記(2)に記載の離型フィルム。
(4)前記ポリテトラメチレングリコールの含有量は、前記共重合体全体の5〜50重量%である上記(3)に記載の離型フィルム。
(5)前記第2樹脂は、エチレン系樹脂またはアクリル系樹脂である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の離型フィルム。
(6)前記回路基板は、フレキシブル回路基板である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の離型フィルム。
(7)上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の離型フィルムを用いることを特徴とする回路基板の製造方法。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (7).
(1) Used when manufacturing a circuit board using a core substrate having a convex circuit portion having an average height A [μm], and the first layer, the second layer, and the third layer are laminated in this order. A release film consisting of
The first layer has a thickness of 7 to 40 μm and is composed of a polyester resin having an elastic modulus at 180 ° C. of 30 to 150 MPa,
The second layer has a thickness of 50 to 100 μm and is composed of a second resin having an elastic modulus at 90 ° C. of 2 to 8 MPa, which is different from the polyester resin.
The third layer has a thickness of 5 to 20 μm, is composed of a third resin made of an olefin resin having a softening point of 120 ° C. or higher and higher than the softening point of the second resin,
When the first layer and the circuit portion are pressed at a pressure of 4 MPa at a temperature lower by 50 ° C. than the melting point of the polyester-based resin, an average height at which the first layer enters the gap between adjacent convex circuit portions is determined. When B [μm]
B / A × 100 = 70% or more of a release film.
(2) The release film according to (1), wherein the polyester-based resin mainly contains a polybutylene terephthalate resin.
(3) The release film according to (2), wherein the polybutylene terephthalate resin is a copolymer of polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol.
(4) The release film according to (3), wherein the content of the polytetramethylene glycol is 5 to 50% by weight of the entire copolymer.
(5) The release film according to any one of (1) to (4), wherein the second resin is an ethylene resin or an acrylic resin.
(6) The release film according to any one of (1) to (5), wherein the circuit board is a flexible circuit board.
(7) A method for producing a circuit board, comprising using the release film according to any one of (1) to (6) above.

本発明によれば、回路基板を製造する際に接着剤等の染み出しを防止でき、かつ回路基板の厚さムラ等を低減することが可能な離型フィルムを提供することができる。
前記ポリエステル系樹脂として特定のポリブチレンテレフタレート系樹脂を含む場合、特に離型性を向上することができる。
また、前記第1層の180℃における粘弾性率を特定の値とした場合に、特に回路部への埋め込み性を向上することができる。
また、本発明によれば、不良等の発生が少ない回路基板の製造方法を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when manufacturing a circuit board, the exfoliation of an adhesive agent etc. can be prevented and the release film which can reduce the thickness nonuniformity etc. of a circuit board can be provided.
When a specific polybutylene terephthalate resin is included as the polyester resin, the releasability can be particularly improved.
Further, when the viscoelastic modulus at 180 ° C. of the first layer is set to a specific value, the embedding property in the circuit part can be improved.
In addition, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a circuit board with less occurrence of defects and the like.

以下、本発明の離型フィルムおよび回路基板の製造方法について詳細に説明する。
本発明の離型フィルムは、平均高さA[μm]の凸状の回路部を有するコア基板を用いて回路基板を製造する際に用いられ、第1層、第2層および第3層がこの順で積層されてなる離型フィルムであって、
前記第1層は、ポリエステル系樹脂で構成され、前記第2層は、前記ポリエステル系樹脂と異なる第2樹脂で構成され、前記第3層は、前記第2樹脂よりも軟化点が高い第3樹脂で構成され、前記第1層と前記回路部とを前記ポリエステル系樹脂の融点より50℃低い温度で、4MPaで圧接したとき、凸状同士の間隙に前記第1層が入り込む平均高さをB[μm]としたとき、A/B×100=70%(転写率)以上となることを特徴する。
また、本発明の回路基板の製造方法は、上記に記載の離型フィルムを用いることを特徴とする。
Hereafter, the manufacturing method of the release film and circuit board of this invention is demonstrated in detail.
The release film of the present invention is used when a circuit board is produced using a core substrate having a convex circuit portion having an average height A [μm], and the first layer, the second layer, and the third layer are used. A release film laminated in this order,
The first layer is made of a polyester resin, the second layer is made of a second resin different from the polyester resin, and the third layer has a higher softening point than the second resin. When the first layer and the circuit portion are pressed at 4 MPa at a temperature lower than the melting point of the polyester resin by 4 MPa, the average height at which the first layer enters the gap between the convex shapes is made of resin. When B [μm], A / B × 100 = 70% (transfer rate) or higher.
Moreover, the manufacturing method of the circuit board of this invention uses the release film as described above.

まず、離型フィルムについて好適な実施形態に基づいて説明する。
図1に示すように離型フィルム10は、第1層1と、第2層2と、第3層3とがこの順で積層されてなる。
以下、各層について説明する。
First, a release film is demonstrated based on suitable embodiment.
As shown in FIG. 1, the release film 10 is formed by laminating a first layer 1, a second layer 2, and a third layer 3 in this order.
Hereinafter, each layer will be described.

(第1層)
第1層1は、回路基板を製造する際に要求される回路面側との離型性の機能を有している。また、回路部のパターンに応じて第1層1が追従するパターン追従性の機能も有している。
第1層1は、ポリエステル系樹脂で構成されているものである。これにより、ポリエステル系樹脂は耐熱性が高く、低い弾性を有するので回路基板(特にフレキシブル回路基板)を製造時に、カバーレイフィルムの接着剤層の染み出し量を低減することができる。
(First layer)
The first layer 1 has a function of releasability from the circuit surface side required when manufacturing a circuit board. Moreover, it also has a function of pattern followability that the first layer 1 follows according to the pattern of the circuit portion.
The first layer 1 is made of a polyester resin. Thereby, since the polyester-based resin has high heat resistance and low elasticity, it is possible to reduce the amount of the adhesive layer of the coverlay film that oozes out during the manufacture of the circuit board (particularly the flexible circuit board).

前記ポリエステル系樹脂は、酸成分としてテレフタル酸等の2価の酸またはエステル形成能を持つそれらの誘導体を用い、グリコール成分として炭素数2〜10のグリコール、その他の2価のアルコールまたはエステル形成能を有するそれらの誘導体等を用いて得られる飽和ポリエステル樹脂をいう。
前記ポリエステル系樹脂として、具体的にはポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂、ポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂等のポリアルキレンテレフタレート樹脂が挙げられる。これらの中でもポリブチレンテレフタレート樹脂が好ましい。これにより、特に離型性を向上することができる。
The polyester resin uses a divalent acid such as terephthalic acid as an acid component or a derivative thereof having an ester forming ability, and a glycol having 2 to 10 carbon atoms as a glycol component or other divalent alcohol or ester forming ability. The saturated polyester resin obtained using those derivatives etc. which have this.
Specific examples of the polyester resin include polyalkylene terephthalate resins such as polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polytrimethylene terephthalate resin, and polyhexamethylene terephthalate resin. Among these, polybutylene terephthalate resin is preferable. Thereby, it is possible to improve the releasability in particular.

前記ポリエステル系樹脂は、必要に応じて他の成分を共重合したポリエステル系共重合体樹脂でも良い。前記共重合する成分としては、公知の酸成分、アルコール成分、フェノール成分またはエステル形成能を持つこれらの誘導体、ポリアルキレングリコール成分等が挙げられる。   The polyester resin may be a polyester copolymer resin copolymerized with other components as necessary. Examples of the copolymerizing component include known acid components, alcohol components, phenol components, derivatives thereof having ester-forming ability, polyalkylene glycol components, and the like.

前記共重合可能な酸成分としては、例えば2価以上の炭素数8〜22の芳香族カルボン酸、2価以上の炭素数4〜12の脂肪族カルボン酸、さらには、2価以上の炭素数8〜15の脂環式カルボン酸、およびエステル形成能を有するこれらの誘導体が挙げられる。前記共重合可能な酸成分の具体例としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビス(p−カルボジフェニル)メタンアントラセンジカルボン酸、4−4’−ジフェニルカルボン酸、1,2−ビス(フェノキシ)エタン−4,4’−ジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ドデカンジオン酸、マレイン酸、トリメシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸およびエステル形成能を有するこれらの誘導体が挙げられる。これらは、単独あるいは2種以上を併用して用いることができる。   Examples of the copolymerizable acid component include a divalent or higher valent aromatic carboxylic acid having 8 to 22 carbon atoms, a divalent or higher valent aliphatic carboxylic acid having 4 to 12 carbon atoms, and a divalent or higher valent carbon number. Examples thereof include 8 to 15 alicyclic carboxylic acids and derivatives thereof having ester forming ability. Specific examples of the copolymerizable acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, bis (p-carbodiphenyl) methaneanthracene dicarboxylic acid, 4-4′-diphenylcarboxylic acid, and 1,2-bis. (Phenoxy) ethane-4,4′-dicarboxylic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, dodecanedioic acid, maleic acid, trimesic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, 1,3 -Cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid and derivatives thereof having the ability to form esters. These can be used alone or in combination of two or more.

前記共重合可能なアルコールおよび/またはフェノール成分としては、例えば2価以上の炭素数2〜15の脂肪族アルコール、2価以上の炭素数6〜20の脂環式アルコール、炭素数6〜40の2価以上の芳香族アルコールまたは、フェノールおよびエステル形成能を有するこれらの誘導体が挙げられる。前記共重合可能なアルコールおよび/またはフェノール成分の具体例としては、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、デカンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、ハイドロキノン、グリセリン、ペンタエリスリトール、などの化合物、およびエステル形成能を有するこれらの誘導体、ε−カプロラクトン等の環状エステルが挙げられる。   Examples of the copolymerizable alcohol and / or phenol component include divalent or higher aliphatic alcohols having 2 to 15 carbon atoms, divalent or higher alicyclic alcohols having 6 to 20 carbon atoms, and 6 to 40 carbon atoms. Examples thereof include aromatic alcohols having a valence of 2 or more, or derivatives thereof having phenol and ester forming ability. Specific examples of the copolymerizable alcohol and / or phenol component include ethylene glycol, propanediol, butanediol, hexanediol, decanediol, neopentylglycol, cyclohexanedimethanol, cyclohexanediol, 2,2′-bis ( 4-hydroxyphenyl) propane, 2,2′-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, hydroquinone, glycerin, pentaerythritol, and the like, derivatives having ester forming ability, and cyclic esters such as ε-caprolactone Can be mentioned.

前記共重合可能なポリアルキレングリコール成分としては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールおよび、これらのランダムまたはブロック共重合体、ビスフェノール化合物のアルキレングリコール(ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、およびこれらのランダムまたはブロック共重合体等)付加物等の変性ポリオキシアルキレングリコール等が挙げられる。   Examples of the copolymerizable polyalkylene glycol component include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and random or block copolymers thereof, alkylene glycols of bisphenol compounds (polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol). , And random or block copolymers thereof) modified polyoxyalkylene glycols such as adducts.

このようなポリエステル系共重合体樹脂の中でもポリエステル系樹脂と、ポリアルキレングリコール成分との共重合体が好ましく、より具体的にはポリエステル系樹脂と、ポリテトラメチレングリコールとの共重合体、もっと具体的にはポリブチレンテレフタレート樹脂とポリテトラメチレングリコールとの共重合体が好ましい。これにより、メッキ付き性にも優れている。   Among such polyester-based copolymer resins, a copolymer of a polyester-based resin and a polyalkylene glycol component is preferable, more specifically, a copolymer of a polyester-based resin and polytetramethylene glycol, more specifically Specifically, a copolymer of polybutylene terephthalate resin and polytetramethylene glycol is preferable. Thereby, it is excellent also in the plating property.

このような前記共重合可能な他の成分(特にポリテトラメチレングリコール)の含有量は、特に限定されないが、前記ポリエステル系共重合体樹脂全体の5〜50重量%が好ましく、特に10〜40重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であると埋め込み性を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると離型性を向上する効果が低下する場合がある。   The content of such other copolymerizable components (especially polytetramethylene glycol) is not particularly limited, but is preferably 5 to 50% by weight, particularly 10 to 40% by weight of the total polyester-based copolymer resin. % Is preferred. If the content is less than the lower limit, the effect of improving embedding may be reduced, and if the content exceeds the upper limit, the effect of improving the releasability may be reduced.

第1層1は、ポリエステル系樹脂以外に、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、染料および顔料等着色剤、安定剤等の添加剤、フッ素樹脂、シリコンゴム等の耐衝撃性付与剤、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填剤を含有しても良い。   The first layer 1 is made of an antioxidant, a slip agent, an anti-blocking agent, an antistatic agent, a coloring agent such as a dye and a pigment, an additive such as a stabilizer, an impact resistance such as a fluororesin and silicon rubber, in addition to the polyester resin. An inorganic filler such as a property-imparting agent, titanium oxide, calcium carbonate, or talc may be contained.

第1層1を形成する方法としては、例えば空冷または水冷インフレーション押出法、Tダイ押出法等の公知の方法が挙げられる。   Examples of the method for forming the first layer 1 include known methods such as an air-cooling or water-cooled inflation extrusion method and a T-die extrusion method.

このような第1層1の厚さは、特に限定されないが、5〜40μmが好ましく、特に7〜20μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に回路部41への埋め込み性に優れる。   Although the thickness of such a 1st layer 1 is not specifically limited, 5-40 micrometers is preferable and 7-20 micrometers is especially preferable. When the thickness is within the above range, the embedding property in the circuit portion 41 is particularly excellent.

このような第1層1の180℃における粘弾性率は、特に限定されないが、10〜200MPaが好ましく、特に30〜150MPaが好ましい。粘弾性率が前記下限値未満であると離型性が低下する場合があり、前記上限値を超えると埋め込み性が低下する場合がある。
このような第1層1の粘弾性率は、例えば動的粘弾性測定装置で引張りモード、周波数1Hz、昇温速度5℃/minで常温から250℃まで測定することにより評価できる。
The viscoelastic modulus at 180 ° C. of the first layer 1 is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 MPa, and particularly preferably 30 to 150 MPa. If the viscoelastic modulus is less than the lower limit, the releasability may be lowered, and if the upper limit is exceeded, the embedding may be lowered.
Such a viscoelastic modulus of the first layer 1 can be evaluated by measuring from a normal temperature to 250 ° C. with a dynamic viscoelasticity measuring device, for example, in a tensile mode, a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5 ° C./min.

(第2層)
第2層2は、回路基板を製造する際に離型フィルムの第1層1(離型層)を隣接する凸状の回路部41の間隙に埋め込むためのクッション機能を有している。また、回路基板を製造する際に回路基板全体にかかる圧力が均一となるような機能も有しており、これによりボイドの発生を低減できる。さらに、特に回路基板としてフレキシブル回路基板を製造する場合には、外観の仕上がり(特にしわの発生を低減)に優れる。
第2層2は、前記ポリエステル系樹脂と異なる第2樹脂で構成されている。この場合、第2樹脂としては、第1層を構成するポリエステル系樹脂と異なる組成のポリエステル系樹脂または前記ポリエステル系樹脂以外の種類の樹脂等が挙げられる。これらの中でも前記ポリエステル系樹脂以外の樹脂が好ましい。
(Second layer)
The second layer 2 has a cushion function for embedding the first layer 1 (release layer) of the release film in the gap between the adjacent convex circuit portions 41 when the circuit board is manufactured. In addition, it has a function to make the pressure applied to the entire circuit board uniform when manufacturing the circuit board, thereby reducing the generation of voids. Further, when a flexible circuit board is manufactured as a circuit board, the appearance is excellent (particularly, the generation of wrinkles is reduced).
The second layer 2 is composed of a second resin different from the polyester resin. In this case, examples of the second resin include a polyester resin having a composition different from that of the polyester resin constituting the first layer, or a resin other than the polyester resin. Among these, resins other than the polyester resin are preferable.

前記ポリエステル系樹脂以外の樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロプレン等のαオレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を共重合体成分として有するαオレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂が挙げられ、これらを単独あるいは複数併用しても構わない。これらの中でもαオレフィン系共重合体が好ましい。具体的には、エチレン等のαオレフィンと、(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体、およびそれらの部分イオン架橋物等が挙げられる。   Examples of the resin other than the polyester resin include α-olefin polymers such as polyethylene and polypropylene, α-olefin copolymers having ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, methylpentene, and the like as copolymer components, Engineering plastics resins such as polyethersulfone and polyphenylene sulfide may be used, and these may be used alone or in combination. Of these, α-olefin copolymers are preferred. Specifically, a copolymer of α-olefin such as ethylene and (meth) acrylic acid ester, a copolymer of ethylene and vinyl acetate, a copolymer of ethylene and (meth) acrylic acid, and those Partially ionically crosslinked products and the like can be mentioned.

上述のような前記第2樹脂の中でも特に90℃での弾性率が10MPa以下であることが好ましく、特に2〜8MPaであることが好ましい。弾性率が前記範囲内であると、特にフレキシブル回路を製造する際のクッション機能に優れる。また、後述する凸状の回路部41の高さA[μm]と、第1層1が入り込む平均高さB[μm]との関係を容易に満足させることができる。
このような弾性率は、例えば動的粘弾性測定装置で引張りモード、周波数1Hz、昇温速度5℃/minで常温から250℃まで測定することにより評価できる。
Among the second resins as described above, the elastic modulus at 90 ° C. is preferably 10 MPa or less, and particularly preferably 2 to 8 MPa. When the elastic modulus is within the above range, the cushion function particularly when a flexible circuit is produced is excellent. Moreover, the relationship between the height A [μm] of the convex circuit portion 41 described later and the average height B [μm] into which the first layer 1 enters can be easily satisfied.
Such elastic modulus can be evaluated, for example, by measuring from normal temperature to 250 ° C. in a tensile mode, a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5 ° C./min with a dynamic viscoelasticity measuring apparatus.

第2層2には前記第2樹脂以外に、さらにクッション性を向上させるためにゴム成分を含んでも良い。これにより、後述する好ましい弾性率の範囲に容易にすることができる。
前記ゴム成分としては、例えばスチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体等のスチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アミド系エラストマー、ポリエステル系エラストマー等の熱可塑性エラストマー材料、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム等ゴム材料が挙げられる。
In addition to the second resin, the second layer 2 may contain a rubber component in order to further improve cushioning properties. Thereby, it can make it easy to the range of the preferable elasticity modulus mentioned later.
Examples of the rubber component include styrene-based thermoplastic elastomers such as styrene-butadiene copolymers and styrene-isoprene copolymers, thermoplastic elastomer materials such as olefin-based thermoplastic elastomers, amide-based elastomers, and polyester-based elastomers, and natural rubber. , Rubber materials such as isoprene rubber, chloroprene rubber and silicon rubber.

前記ゴム成分の含有量は、特に限定されないが、前記第2樹脂100重量部に対して5〜50重量部が好ましく、特に10〜40重量部が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特にクッション性を向上できる。   Although content of the said rubber component is not specifically limited, 5-50 weight part is preferable with respect to 100 weight part of said 2nd resin, and 10-40 weight part is especially preferable. When the content is within the above range, the cushioning property can be particularly improved.

第2層2は、前記第2樹脂以外に、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、染料および顔料等の着色剤、安定剤等の添加剤、フッ素樹脂、シリコンゴム等の耐衝撃性付与剤、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填剤を含有しても良い。   In addition to the second resin, the second layer 2 is made of an antioxidant, a slip agent, an antiblocking agent, an antistatic agent, a coloring agent such as a dye and a pigment, an additive such as a stabilizer, a fluororesin, or a silicone rubber. An impact resistance-imparting agent, an inorganic filler such as titanium oxide, calcium carbonate, or talc may be contained.

第2層2を形成する方法としては、例えば空冷または水冷インフレーション押出法、Tダイ押出法等の公知の方法が挙げられる。   Examples of the method for forming the second layer 2 include known methods such as an air-cooling or water-cooling inflation extrusion method and a T-die extrusion method.

このような第2層2の厚さは、特に限定されないが、30〜100μmが好ましく、特に50〜70μmが好ましい。厚さが前記下限値未満であると離型フィルムにクッション性を付与する効果が低減する場合があり、前記上限値を超えると離型性を向上する効果が低下する場合がある。また、厚さが前記範囲内であると、凸状の回路部41の高さA[μm]と、第1層1が入り込む平均高さB[μm]との関係を容易に満足させることができる。   The thickness of the second layer 2 is not particularly limited, but is preferably 30 to 100 μm, and particularly preferably 50 to 70 μm. When the thickness is less than the lower limit value, the effect of imparting cushioning properties to the release film may be reduced, and when the thickness exceeds the upper limit value, the effect of improving the release property may be reduced. Further, when the thickness is within the above range, the relationship between the height A [μm] of the convex circuit portion 41 and the average height B [μm] into which the first layer 1 enters can be easily satisfied. it can.

このような第2層2の軟化温度は、特に限定されないが、50〜90℃が好ましく、特に60〜80℃が好ましい。軟化温度が前記範囲内であると、特にクッション性に優れる。   Although the softening temperature of such a 2nd layer 2 is not specifically limited, 50-90 degreeC is preferable and especially 60-80 degreeC is preferable. When the softening temperature is within the above range, the cushioning property is particularly excellent.

(第3層)
第3層3は、回路基板を製造する際に要求される当て板との離型性の機能を有している。
第3層3は、前記第2樹脂よりも軟化点が高い第3樹脂で構成されている。これにより、当て板との離型性を向上することができる。
(3rd layer)
The third layer 3 has a function of releasability from the contact plate required when manufacturing the circuit board.
The third layer 3 is made of a third resin having a softening point higher than that of the second resin. Thereby, the releasability with a backing plate can be improved.

このような前記第3樹脂としては、例えば4−メチル−1−ペンテン樹脂、4−メチル−1−ペンテンと、他のα−オレフィン、例えばエチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−テトラデセン、1−オクタデセン等の炭素数2〜20のα−オレフィンとの共重合体、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、第1層1で用いたのと同様のポリエステル系樹脂等が挙げられる。   Examples of the third resin include 4-methyl-1-pentene resin, 4-methyl-1-pentene, and other α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 1-hexene, Copolymers with α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as octene, 1-decene, 1-tetradecene and 1-octadecene, olefin resins such as polypropylene, and polyesters similar to those used in the first layer 1 Examples thereof include resins.

また、前記第3樹脂と、前記ポリエステル系樹脂とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、離型フィルム10を表裏区別すること無く使用することができ、それによって離型フィルムの表裏の誤使用を低減できる。   The third resin and the polyester-based resin may be the same or different, but are preferably the same. Thereby, it is possible to use the release film 10 without distinguishing between the front and back, thereby reducing the misuse of the front and back of the release film.

前記第3樹脂の軟化点は、特に限定されないが、100℃以上であることが好ましく、特に120℃以上であることが好ましい。これにより、離型性に加えて、SUS板等で構成されている当て板に、第3樹脂に起因する揮発成分または第3樹脂が付着するのを低減することができる。   The softening point of the third resin is not particularly limited, but is preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher. Thereby, in addition to releasability, it can reduce that the volatile component resulting from 3rd resin, or 3rd resin adheres to the contact plate comprised with the SUS board.

第3層3は、前記第3樹脂以外に、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、染料および顔料等着色剤、安定剤等の添加剤、フッ素樹脂、シリコンゴム等の耐衝撃性付与剤、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填剤を含有しても良い。   In addition to the third resin, the third layer 3 is made of an antioxidant, a slip agent, an antiblocking agent, an antistatic agent, a coloring agent such as a dye and a pigment, an additive such as a stabilizer, a fluororesin, a silicone rubber and the like. You may contain impact fillers, inorganic fillers, such as a titanium oxide, a calcium carbonate, and a talc.

第3層3を形成する方法としては、例えば空冷または水冷インフレーション押出法、Tダイ押出法等の公知の方法が挙げられる。   Examples of the method for forming the third layer 3 include known methods such as an air-cooling or water-cooled inflation extrusion method and a T-die extrusion method.

このような第3層3の厚さは、特に限定されないが、30μm以下が好ましく、特に5〜20μmが好ましい。厚さが前記下限値未満であるとプレス時に第3層3が回路基板に付着してしまう場合があり、前記上限値を超えると埋め込み性が低下する場合がある。また、厚さが前記範囲内であると、凸状の回路部41の高さA[μm]と、第1層1が入り込む平均高さB[μm]との関係を容易に満足させることができる。   The thickness of the third layer 3 is not particularly limited, but is preferably 30 μm or less, and particularly preferably 5 to 20 μm. If the thickness is less than the lower limit value, the third layer 3 may adhere to the circuit board during pressing, and if the thickness exceeds the upper limit value, the embeddability may deteriorate. Further, when the thickness is within the above range, the relationship between the height A [μm] of the convex circuit portion 41 and the average height B [μm] into which the first layer 1 enters can be easily satisfied. it can.

(離型フィルム)
このような第1層1と、第2層2と、第3層3とを、別々に製造してからラミネーター等により接合して離型フィルム10を得ても良いが、第1層1と、第2層2と、第3層3とを例えば空冷式または水冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法で離型フィルム10を得る方法が好ましい。なかでも、共押出Tダイ法で製膜する方法が各層の厚さ制御に優れる点で特に好ましい。
また、第1層1と、第2層2と、第3層3とをそのまま接合しても良いし、接着層を介して接合しても良い。
(Release film)
The first layer 1, the second layer 2, and the third layer 3 may be separately manufactured and then joined with a laminator or the like to obtain the release film 10. A method of obtaining the release film 10 by a method in which the second layer 2 and the third layer 3 are formed by, for example, an air-cooled or water-cooled coextrusion inflation method or a coextrusion T-die method is preferable. Especially, the method of forming into a film by the co-extrusion T die method is especially preferable at the point which is excellent in the thickness control of each layer.
Further, the first layer 1, the second layer 2, and the third layer 3 may be joined as they are, or may be joined via an adhesive layer.

離型フィルム10の全体の厚さは、特に限定されないが、80〜150μmが好ましく、特に100〜130μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特にクッション性と離型性とのバランスに優れる。   The total thickness of the release film 10 is not particularly limited, but is preferably 80 to 150 μm, particularly preferably 100 to 130 μm. When the thickness is within the above range, the balance between the cushioning property and the release property is particularly excellent.

離型フィルム10の第1層1の厚さ(t1)と、第2層2の厚さ(t2)と、第3層3の厚さ(t3)との比は、特に限定されないが、1:8:1〜4:5:1が好ましく、特に、2:7:1〜3:6:1が好ましい。比が前記範囲内であると、特にボイド発生を抑制できる。   The ratio of the thickness (t1) of the first layer 1 of the release film 10, the thickness (t2) of the second layer 2, and the thickness (t3) of the third layer 3 is not particularly limited. : 8: 1 to 4: 5: 1 are preferable, and 2: 7: 1 to 3: 6: 1 are particularly preferable. Void generation can be particularly suppressed when the ratio is within the above range.

図2に示すように本発明の離型フィルム10は、平均高さA[μm]の凸状の回路部41を有するコア基板4を用いて回路基板を製造する際に用いられる。
コア基板4の上下に、基材層51および接着剤層52で構成されるカバーレイフィルム5と、離型フィルム10と、必要に応じてクッション紙6とを介して当て板7で挟み、プレス成形する。この際、部品搭載等の理由より回路部41の一部には、カバーレイフィルム5で覆われない未被覆部分41aが存在する。未被覆部分41aには、離型フィルム10が直接圧着される。
As shown in FIG. 2, the release film 10 of the present invention is used when a circuit board is manufactured using a core substrate 4 having a convex circuit portion 41 having an average height A [μm].
The sheet is sandwiched between a cover plate 7 via a cover lay film 5 composed of a base material layer 51 and an adhesive layer 52, a release film 10, and cushion paper 6 as needed, on and under the core substrate 4, and pressed. Mold. At this time, an uncovered portion 41 a that is not covered with the coverlay film 5 exists in a part of the circuit portion 41 for reasons such as component mounting. The release film 10 is directly pressure-bonded to the uncoated portion 41a.

図3にモデル的に示すように、このような未被覆部分41aでの隣接する平均高さA[μm]の凸状の回路部41の間隙411に、本発明の第1層1(離型フィルム10)が入り込む(埋め込まれる)ようになっている。しかし、隣接する回路部41同士の間隙の相違により、入り込む第1層1の高さは異なり、間隙が大きい部分には第1層1が入り込みやすく、間隙が小さい部分には第1層1が入り込み難くなっている。本発明では、このような平均高さA[μm]の回路部41を有するコア基板4を用いる際に、離型フィルム10の第1層1と、回路部41とを前記ポリエステル系樹脂の融点より50℃低い温度で、圧力4MPaで圧接したとき、隣接する凸状の回路部41の間隙411に第1層1が入り込む平均高さをB[μm]としたとき、A/B×100=70%以上となることを特徴とする。これにより、コア基板4を用いる際に接着剤層52等のはみ出しが無く、回路基板の厚さムラ等を低減することが可能となる。さらに、後工程のメッキ付き評価で接着剤層52に金メッキが付着しショートすることを防止できる。   As shown in FIG. 3 as a model, the first layer 1 (mold release) of the present invention is formed in the gap 411 of the convex circuit portion 41 having an average height A [μm] adjacent to the uncovered portion 41a. A film 10) is inserted (embedded). However, the height of the first layer 1 to enter differs depending on the difference in the gap between the adjacent circuit portions 41, the first layer 1 is likely to enter the portion where the gap is large, and the first layer 1 is the portion where the gap is small. It is hard to get in. In the present invention, when the core substrate 4 having the circuit portion 41 having such an average height A [μm] is used, the first layer 1 of the release film 10 and the circuit portion 41 are connected to the melting point of the polyester resin. When the average height at which the first layer 1 enters the gap 411 between the adjacent convex circuit portions 41 is B [μm] at a temperature lower than 50 ° C. and pressure of 4 MPa, A / B × 100 = 70% or more. Thereby, when the core substrate 4 is used, there is no protrusion of the adhesive layer 52 and the like, and it becomes possible to reduce unevenness in the thickness of the circuit substrate. Furthermore, it is possible to prevent the gold plating from adhering to the adhesive layer 52 and short-circuiting in the subsequent evaluation with plating.

このように、回路部41の凸状の平均高さA[μm]と、第1層1の入り込む平均高さB[μm]との間が前記関係を満足すると接着剤層52等のはみ出しが無くなる理由は次のように考えられる。
カバーレイフィルム5の接着剤層52は、通常、130℃程度までの加熱で溶融、軟化してフィルムの横部分より染み出してくるようになる。この染み出してきた接着剤層52は、コア基板4の側面、未被覆部分41aに付着するようになる。しかし、本発明の離型フィルム10を用いると、接着剤層52が染み出す前に、離型フィルム10がそのクッション機能により押し広げられ、接着剤層52が染み出す部分を塞いでしまう。さらに、未被覆部分41aには、第1層1が埋め込まれるようになるため、接着剤層52がそこに染み出すことができなくなる。したがって、接着剤層52が染み出す場所を、離型フィルム10によって塞いでしまうものである。
具体的には、A/B×100=80%以上となることが好ましく、より好ましくは85〜95%となることが好ましい。転写率(A/B×100)が前記範囲内であると、特にクッション性と離型フィルム10の回路部41への埋め込み性とのバランスに優れる。
このような第1層1の入り込む平均高さB[μm]は、例えば東京エレクトロン社製、精密段差計(alpha−step200)により測定できる。
As described above, when the average height A [μm] of the convex portion of the circuit unit 41 and the average height B [μm] of the first layer 1 enter the above relationship, the adhesive layer 52 and the like protrude. The reason for disappearance is considered as follows.
The adhesive layer 52 of the cover lay film 5 is normally melted and softened by heating up to about 130 ° C. and oozes out from the lateral portion of the film. The adhesive layer 52 that has oozed out adheres to the side surface of the core substrate 4 and the uncoated portion 41a. However, when the release film 10 of the present invention is used, before the adhesive layer 52 oozes out, the release film 10 is spread by the cushion function, and the portion where the adhesive layer 52 oozes out is blocked. Furthermore, since the first layer 1 is embedded in the uncovered portion 41a, the adhesive layer 52 cannot ooze there. Therefore, the part where the adhesive layer 52 oozes out is blocked by the release film 10.
Specifically, A / B × 100 = 80% or more is preferable, and 85-95% is more preferable. When the transfer rate (A / B × 100) is within the above range, the balance between the cushioning property and the embedding property of the release film 10 in the circuit portion 41 is particularly excellent.
The average height B [μm] into which the first layer 1 enters can be measured by, for example, a precision step meter (alpha-step 200) manufactured by Tokyo Electron Limited.

このような離型フィルム10は、フレキシブルプリント回路(FPC)と離型フィルムとを剥離する際、離型フィルムがFPCに取られて破れたり、逆にFPCが離型フィルムに接着して回路剥がれが起きたりしないようになる。   When such a release film 10 peels off the flexible printed circuit (FPC) and the release film, the release film is taken by the FPC and is torn, or conversely, the FPC is adhered to the release film and the circuit is peeled off. Will not happen.

また、本実施形態の離型フィルム10では、第1層1、第2層2および第3層3の3層で構成されているものを示したが、本発明はこれに限定されず、接着層、ガスバリア層等を有する4層、5層等の4層以上の構成であっても良い。   Moreover, in the release film 10 of this embodiment, what was comprised by 3 layers of the 1st layer 1, the 2nd layer 2, and the 3rd layer 3 was shown, but this invention is not limited to this, adhesion | attachment Four or more layers such as four layers, five layers, etc. having a layer, a gas barrier layer, etc. may be used.

(製法)
次に、このような離型フィルム10を用いた回路基板の製造方法について好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、コア基板4は、樹脂フィルム40の両面に所定パターンの回路(回路部41)を形成する。例えば樹脂フィルム40に銅層を形成した後、パターニング等する。
そして、図2に示すようにコア基板4の上下にカバーレイフィルム5と、離型フィルム10と、クッション紙6とを重ね、当て板7で上下を挟む。この際、カバーレイフィルム5の接着剤層52は、コア基板4側に配置される。また、離型フィルム10の第1層1は、カバーレイフィルム4側に配置される。
そして、当て板7でコア基板4、カバーレイフィルム5、離型フィルム10等を挟んだ状態で、加熱・加圧してプレス成形により回路基板を得る。
前記加熱条件は、前記加圧した状態で常温から所定温度(例えば150〜200℃、特に好ましくは160〜185℃)まで昇温し、前記所定温度で30〜90分間、好ましくは45〜80分間維持する。次に、常温まで冷却する。ここで、前記昇温時の昇温速度は、特に限定されないが、5〜30℃/分が好ましく、特に8〜20℃/分が好ましい。
また、前記加圧条件も特に限定されないが、3〜10MPaが好ましく、特に4〜6MPaが好ましい。このようにして、離型フィルム10をコア基板4に圧着すると、第1層1が回路部41の間隙411に埋め込まれて、A/B×100=70%以上となる。
(Manufacturing method)
Next, the manufacturing method of the circuit board using such a release film 10 is demonstrated in detail based on suitable embodiment.
First, the core substrate 4 forms a predetermined pattern of circuits (circuit portions 41) on both surfaces of the resin film 40. For example, after forming a copper layer on the resin film 40, patterning or the like is performed.
Then, as shown in FIG. 2, the cover lay film 5, the release film 10, and the cushion paper 6 are stacked on the upper and lower sides of the core substrate 4, and the upper and lower sides are sandwiched between the contact plates 7. At this time, the adhesive layer 52 of the coverlay film 5 is disposed on the core substrate 4 side. The first layer 1 of the release film 10 is disposed on the cover lay film 4 side.
And in the state which pinched | interposed the core board | substrate 4, the coverlay film 5, the release film 10, etc. with the contact plate 7, it heats and pressurizes and a circuit board is obtained by press molding.
The heating condition is that the temperature is raised from room temperature to a predetermined temperature (for example, 150 to 200 ° C., particularly preferably 160 to 185 ° C.) in the pressurized state, and the predetermined temperature is 30 to 90 minutes, preferably 45 to 80 minutes. maintain. Next, it is cooled to room temperature. Here, the rate of temperature increase during the temperature increase is not particularly limited, but is preferably 5 to 30 ° C./min, and particularly preferably 8 to 20 ° C./min.
Moreover, although the said pressurization conditions are not specifically limited, 3-10 Mpa is preferable and 4-6 Mpa is especially preferable. Thus, when the release film 10 is pressure-bonded to the core substrate 4, the first layer 1 is embedded in the gap 411 of the circuit portion 41, and A / B × 100 = 70% or more.

図2では、一対の当て板7でコア基板4、カバーレイフィルム5、離型フィルム10等を積層して成形する例を示したが、具体的にはこのような構成の組み合わせを複数用いて、成形することが好ましい。これにより、生産性を向上することができる。   In FIG. 2, an example in which the core substrate 4, the coverlay film 5, the release film 10, and the like are laminated and formed with a pair of patch plates 7 is shown. Specifically, a plurality of combinations of such configurations are used. It is preferable to mold. Thereby, productivity can be improved.

以下、本発明を実施例および比較例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
1.離型フィルムの製造
第1層を構成するポリエステル系樹脂としてポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体(PBT系樹脂1、ポリテトラメチレングリコールの共重合比率10%、品番5505S、三菱エンジニアリングプラスチックス社製)と、第2層を構成する第2樹脂としてエチレン−メチルアクリレート共重合体(EMMA、品番アクリフトWH102、住友化学社製)と、第3層を構成する第3樹脂としてポリプロピレン(PP:品番FS2011DG2、軟化点120℃、住友化学社製)とを三層ダイスで共押出し、離型フィルムを製造した。得られた離型フィルムの各層の厚さは、第1層30μm、第2層80μm、第3層8μmであった。第1層の180℃における粘弾性率は、30MPaであった。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to these Examples.
Example 1
1. Manufacture of release film Polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol copolymer (PBT resin 1, polytetramethylene glycol copolymerization ratio 10%, product number 5505S, Mitsubishi Engineering) Plastics), ethylene-methyl acrylate copolymer (EMMA, part number ACRIFTH WH102, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as the second resin constituting the second layer, and polypropylene (third resin constituting the third layer) PP: product number FS2011DG2, softening point 120 ° C., manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was coextruded with a three-layer die to produce a release film. The thickness of each layer of the obtained release film was the first layer 30 μm, the second layer 80 μm, and the third layer 8 μm. The viscoelastic modulus at 180 ° C. of the first layer was 30 MPa.

2.回路基板の製造
平均高さ30μmの凸状の回路部を有するフレキシブル性のコア基板の両面に、カバーレイフィルム(有沢社製)と、上述の離型フィルムと、クッション紙(王子製紙社製)とを重ね、当て板で挟んだものを1組として、それを20組重ね、多段プレスで圧力4.0MPaで常温から175℃まで昇温速度10℃/分で昇温した。そして、175℃で60分間保持した後、常温まで冷却して回路基板(フレキシブル回路基板)を得た。
2. Manufacture of circuit board Coverlay film (manufactured by Arisawa), the above-mentioned release film, and cushion paper (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.) on both sides of a flexible core substrate having a convex circuit portion with an average height of 30 μm And a pair of sandwiched plates with a patch plate, 20 sets were stacked, and the temperature was raised from normal temperature to 175 ° C. at a temperature increase rate of 10 ° C./min at a pressure of 4.0 MPa using a multistage press. And after hold | maintaining for 60 minutes at 175 degreeC, it cooled to normal temperature and obtained the circuit board (flexible circuit board).

(実施例2)
第1層を構成するポリエステル系樹脂として、以下のものを用いた以外は実施例1と同様にした。
ポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体(PBT系樹脂2、ポリテトラメチレングリコールの共重合比率20%、品番5510S、三菱エンジニアリングプラスチックス社製)を用いた。なお、第1層の180℃における粘弾性率は、10MPaであった。
(Example 2)
Example 1 was the same as Example 1 except that the following were used as the polyester resin constituting the first layer.
A copolymer of polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol (PBT resin 2, copolymerization ratio of polytetramethylene glycol 20%, product number 5510S, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics) was used. The viscoelastic modulus at 180 ° C. of the first layer was 10 MPa.

(実施例3)
第1層を構成するポリエステル系樹脂(PBT系樹脂4)として、以下のものを用いた以外は実施例1と同様にした。
上述したポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体(PBT系樹脂1、ポリテトラメチレングリコールの共重合比率10%、品番5510S、三菱エンジニアリングプラスチックス社製)25重量%と、ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT系樹脂3、三菱エンジニアリングプラスチックス社製、品番5020F)75重量%との混合物を用いた。なお、第1層の180℃における粘弾性率は、100MPaであった。
(Example 3)
The polyester resin (PBT resin 4) constituting the first layer was the same as Example 1 except that the following were used.
25% by weight of the above-mentioned copolymer of polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol (PBT resin 1, copolymerization ratio of polytetramethylene glycol 10%, product number 5510S, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics), and polybutylene terephthalate A mixture of 75% by weight of resin (PBT resin 3, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, product number 5020F) was used. The viscoelastic modulus at 180 ° C. of the first layer was 100 MPa.

(実施例4)
第1層を構成するポリエステル系樹脂(PBT系樹脂5)として、以下のものを用いた以外は実施例1と同様にした。
上述したポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体(PBT系樹脂1、ポリテトラメチレングリコールの共重合比率10%、品番5510S、三菱エンジニアリングプラスチックス社製)15重量%と、ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT系樹脂3、三菱エンジニアリングプラスチックス社製、品番5020F)85重量%との混合物を用いた。なお、第1層の180℃における粘弾性率は、120MPaであった。
Example 4
The polyester resin (PBT resin 5) constituting the first layer was the same as Example 1 except that the following were used.
15% by weight of the above-mentioned copolymer of polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol (PBT resin 1, copolymer ratio of polytetramethylene glycol 10%, product number 5510S, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics), polybutylene terephthalate A mixture of 85% by weight of resin (PBT resin 3, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, product number 5020F) was used. The viscoelastic modulus at 180 ° C. of the first layer was 120 MPa.

(実施例5)
第2層を構成する樹脂を次のようにした以外は、実施例1と同様にした。
第2層を構成する樹脂としてEVOH(三井デュポン社製、品番V5716RC)を用いた
(Example 5)
Example 2 was the same as Example 1 except that the resin constituting the second layer was as follows.
EVOH (manufactured by Mitsui DuPont, product number V5716RC) was used as the resin constituting the second layer.

(実施例6)
第3層を構成する樹脂を次のようにした以外は、実施例1と同様にした。
第3層を構成する樹脂としてポリエチレン樹脂(住友化学社製、品番L211、軟化点100℃)を用いた。
(Example 6)
Example 3 was the same as Example 1 except that the resin constituting the third layer was as follows.
Polyethylene resin (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., product number L211, softening point 100 ° C.) was used as the resin constituting the third layer.

(比較例1)
第1層を構成する樹脂を次のようにした以外は、実施例1と同様にした。
第1層を構成する樹脂としてナイロン6(宇部興産社製、品番5033B)を用いた。なお、第1層の180℃における粘弾性率は、250MPaであった。
(Comparative Example 1)
Example 1 was repeated except that the resin constituting the first layer was as follows.
Nylon 6 (manufactured by Ube Industries, product number 5033B) was used as the resin constituting the first layer. The viscoelastic modulus at 180 ° C. of the first layer was 250 MPa.

(比較例2)
第3層を構成する樹脂を次のようにした以外は、実施例1と同様にした。
第3層を構成する樹脂としてポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス社製、品番7027R、軟化温度120℃)を用いた
(Comparative Example 2)
Example 3 was the same as Example 1 except that the resin constituting the third layer was as follows.
Polycarbonate resin (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, product number 7027R, softening temperature 120 ° C.) was used as the resin constituting the third layer.

各実施例および各比較例で得られた離型フィルムおよび回路基板について、以下の評価を行なった。評価項目を内容と共に示す。得られた結果を表1に示す。
1.転写率(A/B×100)
第1層が回路部の間隙に入り込む平均高さB[μm]を、東京エレクトロン社製、精密段差計(alpha−step200)により測定し、A/B×100を評価した。
The following evaluation was performed about the release film and circuit board obtained by each Example and each comparative example. The evaluation items are shown together with the contents. The obtained results are shown in Table 1.
1. Transfer rate (A / B x 100)
The average height B [μm] at which the first layer enters the gap between the circuit portions was measured with a precision step meter (alpha-step 200) manufactured by Tokyo Electron Co., Ltd., and A / B × 100 was evaluated.

2.離型性(離型層樹脂の破れ)
離型性は、「JPCA規格(デザインガイドマニュアル・片面及び両面フレキシブルプリント配線板・JPCA−DG02、以下、JPCA規格と略す)の7.5.7.1項の表面の付着物」に準拠し、回路基板製造後に回路基板を取り出す際の離型フィルムの剥離状態を目視で評価した。各符号は、以下の通りである。なお、評価はn=10で行なった。
◎:全ての離型フィルムに破れ等が発生しなかった。
○:一部の離型フィルムに破れが発生し、その発生率が2.0%未満であった。
△:一部の離型フィルムに破れが発生し、その発生率が2.0%以上であった。
×:全ての離型フィルムに破れが発生した。
2. Release properties (breakage of release layer resin)
The releasability is in accordance with “JPCA standard (design guide manual / single-sided and double-sided flexible printed wiring board / JPCA-DG02, hereinafter abbreviated as JPCA standard)”. The release state of the release film when the circuit board was taken out after the circuit board was manufactured was visually evaluated. Each code is as follows. The evaluation was performed with n = 10.
A: No breakage or the like occurred in all release films.
A: Some of the release films were torn and the rate of occurrence was less than 2.0%.
(Triangle | delta): The tear generate | occur | produced in one part release film and the generation | occurrence | production rate was 2.0% or more.
X: All the release films were torn.

3.接着剤層の染み出し量
回路基板にカバーレイフィルムの接着剤層の染み出しがあるか否かを、「JPCA規格の7.5.3.6項のカバーレイの接着剤の流れおよびカバーコートのにじみ」に準拠し、評価した。各符号は、以下の通りである。なお、評価はn=10で行なった。
◎:全ての回路基板で接着剤層のフロー量が、150μm未満であった。
○:7〜9枚の回路基板で接着剤層のフロー量が、150μm未満であった。
△:4〜6枚の回路基板で接着剤層のフロー量が、150μm以上であった。
×:7〜10枚の回路基板で接着剤層のフロー量が、150μm以上であった。
3. Adhesive layer exudation amount Whether or not the circuit board has exudation of the adhesive layer of the cover lay film is determined according to the flow of the cover lay adhesive in 7.5.3.6 of the JPCA standard and the cover coat. It was evaluated in accordance with “No blur”. Each code is as follows. The evaluation was performed with n = 10.
(Double-circle): The flow amount of the adhesive bond layer was less than 150 micrometers in all the circuit boards.
A: The flow amount of the adhesive layer in 7 to 9 circuit boards was less than 150 μm.
(Triangle | delta): The flow amount of the adhesive bond layer was 150 micrometers or more with the circuit board of 4-6 sheets.
X: The flow rate of the adhesive layer was 150 μm or more in 7 to 10 circuit boards.

4.成形性
成形性は、「JPCA規格の7.5.3.3項の気泡」に準じて評価した。各符号は、以下の通りである。なお、評価はn=10で行なった。
◎:全ての回路基板でボイド発生率が、2.0%未満であった。
○:7〜9枚の回路基板でボイド発生率が、2.0%未満であった。
△:4〜6枚の回路基板でボイド発生率が、2.0%以上であった。
×:7〜10枚の回路基板でボイド発生率が、2.0%以上であった。
4). Moldability The moldability was evaluated according to “bubbles in 7.5.3.3 of the JPCA standard”. Each code is as follows. The evaluation was performed with n = 10.
(Double-circle): The void generation rate was less than 2.0% in all the circuit boards.
A: The void generation rate was less than 2.0% on 7 to 9 circuit boards.
(Triangle | delta): The void generation rate was 2.0% or more with the circuit board of 4-6 sheets.
X: The void generation rate was 2.0% or more on 7 to 10 circuit boards.

5.外観シワ
外観は、「JPCA規格の7.5.7.2項のシワ」に準じて評価した。各符号は、以下の通りである。なお、評価はn=10で行なった。
◎:全ての回路基板のシワ発生率が、2.0%未満であった。
○:7〜9枚の回路基板のシワ発生率が、2.0%未満であった。
△:4〜6枚の回路基板のシワ発生率が、2.0%以上であった。
×:7〜10枚の回路基板のシワ発生率が、2.0%以上であった。
5). Appearance wrinkle The appearance was evaluated according to “JPCA standard 7.5.7.2 wrinkle”. Each code is as follows. The evaluation was performed with n = 10.
A: The wrinkle generation rate of all circuit boards was less than 2.0%.
A: The wrinkle generation rate of 7 to 9 circuit boards was less than 2.0%.
(Triangle | delta): The wrinkle incidence of 4-6 circuit boards was 2.0% or more.
X: The wrinkle generation rate of 7 to 10 circuit boards was 2.0% or more.

6.メッキ付き性
メッキ付き性は、「JPCA規格の7.5.4項メッキの外観(必要メッキ面積の90%以上にメッキが付いているものを良品)」に準じて評価した。各符号は、以下の通りである。なお、評価はn=10で行なった。
◎:全ての回路側面に均一にメッキがついており、メッキ不良率が0%であった。
○:7〜9枚の回路側面のメッキ不良率が2.0%未満であった。
△:4〜6枚の回路側面のメッキ不良率が2.0%以上であった。
×:7〜10枚の回路側面のメッキ不良率が、2.0%以上であった。
6). Plating property The plating property was evaluated in accordance with "Appearance of JPCA standard 7.5.4 plating (non-defective product having 90% or more of the required plating area)". Each code is as follows. The evaluation was performed with n = 10.
A: All the circuit side surfaces were uniformly plated, and the plating defect rate was 0%.
A: The plating defect rate on the side surfaces of 7 to 9 circuits was less than 2.0%.
(Triangle | delta): The plating defect rate of the 4-6 circuit side surface was 2.0% or more.
X: The plating defect rate of 7 to 10 circuit side surfaces was 2.0% or more.

Figure 0004826196
Figure 0004826196

実施例1〜6の離型フィルムを用いて回路基板を製造する場合、回路基板(特にフレキシブル回路基板)との離型性に優れていた。
実施例1〜6の離型フィルムを用いて回路基板を製造した場合、表1から明らかなように接着剤層の染み出し量を防止することができる。
また、実施例1〜6の離型フィルムを用いて回路基板を製造した場合、得られた回路基板に外観シワ等の発生が無く、成形性にも優れていた。
When manufacturing a circuit board using the release film of Examples 1-6, it was excellent in the mold release property with a circuit board (especially flexible circuit board).
When a circuit board is manufactured using the release films of Examples 1 to 6, as can be seen from Table 1, the amount of the adhesive layer that oozes out can be prevented.
Moreover, when a circuit board was manufactured using the release film of Examples 1-6, there was no generation | occurrence | production of an external wrinkle etc. in the obtained circuit board, and it was excellent also in the moldability.

本発明の離型フィルムは、回路基板(特にフレキシブル回路基板)を製造する際に有用なものである。すなわち、回路基板(特にフレキシブル回路基板)の外観シワの発生を低減した状態で、優れた離型性を示し、従来の離型フィルムでは満足でなかった接着剤の染み出し量を抑え、さらにメッキ付き性を向上させることができる。さらに、従来の離型フィルムと比較して引裂き強度、伸び、引張強度およびコストにおいても優れる離型フィルムを提供すことができる。   The release film of the present invention is useful when producing a circuit board (particularly a flexible circuit board). In other words, it has excellent mold releasability while reducing the appearance of circuit boards (especially flexible circuit boards), reduces the amount of adhesive that is not satisfactory with conventional release films, and further plating Adhesiveness can be improved. Furthermore, it is possible to provide a release film that is superior in tear strength, elongation, tensile strength and cost as compared with conventional release films.

本発明の離型フィルムの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the release film of this invention. 本発明の離型フィルムを用いて回路基板を製造する状態を示す状態図である。It is a state figure which shows the state which manufactures a circuit board using the release film of this invention. 離型フィルムが回路部の間隙に入り込む状態をモデル的に示すモデル図である。It is a model figure which shows in a model the state in which a release film enters into the gap | interval of a circuit part.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1層
2 第2層
3 第3層
4 コア基板
40 樹脂フィルム
41 回路部
41a 未被覆部分
411 間隙
5 カバーレイフィルム
51 基材層
52 接着剤層
6 クッション紙
7 当て板
10 離型フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st layer 2 2nd layer 3 3rd layer 4 Core substrate 40 Resin film 41 Circuit part 41a Uncovered part 411 Gap | interval 5 Coverlay film 51 Base material layer 52 Adhesive layer 6 Cushion paper 7 Catch plate 10 Release film

Claims (7)

平均高さA[μm]の凸状の回路部を有するコア基板を用いて回路基板を製造する際に用いられ、第1層、第2層および第3層がこの順で積層されてなる離型フィルムであって、
前記第1層は、その厚さが7〜40μmであり、180℃での弾性率が30〜150MPaのポリエステル系樹脂で構成され、
前記第2層は、その厚さが50〜100μmであり、前記ポリエステル系樹脂と異なる、90℃での弾性率が2〜8MPaの第2樹脂で構成され、
前記第3層は、その厚さが5〜20μmであり、軟化点が120℃以上で、かつ前記第2樹脂の軟化点よりも高いオレフィン系樹脂からなる第3樹脂で構成され、
前記第1層と前記回路部とを前記ポリエステル系樹脂の融点より50℃低い温度で、圧力4MPaで圧接したとき、隣接する凸状の回路部の間隙に前記第1層が入り込む平均高さをB[μm]としたとき、
B/A×100=70%以上となることを特徴とする離型フィルム。
This is used when a circuit board is manufactured using a core substrate having a convex circuit portion having an average height A [μm], and a first layer, a second layer, and a third layer are laminated in this order. Mold film,
The first layer has a thickness of 7 to 40 μm and is composed of a polyester resin having an elastic modulus at 180 ° C. of 30 to 150 MPa,
The second layer has a thickness of 50 to 100 μm and is composed of a second resin having an elastic modulus at 90 ° C. of 2 to 8 MPa, which is different from the polyester resin.
The third layer has a thickness of 5 to 20 μm, is composed of a third resin made of an olefin resin having a softening point of 120 ° C. or higher and higher than the softening point of the second resin,
When the first layer and the circuit portion are pressed at a pressure of 4 MPa at a temperature lower by 50 ° C. than the melting point of the polyester-based resin, an average height at which the first layer enters the gap between adjacent convex circuit portions is determined. When B [μm]
B / A × 100 = 70% or more of a release film.
前記ポリエステル系樹脂は、ポリブチレンテレフタレート樹脂を主として含むものである請求項1に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, wherein the polyester resin mainly contains a polybutylene terephthalate resin. 前記ポリブチレンテレフタレート樹脂は、ポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体である請求項2に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 2, wherein the polybutylene terephthalate resin is a copolymer of polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol. 前記ポリテトラメチレングリコールの含有量は、前記共重合体全体の5〜50重量%である請求項3に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 3, wherein the content of the polytetramethylene glycol is 5 to 50% by weight of the entire copolymer. 前記第2樹脂は、エチレン系樹脂またはアクリル系樹脂である請求項1ないし4のいずれかに記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, wherein the second resin is an ethylene resin or an acrylic resin. 前記回路基板は、フレキシブル回路基板である請求項1ないし5のいずれかに記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, wherein the circuit board is a flexible circuit board. 請求項1ないし6のいずれかに記載の離型フィルムを用いることを特徴とする回路基板の製造方法。   A method for producing a circuit board, wherein the release film according to claim 1 is used.
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