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JP7352363B2 - Magnetic wiring circuit board and its manufacturing method - Google Patents

Magnetic wiring circuit board and its manufacturing method Download PDF

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JP7352363B2 JP2019044770A JP2019044770A JP7352363B2 JP 7352363 B2 JP7352363 B2 JP 7352363B2 JP 2019044770 A JP2019044770 A JP 2019044770A JP 2019044770 A JP2019044770 A JP 2019044770A JP 7352363 B2 JP7352363 B2 JP 7352363B2
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Description

本発明は、磁性配線回路基板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a magnetic wiring circuit board and a method for manufacturing the same.

従来、空芯コイルと、それを埋設する磁性層とを備えるインダクタなどの磁性シートが知られている。 2. Description of the Related Art Magnetic sheets such as inductors that include an air-core coil and a magnetic layer embedding the air-core coil are conventionally known.

例えば、空芯コイルと、空芯コイルの内側に充填される異方性複合磁性部と、空芯コイルの上面に積層される異方性複合磁性シートとを備える磁性シートが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。 For example, a magnetic sheet has been proposed that includes an air-core coil, an anisotropic composite magnetic part filled inside the air-core coil, and an anisotropic composite magnetic sheet laminated on the top surface of the air-core coil ( For example, see Patent Document 1).

特許文献1の磁性シートの製造方法では、まず、空芯コイルを準備し、その後、異方性複合磁性部を、空芯コイルの中芯の内側に充填し、その後、異方性複合磁性シートを、空芯コイルの上面に積層している。 In the method for manufacturing a magnetic sheet disclosed in Patent Document 1, first, an air-core coil is prepared, then an anisotropic composite magnetic part is filled inside the center core of the air-core coil, and then an anisotropic composite magnetic sheet is prepared. are laminated on top of the air-core coil.

そして、特許文献1のインダクタでは、空芯コイルの内側における透磁率が、異方性複合磁性部によって上昇し、そのため、インダクタンスに優れる。 In the inductor of Patent Document 1, the magnetic permeability inside the air-core coil is increased by the anisotropic composite magnetic portion, and therefore, the inductance is excellent.

特開2009-9985号公報Japanese Patent Application Publication No. 2009-9985

しかし、特許文献1に記載の方法では、異方性複合磁性部および異方性複合磁性シートを、磁性シートに対して別々の工程で形成している。そのため、製造工程数が多く、その結果、磁性シートを簡便に製造することができないという不具合がある。 However, in the method described in Patent Document 1, the anisotropic composite magnetic portion and the anisotropic composite magnetic sheet are formed in separate steps on the magnetic sheet. Therefore, there is a problem that the number of manufacturing steps is large, and as a result, the magnetic sheet cannot be easily manufactured.

また、磁性シートには、より一層優れたインダクタンスが求められる。 Further, the magnetic sheet is required to have even better inductance.

本発明は、磁性層を一度に簡便に形成することができる磁性配線回路基板の製造方法、および、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板を提供する。 The present invention provides a method for manufacturing a magnetic wired circuit board in which a magnetic layer can be easily formed at one time, and a magnetic wired circuit board having high inductance .

本発明(1)は、2つのプレス板で、絶縁層と、前記絶縁層の厚み方向一方面において、所定方向において互いに間隔を隔てて配置される複数の配線部と、第1磁性シートと、離型クッションシートとをその順で挟み込む挟み込み工程、および、前記プレス板で、前記絶縁層と、前記複数の配線部と、前記第1磁性シートと、前記離型クッションシートとを熱プレスする第1プレス工程を備え、前記第1プレス工程では、前記第1磁性シートから、前記複数の配線部間を充填し、かつ、前記配線部の前記厚み方向一方面を被覆するように、第1磁性層を形成し、前記離型クッションシートは、第1層と、前記第1層の前記厚み方向一方側に配置される第2層とを備え、前記第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、前記第1層の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低い、磁性配線回路基板の製造方法を含む。 The present invention (1) provides two press plates, an insulating layer, a plurality of wiring portions arranged at intervals from each other in a predetermined direction on one side in the thickness direction of the insulating layer, and a first magnetic sheet. a sandwiching step of sandwiching the release cushion sheet in that order; and a step of hot pressing the insulating layer, the plurality of wiring parts, the first magnetic sheet, and the release cushion sheet using the press plate. In the first pressing step, a first magnetic sheet is applied from the first magnetic sheet so as to fill between the plurality of wiring portions and to cover one surface of the wiring portion in the thickness direction. The release cushion sheet includes a first layer and a second layer disposed on one side of the first layer in the thickness direction, and the tensile storage modulus of the second layer at 110°C. The present invention includes a method for manufacturing a magnetic wired circuit board in which E' is lower than the tensile storage modulus E' of the first layer at 110°C.

この磁性配線回路基板の製造方法によれば、プレス板で、絶縁層と、複数の配線部と、第1磁性シートと、離型クッションシートとを熱プレスする第1プレス工程によって、磁性層を一度に簡便に形成することができる。 According to this method for manufacturing a magnetic wired circuit board, the magnetic layer is formed in the first pressing step of hot pressing the insulating layer, the plurality of wiring parts, the first magnetic sheet, and the release cushion sheet using a press plate. It can be easily formed all at once.

しかも、離型クッションシートにおける第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、第1層の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低いので、上記した温度で第1プレス工程を実施するときに、第2層が、第1層に比べて、柔軟となり、そのため、第2層が第1層に比べて流れ易く、第1層を介して、第1磁性シートを複数の配線部間に押し出すことができる。そのため、第1プレス工程において、複数の配線部間を充填し、かつ、配線部の対向面を被覆する磁性層を確実に形成することができる。 Moreover, since the tensile storage modulus E' of the second layer in the release cushion sheet at 110°C is lower than the tensile storage modulus E' of the first layer at 110°C, the first pressing step is performed at the above temperature. When carrying out the process, the second layer becomes more flexible than the first layer, so the second layer flows more easily than the first layer, and the first magnetic sheet is connected to a plurality of wires via the first layer. It can be extruded between parts. Therefore, in the first pressing step, it is possible to reliably form a magnetic layer that fills between the plurality of wiring parts and covers the facing surfaces of the wiring parts.

その結果、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板を得ることができる。 As a result, a magnetic wiring circuit board having high inductance can be obtained.

本発明(2)は、前記第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、20MPa以下である、(1)に記載の磁性配線回路基板の製造方法を含む。 The present invention (2) includes the method for manufacturing a magnetic wiring circuit board according to (1), wherein the second layer has a tensile storage modulus E' at 110° C. of 20 MPa or less.

この磁性配線回路基板の製造方法では、第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、20MPa以下と低いので、第1プレス工程において、上記した温度で熱プレスするときに、第2層が確実に流動することができる。そのため、第2層が、第1磁性シートを、複数の配線部間に押し出すことができる。その結果、磁性層で、複数の配線部間を確実に充填することができ、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板を得ることができる。 In this method for manufacturing a magnetic printed circuit board, the tensile storage modulus E' of the second layer at 110° C. is as low as 20 MPa or less. can flow reliably. Therefore, the second layer can push the first magnetic sheet between the plurality of wiring sections. As a result, the spaces between the plurality of wiring sections can be reliably filled with the magnetic layer, and a magnetic wiring circuit board having high inductance can be obtained.

本発明(3)は、前記第2層の厚みT2の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上である、(1)または(2)に記載の磁性配線回路基板の製造方法を含む。 The present invention (3) provides the method for manufacturing a magnetic wired circuit board according to (1) or (2), wherein the ratio of the thickness T2 of the second layer to the thickness T1 of the wiring portion is 0.5 or more. including.

この磁性配線回路基板の製造方法では、第2層の厚みT2の、配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上と高いので、第1プレス工程において、厚い第2層によって、配線部の厚み方向一方面における第1磁性シートを柔軟に熱プレスすることができ、そのため、かかる部分に対応する磁性層の厚みを十分に確保することができる。その結果、磁性層により、配線部の厚み方向一方面を確実に被覆することができる。 In this method for manufacturing a magnetic wired circuit board, the ratio of the thickness T2 of the second layer to the thickness T1 of the wiring portion is as high as 0.5 or more, so in the first pressing step, the thickness of the wiring portion is The first magnetic sheet on one side in the thickness direction can be flexibly hot-pressed, so that a sufficient thickness of the magnetic layer corresponding to this portion can be ensured. As a result, one side of the wiring portion in the thickness direction can be reliably covered with the magnetic layer.

本発明(4)は、前記離型クッションシートが、前記第2層の前記厚み方向一方側に配置される第3層をさらに備え、前記第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、前記第3層の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低い、(1)~(3)のいずれか一項に記載の磁性配線回路基板の製造方法を含む。 In the present invention (4), the release cushion sheet further includes a third layer disposed on one side of the second layer in the thickness direction, and the second layer has a tensile storage modulus E' at 110°C. , the method for manufacturing a magnetic wiring circuit board according to any one of (1) to (3), wherein the tensile storage modulus E' at 110° C. of the third layer is lower than that of the third layer.

この磁性配線回路基板の製造方法では、離型クッションシートは、第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’より高い引張貯蔵弾性率E’を有する第3層をさらに備えるので、上記した温度で第1プレス工程を実施するときに、第2層に比べて硬い第3層によって、離型クッションシートの厚み方向一方側への変形を抑制することができる。そのため、第1プレス工程を確実に実施することができる。 In this method for manufacturing a magnetic printed circuit board, the release cushion sheet further includes a third layer having a tensile storage modulus E' higher than the tensile storage modulus E' at 110° C. of the second layer. When performing the first pressing step, the third layer, which is harder than the second layer, can suppress deformation of the release cushion sheet to one side in the thickness direction. Therefore, the first pressing step can be performed reliably.

本発明(5)は、前記第1磁性層の厚みT3の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上である、(1)~(4)のいずれか一項に記載の磁性配線回路基板の製造方法を含む。 The present invention (5) provides the magnetic material according to any one of (1) to (4), wherein the ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion is 0.5 or more. Includes a method for manufacturing a printed circuit board.

この磁性配線回路基板の製造方法では、第1磁性層の厚みT3の、配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上と高いため、複数の配線部間を確実に充填しながら、磁性層を形成することができる。その結果、配線部間の実効透磁率を向上させることができ、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板を得ることができる。 In this method for manufacturing a magnetic wired circuit board, since the ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion is as high as 0.5 or more, the magnetic layer is reliably filled between the plurality of wiring portions. can be formed. As a result, the effective magnetic permeability between the wiring parts can be improved, and a magnetic wiring circuit board having high inductance can be obtained.

本発明(6)は、前記プレス板で、前記絶縁層と、前記複数の配線部と、前記第1工程により形成された第1磁性層と、第2磁性シートと、前記離型クッションシートとを熱プレスする第2プレス工程をさらに備え、前記第2プレス工程では、前記第2磁性シートから第2磁性層を形成し、これにより、前記第1磁性層および前記第2磁性層を備える磁性層を形成する、(1)~(4)のいずれか一項に記載の磁性配線回路基板の製造方法を含む。 In the present invention (6), the press plate includes the insulating layer, the plurality of wiring parts, the first magnetic layer formed in the first step, the second magnetic sheet, and the release cushion sheet. further comprising a second pressing step of hot pressing, in the second pressing step, a second magnetic layer is formed from the second magnetic sheet, thereby forming a magnetic layer comprising the first magnetic layer and the second magnetic layer. The method includes the method for manufacturing a magnetic wiring circuit board according to any one of (1) to (4), in which a layer is formed.

この磁性配線回路基板の製造方法は、第2プレス工程をさらに備えるので、厚い磁性層を形成することができる。そのため、配線部間の実効透磁率を向上させることができ、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板を得ることができる。 Since this method for manufacturing a magnetic wiring circuit board further includes a second pressing step, a thick magnetic layer can be formed. Therefore, the effective magnetic permeability between the wiring parts can be improved, and a magnetic wiring circuit board having high inductance can be obtained.

本発明(7)は、前記第1磁性層の厚みT3の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5未満であり、前記第1磁性層の厚みT3および前記第2磁性層の厚みT4の合計の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上である、(6)に記載の磁性配線回路基板の製造方法を含む。 In the present invention (7), the ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion is less than 0.5, and the ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer and the thickness of the second magnetic layer is less than 0.5. The method of manufacturing a magnetic wired circuit board according to (6), wherein the ratio of the total thickness T4 to the thickness T1 of the wiring portion is 0.5 or more.

第1磁性層の厚みT3の、配線部の厚みT1に対する比が、0.5未満と低いと、磁性層が薄くなり、そのため、複数の配線部間を磁性層で充填することが困難になり易い。 If the ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer to the thickness T1 of the wiring part is low, such as less than 0.5, the magnetic layer becomes thin, making it difficult to fill the spaces between the plurality of wiring parts with the magnetic layer. easy.

しかし、この磁性配線回路基板の製造方法によれば、第1磁性層の厚みT3および第2磁性層の厚みT4の合計の、配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上と高いので、第1磁性層および第2磁性層を備える磁性層が厚く、そのため、厚い磁性層が複数の配線部間を確実に充填することができる。その結果、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板を得ることができる。 However, according to this method of manufacturing a magnetic wired circuit board, the ratio of the sum of the thickness T3 of the first magnetic layer and the thickness T4 of the second magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion is as high as 0.5 or more. The magnetic layer including the first magnetic layer and the second magnetic layer is thick, so that the thick magnetic layer can reliably fill the space between the plurality of wiring sections. As a result, a magnetic wiring circuit board having high inductance can be obtained.

本発明(8)は、前記第1磁性シートおよび前記第2磁性シートは、磁性粒子を含有し、前記第1磁性シートにおける磁性粒子の含有割合が、前記第2磁性シートにおける磁性粒子の含有割合に比べて、低い、(6)または(7)に記載の磁性配線回路基板の製造方法を含む。 In the present invention (8), the first magnetic sheet and the second magnetic sheet contain magnetic particles, and the content ratio of the magnetic particles in the first magnetic sheet is the content ratio of the magnetic particles in the second magnetic sheet. The manufacturing method of a magnetic wired circuit board according to (6) or (7) is included.

この磁性配線回路基板の製造方法によれば、第1磁性シートにおける磁性粒子の含有割合が、第2磁性シートにおける磁性粒子の含有割合に比べて、低い。従って、第2磁性シートに比べて柔軟な第1磁性シートを、確実に、複数の配線部間に配置し、続いて、第1磁性シートに比べて剛直な第2磁性シートであっても、それを、すでに複数の配線部間に配置された第1磁性層に配置することによって、複数の配線部間を、第1磁性層および第2磁性層を備える磁性層によって、充填することができる。 According to this method for manufacturing a magnetic wiring circuit board, the content ratio of magnetic particles in the first magnetic sheet is lower than the content ratio of magnetic particles in the second magnetic sheet. Therefore, even if the first magnetic sheet, which is more flexible than the second magnetic sheet, is reliably arranged between the plurality of wiring parts, and the second magnetic sheet is more rigid than the first magnetic sheet, By disposing it in the first magnetic layer already arranged between the plurality of wiring parts, the spaces between the plurality of wiring parts can be filled with the magnetic layer including the first magnetic layer and the second magnetic layer. .

さらに、第1磁性シートにおける磁性粒子の含有割合に比べて高い含有割合で磁性粒子を含有する第2磁性シートから形成される第2磁性層によって、磁性配線回路基板のインダクタンスを向上させることができる。 Furthermore, the inductance of the magnetic wiring circuit board can be improved by the second magnetic layer formed from the second magnetic sheet containing magnetic particles at a higher content rate than the content rate of magnetic particles in the first magnetic sheet. .

本発明(9)は、絶縁層と、前記絶縁層の厚み方向一方面において、所定方向において互いに間隔を隔てて配置される複数の配線部と、前記複数の配線部間に充填され、かつ、前記配線部の前記厚み方向一方面と間隔を隔てて対向配置される対向面を被覆する磁性層とを備え、前記磁性層は、前記複数の配線部の前記対向面に配置され、前記厚み方向一方側に向かって隆起する複数の凸部と、複数の前記凸部の間に位置し、隣り合う前記凸部に対して前記厚み方向他方側に向かって凹む凹部とを有し、前記凸部は、前記厚み方向最一方側に位置する頂部を1つのみ有し、前記凹部は、前記厚み方向他方側に向かって略湾曲形状に沈下する形状を有しており、隣り合う前記配線部の前記対向面を通過する仮想面に対して、前記厚み方向一方側に位置する底部を有する、磁性配線回路基板を含む。 The present invention (9) includes an insulating layer, a plurality of wiring portions arranged at intervals from each other in a predetermined direction on one side in the thickness direction of the insulating layer, and filling between the plurality of wiring portions, and a magnetic layer covering an opposing surface disposed opposite to the one surface in the thickness direction of the wiring portion, the magnetic layer being disposed on the opposing surface of the plurality of wiring portions; a plurality of convex portions that protrude toward one side; and a concave portion located between the plurality of convex portions and recessed toward the other side in the thickness direction with respect to the adjacent convex portions; has only one apex located on the most one side in the thickness direction, and the recess has a substantially curved shape that sinks toward the other side in the thickness direction, and the concave portion has a substantially curved shape that sinks toward the other side in the thickness direction. The magnetic wiring circuit board includes a bottom portion located on one side in the thickness direction with respect to a virtual plane passing through the opposing surface.

この磁性配線回路基板では、凸部が頂部を1つのみ有し、かつ、凹部が、厚み方向他方側に向かって略湾曲形状に凹む形状を有し、かつ、隣り合う配線部の対向面を通過する仮想面に対して、厚み方向一方側に位置する底部を有する。そのため、上記した凸部および凹部を滑らかに通過する磁路によって、配線部の周囲の透磁率を向上させることができる。 In this magnetic wiring circuit board, the convex portion has only one apex, the concave portion has a substantially curved shape concave toward the other side in the thickness direction, and the opposing surfaces of the adjacent wiring portions are It has a bottom portion located on one side in the thickness direction with respect to the virtual plane through which it passes. Therefore, the magnetic permeability around the wiring portion can be improved by the magnetic path that smoothly passes through the above-described convex portions and concave portions.

その結果、この磁性配線回路基板は、高いインダクタスを有する。 As a result, this magnetic wiring circuit board has high inductance .

本発明の磁性配線回路基板の製造方法によれば、磁性層を一度に簡便に形成することができ、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板を得ることができる。 According to the method for manufacturing a magnetic wiring circuit board of the present invention, a magnetic layer can be easily formed at one time, and a magnetic wiring circuit board having high inductance can be obtained.

本発明の磁性配線回路基板は、凸部および凹部を滑らかに通過する磁路によって、配線部の周囲の透磁率を向上させることができので、高いインダクタスを有する。 The magnetic wired circuit board of the present invention has high inductance because the magnetic path passing smoothly through the convex portions and concave portions can improve the magnetic permeability around the wiring portion.

図1A~図1Cは、本発明の磁性配線回路基板の製造方法の第1実施形態の製造工程図であり、図1Aが、挟み込み工程、図1Bが、第1プレス工程、図1Cが、磁性配線回路基板を得る工程を示す。1A to 1C are manufacturing process diagrams of a first embodiment of the method for manufacturing a magnetic wiring circuit board of the present invention, in which FIG. 1A is a sandwiching process, FIG. 1B is a first pressing process, and FIG. 1C is a magnetic wiring circuit board manufacturing method. The process of obtaining a wired circuit board is shown. 図2A~図2Bは、図1Bに示す第1プレス工程を詳述する工程図であり、図2Aが、熱プレスの開始時であって、第1磁性シートが配線部に対して接触する態様、図2Bが、図2Aに引き続き、熱プレスが進行して、第1磁性シートが、変形する離型クッションシートに押圧されながら、配線部に沿ってそれらの間を充填する態様を示す。2A to 2B are process diagrams detailing the first pressing step shown in FIG. 1B, and FIG. 2A is a state in which the first magnetic sheet contacts the wiring part at the start of hot pressing. , FIG. 2B shows a mode in which, following FIG. 2A, the hot press progresses and the first magnetic sheet is pressed against the deforming release cushion sheet and fills the space between them along the wiring portion. 図3は、図1A~図1Cで得られる磁性配線回路基板の断面図であって、磁性層における磁性粒子を描画した断面図を示すFIG. 3 is a cross-sectional view of the magnetic wiring circuit board obtained in FIGS. 1A to 1C, showing a cross-sectional view depicting magnetic particles in the magnetic layer. 図4A~図4Bは、本発明の磁性配線回路基板の製造方法の第2実施形態の製造工程図であり、図4Aが、挟み込み工程、図4Bが、第1プレス工程を示す。4A to 4B are manufacturing process diagrams of a second embodiment of the method for manufacturing a magnetic wired circuit board of the present invention, with FIG. 4A showing the sandwiching step and FIG. 4B showing the first pressing step. 図5C~図5Eは、図4Bに引き続き、本発明の磁性配線回路基板の製造方法の第2実施形態の製造工程図であり、図5Cが、第2磁性シートをさらに配置する工程、図5Dが、第2プレス工程、図5Eが、磁性配線回路基板を得る工程を示す。5C to 5E are manufacturing process diagrams of the second embodiment of the method for manufacturing a magnetic wiring circuit board of the present invention following FIG. 4B, and FIG. 5C shows the step of further arranging the second magnetic sheet, and FIG. 5D However, the second pressing step, FIG. 5E, shows the step of obtaining a magnetic wiring circuit board. 図6A~図6Cは、変形例の製造工程図であり、図6Aが、挟み込み工程、図6Bが、第1プレス工程、図6Cが、磁性配線回路基板を得る工程を示す。6A to 6C are manufacturing process diagrams of a modified example, in which FIG. 6A shows the sandwiching step, FIG. 6B shows the first pressing step, and FIG. 6C shows the step of obtaining a magnetic wiring circuit board. 図7は、図6Cに示され、配線部のハッチングを削除し、磁性粒子を明瞭した磁性配線回路基板の断面図を示す。FIG. 7 is a cross-sectional view of the magnetic wired circuit board shown in FIG. 6C, in which the hatching of the wiring portion is removed and the magnetic particles are made clear. 図8は、実施例1のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 8 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Example 1. 図9は、実施例2のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 9 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Example 2. 図10は、実施例3のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 10 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Example 3. 図11は、実施例4のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 11 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Example 4. 図12は、比較例1のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 12 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Comparative Example 1. 図13は、比較例2のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 13 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Comparative Example 2. 図14は、比較例3のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 14 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Comparative Example 3. 図15は、比較例4のSEM写真の画像処理図を示す。FIG. 15 shows an image processing diagram of the SEM photograph of Comparative Example 4.

<第1実施形態>
本発明の磁性配線回路基板およびその製造方法の第1実施形態を、図1A~図2Bを参照して説明する。
<First embodiment>
A first embodiment of a magnetic wiring circuit board and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1A to 2B.

なお、図2A~図2Bにおいて、第2層32(後述)は、変形を引き起こす流動圧を矢印で明瞭に示すために、そのハッチングを省略している。 Note that in FIGS. 2A and 2B, hatching of the second layer 32 (described later) is omitted in order to clearly indicate the flow pressure that causes deformation with arrows.

図1A~図2Bに示すように、磁性配線回路基板1の製造方法は、2つのプレス板20で、絶縁層2と、複数の配線部4と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とをその順で挟み込む工程(図1A参照)、および、2つのプレス板20で、絶縁層2と、複数の配線部4と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを熱プレスする第1プレス工程(図1B参照)を備える。磁性配線回路基板1の製造方法では、上記した工程が、順に実施される。 As shown in FIGS. 1A to 2B, the method for manufacturing the magnetic wired circuit board 1 includes two press plates 20, an insulating layer 2, a plurality of wiring parts 4, a first magnetic sheet 5, and a release cushion sheet. 6 in that order (see FIG. 1A), and heat the insulating layer 2, the plurality of wiring parts 4, the first magnetic sheet 5, and the release cushion sheet 6 using the two press plates 20. A first pressing step (see FIG. 1B) is provided. In the method for manufacturing the magnetic wiring circuit board 1, the above-described steps are performed in order.

図1Aに示すように、挟み込み工程では、まず、絶縁層2と、複数の配線部4と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とのそれぞれを準備する。 As shown in FIG. 1A, in the sandwiching step, first, an insulating layer 2, a plurality of wiring sections 4, a first magnetic sheet 5, and a release cushion sheet 6 are prepared.

絶縁層2は、厚み方向に対する直交方向(面方向)に延びるシート形状を有しており、厚み方向一方面である第1絶縁面3および他方面である第2絶縁面9を有する。絶縁層2は、次に説明する複数の配線部4を支持する支持材であり、ひいては、磁性配線回路基板1を支持する支持層でもある。また、絶縁層2は、靱性を有する。絶縁層2の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などの絶縁材料が挙げられる。また、絶縁層2は、単層および複層のいずれであってもよい。絶縁層2が複層である場合には、仮想線で示すように、例えば、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレートなど)からなる第1支持層12と、例えば、アクリル樹脂からなる感圧接着層13と、例えば、ポリイミド樹脂からなる第2支持層14とを、厚み方向一方側に向かって順に備える。この場合には、第2支持層14は、感圧接着層13を介して支持層12に感圧接着(支持)されている。第2支持層14は、第1絶縁面3を形成する。支持層12は、第2絶縁面9を形成する。 The insulating layer 2 has a sheet shape extending in a direction perpendicular to the thickness direction (planar direction), and has a first insulating surface 3 as one surface in the thickness direction and a second insulating surface 9 as the other surface. The insulating layer 2 is a support material that supports a plurality of wiring sections 4, which will be described next, and is also a support layer that supports the magnetic wiring circuit board 1. Further, the insulating layer 2 has toughness. Examples of the material for the insulating layer 2 include insulating materials such as polyimide resin, polyester resin, and acrylic resin. Moreover, the insulating layer 2 may be either a single layer or a multilayer. When the insulating layer 2 is multilayer, as shown by the imaginary line, a first support layer 12 made of, for example, polyester resin (polyethylene terephthalate, etc.), a pressure-sensitive adhesive layer 13 made of, for example, acrylic resin, For example, the second support layer 14 made of polyimide resin is provided in order toward one side in the thickness direction. In this case, the second support layer 14 is pressure-sensitively bonded (supported) to the support layer 12 via the pressure-sensitive adhesive layer 13 . The second support layer 14 forms the first insulating surface 3 . Support layer 12 forms second insulating surface 9 .

複数の配線部4は、絶縁層2の第1絶縁面3において、面方向(所定方向の一例)(具体的には、図1Aにおける左右方向に相当する第1方向)に互いに間隔を隔てて配置されている。複数の配線部4の平面視(厚み方向に見たときの)形状としては、特に限定されず、例えば、略コイル形状、略ループ形状、略S形状などが挙げられる。 The plurality of wiring parts 4 are spaced apart from each other in the plane direction (an example of a predetermined direction) (specifically, a first direction corresponding to the left-right direction in FIG. 1A) on the first insulating surface 3 of the insulating layer 2. It is located. The shape of the plurality of wiring portions 4 in plan view (when viewed in the thickness direction) is not particularly limited, and includes, for example, a substantially coil shape, a substantially loop shape, a substantially S shape, and the like.

複数の配線部4のそれぞれの断面視(詳しくは、厚み方向および第1方向に沿って切断したときの断面視)形状としては、特に限定されず、例えば、略矩形状、略台形状など、少なくとも、厚み方向に対向する一組の面が平行するな四辺形状などが挙げられる。 The cross-sectional shape of each of the plurality of wiring parts 4 (specifically, the cross-sectional view when cut along the thickness direction and the first direction) is not particularly limited, and may be, for example, approximately rectangular, approximately trapezoidal, etc. At least a quadrilateral shape in which a pair of faces facing each other in the thickness direction are parallel to each other can be mentioned.

また、複数の配線部4は、絶縁層2の第1絶縁面3に配置されている。好ましくは、複数の配線部4は、絶縁層2が支持層12、感圧接着層13および第2支持層14を有する場合には、第2支持層14に接触することによって、絶縁層2に支持されている。 Further, the plurality of wiring portions 4 are arranged on the first insulating surface 3 of the insulating layer 2. Preferably, when the insulating layer 2 includes the support layer 12, the pressure-sensitive adhesive layer 13, and the second support layer 14, the plurality of wiring parts 4 are connected to the insulating layer 2 by contacting the second support layer 14. Supported.

複数の配線部4のそれぞれは、絶縁層2の第1絶縁面3に対して厚み方向一方側に間隔を隔てて対向配置される対向面15と、絶縁層2の第1絶縁面3に接触する被支持面16と、対向面15および被支持面16の周端縁を連結する側面(詳しくは、第1方向における両端縁を連結する両側面)17とを一体的に備える。 Each of the plurality of wiring portions 4 is in contact with an opposing surface 15 that is arranged to face the first insulating surface 3 of the insulating layer 2 at a distance on one side in the thickness direction, and the first insulating surface 3 of the insulating layer 2. The support surface 16 integrally includes a supported surface 16 and side surfaces 17 that connect the peripheral edges of the opposing surface 15 and the supported surface 16 (specifically, both side surfaces that connect both edges in the first direction).

対向面15は、第1方向に沿う平坦面である。 The opposing surface 15 is a flat surface along the first direction.

被支持面16は、対向面15に平行する平坦面である。 The supported surface 16 is a flat surface parallel to the opposing surface 15.

側面17は、厚み方向に沿って延びる。側面17は、1つの配線部4に2つ備えられる。2つの側面17は、第1方向に間隔を隔てて対向配置される。2つの側面17は、配線部4が略台形形状であれば、厚み方向一方側に進むに従って、互いに近づくように傾斜する形状を有する。つまり、側面17は、厚み方向に一方側に向かうに従って対向長さが短くなるテーパ面である。 The side surface 17 extends along the thickness direction. One wiring section 4 is provided with two side surfaces 17 . The two side surfaces 17 are arranged opposite to each other at a distance in the first direction. If the wiring portion 4 has a substantially trapezoidal shape, the two side surfaces 17 have a shape that is inclined toward each other as they advance toward one side in the thickness direction. That is, the side surface 17 is a tapered surface whose facing length becomes shorter toward one side in the thickness direction.

複数の配線部4の材料としては、例えば、銅などの金属(導体)が挙げられる。 Examples of the material of the plurality of wiring parts 4 include metals (conductors) such as copper.

複数の配線部4の寸法は、磁性配線回路基板1の用途および目的に応じて適宜設定され、例えば、厚みT1(対向面15および被支持面16の対向長さ)が、例えば、20μm以上、好ましくは、50μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、150μm以下である。配線部4の幅は、対向面15の第1方向長さとして、例えば、1900μm以下、20μm以上であり、被支持面16の第1方向長さとして、例えば、2000μm以下、30μm以上である。複数の配線部4間の間隔は、隣り合う配線部4における側面17の第1方向における間隔として、例えば、2100μm以下、60μm以上であり、隣り合う配線部4における被支持面16の第1方向における間隔として、例えば、2000μm以下、30μm以上である。 The dimensions of the plurality of wiring parts 4 are appropriately set according to the use and purpose of the magnetic wiring circuit board 1, and for example, the thickness T1 (the length of the facing surface 15 and the supported surface 16) is 20 μm or more, for example, Preferably, it is 50 μm or more, and for example, 300 μm or less, preferably 150 μm or less. The width of the wiring portion 4 is, for example, the length of the opposing surface 15 in the first direction of 1900 μm or less and 20 μm or more, and the length of the supported surface 16 in the first direction is, for example, 2000 μm or less and 30 μm or more. The interval between the plurality of wiring parts 4 is, for example, 2100 μm or less and 60 μm or more as the interval in the first direction of the side surface 17 of the adjacent wiring part 4, and the distance of the supported surface 16 of the adjacent wiring part 4 in the first direction. For example, the spacing is 2000 μm or less and 30 μm or more.

配線部4の厚みT1の、配線部4の幅(対向面15または被支持面16の第1方向長さ)に対する比(T1/幅)が、例えば、0.01以上、好ましくは、0.025以上であり、また、例えば、10以下、好ましくは、5以下である。配線部4の厚みT1の、配線部4間の間隔(対向面15または被支持面16の第1方向における間隔)に対する比(T1/間隔)が、例えば、0.01以上、好ましくは、0.025以上であり、また、例えば、10以下、好ましくは、5以下である。 The ratio (T1/width) of the thickness T1 of the wiring portion 4 to the width of the wiring portion 4 (the length in the first direction of the opposing surface 15 or the supported surface 16) is, for example, 0.01 or more, preferably 0.01 or more. 025 or more, and for example, 10 or less, preferably 5 or less. The ratio (T1/distance) of the thickness T1 of the wiring portions 4 to the spacing between the wiring portions 4 (the spacing in the first direction of the opposing surface 15 or the supported surface 16) is, for example, 0.01 or more, preferably 0. .025 or more, and for example, 10 or less, preferably 5 or less.

絶縁層2および複数の配線部4は、例えば、それらを予め備える配線回路基板40として準備される。具体的には、配線回路基板40は、絶縁層2と、絶縁層2の第1絶縁面3に配置される複数の配線部4とを備える。配線回路基板40は、好ましくは、絶縁層2および複数の配線部4のみからなる。 The insulating layer 2 and the plurality of wiring sections 4 are prepared, for example, as a wired circuit board 40 that includes them in advance. Specifically, the wired circuit board 40 includes an insulating layer 2 and a plurality of wiring portions 4 arranged on the first insulating surface 3 of the insulating layer 2. The printed circuit board 40 preferably consists of only the insulating layer 2 and the plurality of wiring parts 4.

第1磁性シート5は、面方向に延びるシート形状を有する。第1磁性シート5は、磁性配線回路基板1における磁性層21(図1C参照)を形成するための磁性シートである。第1磁性シート5は、厚み方向一方面である第1磁性面18および他方面である第2磁性面19を有する。 The first magnetic sheet 5 has a sheet shape extending in the plane direction. The first magnetic sheet 5 is a magnetic sheet for forming the magnetic layer 21 (see FIG. 1C) in the magnetic wiring circuit board 1. The first magnetic sheet 5 has a first magnetic surface 18 as one surface in the thickness direction and a second magnetic surface 19 as the other surface.

第1磁性面18は、面方向に沿う平坦面である。 The first magnetic surface 18 is a flat surface along the surface direction.

第2磁性面19は、第1磁性面18と厚み方向他方側に間隔を隔てて対向配置されており、第1磁性面18に平行する平坦面である。 The second magnetic surface 19 is a flat surface parallel to the first magnetic surface 18, which is disposed to face the first magnetic surface 18 at a distance from the other side in the thickness direction.

なお、第1磁性シート5は、第1プレス工程における熱プレスによって、変形(流動)して、複数の配線部4の対向面15および側面17に沿って配置される。 Note that the first magnetic sheet 5 is deformed (fluidized) by the hot pressing in the first pressing step and is arranged along the opposing surface 15 and side surface 17 of the plurality of wiring sections 4.

第1磁性シート5の材料として、例えば、磁性粒子48および樹脂を含有する磁性組成物などが挙げられる。 Examples of the material for the first magnetic sheet 5 include a magnetic composition containing magnetic particles 48 and a resin.

磁性粒子48を構成する磁性材料としては、例えば、軟磁性体、硬磁性体が挙げられる。好ましくは、インダクタンスの観点から、軟磁性体が挙げられる。 Examples of the magnetic material constituting the magnetic particles 48 include soft magnetic materials and hard magnetic materials. Preferably, a soft magnetic material is used from the viewpoint of inductance.

軟磁性体としては、例えば、1種類の金属元素を純物質の状態で含む単一金属体、例えば、1種類以上の金属元素(第1金属元素)と、1種類以上の金属元素(第2金属元素)および/または非金属元素(炭素、窒素、ケイ素、リンなど)との共融体(混合物)である合金体が挙げられる。これらは、単独または併用することができる。 As a soft magnetic material, for example, a single metal body containing one type of metal element in a pure substance state, for example, one or more types of metal element (first metal element) and one or more types of metal element (second metal element), Examples include alloys that are eutectic bodies (mixtures) with metallic elements) and/or nonmetallic elements (carbon, nitrogen, silicon, phosphorus, etc.). These can be used alone or in combination.

単一金属体としては、例えば、1種類の金属元素(第1金属元素)のみからなる金属単体が挙げられる。第1金属元素としては、例えば、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、その他、軟磁性体の第1金属元素として含有することが可能な金属元素の中から適宜選択される。 As the single metal body, for example, a single metal body consisting of only one type of metal element (first metal element) can be mentioned. The first metal element is appropriately selected from, for example, iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), and other metal elements that can be contained as the first metal element in the soft magnetic material. .

また、単一金属体としては、例えば、1種類の金属元素のみを含むコアと、そのコアの表面の一部または全部を修飾する無機物および/または有機物を含む表面層とを含む形態、例えば、第1金属元素を含む有機金属化合物や無機金属化合物が分解(熱分解など)された形態などが挙げられる。後者の形態として、より具体的には、第1金属元素として鉄を含む有機鉄化合物(具体的には、カルボニル鉄)が熱分解された鉄粉(カルボニル鉄粉と称される場合がある)などが挙げられる。なお、1種類の金属元素のみを含む部分を修飾する無機物および/または有機物を含む層の位置は、上記のような表面に限定されない。なお、単一金属体を得ることができる有機金属化合物や無機金属化合物としては、特に制限されず、軟磁性体の単一金属体を得ることができる公知乃至慣用の有機金属化合物や無機金属化合物から適宜選択することができる。 Further, as a single metal body, for example, a form that includes a core containing only one type of metal element and a surface layer containing an inorganic substance and/or an organic substance that modifies part or all of the surface of the core, for example, Examples include a form in which an organic metal compound or an inorganic metal compound containing the first metal element is decomposed (thermally decomposed, etc.). More specifically, the latter form is iron powder (sometimes referred to as carbonyl iron powder) obtained by thermally decomposing an organic iron compound containing iron as the first metal element (specifically, carbonyl iron). Examples include. Note that the position of the layer containing an inorganic substance and/or an organic substance that modifies a portion containing only one type of metal element is not limited to the above-mentioned surface. The organometallic compounds and inorganic metal compounds from which a single metal body can be obtained are not particularly limited, and include known or commonly used organometallic compounds and inorganic metal compounds from which a soft magnetic single metal body can be obtained. It can be selected as appropriate.

合金体は、1種類以上の金属元素(第1金属元素)と、1種類以上の金属元素(第2金属元素)および/または非金属元素(炭素、窒素、ケイ素、リンなど)との共融体であり、軟磁性体の合金体として利用することができるものであれば特に制限されない。 An alloy is a eutectic mixture of one or more metal elements (first metal element) and one or more metal elements (second metal element) and/or nonmetal elements (carbon, nitrogen, silicon, phosphorus, etc.) It is not particularly limited as long as it can be used as an alloy of soft magnetic materials.

第1金属元素は、合金体における必須元素であり、例えば、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)などが挙げられる。なお、第1金属元素がFeであれば、合金体は、Fe系合金とされ、第1金属元素がCoであれば、合金体は、Co系合金とされ、第1金属元素がNiであれば、合金体は、Ni系合金とされる。 The first metal element is an essential element in the alloy, and examples thereof include iron (Fe), cobalt (Co), and nickel (Ni). Note that if the first metal element is Fe, the alloy body is a Fe-based alloy; if the first metal element is Co, the alloy body is a Co-based alloy; and even if the first metal element is Ni, the alloy body is a Fe-based alloy. For example, the alloy body is a Ni-based alloy.

第2金属元素は、合金体に副次的に含有される元素(副成分)であり、第1金属元素に相溶(共融)する金属元素であって、例えば、鉄(Fe)(第1金属元素がFe以外である場合)、コバルト(Co)(第1金属元素がCo以外である場合)、ニッケル(Ni)(第1金属元素Ni以外である場合)、クロム(Cr)、アルミニウム(Al)、ケイ素(Si)、銅(Cu)、銀(Ag)、マンガン(Mn)、カルシウム(Ca)、バリウム(Ba)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、亜鉛(Zn)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)、ゲルマニウム(Ge)、スズ(Sn)、鉛(Pb)、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、ストロンチウム(Sr)、各種希土類元素などが挙げられる。これらは、単独使用または2種以上併用することができる。 The second metal element is an element (subcomponent) secondarily contained in the alloy body, and is a metal element that is compatible (eutectic) with the first metal element, such as iron (Fe) (second metal element). (When the first metal element is other than Fe), Cobalt (Co) (When the first metal element is other than Co), Nickel (Ni) (When the first metal element is other than Ni), Chromium (Cr), Aluminum (Al), silicon (Si), copper (Cu), silver (Ag), manganese (Mn), calcium (Ca), barium (Ba), titanium (Ti), zirconium (Zr), hafnium (Hf), vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), tungsten (W), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), zinc (Zn), gallium (Ga), indium (In), germanium (Ge), tin (Sn), lead (Pb), scandium (Sc), yttrium (Y), strontium (Sr), and various rare earth elements. These can be used alone or in combination of two or more.

非金属元素は、合金体に副次的に含有される元素(副成分)であり、第1金属元素に相溶(共融)する非金属元素であって、例えば、ホウ素(B)、炭素(C)、窒素(N)、ケイ素(Si)、リン(P)、硫黄(S)などが挙げられる。これらは、単独使用または2種以上併用することができる。 The nonmetallic element is an element (subcomponent) secondarily contained in the alloy body, and is a nonmetallic element that is compatible (eutectic) with the first metal element, such as boron (B), carbon, etc. (C), nitrogen (N), silicon (Si), phosphorus (P), sulfur (S), and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

合金体の一例であるFe系合金として、例えば、磁性ステンレス(Fe-Cr-Al-Si合金)(電磁ステンレスを含む)、センダスト(Fe-Si-Al合金)(スーパーセンダストを含む)、パーマロイ(Fe-Ni合金)、Fe-Ni-Mo合金、Fe-Ni-Mo-Cu合金、Fe-Ni-Co合金、Fe-Cr合金、Fe-Cr-Al合金、Fe-Ni-Cr合金、Fe-Ni-Cr-Si合金、ケイ素銅(Fe-Cu-Si合金)、Fe-Si合金、Fe-Si―B(-Cu-Nb)合金、Fe-B-Si-Cr合金、Fe-Si-Cr-Ni合金、Fe-Si-Cr合金、Fe-Si-Al-Ni-Cr合金、Fe-Ni-Si-Co合金、Fe-N合金、Fe-C合金、Fe-B合金、Fe-P合金、フェライト(ステンレス系フェライト、さらには、Mn-Mg系フェライト、Mn-Zn系フェライト、Ni-Zn系フェライト、Ni-Zn-Cu系フェライト、Cu-Zn系フェライト、Cu-Mg-Zn系フェライトなどのソフトフェライトを含む)、パーメンジュール(Fe-Co合金)、Fe-Co-V合金、Fe基アモルファス合金などが挙げられる。 Examples of Fe-based alloys, which are examples of alloys, include magnetic stainless steel (Fe-Cr-Al-Si alloy) (including electromagnetic stainless steel), Sendust (Fe-Si-Al alloy) (including Super Sendust), and permalloy ( Fe-Ni alloy), Fe-Ni-Mo alloy, Fe-Ni-Mo-Cu alloy, Fe-Ni-Co alloy, Fe-Cr alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Ni-Cr alloy, Fe- Ni-Cr-Si alloy, silicon copper (Fe-Cu-Si alloy), Fe-Si alloy, Fe-Si-B (-Cu-Nb) alloy, Fe-B-Si-Cr alloy, Fe-Si-Cr -Ni alloy, Fe-Si-Cr alloy, Fe-Si-Al-Ni-Cr alloy, Fe-Ni-Si-Co alloy, Fe-N alloy, Fe-C alloy, Fe-B alloy, Fe-P alloy , ferrite (stainless steel ferrite, Mn-Mg ferrite, Mn-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite, Ni-Zn-Cu ferrite, Cu-Zn ferrite, Cu-Mg-Zn ferrite, etc.) (including soft ferrite), permendur (Fe--Co alloy), Fe--Co--V alloy, Fe-based amorphous alloy, etc.

合金体の一例であるCo系合金としては、例えば、Co-Ta-Zr、コバルト(Co)基アモルファス合金などが挙げられる。 Co-based alloys, which are examples of alloy bodies, include Co--Ta--Zr, cobalt (Co)-based amorphous alloys, and the like.

合金体の一例であるNi系合金としては、例えば、Ni-Cr合金などが挙げられる。 Examples of the Ni-based alloy, which is an example of the alloy body, include a Ni--Cr alloy.

これら軟磁性体の中でも、磁気特性の点から、好ましくは、合金体、より好ましくは、Fe系合金、さらに好ましくは、センダスト(Fe-Si-Al合金)、とりわけ好ましくは、高い透磁率を得る観点から、Si含有割合が9~15質量%であるセンダストが挙げられる。また、軟磁性体として、好ましくは、単一金属体、より好ましくは、鉄元素を純物質の状態で含む単一金属体、さらに好ましくは、鉄単体、あるいは、鉄粉(カルボニル鉄粉)が挙げられる。 Among these soft magnetic materials, from the viewpoint of magnetic properties, alloys are preferred, more preferably Fe-based alloys, still more preferably sendust (Fe-Si-Al alloy), and particularly preferred to obtain high magnetic permeability. From this point of view, Sendust with a Si content of 9 to 15% by mass can be mentioned. In addition, the soft magnetic material is preferably a single metal body, more preferably a single metal body containing iron element in a pure state, and even more preferably iron alone or iron powder (carbonyl iron powder). Can be mentioned.

磁性粒子48の形状は、特に限定されず、略扁平状(板状)、略球形状、略針形状、不定形状が挙げられ、好ましくは、略扁平状(板状)が挙げられる。なお、第1磁性シート5は、異方性の磁性粒子48に加え、非異方性の磁性粒子をさらに含有することもできる。非異方性の磁性粒子は、例えば、球状、顆粒状、塊状、ペレット状などの形状を有していてもよい。非異方性の磁性粒子の平均粒子径は、例えば、0.1μm以上、好ましくは、0.5μm以上であり、また、例えば、200μm以下、好ましくは、150μm以下である。 The shape of the magnetic particles 48 is not particularly limited, and examples include a substantially flat shape (plate shape), a substantially spherical shape, a substantially needle shape, and an irregular shape, and preferably a substantially flat shape (plate shape). In addition to the anisotropic magnetic particles 48, the first magnetic sheet 5 can also contain non-anisotropic magnetic particles. The non-anisotropic magnetic particles may have, for example, a spherical, granular, lump, or pellet shape. The average particle diameter of the non-anisotropic magnetic particles is, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and, for example, 200 μm or less, preferably 150 μm or less.

異方性の磁性粒子48の平均粒子径(平均最大長さ)は、例えば、3.5μm以上、好ましくは、10μm以上であり、また、例えば、100μm以下でもある。 The average particle diameter (average maximum length) of the anisotropic magnetic particles 48 is, for example, 3.5 μm or more, preferably 10 μm or more, and also, for example, 100 μm or less.

磁性粒子48の磁性組成物(第1磁性シート5)における容積割合は、例えば、15容積%以上、好ましくは、50容積%以上であり、また、例えば、90容積%以下、好ましくは、80容積%以下である。 The volume ratio of the magnetic particles 48 in the magnetic composition (first magnetic sheet 5) is, for example, 15 volume% or more, preferably 50 volume% or more, and, for example, 90 volume% or less, preferably 80 volume%. % or less.

樹脂としては、例えば、熱可塑性成分、熱硬化性成分が挙げられる。これらは、単独使用または併用することができ、好ましくは、熱可塑性成分および熱硬化性成分の併用が挙げられる。熱可塑性成分および熱硬化性成分の併用であれば、第1工程において、磁性組成物が十分に流動して、複数の配線部4間を充填できつつ、その後の完全硬化によって、耐久性に優れる磁性層21を形成することができる。 Examples of the resin include thermoplastic components and thermosetting components. These can be used alone or in combination, and preferably a thermoplastic component and a thermosetting component are used in combination. If a thermoplastic component and a thermosetting component are used in combination, the magnetic composition can flow sufficiently in the first step to fill the spaces between the plurality of wiring sections 4, and is then completely cured, resulting in excellent durability. A magnetic layer 21 can be formed.

熱可塑性成分としては、例えば、天然ゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、エチレン-アクリル酸エステル共重合体、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂(6-ナイロンや6,6-ナイロンなど)、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、飽和ポリエステル樹脂(PETなど)、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂、スチレン-イソブチレン-スチレンブロック共重合体などの熱可塑性樹脂が挙げられる。これら熱可塑性成分は、単独使用または2種以上併用することができる。 Examples of thermoplastic components include natural rubber, butyl rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, polybutadiene resin, polycarbonate resin, Thermoplastic polyimide resin, polyamide resin (6-nylon, 6,6-nylon, etc.), phenoxy resin, acrylic resin, saturated polyester resin (PET, etc.), polyamide-imide resin, fluororesin, styrene-isobutylene-styrene block copolymer Examples include thermoplastic resins such as. These thermoplastic components can be used alone or in combination of two or more.

熱可塑性成分として、好ましくは、アクリル樹脂が挙げられる。 Preferably, the thermoplastic component is an acrylic resin.

アクリル樹脂としては、例えば、直鎖または分岐のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、その他のモノマー(共重合性モノマー)とを含むモノマー成分を重合してなる、カルボキシル基含有(メタ)アクリル酸エステルコポリマー(好ましくは、カルボキシル基含有アクリル酸エステルコポリマー)などが挙げられる。 Examples of acrylic resins include carboxyl group-containing (meth)acrylic resins obtained by polymerizing monomer components containing (meth)acrylic acid alkyl esters having linear or branched alkyl groups and other monomers (copolymerizable monomers). ) acrylic ester copolymers (preferably carboxyl group-containing acrylic ester copolymers).

アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、t-ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシルなどの炭素数1~6のアルキル基などが挙げられる。 Examples of the alkyl group include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, t-butyl, isobutyl, pentyl, and hexyl.

その他のモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマーなどが挙げられる。 Examples of other monomers include carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid.

熱可塑性成分の樹脂における割合(固形分割合)は、例えば、25質量%以上、80質量%以下である。 The proportion of the thermoplastic component in the resin (solid content proportion) is, for example, 25% by mass or more and 80% by mass or less.

熱硬化性成分は、例えば、主剤、硬化剤および硬化促進剤を含む。 The thermosetting component includes, for example, a base agent, a curing agent, and a curing accelerator.

主剤としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ビニルエステル樹脂、シアノエステル樹脂、マレイミド樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。主剤としては、耐熱性などの観点から、好ましくは、エポキシ樹脂が挙げられる。主剤がエポキシ樹脂であれば、熱硬化性成分は、後述する硬化剤(エポキシ系硬化剤)および硬化促進剤(エポキシ系硬化促進剤)とともに、エポキシ系熱硬化性成分を構成する。 Examples of the main resin include epoxy resin, phenol resin, melamine resin, vinyl ester resin, cyano ester resin, maleimide resin, and silicone resin. From the viewpoint of heat resistance, etc., the base resin is preferably an epoxy resin. If the base resin is an epoxy resin, the thermosetting component constitutes the epoxy thermosetting component together with the curing agent (epoxy curing agent) and curing accelerator (epoxy curing accelerator) described below.

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂、変性ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂などの2官能エポキシ樹脂、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂などの3官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。これらエポキシ樹脂は、単独で使用または2種以上を併用することができる。 Examples of the epoxy resin include bifunctional epoxy resins such as bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, modified bisphenol A epoxy resin, modified bisphenol F epoxy resin, biphenyl epoxy resin, and phenol novolak epoxy resin. Examples include trifunctional or higher functional epoxy resins such as cresol novolac type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylolethane type epoxy resin, and dicyclopentadiene type epoxy resin. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

好ましくは、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂が挙げられる。 Preferable examples include cresol novolak type epoxy resin and trishydroxyphenylmethane type epoxy resin.

クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(1)で表される化合物などが挙げられ、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂の具体例としては、下記一般式(2)で表される化合物などが挙げられる。 Specific examples of cresol novolac type epoxy resins include compounds represented by the following general formula (1), and specific examples of trishydroxyphenylmethane type epoxy resins include compounds represented by the following general formula (2). Examples include compounds.

Figure 0007352363000001
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Figure 0007352363000002
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なお、nは、それぞれ独立にモノマーの重合度を示す。 Note that n each independently represents the degree of polymerization of the monomer.

エポキシ樹脂のエポキシ当量は、例えば、10g/eq.以上、好ましくは、100g/eq.以上であり、また、例えば、300g/eq.以下、好ましくは、250g/eq.以下である。 The epoxy equivalent of the epoxy resin is, for example, 10 g/eq. Above, preferably 100g/eq. or more, and for example, 300g/eq. Below, preferably 250g/eq. It is as follows.

主剤(好ましくは、エポキシ樹脂)の樹脂における割合は、例えば、5質量%以上、例えば、50質量%以下である。 The proportion of the base resin (preferably epoxy resin) in the resin is, for example, 5% by mass or more and, for example, 50% by mass or less.

硬化剤は、加熱によって、上記した主剤を硬化させる成分(好ましくは、エポキシ樹脂硬化剤)である。硬化剤としては、例えば、フェノールノボラック樹脂などのフェノール樹脂が挙げられる。 The curing agent is a component (preferably an epoxy resin curing agent) that cures the above-mentioned main ingredient by heating. Examples of the curing agent include phenolic resins such as phenol novolac resins.

硬化剤の割合は、主剤がエポキシ樹脂であり、硬化剤がフェノール樹脂であれば、エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して、フェノール樹脂中の水酸基の合計が、例えば、0.7当量以上、好ましくは、0.9当量以上、例えば、1.5当量以下、好ましくは、1.2当量以下となるように、調整される。具体的には、硬化剤の配合部数は、主剤100質量部に対して、例えば、70質量部以上、150質量部以下である。 The ratio of the curing agent is such that, if the main resin is an epoxy resin and the curing agent is a phenol resin, the total amount of hydroxyl groups in the phenol resin is, for example, 0.7 equivalent or more per 1 equivalent of epoxy group in the epoxy resin. , preferably 0.9 equivalent or more, for example, 1.5 equivalent or less, preferably 1.2 equivalent or less. Specifically, the blending number of the curing agent is, for example, 70 parts by mass or more and 150 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the main agent.

硬化促進剤は、加熱によって、主剤の硬化を促進する触媒(熱硬化触媒)(好ましくは、エポキシ樹脂硬化促進剤)であって、例えば、有機リン系化合物、例えば、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール(2P4MHZ)などのイミダゾール化合物などが挙げられる。好ましくは、イミダゾール化合物が挙げられる。硬化促進剤の配合部数は、主剤100質量部に対して、例えば、0.05質量部以上、5質量部以下である。 The curing accelerator is a catalyst (thermal curing catalyst) (preferably an epoxy resin curing accelerator) that accelerates curing of the base resin by heating, and is, for example, an organic phosphorus compound such as 2-phenyl-4-methyl. Examples include imidazole compounds such as -5-hydroxymethylimidazole (2P4MHZ). Preferably, imidazole compounds are used. The blending number of the curing accelerator is, for example, 0.05 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the main agent.

樹脂の磁性組成物(第1磁性シート5)における容積割合は、上記した磁性粒子48の容積割合の残部であり、具体的には、例えば、10容積%以上、好ましくは、20容積%以上であり、また、例えば、80容積%以下、好ましくは、50容積%以下である。 The volume ratio of the resin in the magnetic composition (first magnetic sheet 5) is the remainder of the volume ratio of the magnetic particles 48 described above, and specifically, for example, 10 volume% or more, preferably 20 volume% or more. For example, it is 80% by volume or less, preferably 50% by volume or less.

なお、磁性組成物には、公知の添加剤(例えば、分散剤、レオロジーコントロール剤など)などの適宜の割合で配合することができる。 Note that known additives (for example, dispersants, rheology control agents, etc.) can be blended into the magnetic composition in appropriate proportions.

第1磁性シート5は、磁性粒子48および樹脂を配合して、これらを均一に混合して磁性組成物を調製する。この際、必要により、溶媒(有機溶媒)を用いて、磁性組成物のワニスを調製する。その後、ワニスを、図示しない剥離フィルムに塗布し、乾燥して、第1磁性シート5を調製(作製)する。 The first magnetic sheet 5 is prepared by blending magnetic particles 48 and a resin and uniformly mixing them to prepare a magnetic composition. At this time, a varnish of the magnetic composition is prepared using a solvent (organic solvent) if necessary. Thereafter, varnish is applied to a release film (not shown) and dried to prepare (manufacture) the first magnetic sheet 5.

第1磁性シート5の厚みは、後述する磁性層21の厚みT3が確保されるように、適宜設定される。 The thickness of the first magnetic sheet 5 is appropriately set so as to ensure a thickness T3 of the magnetic layer 21, which will be described later.

離型クッションシート6は、次に説明する第1プレス工程において、第2プレス板11と第1磁性シート5との間において、それらが粘着(感圧接着)することを抑制しながら、熱プレス後には、磁性層21を第2プレス板11から離型することができる離型シートである。また、離型クッションシート6は、第1プレス工程における熱プレス時に、第2プレス板11の圧力を複数の配線部4の形状に対応して分散して第1磁性シート5に作用させ、第1磁性シート5に変形を生じさせ、第1磁性シート5を複数の配線部4の形状に追従させるためのクッションシートでもある。 The release cushion sheet 6 is heat-pressed between the second press plate 11 and the first magnetic sheet 5 while suppressing adhesion (pressure-sensitive adhesion) between them in the first pressing process described next. Later, it is a release sheet that can release the magnetic layer 21 from the second press plate 11. Moreover, the release cushion sheet 6 distributes the pressure of the second press plate 11 in accordance with the shapes of the plurality of wiring parts 4 and applies it to the first magnetic sheet 5 during hot pressing in the first pressing step. It is also a cushion sheet for causing deformation in the first magnetic sheet 5 and making the first magnetic sheet 5 follow the shape of the plurality of wiring sections 4 .

離型クッションシート6は、面方向に延びるシート形状を有しており、厚み方向一方面である第1離型面22および他方面である第2離型面23を有する。 The release cushion sheet 6 has a sheet shape extending in the plane direction, and has a first release surface 22 as one surface in the thickness direction and a second release surface 23 as the other surface in the thickness direction.

第1離型面22は、第2プレス板11(後述)に面状に接触することができる。第1離型面22は、面方向に沿う平坦面である。 The first mold release surface 22 can contact the second press plate 11 (described later) in a planar manner. The first mold release surface 22 is a flat surface along the surface direction.

第2離型面23は、第1磁性シート5の第1磁性面18に面状に接触することができる。第2離型面23は、第1離型面22と厚み方向他方側に間隔を隔てて対向配置されている。第2離型面23は、第1離型面22に対して平行しており、面方向に沿う平坦面である。 The second release surface 23 can contact the first magnetic surface 18 of the first magnetic sheet 5 in a planar manner. The second mold release surface 23 is disposed opposite to the first mold release surface 22 on the other side in the thickness direction with an interval therebetween. The second mold release surface 23 is parallel to the first mold release surface 22 and is a flat surface along the surface direction.

離型クッションシート6は、第1層31と、第2層32と、第3層33とを厚み方向一方側に順に備える。好ましくは、離型クッションシート6は、第1層31と、第2層32と、第3層33とのみからなる。 The release cushion sheet 6 includes a first layer 31, a second layer 32, and a third layer 33 in this order on one side in the thickness direction. Preferably, the release cushion sheet 6 includes only a first layer 31, a second layer 32, and a third layer 33.

第1層31は、離型クッションシート6における厚み方向最他方側に位置する。これにより、第1層31は、第2離型面23を形成する。つまり、第1層31は、第1磁性シート5(具体的には、熱プレス後の磁性層21)に対する離型層(第1離型層)である。第1層31は、面方向に沿って延びる形状を有する薄膜(スキン膜)である。また、第1層31は、次に説明する第2層32を厚み方向他方側から被覆する被覆層(外殻層)である。第1層31の厚み方向他方面(第2離型面23に相当する表面)には、適宜の剥離処理が施されていてもよい。 The first layer 31 is located on the othermost side of the release cushion sheet 6 in the thickness direction. Thereby, the first layer 31 forms the second mold release surface 23. That is, the first layer 31 is a release layer (first release layer) for the first magnetic sheet 5 (specifically, the magnetic layer 21 after hot pressing). The first layer 31 is a thin film (skin film) having a shape extending along the surface direction. Further, the first layer 31 is a covering layer (outer shell layer) that covers a second layer 32, which will be described next, from the other side in the thickness direction. The other surface in the thickness direction of the first layer 31 (the surface corresponding to the second release surface 23) may be subjected to an appropriate peeling treatment.

第1層31は、次の第1プレス工程における熱プレスにおいて、第1磁性シート5の第1磁性面18に対して追従して接触できる一方、その厚みが熱プレスの前後で実質的に変化しない物性を有する。また、第1層31は、上記した熱プレスにおいて、面方向(具体的には、第1方向に)に伸長できる層である。なお、第1層31は、第1プレス工程における熱プレスの温度(例えば、110℃)において、次に説明する第2層32に比べて、硬い。 The first layer 31 can follow and come into contact with the first magnetic surface 18 of the first magnetic sheet 5 during the heat pressing in the next first pressing step, but its thickness substantially changes before and after the heat press. It has physical properties that do not Moreover, the first layer 31 is a layer that can be stretched in the plane direction (specifically, in the first direction) in the above-described heat press. Note that the first layer 31 is harder than the second layer 32, which will be described next, at the hot press temperature (for example, 110° C.) in the first pressing step.

具体的には、第1層31の110℃における引張貯蔵弾性率E’は、例えば、50MPa以上、好ましくは、100MPa以上、より好ましくは、150MPa以上であり、また、例えば、300MPa以下である。引張貯蔵弾性率E’は、周波数1Hzおよび昇温速度10℃/分の条件で動的粘弾性測定して求められる。後述する第2層32および離型クッションシート6の引張貯蔵弾性率E’も同様にして求められる。 Specifically, the tensile storage modulus E' at 110° C. of the first layer 31 is, for example, 50 MPa or more, preferably 100 MPa or more, more preferably 150 MPa or more, and, for example, 300 MPa or less. The tensile storage modulus E' is determined by dynamic viscoelasticity measurement under the conditions of a frequency of 1 Hz and a heating rate of 10° C./min. The tensile storage modulus E' of the second layer 32 and the release cushion sheet 6, which will be described later, is also determined in the same manner.

なお、第1層31の引張貯蔵弾性率E’を特定する温度110℃は、第1プレス工程における第1磁性シート5の熱プレスの温度またはそれに近似する温度を想定した温度である。第2層32および第3層33の引張貯蔵弾性率E’を特定する温度110℃も、第1層31における上記したそれと同様である。 Note that the temperature of 110° C. for specifying the tensile storage modulus E' of the first layer 31 is a temperature that is assumed to be the temperature at which the first magnetic sheet 5 is hot pressed in the first pressing step or a temperature close thereto. The temperature of 110° C. for specifying the tensile storage modulus E' of the second layer 32 and the third layer 33 is also the same as that described above for the first layer 31.

また、第1層31の融点は、高く、例えば、熱プレスの温度(例えば、110℃)を超える温度であり、具体的には、200℃以上、好ましくは、210℃以上、より好ましくは、220℃以上であり、また、250℃以下である。第1層31の融点は、示差走査熱量計で測定される。なお、後述する第2層32および第3層33の融点も、上記と同様の方法で測定される。 Further, the melting point of the first layer 31 is high, for example, a temperature exceeding the temperature of hot press (for example, 110°C), specifically, 200°C or higher, preferably 210°C or higher, more preferably, The temperature is 220°C or higher and 250°C or lower. The melting point of the first layer 31 is measured with a differential scanning calorimeter. Note that the melting points of the second layer 32 and third layer 33, which will be described later, are also measured in the same manner as described above.

第1層31の材料としては、後述する第1プレス工程における熱プレスによって少なくとも第1方向に流動しない非熱流動材料が挙げられる。 Examples of the material for the first layer 31 include non-thermal fluid materials that do not flow at least in the first direction due to heat pressing in the first pressing step described below.

非熱流動材料は、例えば、芳香族ポリエステル、ポリオレフィンなどを主成分として含有する。 The non-thermofluidic material contains, for example, aromatic polyester, polyolefin, etc. as a main component.

芳香族ポリエステルとしては、例えば、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンテレフタレート(PET)などポリアルキレンテレフタレートが挙げられ、好ましくは、PBTが挙げられる。 Examples of the aromatic polyester include polyalkylene terephthalates such as polybutylene terephthalate (PBT) and polyethylene terephthalate (PET), with PBT being preferred.

ポリオレフィンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、2-ブテン、2-メチルプロペン、4-メチル-1-ペンテンなどのα-オレフィンのホモポリマーおよび/またはコポリマーが挙げられ、好ましくは、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)が挙げられる。 Polyolefins include homopolymers and/or copolymers of α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, 2-butene, 2-methylpropene, 4-methyl-1-pentene, and are preferably poly(4 -methyl-1-pentene).

非熱流動材料として、好ましくは、芳香族ポリエステルが挙げられる。 Preferably, aromatic polyester is used as the non-thermofluidic material.

第1層31の厚みは、例えば、50μm以下、好ましくは、25μm以下であり、また、例えば、5μm以上、好ましくは、10μm以上である。 The thickness of the first layer 31 is, for example, 50 μm or less, preferably 25 μm or less, and is, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more.

第2層32は、第1層31の厚み方向一方面に配置されており、離型クッションシート6において、第1層31および第3層33に挟まれる中間層である。第2層32は、第1工程における熱プレス時に、第1方向および厚み方向に流動して、第1層31を第1磁性シート5の第1磁性面18に追従させる流動層である。 The second layer 32 is disposed on one side of the first layer 31 in the thickness direction, and is an intermediate layer sandwiched between the first layer 31 and the third layer 33 in the release cushion sheet 6 . The second layer 32 is a fluidized layer that flows in the first direction and the thickness direction during hot pressing in the first step to cause the first layer 31 to follow the first magnetic surface 18 of the first magnetic sheet 5.

第2層32は、第1層31に比べて柔らかい柔軟層であり、具体的には、第1プレス工程における熱プレス時において、変形することができる。具体的には、第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’は、第1層31の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低い。より具体的には、第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’は、例えば、50MPa以下、好ましくは、40MPa以下、より好ましくは、30MPa以下、さらに好ましくは、20MPa以下であり、また、例えば、5MPa以上である。第1層31の引張貯蔵弾性率E’は、周波数1Hzおよび昇温速度10℃/分の条件で絶縁層を動的粘弾性測定して求められる。 The second layer 32 is a flexible layer that is softer than the first layer 31, and specifically can be deformed during hot pressing in the first pressing step. Specifically, the tensile storage modulus E' of the second layer 32 at 110°C is lower than the tensile storage modulus E' of the first layer 31 at 110°C. More specifically, the tensile storage modulus E' at 110°C of the second layer 32 is, for example, 50 MPa or less, preferably 40 MPa or less, more preferably 30 MPa or less, still more preferably 20 MPa or less, and , for example, 5 MPa or more. The tensile storage modulus E' of the first layer 31 is determined by dynamic viscoelasticity measurement of the insulating layer under the conditions of a frequency of 1 Hz and a heating rate of 10° C./min.

第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’が上記した上限以下であれば、第1プレス工程における熱プレス時において、柔軟に変形でき、具体的には、複数の配線部4に追従するように、変形できる。 If the tensile storage elastic modulus E' at 110° C. of the second layer 32 is below the above-mentioned upper limit, it can be flexibly deformed during hot pressing in the first pressing step, and specifically, it can be deformed to follow the plurality of wiring parts 4. You can transform it as you like.

また、第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’の、第1層31の110℃における引張貯蔵弾性率E’に対する比(第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’/第1層31の110℃における引張貯蔵弾性率E’)は、例えば、1未満、好ましくは、0.5以下、より好ましくは、0.1以下であり、また、例えば、0.005以上である。 Also, the ratio of the tensile storage modulus E' of the second layer 32 at 110°C to the tensile storage modulus E' of the first layer 31 at 110°C (tensile storage modulus E' of the second layer 32 at 110°C/ The tensile storage modulus E') of the first layer 31 at 110° C. is, for example, less than 1, preferably 0.5 or less, more preferably 0.1 or less, and, for example, 0.005 or more. be.

なお、第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’は、例えば、第1磁性シート5の110℃における引張貯蔵弾性率E’と比べて、低くあるいは同一である。 Note that the tensile storage modulus E' of the second layer 32 at 110°C is, for example, lower than or the same as the tensile storage modulus E' of the first magnetic sheet 5 at 110°C.

また、第2層32の融点は、第1層31の融点に比べて低く、例えば、熱プレスの温度(例えば、110℃)以下の温度であり、具体的には、105℃未満、好ましくは、100℃未満であり、また、例えば、50℃以上である。 Further, the melting point of the second layer 32 is lower than that of the first layer 31, for example, the temperature below the heat press temperature (for example, 110°C), specifically, less than 105°C, preferably , below 100°C, and, for example, above 50°C.

第2層32の材料としては、後述する第1プレス工程における熱プレスによって第1方向および厚み方向に流動する熱流動材料が挙げられる。熱流動材料は、例えば、オレフィン-(メタ)アクリレートコポリマー、オレフィン-酢酸ビニルコポリマーなどを主成分として含む。 Examples of the material for the second layer 32 include a thermofluidic material that flows in the first direction and the thickness direction by heat pressing in the first pressing step described below. The thermofluidic material contains, for example, an olefin-(meth)acrylate copolymer, an olefin-vinyl acetate copolymer, etc. as a main component.

オレフィン-(メタ)アクリレートコポリマーとしては、例えば、エチレン-メチル(メタ)アクリレートコポリマー、エチレン-エチル(メタ)アクリレートコポリマー、エチレン-プロピル(メタ)アクリレートコポリマー、エチレン-ブチル(メタ)アクリレートコポリマーなどのエチレン-アルキル(メタ)アクリレートコポリマー、例えば、プロピレン-メチル(メタ)アクリレートコポリマーなどのプロピレン-アルキル(メタ)アクリレートコポリマーなどが挙げられる。 Examples of olefin-(meth)acrylate copolymers include ethylene-methyl (meth)acrylate copolymers, ethylene-ethyl (meth)acrylate copolymers, ethylene-propyl (meth)acrylate copolymers, and ethylene-butyl (meth)acrylate copolymers. -Alkyl (meth)acrylate copolymers, such as propylene-alkyl (meth)acrylate copolymers, such as propylene-methyl (meth)acrylate copolymers.

オレフィン-酢酸ビニルコポリマーとしては、例えば、エチレン-酢酸ビニルコポリマーが挙げられる。 Examples of olefin-vinyl acetate copolymers include ethylene-vinyl acetate copolymers.

熱流動材料として、として、好ましくは、オレフィン-(メタ)アクリレートコポリマーが挙げられ、好ましくは、エチレン-アルキル(メタ)アクリレートコポリマー、より好ましくは、エチレン-メチル(メタ)アクリレートコポリマー、さらに好ましくは、エチレン-メチルメタクリレートコポリマーが挙げられる。 Preferably, the thermofluidic material includes an olefin-(meth)acrylate copolymer, preferably an ethylene-alkyl(meth)acrylate copolymer, more preferably an ethylene-methyl(meth)acrylate copolymer, and even more preferably, Mention may be made of ethylene-methyl methacrylate copolymers.

第2層32の厚みT2は、例えば、30μm以上、好ましくは、50μm以上、より好ましくは、100μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、200μm以下、より好ましくは、150μm以下である。 The thickness T2 of the second layer 32 is, for example, 30 μm or more, preferably 50 μm or more, more preferably 100 μm or more, and also, for example, 300 μm or less, preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less. .

第2層32の厚みT2の、配線部4の厚みT1に対する比(第2層32の厚みT2/配線部4の厚みT1)は、0.3以上、好ましくは、0.5以上であり、また、例えば、3.0以下、好ましくは、2.0以下である。 The ratio of the thickness T2 of the second layer 32 to the thickness T1 of the wiring section 4 (thickness T2 of the second layer 32/thickness T1 of the wiring section 4) is 0.3 or more, preferably 0.5 or more, Further, it is, for example, 3.0 or less, preferably 2.0 or less.

第2層32の厚みT2の配線部4の厚みT1に対する比(T2/T1)が上記した下限以上であれば、第1工程において、所望の形状(後述)を有する磁性層21を形成することができる。 If the ratio (T2/T1) of the thickness T2 of the second layer 32 to the thickness T1 of the wiring portion 4 is equal to or greater than the above-mentioned lower limit, the magnetic layer 21 having a desired shape (described later) can be formed in the first step. I can do it.

また、第2層32の厚みT2の、第1層31の厚みに対する比は、例えば、2以上、好ましくは、5以上、より好ましくは、7以上であり、また、例えば、15以下である。 Further, the ratio of the thickness T2 of the second layer 32 to the thickness of the first layer 31 is, for example, 2 or more, preferably 5 or more, more preferably 7 or more, and, for example, 15 or less.

第3層33は、第2層32の厚み方向一方面に配置されており、離型クッションシート6における厚み方向最一方側に位置する。これにより、第3層33は、第1離型面22を形成する。また、第3層33は、第2プレス板11に対する離型層(第2離型層)である。第3層33の形状、物性、材料および厚みは、第1層31におけるそれらと同一である。 The third layer 33 is disposed on one surface of the second layer 32 in the thickness direction, and is located on the most one side of the release cushion sheet 6 in the thickness direction. Thereby, the third layer 33 forms the first mold release surface 22 . Further, the third layer 33 is a mold release layer (second mold release layer) for the second press plate 11. The shape, physical properties, material, and thickness of the third layer 33 are the same as those of the first layer 31.

第2層32の厚みT2の、第1層31の厚みおよび第3層33の厚みの合計に対する比は、例えば、1.5以上、好ましくは、3以上、より好ましくは、4以上であり、また、例えば、8以下である。 The ratio of the thickness T2 of the second layer 32 to the sum of the thickness of the first layer 31 and the thickness of the third layer 33 is, for example, 1.5 or more, preferably 3 or more, more preferably 4 or more, Further, for example, it is 8 or less.

離型クッションシート6の厚みは、第1層31の厚み、第2層32の厚みT2および第3層33の厚みの合計であり、例えば、50μm以上、好ましくは、100μm以上であり、また、例えば、500μm以下、好ましくは、200μm以下である。 The thickness of the release cushion sheet 6 is the sum of the thickness of the first layer 31, the thickness T2 of the second layer 32, and the thickness of the third layer 33, and is, for example, 50 μm or more, preferably 100 μm or more, and For example, it is 500 μm or less, preferably 200 μm or less.

なお、離型クッションシート6は、市販品を用いることができ、例えば、離型フィルムOT-A、離型フィルムOT-Eなどの、離型フィルムOTシリーズ(積水化学工業社製)などが用いられる。 The release cushion sheet 6 may be a commercially available product; for example, a release film OT series (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) such as release film OT-A or release film OT-E may be used. It will be done.

その後、2つのプレス板20により、配線回路基板40と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを、それらの順に挟む。 Thereafter, the printed circuit board 40, the first magnetic sheet 5, and the release cushion sheet 6 are sandwiched between the two press plates 20 in that order.

2つのプレス板20は、厚み方向に互いに間隔が隔てられる第1プレス板10および第2プレス板11からなる。第1プレス板10および第2プレス板11のそれぞれは、面方向に沿って延びる形状を有する。 The two press plates 20 consist of a first press plate 10 and a second press plate 11 spaced apart from each other in the thickness direction. Each of the first press plate 10 and the second press plate 11 has a shape extending in the surface direction.

第1プレス板10および/または第2プレス板11は、第1磁性シート5と離型クッションシート6とを加熱できるように、図示しない熱源を備える。 The first press plate 10 and/or the second press plate 11 are equipped with a heat source (not shown) so that the first magnetic sheet 5 and the release cushion sheet 6 can be heated.

第1プレス板10および第2プレス板11は、相対移動して、上記した絶縁層2と複数の配線部4と第1磁性シート5と離型クッションシート6とを厚み方向にプレスできるように構成されている。 The first press plate 10 and the second press plate 11 move relative to each other so as to press the above-described insulating layer 2, the plurality of wiring parts 4, the first magnetic sheet 5, and the release cushion sheet 6 in the thickness direction. It is configured.

第1プレス板10は、面方向に沿って延びる第1プレス面7を有する。第1プレス面7は、面方向に沿う平坦面である。例えば、第1プレス板10は、厚み方向に移動しないように、図示しない固定部材に固定されている。 The first press plate 10 has a first press surface 7 extending along the surface direction. The first press surface 7 is a flat surface along the surface direction. For example, the first press plate 10 is fixed to a fixing member (not shown) so as not to move in the thickness direction.

第2プレス板11は、第1プレス面7に平行する第2プレス面8を有する。第2プレス板11は、動力装置(図示せず)に接続され、厚み方向に移動可能である。 The second press plate 11 has a second press surface 8 parallel to the first press surface 7 . The second press plate 11 is connected to a power device (not shown) and is movable in the thickness direction.

2つのプレス板20により、配線回路基板40と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを挟み込むには、2つのプレス板20の間に、配線回路基板40と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを配置(挿入)する。この際、例えば、第2絶縁面9は、第1プレス面7と接触する。 In order to sandwich the printed circuit board 40, the first magnetic sheet 5, and the release cushion sheet 6 between the two press plates 20, the printed circuit board 40 and the first magnetic sheet are sandwiched between the two press plates 20. 5 and a release cushion sheet 6 are arranged (inserted). At this time, for example, the second insulating surface 9 comes into contact with the first pressing surface 7.

これにより、挟み込み工程を実施する。 Thereby, the sandwiching step is performed.

その後、図2Bに示すように、第1プレス工程を実施する。第1プレス工程では、2つのプレス板20で、配線回路基板40と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを熱プレスする。 After that, as shown in FIG. 2B, a first pressing step is performed. In the first pressing step, the printed circuit board 40, the first magnetic sheet 5, and the release cushion sheet 6 are hot pressed using two press plates 20.

例えば、第2プレス板11を、第1プレス板10に対して近接するように移動(下降)させて、第2プレス板11を離型クッションシート6を介して第1磁性シート5に押し付ける(プレスする)。 For example, the second press plate 11 is moved (lowered) closer to the first press plate 10 to press the second press plate 11 against the first magnetic sheet 5 via the release cushion sheet 6 ( press).

同時に、熱源により、第1磁性シート5と離型クッションシート6とを加熱する。 At the same time, the first magnetic sheet 5 and the release cushion sheet 6 are heated by the heat source.

プレス圧は、例えば、0.1MPa以上、好ましくは、0.3MPa以上であり、また、例えば、10MPa以下、好ましくは、5MPa以下である。 The press pressure is, for example, 0.1 MPa or more, preferably 0.3 MPa or more, and is, for example, 10 MPa or less, preferably 5 MPa or less.

加熱温度は、例えば、第2層32の融点以上であり、かつ、第1層31の融点未満である。また、加熱温度は、具体的には、例えば、100℃以上、好ましくは、105℃以上であり、また、例えば、190℃以下、好ましくは、150℃以下である。 The heating temperature is, for example, higher than the melting point of the second layer 32 and lower than the melting point of the first layer 31. Further, the heating temperature is specifically, for example, 100°C or higher, preferably 105°C or higher, and is, for example, 190°C or lower, preferably 150°C or lower.

プレス時間は、例えば、10秒間以上、好ましくは、20秒間以上であり、また、例えば、1000秒間以下、好ましくは、100秒間以下である。 The pressing time is, for example, 10 seconds or more, preferably 20 seconds or more, and is, for example, 1000 seconds or less, preferably 100 seconds or less.

この第1プレス工程において、図1の矢印および図2Aに示すように、第2プレス板11の第1プレス板10に対する移動が開始すると、第1離型面22と第2プレス面8とが接触し、また、第2離型面23と第1磁性面18とが接触し、第2磁性面19と対向面15とが接触する。つまり、第1プレス板10、絶縁層2、配線部4、第1磁性シート5、離型クッションシート6、および、第2プレス板11は、厚み方向に隣接する部材同士が互いに接触(密着、密接)し、続いて、さらに、第2プレス板11の移動がさらに進行する(熱プレスが開始する)。 In this first press step, as shown by the arrow in FIG. 1 and FIG. 2A, when the second press plate 11 starts to move relative to the first press plate 10, the first mold release surface 22 and the second press surface 8 In addition, the second mold release surface 23 and the first magnetic surface 18 are in contact with each other, and the second magnetic surface 19 and the opposing surface 15 are in contact with each other. In other words, in the first press plate 10, the insulating layer 2, the wiring part 4, the first magnetic sheet 5, the release cushion sheet 6, and the second press plate 11, members adjacent in the thickness direction are in contact with each other (in close contact with each other). Then, the second press plate 11 moves further (hot pressing starts).

すると、厚み方向に投影したときに、離型クッションシート6において対向面15と重複する重複部分34は、図2Aの横向き矢印で示すように、対向面15と、第2プレス面8とによって、厚み方向に狭まれながら押圧(狭圧)される。 Then, when projected in the thickness direction, the overlapping portion 34 that overlaps the opposing surface 15 in the release cushion sheet 6 is formed by the opposing surface 15 and the second press surface 8, as shown by the horizontal arrow in FIG. 2A. It is pressed while being narrowed in the thickness direction (narrowing pressure).

なお、厚み方向に投影したときに、離型クッションシート6において対向面15と重複しない非重複部分35は、第2磁性面19が対向面15と接触せず、かつ、第1絶縁面3において複数の配線部4から露出する露出面36と間隔が隔てられていることから、上記した狭圧を受けない。 Note that, when projected in the thickness direction, a non-overlapping portion 35 that does not overlap with the opposing surface 15 in the release cushion sheet 6 is a region in which the second magnetic surface 19 does not contact the opposing surface 15 and the first insulating surface 3 Since it is separated from the exposed surface 36 exposed from the plurality of wiring parts 4, it is not subjected to the above-mentioned narrow pressure.

すると、第2層32の重複部分34における熱流動材料は、非重複部分35に向かって流動する(押し出される)(変形する)(詳しくは、塑性変形する)。すると、図2Aの縦向き矢印で示すように、非重複部分35には、上記した重複部分34からの熱流動材料の流動(押出し)に基づく流動圧が増大する。非重複部分35における流動圧は、厚み方向両方側に作用する。 Then, the thermofluidic material in the overlapping portion 34 of the second layer 32 flows (is pushed out) (deforms) (specifically, plastically deforms) toward the non-overlapping portion 35 . Then, as shown by the vertical arrow in FIG. 2A, the flow pressure based on the flow (extrusion) of the thermofluidic material from the above-described overlapping portion 34 increases in the non-overlapping portion 35. The flow pressure in the non-overlapping portion 35 acts on both sides in the thickness direction.

図2Aおよび図2Bに示すように、流動圧のうち、厚み方向他方側に作用する流動圧は、非重複部分35における第1層31を、厚み方向他方側に押し出す(押し下げる)とともに、かかる第1層31を介して、第1磁性シート5において非重複部分35と厚み方向に対向する被押出部分38を厚み方向他方側に押し出す(押し下げる)。なお、厚み方向一方側に作用する流動圧(破線で示す矢印)は、非重複部分35と対向する第3層33に作用するが、上記したように、第3層33が第2プレス板11に強固に支持されていることから、第3層33の変形を生じない。 As shown in FIGS. 2A and 2B, among the fluid pressures, the fluid pressure that acts on the other side in the thickness direction pushes (pushes down) the first layer 31 in the non-overlapping portion 35 to the other side in the thickness direction, and The extruded portion 38 of the first magnetic sheet 5 that faces the non-overlapping portion 35 in the thickness direction is pushed out (pushed down) to the other side in the thickness direction via the first magnetic sheet 31 . Note that the fluid pressure acting on one side in the thickness direction (arrow indicated by a broken line) acts on the third layer 33 facing the non-overlapping portion 35, but as described above, the third layer 33 Since the third layer 33 is strongly supported by the third layer 33, the third layer 33 is not deformed.

その後、上記した流動圧に基づく被押出部分38の押し出し(押し下げ)は、被押出部分38の第2磁性面19が、側面17と、露出面36とに接触するまで続く。 Thereafter, the extrusion (pushing down) of the extruded portion 38 based on the above-described fluid pressure continues until the second magnetic surface 19 of the extruded portion 38 comes into contact with the side surface 17 and the exposed surface 36.

そして、被押出部分38の第2磁性面19が、側面17と露出面36とに接触することにより、図1Cに示すように、複数の配線部4間を充填する磁性層21が形成(成型)される。 Then, as the second magnetic surface 19 of the extruded portion 38 comes into contact with the side surface 17 and the exposed surface 36, a magnetic layer 21 filling between the plurality of wiring portions 4 is formed (molded) as shown in FIG. 1C. ) to be done.

なお、この熱プレスによって、第2層32では、重複部分34は、熱プレス前に比べて薄くなり、非重複部分35は、熱プレス前に比べて厚くなる。 Note that due to this hot pressing, in the second layer 32, the overlapping portion 34 becomes thinner than before the hot pressing, and the non-overlapping portion 35 becomes thicker than before the hot pressing.

一方、第1層31および第3層33では、重複部分34および非重複部分35のいずれにおいても、熱プレスの前後において、実質的に変動しない。他方、第1層31は、第2層32の変形に伴って、第1方向に伸長する。 On the other hand, in the first layer 31 and the third layer 33, both the overlapping portion 34 and the non-overlapping portion 35 do not substantially change before and after hot pressing. On the other hand, the first layer 31 expands in the first direction as the second layer 32 deforms.

要するに、熱プレス後において、離型クッションシート6の第2離型面23は、磁性層21(成形後の第1磁性シート5)に対応する形状を有する。 In short, after hot pressing, the second release surface 23 of the release cushion sheet 6 has a shape corresponding to the magnetic layer 21 (first magnetic sheet 5 after molding).

なお、熱プレス後における磁性層21(第1磁性シート5)は、例えば、Bステージである。 Note that the magnetic layer 21 (first magnetic sheet 5) after hot pressing is, for example, B-stage.

磁性層21の厚みT3は、例えば、10μm以上、好ましくは、30μm以上であり、また、例えば、500μm以下、好ましくは、300μm以下である。なお、磁性層21の厚みT3は、配線部4の対向面15と、磁性層21の頂部28(後述)との厚み方向長さと定義される。 The thickness T3 of the magnetic layer 21 is, for example, 10 μm or more, preferably 30 μm or more, and is, for example, 500 μm or less, preferably 300 μm or less. Note that the thickness T3 of the magnetic layer 21 is defined as the length in the thickness direction between the facing surface 15 of the wiring portion 4 and the top portion 28 (described later) of the magnetic layer 21.

また、磁性層21の厚みT3の、配線部4の厚みT1に対する比(第1磁性層の厚みT3/配線部4の厚みT1)は、例えば、0.3以上、好ましくは、0.4以上、より好ましくは、0.5以上であり、また、例えば、5.0以下である。比が上記した下限以上であれば、第1プレス工程において、磁性層21が隣り合う配線部4間を確実に充填することができる。 Further, the ratio of the thickness T3 of the magnetic layer 21 to the thickness T1 of the wiring portion 4 (thickness T3 of the first magnetic layer/thickness T1 of the wiring portion 4) is, for example, 0.3 or more, preferably 0.4 or more. , more preferably 0.5 or more, and, for example, 5.0 or less. If the ratio is equal to or higher than the above-mentioned lower limit, the magnetic layer 21 can reliably fill the space between the adjacent wiring parts 4 in the first pressing step.

これにより、第1磁性シート5から、所定形状に形成(成型)された磁性層21が得られる。これにより、配線回路基板40および磁性層21を備える磁性配線回路基板1が得られる。 Thereby, a magnetic layer 21 formed (molded) into a predetermined shape is obtained from the first magnetic sheet 5. Thereby, the magnetic wired circuit board 1 including the wired circuit board 40 and the magnetic layer 21 is obtained.

磁性層21は、複数の配線部4間を充填し、かつ、配線部4の対向面15を被覆するように形成されている。 The magnetic layer 21 is formed to fill the space between the plurality of wiring sections 4 and to cover the opposing surface 15 of the wiring section 4 .

具体的には、磁性層21は、凸部25と、凹部26とを有する。 Specifically, the magnetic layer 21 has a convex portion 25 and a concave portion 26 .

凸部25は、複数の配線部4に対応して、複数形成されている。複数の凸部25は、複数の配線部4の対向面15に配置されている。また、複数の凸部25は、第1方向において間隔を隔てて隣り合って配置されている。複数の凸部25のそれぞれは、厚み方向一方側に向かって隆起する形状を有する。凸部25は、配線部4の対向面15に対して厚み方向一方側に間隔が隔てられる凸面27を有する。 A plurality of convex portions 25 are formed corresponding to the plurality of wiring portions 4. The plurality of convex portions 25 are arranged on the opposing surface 15 of the plurality of wiring portions 4 . Further, the plurality of convex portions 25 are arranged adjacent to each other at intervals in the first direction. Each of the plurality of convex portions 25 has a shape that protrudes toward one side in the thickness direction. The convex portion 25 has a convex surface 27 spaced apart from the opposing surface 15 of the wiring portion 4 on one side in the thickness direction.

凸面27は、厚み方向に投影したときに、対向面15と重複しており、対向面15に対して厚み方向一方側に間隔が隔てられている。凸面27は、頂部28を1つのみ有する。頂部28は、凸面27において、厚み方向最一方側に位置しており、つまり、対向面15から最も遠い部分に位置している。 The convex surface 27 overlaps the opposing surface 15 when projected in the thickness direction, and is spaced from the opposing surface 15 on one side in the thickness direction. The convex surface 27 has only one apex 28 . The top portion 28 is located on the most one side in the thickness direction of the convex surface 27, that is, located on the farthest part from the opposing surface 15.

凸面27は、頂部28から第1方向両側のそれぞれに向かうに従って、厚み方向他方側に緩やかに落ち(沈み)込む湾曲形状を有する。凸面27における厚み方向他方側への落ち(沈み)込みの程度は、頂部28から第2方向両側に離れるに従って、大きくなる。 The convex surface 27 has a curved shape that gradually falls (sinks) toward the other side in the thickness direction as it goes from the top 28 toward both sides in the first direction. The degree of depression (sinking) of the convex surface 27 toward the other side in the thickness direction increases as the distance from the top portion 28 to both sides in the second direction increases.

凹部26は、複数の配線部4に対応する複数の凸部25の間に位置しており、隣り合う凸部25に対して厚み方向他方側に向かって沈下する形状を有する。 The recess 26 is located between the plurality of protrusions 25 corresponding to the plurality of wiring parts 4, and has a shape that sinks toward the other side in the thickness direction with respect to the adjacent protrusions 25.

凹部26の一部、具体的には、厚み方向他方側部分は、隣り合う配線部4間の隙間を充填している。すなわち、上記した凹部26の一部は、第1方向に投影したときに、配線部4と重複している。 A part of the recess 26 , specifically, the other side in the thickness direction fills the gap between the adjacent wiring parts 4 . That is, a portion of the recessed portion 26 described above overlaps with the wiring portion 4 when projected in the first direction.

一方、凹部26の残部、具体的には、厚み方向一方側部分は、第1方向に投影したときに、配線部4と重複せず、詳しくは、凹部26の残部の投影面は、配線部4の投影面の厚み方向一方側に配置されている。 On the other hand, the remaining part of the recessed part 26, specifically, the part on one side in the thickness direction, does not overlap with the wiring part 4 when projected in the first direction. It is arranged on one side in the thickness direction of the projection plane of No. 4.

凹部26は、第1絶縁面3の露出面36に対して厚み方向一方側に間隔が隔てられる凹面29を有する。 The recess 26 has a recess 29 spaced from the exposed surface 36 of the first insulating surface 3 on one side in the thickness direction.

凹面29は、凸面27の第1方向端縁に連続している。凹面29は、少なくとも露出面36と対向しており、好ましくは、露出面36および側面17の両面に対向する。凹面29は、厚み方向他方側に向かって略湾曲形状に沈下する(凹む)形状を有する。凹面29は、底部30を有する。 The concave surface 29 is continuous with the edge of the convex surface 27 in the first direction. Concave surface 29 faces at least exposed surface 36 , and preferably faces both exposed surface 36 and side surface 17 . The concave surface 29 has a substantially curved shape that sinks (concave) toward the other side in the thickness direction. Concave surface 29 has a bottom 30 .

底部30は、凹面29において、隣り合う配線部4の対向面15を通過する仮想面Sに対して、厚み方向一方側に位置する。つまり、底部30は、上記した仮想面Sに対して、厚み方向一方側に間隔が隔てられている。また、底部30は、凹面29において、露出面36に対して最も近い部分に位置している。つまり、底部30は、凹面29における最底部(厚み方向最他方側に位置する部分)である。 The bottom portion 30 is located on one side in the thickness direction of the concave surface 29 with respect to the virtual plane S passing through the facing surfaces 15 of the adjacent wiring portions 4 . That is, the bottom portion 30 is spaced apart from the above-described virtual plane S on one side in the thickness direction. Further, the bottom portion 30 is located at the portion of the concave surface 29 that is closest to the exposed surface 36. In other words, the bottom portion 30 is the bottommost portion of the concave surface 29 (the portion located on the othermost side in the thickness direction).

その後、必要により、磁性層21を、例えば、加熱により、Cステージ化(完全硬化)させる。具体的には、さらなる加熱、あるいは、上記したプレスを解放して、磁性配線回路基板1を加熱炉に投入する。 Thereafter, if necessary, the magnetic layer 21 is C-staged (completely cured), for example, by heating. Specifically, the magnetic wiring circuit board 1 is placed in a heating furnace by further heating or by releasing the above-described press.

これにより、Cステージ化(完全硬化)した磁性層21を調製する。 In this way, a C-staged (completely cured) magnetic layer 21 is prepared.

この磁性配線回路基板1は、例えば、無線電力伝送(無線給電および/または無線受電)、無線通信、センサ、受動部品などに用いられる。 This magnetic wiring circuit board 1 is used for, for example, wireless power transmission (wireless power supply and/or wireless power reception), wireless communication, sensors, passive components, and the like.

そして、この磁性配線回路基板1の製造方法によれば、図1Bに示すように、2つのプレス板20で、絶縁層2と、複数の配線部4と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを熱プレスする第1プレス工程によって、磁性層21を一度に簡便に形成することができる。 According to this method of manufacturing the magnetic wired circuit board 1, as shown in FIG. The magnetic layer 21 can be easily formed at one time by the first pressing step of hot pressing the cushion sheet 6.

しかも、離型クッションシート6における第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、第1層31の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低いので、上記した温度で第1プレス工程を実施するときに、第2層32が、第1層31に比べて、柔軟となり、そのため、第2層32が第1層31に比べて流れ易く、第1層31を介して、第1磁性シート5を複数の配線部4間に押し出すことができる。そのため、第1プレス工程において、複数の配線部4間を充填し、かつ、配線部4の対向面15を被覆する磁性層21を確実に形成することができる。 Moreover, the tensile storage modulus E' of the second layer 32 in the release cushion sheet 6 at 110°C is lower than that of the first layer 31 at 110°C. When performing the pressing process, the second layer 32 becomes softer than the first layer 31, so that the second layer 32 flows more easily than the first layer 31. The first magnetic sheet 5 can be pushed out between the plurality of wiring sections 4. Therefore, in the first pressing step, it is possible to reliably form the magnetic layer 21 that fills between the plurality of wiring parts 4 and covers the facing surface 15 of the wiring parts 4.

この磁性配線回路基板1の製造方法では、第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、20MPa以下と低ければ、第1プレス工程において、上記した温度で熱プレスするときに、第2層32が確実に流動することができる。そのため、第2層32が、第1磁性シート5を、複数の配線部4間に押し出すことができる。その結果、磁性層21で、複数の配線部4間を確実に充填することができ、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板1を得ることができる。 In this method for manufacturing the magnetic wiring circuit board 1, if the tensile storage modulus E' at 110° C. of the second layer 32 is as low as 20 MPa or less, the The two layers 32 can flow reliably. Therefore, the second layer 32 can push the first magnetic sheet 5 between the plurality of wiring sections 4. As a result, the spaces between the plurality of wiring sections 4 can be reliably filled with the magnetic layer 21, and the magnetic wiring circuit board 1 having high inductance can be obtained.

この磁性配線回路基板1の製造方法では、第2層32の厚みT2の、配線部4の厚みT1に対する比が、0.5以上と高ければ、第1プレス工程において、磁性層21の厚みT3を、配線部4の厚みT1の半分以上の厚みに設定することができる。そのため、配線部4の厚みT1の半分を超える厚みT2を有する第2層32によって、配線部4の対向面15における第1磁性シート5を柔軟に熱プレスすることができ、そのため、かかる部分に対応する磁性層21の厚みを十分に確保することができる。その結果、磁性層21により、配線部4の対向面15を確実に被覆することができる。 In this method of manufacturing the magnetic wiring circuit board 1, if the ratio of the thickness T2 of the second layer 32 to the thickness T1 of the wiring portion 4 is as high as 0.5 or more, the thickness T3 of the magnetic layer 21 is can be set to a thickness that is half or more of the thickness T1 of the wiring portion 4. Therefore, the first magnetic sheet 5 on the opposing surface 15 of the wiring section 4 can be flexibly hot-pressed by the second layer 32 having a thickness T2 that is more than half the thickness T1 of the wiring section 4. A sufficient thickness of the corresponding magnetic layer 21 can be ensured. As a result, the opposing surface 15 of the wiring portion 4 can be reliably covered with the magnetic layer 21 .

この磁性配線回路基板1の製造方法では、離型クッションシート6は、第2層32の110℃における引張貯蔵弾性率E’より高い引張貯蔵弾性率E’を有する第3層33をさらに備えるので、上記した温度で第1プレス工程を実施するときに、硬い第3層33によって、離型クッションシート6の厚み方向一方側への変形を抑制することができる。そのため、第1プレス工程を確実に実施することができる。 In this method for manufacturing the magnetic wiring circuit board 1, the release cushion sheet 6 further includes a third layer 33 having a tensile storage modulus E' higher than the tensile storage modulus E' at 110° C. of the second layer 32. When performing the first pressing step at the above-described temperature, the hard third layer 33 can suppress deformation of the release cushion sheet 6 to one side in the thickness direction. Therefore, the first pressing step can be performed reliably.

この磁性配線回路基板1の製造方法では、磁性層21の厚みT3の、配線部4の厚みT1に対する比が、0.5以上と高く、つまり、磁性層21の厚みT3を、配線部4の厚みT1の半分以上の厚みに設定することができる。そのため、配線部4に対して比較的厚い磁性層21を、複数の配線部4間を確実に充填しながら、形成することができる。その結果、配線部4間の実効透磁率を向上させることができ、高いインダクタスを有する磁性配線回路基板1を得ることができる。 In this method of manufacturing the magnetic wired circuit board 1, the ratio of the thickness T3 of the magnetic layer 21 to the thickness T1 of the wiring portion 4 is as high as 0.5 or more. The thickness can be set to half or more of the thickness T1. Therefore, the magnetic layer 21 that is relatively thick with respect to the wiring portion 4 can be formed while reliably filling the spaces between the plurality of wiring portions 4. As a result, the effective magnetic permeability between the wiring parts 4 can be improved, and the magnetic wiring circuit board 1 having high inductance can be obtained.

また、この磁性配線回路基板1では、凸部25が頂部28を1つのみ有し、かつ、凹部26が、厚み方向他方側に向かって湾曲形状に凹む形状を有し、かつ、隣り合う配線部4の対向面15を通過する仮想面Sに対して、厚み方向一方側に位置する底部30を有するので、上記した凸部25および凹部26を滑らかに通過する磁路によって、配線部4の周囲の実効透磁率を向上させることができる。 Further, in this magnetic wired circuit board 1, the convex portion 25 has only one apex 28, the concave portion 26 has a shape concave in a curved shape toward the other side in the thickness direction, and the adjacent wiring Since the bottom portion 30 is located on one side in the thickness direction with respect to the virtual plane S passing through the facing surface 15 of the portion 4, the wiring portion 4 is The effective magnetic permeability of the surrounding area can be improved.

具体的には、図3に示すように、磁性粒子48は、凸部25では、第1方向、あるいは、頂部28から厚み方向他方側に向かって落ちるように緩やかに湾曲する方向に沿って配向され、凹部26における底部30では、第1方向、あるいは、隣接する2つの凸部25に向かって厚み方向一方側に向かって駆け上がるように緩やかに湾曲する方向に沿って配向され、また、凹部26において、2つの配線部4の周側面17間では、周側面17に沿い、また、露出面36を被覆する部分では、露出面36(第1方向)に沿って配向されている。従って、この磁性層21では、凸部25および凹部26に沿う滑らかな磁路が形成される。 Specifically, as shown in FIG. 3, the magnetic particles 48 are oriented in the convex portion 25 along the first direction or in a direction that gently curves so as to fall from the top portion 28 toward the other side in the thickness direction. The bottom portion 30 of the recess 26 is oriented along the first direction or a direction that gently curves up toward one side in the thickness direction toward the two adjacent convex portions 25, and the recess 26, between the circumferential side surfaces 17 of the two wiring portions 4, it is oriented along the circumferential side surface 17, and in the portion covering the exposed surface 36, it is oriented along the exposed surface 36 (first direction). Therefore, in this magnetic layer 21, a smooth magnetic path along the convex portions 25 and the concave portions 26 is formed.

その結果、この磁性配線回路基板1は、高いインダクタスを有する。 As a result, this magnetic wiring circuit board 1 has high inductance .

<変形例>
以下の各変形例において、上記した第1実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例は、特記する以外、第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
<Modified example>
In each of the following modified examples, the same reference numerals are given to the same members and steps as in the first embodiment described above, and detailed explanation thereof will be omitted. Moreover, each modification example can produce the same effects as the first embodiment except as otherwise specified.

図1Aに示すように、第1実施形態では、離型クッションシート6は、第3層33を備えるが、例えば、図示しないが、第3層33を備えず、第1層31および第2層32のみなることができる。この場合には、好ましくは、離型クッションシート6は、第1層31および第2層32のみからなる。 As shown in FIG. 1A, in the first embodiment, the release cushion sheet 6 includes the third layer 33; There can only be 32. In this case, preferably, the release cushion sheet 6 consists of only the first layer 31 and the second layer 32.

第1実施形態および上記した変形例のうち、第1実施形態が好適である。第1実施形態では、図1Aに示すように、離型クッションシート6が第3層33を備えるので、図1Bに示すように、110℃で第1プレス工程を実施するときに、硬い第3層33によって、離型クッションシート6の厚み方向一方側への変形を抑制することができる。そのため、第1プレス工程を確実に実施することができる。 Among the first embodiment and the above-mentioned modifications, the first embodiment is preferable. In the first embodiment, as shown in FIG. 1A, since the release cushion sheet 6 includes the third layer 33, as shown in FIG. 1B, when performing the first pressing step at 110° C., the hard third layer The layer 33 can suppress deformation of the release cushion sheet 6 to one side in the thickness direction. Therefore, the first pressing step can be performed reliably.

図1Aに示すように、第1実施形態では、離型クッションシート6では、第1層31、第2層32および第3層33のうち、互いに隣接する層が接触している。しかし、変形例では、図示しないが、これらのうち、厚み方向に隣接する層は、互いに間隔が隔てられ、別々に準備されていてもよい。 As shown in FIG. 1A, in the first embodiment, in the release cushion sheet 6, adjacent layers among the first layer 31, second layer 32, and third layer 33 are in contact with each other. However, in a modification (not shown), the layers that are adjacent in the thickness direction may be spaced apart from each other and prepared separately.

例えば、図示しないが、第2プレス板11および離型クッションシート6の間に、別の離型シートを介在させることもできる。離型シート(図示せず)は、例えば、離型クッションシート6における第2層32より硬い。 For example, although not shown, another release sheet may be interposed between the second press plate 11 and the release cushion sheet 6. The release sheet (not shown) is harder than the second layer 32 in the release cushion sheet 6, for example.

離型クッションシート6は、厚み方向に複数積層して用いることもできる。 The release cushion sheet 6 can also be used by laminating a plurality of them in the thickness direction.

図1Cの仮想線で示すように、なお、磁性配線回路基板1は、絶縁層2の厚み方向他方面に配置される第3磁性層37を備えることもできる。 As shown by the imaginary line in FIG. 1C, the magnetic wiring circuit board 1 can also include a third magnetic layer 37 disposed on the other surface of the insulating layer 2 in the thickness direction.

さらに、絶縁層2は、磁性粒子を含有する磁性絶縁層であってもよい。 Furthermore, the insulating layer 2 may be a magnetic insulating layer containing magnetic particles.

また、第1実施形態では、磁性層21は、単層であるが、図示しないが、複層であってもよい。この場合には、複数の第1磁性シート5を、複数の配線部4および離型クッションシート6で挟み込み、一度の第1プレス工程で、複数の第1磁性シート5を熱プレスして、磁性層21を形成する。この変形例において、挟み込み工程における複数の第1磁性シート5の厚みの合計T3は、第1実施形態における単層の磁性層21の厚みT3と同一である。 Further, in the first embodiment, the magnetic layer 21 is a single layer, but although not shown, it may be a multilayer. In this case, the plurality of first magnetic sheets 5 are sandwiched between the plurality of wiring parts 4 and the mold release cushion sheet 6, and the plurality of first magnetic sheets 5 are hot-pressed in one first pressing step to make the magnetic Form layer 21. In this modification, the total thickness T3 of the plurality of first magnetic sheets 5 in the sandwiching step is the same as the thickness T3 of the single-layer magnetic layer 21 in the first embodiment.

また、磁性層21における磁性粒子48の割合は、磁性層21において一様でもよく、また、各配線部4から離れるに従って、高くなってもよく、あるいは、低くなってもよい。 Further, the proportion of the magnetic particles 48 in the magnetic layer 21 may be uniform in the magnetic layer 21, and may increase or decrease as the distance from each wiring section 4 increases.

<第2実施形態>
以下の第2実施形態において、上記した第1実施形態およびその変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第2実施形態を、第1実施形態およびその変形例とを適宜組み合わせることができる。さらに、第2実施形態は、特記する以外、第1実施形態およびその変形例と同様の作用効果を奏することができる。
<Second embodiment>
In the following second embodiment, the same reference numerals are given to the same members and steps as in the above-described first embodiment and its modifications, and detailed explanation thereof will be omitted. Further, the second embodiment can be appropriately combined with the first embodiment and its modification. Further, the second embodiment can provide the same effects as the first embodiment and its modified examples, except as otherwise specified.

第1実施形態では、図1A~図1Bに示すように、1度の第1プレス工程で、第1磁性シート5から磁性層21を形成している。 In the first embodiment, as shown in FIGS. 1A and 1B, the magnetic layer 21 is formed from the first magnetic sheet 5 in one first pressing step.

第2実施形態では、図4A~図5Eに示すように、第1磁性シート5を熱プレスする第1プレス工程に加え、第2磁性シート45を熱プレスする第2プレス工程を備える。つまり、第2実施形態では、2度のプレス工程で、磁性層21を形成する。 In the second embodiment, as shown in FIGS. 4A to 5E, in addition to the first pressing step of hot pressing the first magnetic sheet 5, a second pressing step of hot pressing the second magnetic sheet 45 is provided. That is, in the second embodiment, the magnetic layer 21 is formed in two pressing steps.

図5Cに示すように、第1磁性層41の厚みT3は、配線部4の厚みT1に比べて薄いことが許容され、具体的には、例えば、100μm以下、さらには、80μm以下、さらには、60μm以下であり、また、例えば、5μm以上である。第1磁性層41の厚みT3の、配線部4の厚みT1に対する比が、例えば、0.5未満、さらには、0.3以下であり、また、例えば、0.05以上である。 As shown in FIG. 5C, the thickness T3 of the first magnetic layer 41 is allowed to be thinner than the thickness T1 of the wiring part 4, and specifically, for example, 100 μm or less, further, 80 μm or less, or even , 60 μm or less, and, for example, 5 μm or more. The ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer 41 to the thickness T1 of the wiring portion 4 is, for example, less than 0.5, more preferably 0.3 or less, and, for example, 0.05 or more.

また、第1プレス工程において、第1磁性シート5(磁性組成物)における磁性粒子48の含有割合は、第1実施形態のそれに比べて低く設定することができ、例えば、60容積%未満、好ましくは、55容積%未満、より好ましくは、50容積%以下であり、また、例えば、15容積%以上である。第1磁性シート5における磁性粒子48の含有割合が上記した上限を下回れば、柔軟な第1磁性シート5が、第1プレス工程における熱プレスによって、容易に変形して、側面17および露出面36に確実に接触することができる。なお、樹脂の含有割合は、上記した磁性粒子48の含有割合の残部である。 Further, in the first pressing step, the content ratio of the magnetic particles 48 in the first magnetic sheet 5 (magnetic composition) can be set lower than that in the first embodiment, for example, less than 60% by volume, preferably is less than 55 volume %, more preferably 50 volume % or less, and for example, 15 volume % or more. If the content ratio of the magnetic particles 48 in the first magnetic sheet 5 is less than the above-mentioned upper limit, the flexible first magnetic sheet 5 is easily deformed by the heat pressing in the first pressing step, and the side surface 17 and the exposed surface 36 are easily deformed. can be reliably contacted. Note that the content ratio of the resin is the remainder of the content ratio of the magnetic particles 48 described above.

第1プレス工程では、図4A~図5Aに示すように、第1磁性シート5から、上記した形状を有する第1磁性層41を形成(成型)する。なお、この第1磁性層41は、好ましくは、まだBステージである。 In the first pressing step, as shown in FIGS. 4A to 5A, the first magnetic layer 41 having the above-described shape is formed (molded) from the first magnetic sheet 5. Note that this first magnetic layer 41 is preferably still in the B stage.

なお、図4Bおよび図5Cに示すように、第1プレス工程では、配線回路基板40(絶縁層2および配線部4)と、第1磁性層41とを備える第1の磁性配線回路基板51が製造される。この第2実施形態では、第1の磁性配線回路基板51は、例えば、底部30が仮想面Sと同一位置またはそれより厚み方向他方側に位置する場合(後述)する場合には、第2実施形態で得られる第2の磁性配線回路基板52(後述)(製品)(図5E参照)を製造するための中間部品であって、第1磁性層41を備える一方、第2磁性層42(後述)(図5E参照)をまだ備えない。 Note that, as shown in FIGS. 4B and 5C, in the first pressing process, a first magnetic printed circuit board 51 including a printed circuit board 40 (insulating layer 2 and wiring part 4) and a first magnetic layer 41 is Manufactured. In the second embodiment, the first magnetic wiring circuit board 51 is configured such that, for example, when the bottom portion 30 is located at the same position as the virtual surface S or on the other side in the thickness direction (described later), the first magnetic wiring circuit board 51 is It is an intermediate part for manufacturing a second magnetic wiring circuit board 52 (described later) (product) (see FIG. 5E) obtained in the form of a first magnetic layer 41 and a second magnetic layer 42 (described later). ) (see Figure 5E).

図5Cに示すように、なお、第1磁性シート5が上記したように薄ければ、この第1磁性層41は、隣り合う配線部4間の隙間の厚み方向他方側部分のみを充填し(つまり、厚み方向一方側部分を充填せず)、また、底部30が仮想面Sと同一位置またはそれより厚み方向他方側に位置することが許容される。 As shown in FIG. 5C, if the first magnetic sheet 5 is thin as described above, the first magnetic layer 41 fills only the other side in the thickness direction of the gap between the adjacent wiring parts 4 ( In other words, it is allowed that one side in the thickness direction is not filled) and that the bottom portion 30 is located at the same position as the virtual surface S or on the other side in the thickness direction.

図5Dに示すように、第2プレス工程を、第1プレス工程の後に実施する。 As shown in FIG. 5D, the second pressing step is performed after the first pressing step.

具体的には、まず、第1プレス工程における熱プレスを解除(開放)し、続いて、第2プレス板11を、離型クッションシート6から離間させる。すなわち、離型クッションシート6を磁性層21から離型する。換言すれば、離型クッションシート6を第1磁性層41の一方面から引き離す。その後、この離型クッションシート6をは、第1磁性層41および第2プレス板11の間から取り出す(引き抜く)。 Specifically, first, the hot press in the first press step is released (released), and then the second press plate 11 is separated from the release cushion sheet 6. That is, the release cushion sheet 6 is released from the magnetic layer 21 . In other words, the release cushion sheet 6 is separated from one side of the first magnetic layer 41 . Thereafter, the release cushion sheet 6 is taken out (pulled out) from between the first magnetic layer 41 and the second press plate 11.

別途、離型クッションシート6(上記したように、取り出された(引き抜かれた)離型クッションシート6とは異なる離型クッションシート6)を準備する。 Separately, a release cushion sheet 6 (as described above, a release cushion sheet 6 different from the release cushion sheet 6 taken out (pulled out)) is prepared.

併せて、第2磁性シート45を準備する。 At the same time, a second magnetic sheet 45 is prepared.

第2磁性シート45の材料および物性は、第1磁性シート5のそれらと同様である。 The material and physical properties of the second magnetic sheet 45 are similar to those of the first magnetic sheet 5.

とりわけ、第2磁性層42における磁性粒子48の含有割合は、第1磁性シート5における磁性粒子48の含有割合に比べて、例えば、高く設定することができる。第2磁性層42における磁性粒子48の含有割合の、第1磁性シート5における磁性粒子48の含有割合に対する比は、例えば、1超過、好ましくは、1.1以上、好ましくは、1.15以上であり、また、例えば、2以下、好ましくは、1.5以下である。 In particular, the content ratio of the magnetic particles 48 in the second magnetic layer 42 can be set higher than the content ratio of the magnetic particles 48 in the first magnetic sheet 5, for example. The ratio of the content ratio of magnetic particles 48 in the second magnetic layer 42 to the content ratio of magnetic particles 48 in the first magnetic sheet 5 is, for example, more than 1, preferably 1.1 or more, preferably 1.15 or more. and is, for example, 2 or less, preferably 1.5 or less.

具体的には、第2磁性シート45における磁性粒子48の含有割合は、例えば、50容積%超過、好ましくは、55容積%以上、より好ましくは、60容積%以上であり、例えば、90容積%以下である。第2磁性シート45における磁性粒子48の含有割合が上記した下限を上回れば、高い含有割合で磁性粒子48を含有する第2磁性層42によって、磁性配線回路基板1のインダクタンスを向上させることができる。 Specifically, the content ratio of the magnetic particles 48 in the second magnetic sheet 45 is, for example, more than 50 volume %, preferably 55 volume % or more, more preferably 60 volume % or more, for example, 90 volume %. It is as follows. If the content ratio of the magnetic particles 48 in the second magnetic sheet 45 exceeds the above-mentioned lower limit, the inductance of the magnetic wiring circuit board 1 can be improved by the second magnetic layer 42 containing the magnetic particles 48 at a high content ratio. .

続いて、第2プレス工程では、2つのプレス板20で、第1の磁性配線回路基板51と、第2磁性シート45と、離型クッションシート6とを熱プレスする。 Subsequently, in the second pressing step, the first magnetic printed circuit board 51, the second magnetic sheet 45, and the release cushion sheet 6 are hot pressed using the two press plates 20.

まず、第2磁性シート45および離型クッションシート6を、順に、第1の磁性配線回路基板51における第1磁性層41の一方面に配置する。具体的には、第2磁性シート45および離型クッションシート6を、第1磁性層41と第2プレス板11との間に配置(挿入)する。 First, the second magnetic sheet 45 and the release cushion sheet 6 are placed in order on one side of the first magnetic layer 41 in the first magnetic wiring circuit board 51. Specifically, the second magnetic sheet 45 and the release cushion sheet 6 are arranged (inserted) between the first magnetic layer 41 and the second press plate 11.

その後、2つのプレス板20で、第1の磁性配線回路基板51と、第2磁性シート45と、離型クッションシート6とを熱プレスする。第2プレス工程の条件は、第1プレス工程の条件と同様である。 Thereafter, the first magnetic wiring circuit board 51, the second magnetic sheet 45, and the release cushion sheet 6 are hot-pressed using the two press plates 20. The conditions for the second press step are the same as those for the first press step.

これにより、第2磁性層42を、第1の磁性配線回路基板51における第1磁性層41の厚み方向一方面に、第2磁性シート45から形成(成型)する。この第2磁性層42は、例えば、Bステージである。これにより、第1磁性層41および第2磁性層42を厚み方向一方側に順に向かって備える磁性層21を得る。磁性層21は、好ましくは、第1磁性層41および第2磁性層42のみから形成される。 As a result, the second magnetic layer 42 is formed (molded) from the second magnetic sheet 45 on one side of the first magnetic layer 41 in the thickness direction of the first magnetic wiring circuit board 51 . This second magnetic layer 42 is, for example, B stage. Thereby, the magnetic layer 21 is obtained, which includes the first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42 in order on one side in the thickness direction. The magnetic layer 21 is preferably formed from only the first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42.

第2磁性層42の厚みT4は、例えば、第1磁性層41の厚みT3および第2磁性層42の厚みT4の合計(T3+T4)の、配線部4の厚みT1に対する比が、0.5以上、好ましくは、0.6以上、また、例えば、5.0以下、好ましくは、3.0以下となるように、設定される。第2磁性層42の厚みT4の、第1磁性層41の厚みT3に対する比(T4/T3)は、例えば、1.5以上、好ましくは、2.0以上であり、また、例えば、40以下、好ましくは、30以下である。具体的には、第2磁性層42の厚みT4は、例えば、10μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、450μm以下、好ましくは、250μm以下である。 For example, the thickness T4 of the second magnetic layer 42 is such that the ratio of the sum (T3+T4) of the thickness T3 of the first magnetic layer 41 and the thickness T4 of the second magnetic layer 42 to the thickness T1 of the wiring portion 4 is 0.5 or more. , is preferably set to be 0.6 or more, and for example, 5.0 or less, preferably 3.0 or less. The ratio (T4/T3) of the thickness T4 of the second magnetic layer 42 to the thickness T3 of the first magnetic layer 41 is, for example, 1.5 or more, preferably 2.0 or more, and, for example, 40 or less. , preferably 30 or less. Specifically, the thickness T4 of the second magnetic layer 42 is, for example, 10 μm or more, preferably 20 μm or more, and is, for example, 450 μm or less, preferably 250 μm or less.

これにより、配線回路基板40と、磁性層21とを備える第2の磁性配線回路基板52を得る。なお、第2の磁性配線回路基板52は、第1の磁性配線回路基板51と、第2磁性層42とを備える。 Thereby, a second magnetic printed circuit board 52 including the printed circuit board 40 and the magnetic layer 21 is obtained. Note that the second magnetic wiring circuit board 52 includes the first magnetic wiring circuit board 51 and the second magnetic layer 42 .

その後、必要により、第1磁性層41および第2磁性層42がBステージであれば、第1磁性層41および第2磁性層42をCステージ化(完全硬化)させる。 Thereafter, if necessary, if the first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42 are in the B stage, the first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42 are made into a C stage (completely hardened).

そして、この第2の磁性配線回路基板52の製造方法は、図5Dに示すように、第2プレス工程をさらに備えるので、第1磁性層41および第2磁性層42を備える(から形成される)、厚い磁性層21を確実に形成することができる。そのため、配線部4間の透磁率を向上させることができ、高いインダクタスを有する第2の磁性配線回路基板52を得ることができる。 The method for manufacturing the second magnetic wiring circuit board 52 further includes a second pressing step, as shown in FIG. 5D, and therefore includes the first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42 ), a thick magnetic layer 21 can be reliably formed. Therefore, the magnetic permeability between the wiring parts 4 can be improved, and the second magnetic wiring circuit board 52 having high inductance can be obtained.

また、第1磁性層41の厚みT3の、配線部4の厚みT1に対する比が、0.5未満と低ければ、図5Cに示すように、第1磁性層41が薄くなり易く、そのため、複数の配線部4間を第1磁性層41で充填することが困難になり易い。 Further, if the ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer 41 to the thickness T1 of the wiring portion 4 is low, such as less than 0.5, the first magnetic layer 41 tends to become thinner, as shown in FIG. It tends to be difficult to fill the spaces between the wiring parts 4 with the first magnetic layer 41.

しかし、この第2の磁性配線回路基板52の製造方法において、第1磁性層41の厚みT3および第2磁性層の厚みT4の合計の、配線部4の厚みT1に対する比が、0.5以上と高ければ、第1磁性層21および第2磁性層21を備える厚い磁性層21で、複数の配線部4間を確実に充填することができる。その結果、高いインダクタスを有する第2の磁性配線回路基板52を得ることができる。 However, in this second method of manufacturing the magnetic wiring circuit board 52, the ratio of the total thickness T3 of the first magnetic layer 41 and the thickness T4 of the second magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion 4 is 0.5 or more. If the thickness is high, the spaces between the plurality of wiring sections 4 can be reliably filled with the thick magnetic layer 21 including the first magnetic layer 21 and the second magnetic layer 21. As a result, the second magnetic wiring circuit board 52 having high inductance can be obtained.

この第2の磁性配線回路基板52の製造方法によれば、第1磁性シート5における磁性粒子48の含有割合が、第2磁性シート45における磁性粒子48の含有割合に比べて、低ければ、第2磁性シート45に比べて柔軟な第1磁性シート5を、確実に、複数の配線部4間に配置し、続いて、第1磁性シート5に比べて剛直な第2磁性シート45であっても、それを、すでに複数の配線部4間に配置された第1磁性層41に配置することによって、複数の配線部4間を、第1磁性層41および第2磁性層42を備える磁性層21によって、充填することができる。 According to the second method for manufacturing the magnetic wiring circuit board 52, if the content ratio of the magnetic particles 48 in the first magnetic sheet 5 is lower than the content ratio of the magnetic particles 48 in the second magnetic sheet 45, The first magnetic sheet 5, which is more flexible than the second magnetic sheet 45, is reliably placed between the plurality of wiring sections 4, and then the second magnetic sheet 45, which is more rigid than the first magnetic sheet 5, is placed between the plurality of wiring sections 4. Also, by arranging it in the first magnetic layer 41 that has already been arranged between the plurality of wiring parts 4, a magnetic layer including the first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42 can be formed between the plurality of wiring parts 4. 21, it can be filled.

さらに、第1磁性シート5における磁性粒子48の含有割合に比べて高い含有割合で磁性粒子48を含有する第2磁性シートから形成される第2磁性層21によって、第2の磁性配線回路基板52のインダクタンスを向上させることができる。 Furthermore, the second magnetic wiring circuit board 52 is formed by the second magnetic layer 21 formed from the second magnetic sheet containing magnetic particles 48 at a higher content rate than the content rate of the magnetic particles 48 in the first magnetic sheet 5. can improve the inductance of

<変形例>
以下の各変形例において、上記した第2実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例を適宜組み合わせることができる。さらに、各変形例は、特記する以外、第2実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
<Modified example>
In each of the following modified examples, the same reference numerals are given to the same members and steps as in the second embodiment described above, and detailed explanation thereof will be omitted. Moreover, each modification can be combined as appropriate. Furthermore, each modification example can produce the same effects as the second embodiment except as otherwise specified.

第1プレス工程で用いた離型クッションシート6を取り出し、別の離型クッションシート6を配置して第2プレス工程の熱プレスに供した。しかし、共通の離型クッションシート6で、第1プレス工程および第2プレス工程で用いることもできる。つまり、第1プレス工程で用いた離型クッションシート6を第2プレス工程で再利用することができる。 The release cushion sheet 6 used in the first press step was taken out, another release cushion sheet 6 was placed, and the sheet was subjected to hot pressing in the second press step. However, a common release cushion sheet 6 can also be used in the first press process and the second press process. That is, the release cushion sheet 6 used in the first press process can be reused in the second press process.

さらに、第2実施形態では、第2磁性シート45は、単層であるが、変形例では、複層であってもよい。好ましくは、3層以上であり、また、10層以下である。 Further, in the second embodiment, the second magnetic sheet 45 is a single layer, but in a modified example, it may be a multilayer. Preferably, the number of layers is 3 or more and 10 or less.

また、第2プレス工程を複数回実施することもできる。例えば、図示しないが、第2プレス工程を2回実施する場合には、合計3回のプレス工程によって、磁性層21を形成する。この場合には、第1磁性シート5を熱プレスする第1プレス工程(1回目のプレス工程)によって、第1磁性層41を形成し、続いて、第2磁性シート45を第1磁性層41に対して熱プレスする第2プレス工程(2回目のプレス工程)によって、第1磁性層41および第2磁性層42を形成する。 Moreover, the second pressing step can also be performed multiple times. For example, although not shown, if the second pressing step is performed twice, the magnetic layer 21 is formed by a total of three pressing steps. In this case, the first magnetic layer 41 is formed by a first pressing step (first pressing step) in which the first magnetic sheet 5 is hot-pressed, and then the second magnetic sheet 45 is attached to the first magnetic layer 41. The first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42 are formed by a second pressing step (second pressing step) in which the magnetic layer is hot pressed.

その後、別の第2磁性シート45を準備し、これを、第2磁性層42に対して熱プレスする第2プレス工程(3回目のプレス工程)を実施する。この工程は、2回の第2プレス工程における2回目であって、別の第2磁性シート45は、1回目の第2プレス工程における第2磁性シート45とともに、本発明における「第2磁性シート」に含まれる。 After that, another second magnetic sheet 45 is prepared, and a second pressing step (third pressing step) is performed in which the second magnetic sheet 45 is hot pressed against the second magnetic layer 42 . This step is the second of two second pressing steps, and another second magnetic sheet 45 is used together with the second magnetic sheet 45 in the first second pressing step. "include.

また、2回目の第2プレス工程では、第2磁性層42は、別の第2磁性シート45から形成される。2回目の第2プレス工程で形成される第2磁性層42と、1回目の第2プレス工程で形成される第2磁性層42とは、ともに、本発明における「第2磁性層」に含まれる。なお、第2磁性層42の厚みT4は、すべての第2磁性層42の厚みの合計である。具体的には、上記の例では、1回目の第2プレス工程で形成される第2磁性層42の厚みと、2回目の第2プレス工程で形成される第2磁性層42との合計厚みが、第2磁性層42の厚みT4である。 Further, in the second press step, the second magnetic layer 42 is formed from another second magnetic sheet 45. The second magnetic layer 42 formed in the second second press step and the second magnetic layer 42 formed in the first second press step are both included in the "second magnetic layer" in the present invention. It will be done. Note that the thickness T4 of the second magnetic layer 42 is the total thickness of all the second magnetic layers 42. Specifically, in the above example, the total thickness of the second magnetic layer 42 formed in the first second press step and the second magnetic layer 42 formed in the second second press step is the thickness T4 of the second magnetic layer 42.

第1実施形態および第2実施形態では、配線部4は、断面視四辺形状を有するが、この変形例では、図6Cおよび図7に示すように、断面視略円形状を有する。 In the first and second embodiments, the wiring portion 4 has a quadrilateral shape in cross-section, but in this modification, it has a substantially circular shape in cross-section, as shown in FIGS. 6C and 7.

配線部4は、導線43と、それを被覆する第2絶縁層44とを備える。 The wiring section 4 includes a conductive wire 43 and a second insulating layer 44 covering the conductive wire 43.

導線43は、配線部4と中心軸線を共有する断面視略円形状を有する。 The conducting wire 43 has a substantially circular cross-sectional shape that shares a central axis with the wiring portion 4 .

第2絶縁層44は、絶縁層2とは別の絶縁層である。第2絶縁層44は、導線43の外周面(円周面)全面を被覆しており、配線部4と中心軸線(中心)を共有する断面視略円環形状を有する。 The second insulating layer 44 is an insulating layer different from the insulating layer 2. The second insulating layer 44 covers the entire outer circumferential surface (circumferential surface) of the conducting wire 43 and has a substantially annular shape in cross section that shares a central axis (center) with the wiring section 4 .

第2絶縁層44の材料は、絶縁層2の材料と同様である。第2絶縁層44は、単層から構成されていてもよく、複数の層から構成されていてもよい。 The material of the second insulating layer 44 is the same as that of the insulating layer 2. The second insulating layer 44 may be composed of a single layer or a plurality of layers.

配線部4の直径Dは、上記した厚みT1に相当する。なお、第2絶縁層44の厚みの、配線部4の直径Dに対する比は、例えば、0.005以上、0.1以下である。 The diameter D of the wiring portion 4 corresponds to the thickness T1 described above. Note that the ratio of the thickness of the second insulating layer 44 to the diameter D of the wiring portion 4 is, for example, 0.005 or more and 0.1 or less.

この変形例の製造方法において、図6Aに示すように、挟み込み工程では、まず、複数の配線部4を、絶縁層2の第1絶縁面3に配置する。具体的には、配線部4の厚み方向他端縁を第1絶縁面3に接触させる。 In the manufacturing method of this modification, as shown in FIG. 6A, in the sandwiching step, first, a plurality of wiring portions 4 are arranged on the first insulating surface 3 of the insulating layer 2. Specifically, the other edge of the wiring portion 4 in the thickness direction is brought into contact with the first insulating surface 3 .

第1プレス工程では、図6Bに示すように、第1磁性シート5の第2磁性面19が、配線部4の第1半円弧46(配線部4の厚み方向他端縁を包含し、厚み方向他方側に位置する半円弧)に接触する。但し、第2磁性面19は、配線部4において第1絶縁面3に接触する厚み方向他端縁には接触しない。 In the first pressing step, as shown in FIG. 6B, the second magnetic surface 19 of the first magnetic sheet 5 is formed so that the first semicircular arc 46 of the wiring section 4 (including the other edge in the thickness direction of the wiring section 4, (a semicircular arc) located on the other side of the direction. However, the second magnetic surface 19 does not contact the other edge in the thickness direction of the wiring portion 4 that contacts the first insulating surface 3 .

また、第1プレス工程を実施すれば、複数の配線部4間を充填する凹部26と、配線部4の第2半円弧47(第1半円弧46の厚み方向一方側に連続しており、配線部4の厚み方向他端縁を包含し、厚み方向一方側に位置する半円弧)に追従する凸部25とを有する磁性層21が形成(成型)される。 Moreover, if the first pressing step is carried out, the recesses 26 filling between the plurality of wiring parts 4 and the second semicircular arc 47 of the wiring part 4 (continuous to one side in the thickness direction of the first semicircular arc 46, A magnetic layer 21 is formed (molded) including a convex portion 25 that includes the other edge of the wiring portion 4 in the thickness direction and follows a semicircular arc located on one side in the thickness direction.

図7に示すように、磁性粒子48は、配線部4の周辺領域(近傍領域)では、磁性粒子48が配線部4の円周方向に沿って配向されており、これにより、配線部4の円周方向に沿う略円環状の磁路が形成される。 As shown in FIG. 7 , the magnetic particles 48 are oriented along the circumferential direction of the wiring portion 4 in the peripheral region (nearby region) of the wiring portion 4 . A substantially annular magnetic path along the circumferential direction is formed.

また、上記した変形例では、図6Aに示すように、配線部4を絶縁層2に配置し、その後、図6Cおよび図7に示すように、絶縁層2を備える磁性配線回路基板1を得ているが、例えば、図示しないが、配線部4を、絶縁層2の一例として第2離型フィルムに配置し、続いて、第1磁性シート5を、配線部4を被覆するように、第2離型フィルムの厚み方向一方面に配置し、その後、第2離型フィルムを、第1磁性シート5および配線部4から剥離することができる。 Further, in the above-mentioned modification, as shown in FIG. 6A, the wiring part 4 is arranged on the insulating layer 2, and then, as shown in FIGS. 6C and 7, the magnetic wiring circuit board 1 including the insulating layer 2 is obtained. However, for example, although not shown, the wiring portion 4 is placed on the second release film as an example of the insulating layer 2, and then the first magnetic sheet 5 is placed on the second release film so as to cover the wiring portion 4. The second release film can be placed on one side in the thickness direction of the second release film, and then the second release film can be peeled off from the first magnetic sheet 5 and the wiring section 4 .

第2離型フィルムは、例えば、面方向に延びるシート形状を有しており、具体的には、厚み方向に対向する一方面および他方面を有する。第2離型フィルムの材料としては、特に限定されず、例えば、PETなどの樹脂が挙げられる。第2離型フィルムの一方面は、公知の剥離処理が施されていてもよい。第2離型フィルムの厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、10μm以上であり、また、例えば、2000μm以下、好ましくは、500μm以下である。 The second release film has, for example, a sheet shape extending in the plane direction, and specifically has one side and the other side facing each other in the thickness direction. The material of the second release film is not particularly limited, and examples thereof include resins such as PET. One side of the second release film may be subjected to a known peeling treatment. The thickness of the second release film is, for example, 1 μm or more, preferably 10 μm or more, and is, for example, 2000 μm or less, preferably 500 μm or less.

この変形例で得られる磁性配線回路基板1は、複数の配線部4と、磁性層21(第1磁性シート5)と備え、第2離型フィルムを備えない。 The magnetic wiring circuit board 1 obtained in this modification includes a plurality of wiring parts 4 and a magnetic layer 21 (first magnetic sheet 5), and does not include a second release film.

図6A~図7に示す変形例では、配線部4および導線43は、断面視略円形状を有するが、これに限定されず、図示しないが、例えば、略矩形状、略台形状なども挙げられる。この変形例において、図示しないが、第2絶縁層44は、配線部4の外周面全面を被覆する。 In the modified examples shown in FIGS. 6A to 7, the wiring portion 4 and the conductive wire 43 have a substantially circular shape in cross-sectional view, but are not limited to this, and may also have a substantially rectangular shape, a substantially trapezoidal shape, etc., although not shown. It will be done. In this modification, although not shown, the second insulating layer 44 covers the entire outer peripheral surface of the wiring section 4.

さらには、上記した磁性配線回路基板1は、配線部4の厚み方向他端縁を被覆するように、磁性層21の他方面に備えられる第3磁性層37を備えることができる。この磁性配線回路基板1では、配線部4は、第1磁性シート5および第3磁性層37からなる第1磁性シート5によって、円周面(外周面)全面が被覆される。 Furthermore, the magnetic wiring circuit board 1 described above can include a third magnetic layer 37 provided on the other surface of the magnetic layer 21 so as to cover the other edge of the wiring portion 4 in the thickness direction. In this magnetic wiring circuit board 1 , the entire circumferential surface (outer circumferential surface) of the wiring portion 4 is covered with the first magnetic sheet 5 composed of the first magnetic sheet 5 and the third magnetic layer 37 .

また、第1実施形態、第2実施形態および各変形例は、適宜組み合わせることができる。 Moreover, the first embodiment, the second embodiment, and each modification can be combined as appropriate.

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合(割合)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合(割合)、物性値、パラメータなど該当記載の上限(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限(「以上」、「超過」として定義されている数値)に代替することができる。 Examples and Comparative Examples are shown below to further specifically explain the present invention. Note that the present invention is not limited to the Examples and Comparative Examples. In addition, the specific numerical values such as compounding ratios (ratios), physical property values, parameters, etc. used in the following descriptions are the corresponding compounding ratios (ratios) described in the above "Details of Carrying Out the Invention". ), physical property values, parameters, etc. can be replaced with the upper limit (a numerical value defined as "less than" or "less than") or the lower limit (a numerical value defined as "more than" or "exceeding").

実施例1
(挟み込み工程)
絶縁層2と、その第1絶縁面3に配置される複数の配線部4とを備える配線回路基板40を準備した。
Example 1
(Pinching process)
A printed circuit board 40 including an insulating layer 2 and a plurality of wiring portions 4 disposed on a first insulating surface 3 thereof was prepared.

配線回路基板40において、絶縁層2は、ポリエチレンテレフタレートからなる第1支持層12と、アクリル樹脂からなる感圧接着層13と、ポリイミド樹脂からなる第2支持層14とを、厚み方向一方側に向かって順に備える。 In the printed circuit board 40, the insulating layer 2 has a first support layer 12 made of polyethylene terephthalate, a pressure-sensitive adhesive layer 13 made of acrylic resin, and a second support layer 14 made of polyimide resin on one side in the thickness direction. Prepare accordingly.

配線回路基板40において、複数の配線部4は、銅からなり、厚みT1が100μmである。対向面15の第1方向長さが245μm、隣り合う配線部4における対向面15間の第1方向における間隔が190μmである。被支持面16の第1方向長さが336μm、隣り合う配線部4における被支持面16間の第1方向における間隔が100μmである。 In the printed circuit board 40, the plurality of wiring parts 4 are made of copper and have a thickness T1 of 100 μm. The length of the facing surfaces 15 in the first direction is 245 μm, and the interval in the first direction between the facing surfaces 15 in adjacent wiring portions 4 is 190 μm. The length of the supported surfaces 16 in the first direction is 336 μm, and the distance between the supported surfaces 16 in adjacent wiring sections 4 in the first direction is 100 μm.

別途、第1磁性シート5および離型クッションシート6を準備した。 Separately, a first magnetic sheet 5 and a release cushion sheet 6 were prepared.

第1磁性シート5は、まず、第1磁性組成物を表1の処方に従って調製し、これをシート形状に形成して、Bステージシートとして準備した。 The first magnetic sheet 5 was prepared as a B-stage sheet by first preparing a first magnetic composition according to the recipe in Table 1 and forming it into a sheet shape.

離型クッションシート6は、離型フィルムOT-A160(積水化学工業社製)をそのまま準備した。 As the release cushion sheet 6, a release film OT-A160 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was prepared as is.

離型クッションシート6の厚みは、160μmであって、厚みが20μmの第1層31と、厚みT2が120μmの第2層32と、厚みが20μmの第3層33とを備える。 The release cushion sheet 6 has a thickness of 160 μm and includes a first layer 31 with a thickness of 20 μm, a second layer 32 with a thickness T2 of 120 μm, and a third layer 33 with a thickness of 20 μm.

第1層31および第3層33は、融点が223℃であり、110℃における引張貯蔵弾性率E’が190MPaであって、その材料が、ポリブチレンテレフタレートを主成分として含有する。 The first layer 31 and the third layer 33 have a melting point of 223°C, a tensile storage modulus E' at 110°C of 190 MPa, and contain polybutylene terephthalate as a main component.

第2層32は、融点が80℃であり、110℃における引張貯蔵弾性率E’が5.6MPaであって、その材料が、エチレン-メチルメタクリレートコポリマーを主成分として含有する。 The second layer 32 has a melting point of 80° C., a tensile storage modulus E' at 110° C. of 5.6 MPa, and the material contains ethylene-methyl methacrylate copolymer as a main component.

続いて、2つのプレス板20により、配線回路基板40と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを挟み込んだ。 Subsequently, the printed circuit board 40, the first magnetic sheet 5, and the release cushion sheet 6 were sandwiched between the two press plates 20.

(第1プレス工程:第1の磁性配線回路基板51の製造)
プレス圧2MPa(2kNに相当)、110℃で、60秒間のプレス条件で、2つのプレス板20を用いて、配線回路基板40と、第1磁性シート5と、離型クッションシート6とを熱プレスした。
(First press step: Manufacture of first magnetic wiring circuit board 51)
The printed circuit board 40, the first magnetic sheet 5, and the release cushion sheet 6 are heated using two press plates 20 under press conditions of 2 MPa (equivalent to 2 kN), 110° C., and 60 seconds. Pressed.

これにより、第1磁性シート5から第1磁性層41を形成(成型)した。第1磁性層41の厚みT3は、10μmであった。これにより、配線回路基板40と、第1磁性層41とを備える第1の磁性配線回路基板51を製造した。 As a result, the first magnetic layer 41 was formed (molded) from the first magnetic sheet 5. The thickness T3 of the first magnetic layer 41 was 10 μm. As a result, a first magnetic printed circuit board 51 including the printed circuit board 40 and the first magnetic layer 41 was manufactured.

(第2プレス工程:第2の磁性配線回路基板52の製造)
まず、第1プレス工程で用いた離型クッションシート6を取り出した。
(Second pressing step: Manufacturing of second magnetic wiring circuit board 52)
First, the release cushion sheet 6 used in the first pressing step was taken out.

別途、新たに離型クッションシート6(第1プレス工程で準備したものと同様の離型OT-A160)を準備した。 Separately, a new release cushion sheet 6 (release OT-A160 similar to that prepared in the first press step) was prepared.

第2磁性シート45は、まず、第2磁性組成物を表1の処方に従って調製し、これをシート形状に形成して、Bステージシートとして準備した。 The second magnetic sheet 45 was prepared as a B-stage sheet by first preparing a second magnetic composition according to the recipe in Table 1 and forming it into a sheet shape.

次いで、4枚の第2磁性シート45、および、新たに準備した離型クッションシート6を、第1の磁性配線回路基板51における第1磁性層41と第2プレス板11との間に挿入した。 Next, four second magnetic sheets 45 and a newly prepared release cushion sheet 6 were inserted between the first magnetic layer 41 and the second press plate 11 on the first magnetic wiring circuit board 51. .

プレス圧2MPa(2kNに相当)、110℃で、60秒間の条件で、2つのプレス板20で、第1の磁性配線回路基板51と、第2磁性シート45と、離型クッションシート6とを熱プレスした。 The first magnetic wiring circuit board 51, the second magnetic sheet 45, and the release cushion sheet 6 were pressed using two press plates 20 at a press pressure of 2 MPa (equivalent to 2 kN), at 110° C., and for 60 seconds. Heat pressed.

これにより、第2磁性シート45から第2磁性層42を、第1の磁性配線回路基板51における第1磁性層41の厚み方向一方面に形成(成型)した。第1磁性層41および第2磁性層42からなる磁性層21を形成した。第2磁性層42の厚みT4は、100μmであった。 As a result, the second magnetic layer 42 from the second magnetic sheet 45 was formed (molded) on one surface of the first magnetic layer 41 in the thickness direction of the first magnetic wiring circuit board 51. A magnetic layer 21 consisting of a first magnetic layer 41 and a second magnetic layer 42 was formed. The thickness T4 of the second magnetic layer 42 was 100 μm.

これにより、第1磁性層41および第2磁性層42を備える第2の磁性配線回路基板52を製造した。なお、第2の磁性配線回路基板52は、配線回路基板40と、磁性層21とを備える。 In this way, a second magnetic wiring circuit board 52 including the first magnetic layer 41 and the second magnetic layer 42 was manufactured. Note that the second magnetic wired circuit board 52 includes a wired circuit board 40 and a magnetic layer 21.

実施例2~比較例4
離型クッションシート6の種類、厚み等を表2に従って変更した以外は、実施例1と同様に処理して、第2の磁性配線回路基板52を製造した。
Example 2 to Comparative Example 4
A second magnetic wiring circuit board 52 was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the type, thickness, etc. of the release cushion sheet 6 were changed according to Table 2.

なお、比較例1および比較例2におけるTPX(離型クッションシート6)は、メチルペンテン樹脂(融点235℃)からなる離型シート(三井化学社製)である。 Note that TPX (release cushion sheet 6) in Comparative Examples 1 and 2 is a release sheet (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) made of methylpentene resin (melting point 235° C.).

また、比較例3および比較例4におけるMRA(離型クッションシート6)は、ポリエチレンテレフタラート樹脂(融点260℃)からなる離型シート(三菱ケミカル社製)である。 Moreover, the MRA (mold release cushion sheet 6) in Comparative Examples 3 and 4 is a mold release sheet (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) made of polyethylene terephthalate resin (melting point 260° C.).

(評価)
[インダクタンス]
第2の磁性配線回路基板52における配線部4のインダクタンスを測定した。
[SEM観察]
第2の磁性配線回路基板52の厚み方向および第1方向に沿う断面を、SEM観察した。その画像処理図を、図8~図15に示す。
(evaluation)
[Inductance]
The inductance of the wiring section 4 in the second magnetic wiring circuit board 52 was measured.
[SEM observation]
A cross section of the second magnetic wiring circuit board 52 along the thickness direction and the first direction was observed by SEM. The image processing diagrams are shown in FIGS. 8 to 15.

(考察)
比較例1~比較例4では、いずれにおいても、離型クッションシート6が第2層32を備えない。
(Consideration)
In Comparative Examples 1 to 4, the release cushion sheet 6 does not include the second layer 32.

比較例1~比較例3では、第1プレス工程および第2プレス工程のそれぞれにおいて、第1磁性シート5および第2磁性シート45のそれぞれを均一にプレスできず、離型クッションシート6において第1方向における収縮力が作用して、凸部25における凸面27に頂部28が2つ形成されている。 In Comparative Examples 1 to 3, the first magnetic sheet 5 and the second magnetic sheet 45 could not be pressed uniformly in each of the first pressing step and the second pressing step, and the first Two apexes 28 are formed on the convex surface 27 of the convex portion 25 by the contraction force in the direction.

とくに、比較例2では、底部30が、厚み方向他方側に向かって尖っている。 In particular, in Comparative Example 2, the bottom portion 30 is pointed toward the other side in the thickness direction.

さらに、比較例4では、離型クッションシート6の110℃における引張貯蔵弾性率E’が過度に高い。そのため、非重複部分35に対応する第1磁性シート5および第2磁性シート45に大きな応力がかかり、その結果、底部30が、仮想面Sに対して、厚み方向他方側に位置する。 Furthermore, in Comparative Example 4, the tensile storage modulus E' of the release cushion sheet 6 at 110° C. is excessively high. Therefore, a large stress is applied to the first magnetic sheet 5 and the second magnetic sheet 45 corresponding to the non-overlapping portion 35, and as a result, the bottom portion 30 is located on the other side in the thickness direction with respect to the virtual plane S.

これら比較例に対して、各実施例では、離型クッションシート6が第2層32を備え、第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、第3層の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低い。そのため、凸面27は、頂部28を1つのみ有する。また、凹面29は、厚み方向他方側に向かって湾曲形状に凹む形状を有し、仮想面Sに対して、厚み方向一方側に位置する底部30を有する。その結果、各実施例は、各比較例に比べて、高いインダクタスを有する。 In contrast to these comparative examples, in each example, the release cushion sheet 6 includes the second layer 32, and the tensile storage modulus E' of the second layer at 110°C is the same as the tensile storage modulus of the third layer at 110°C. It is lower than the rate E'. Therefore, the convex surface 27 has only one apex 28. Further, the concave surface 29 has a shape that is curved toward the other side in the thickness direction, and has a bottom portion 30 located on one side in the thickness direction with respect to the virtual surface S. As a result, each example has higher inductance than each comparative example.

Figure 0007352363000003
Figure 0007352363000003

Figure 0007352363000004
Figure 0007352363000004

1 磁性配線回路基板
2 絶縁層
3 第1絶縁面
4 配線部
5 第1磁性シート
6 離型クッションシート
15 対向面
20 2つのプレス板
21 磁性層
25 凸部
26 凹部
27 凸面
28 頂部
29 凹面
30 底部
31 第1層
32 第2層
33 第3層
41 第1磁性層
42 第2磁性層
45 第2磁性シート
48 磁性粒子
52 第2の磁性配線回路基板
T1 配線部の厚み
T2 第2層の厚み
T3 第1磁性層の厚み
T4 第2磁性層の厚み
1 Magnetic wiring circuit board 2 Insulating layer 3 First insulating surface 4 Wiring portion 5 First magnetic sheet 6 Release cushion sheet 15 Opposing surface 20 Two press plates 21 Magnetic layer 25 Convex portion 26 Concave portion 27 Convex surface 28 Top portion 29 Concave surface 30 Bottom portion 31 First layer 32 Second layer 33 Third layer 41 First magnetic layer 42 Second magnetic layer 45 Second magnetic sheet 48 Magnetic particles 52 Second magnetic wiring circuit board T1 Wiring portion thickness T2 Second layer thickness T3 Thickness of the first magnetic layer T4 Thickness of the second magnetic layer

Claims (9)

2つのプレス板で、絶縁層と、前記絶縁層の厚み方向一方面において、所定方向において互いに間隔を隔てて配置される複数の配線部と、第1磁性シートと、離型クッションシートとをその順で挟み込む挟み込み工程、および、
前記プレス板で、前記絶縁層と、前記複数の配線部と、前記第1磁性シートと、前記離型クッションシートとを熱プレスする第1プレス工程を備え、
前記第1プレス工程では、前記第1磁性シートから、前記複数の配線部間を充填し、かつ、前記配線部の前記厚み方向一方面を被覆するように、第1磁性層を形成し、
前記複数の配線部の厚みT1が、50μm以上であり、
前記第1磁性シートは、異方性の磁性粒子を含み、
前記第1磁性層を備える磁性層は、
前記複数の配線部の対向面に配置され、前記厚み方向一方側に向かって隆起する複数の凸部と、
複数の前記凸部の間に位置し、隣り合う前記凸部に対して前記厚み方向他方側に向かって凹む凹部とを有し、
前記凸部は、前記厚み方向最一方側に位置する頂部を1つのみ有し、
前記凹部は、前記厚み方向他方側に向かって略湾曲形状に沈下する形状を有しており、隣り合う前記配線部の前記対向面を通過する仮想面に対して、前記厚み方向一方側に位置する底部を有し、
前記離型クッションシートは、
第1層と、
前記第1層の前記厚み方向一方側に配置される第2層とを備え、
前記第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、前記第1層の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低ことを特徴とする、磁性配線回路基板の製造方法。
Two press plates are used to press an insulating layer, a plurality of wiring parts arranged at intervals from each other in a predetermined direction on one side in the thickness direction of the insulating layer, a first magnetic sheet, and a release cushion sheet. a pinching process of sandwiching the pieces in order, and
A first pressing step of hot pressing the insulating layer, the plurality of wiring parts, the first magnetic sheet, and the release cushion sheet on the press plate,
In the first pressing step, a first magnetic layer is formed from the first magnetic sheet so as to fill between the plurality of wiring parts and to cover one surface of the wiring part in the thickness direction,
The thickness T1 of the plurality of wiring parts is 50 μm or more,
The first magnetic sheet includes anisotropic magnetic particles,
The magnetic layer including the first magnetic layer is
a plurality of convex portions disposed on opposing surfaces of the plurality of wiring portions and protruding toward one side in the thickness direction;
a recessed portion located between the plurality of convex portions and recessed toward the other side in the thickness direction with respect to the adjacent convex portions;
The convex portion has only one apex located on the most one side in the thickness direction,
The recess has a substantially curved shape that sinks toward the other side in the thickness direction, and is located on one side in the thickness direction with respect to a virtual plane passing through the opposing surfaces of the adjacent wiring parts. has a bottom that
The release cushion sheet is
a first layer;
a second layer disposed on one side of the first layer in the thickness direction,
A method for manufacturing a magnetic wiring circuit board, wherein a tensile storage modulus E' of the second layer at 110°C is lower than a tensile storage modulus E' of the first layer at 110°C.
前記第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、20MPa以下であることを特徴とする、請求項1に記載の磁性配線回路基板の製造方法。 2. The method for manufacturing a magnetic printed circuit board according to claim 1, wherein the second layer has a tensile storage modulus E' at 110° C. of 20 MPa or less. 前記第2層の厚みT2の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上であることを特徴とする、請求項1または2に記載の磁性配線回路基板の製造方法。 3. The method of manufacturing a magnetic wired circuit board according to claim 1, wherein a ratio of the thickness T2 of the second layer to the thickness T1 of the wiring portion is 0.5 or more. 前記離型クッションシートが、前記第2層の前記厚み方向一方側に配置される第3層をさらに備え、
前記第2層の110℃における引張貯蔵弾性率E’が、前記第3層の110℃における引張貯蔵弾性率E’に比べて低いことを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の磁性配線回路基板の製造方法。
The release cushion sheet further includes a third layer disposed on one side of the second layer in the thickness direction,
Any one of claims 1 to 3, wherein the tensile storage modulus E' of the second layer at 110°C is lower than the tensile storage modulus E' of the third layer at 110°C. A method for manufacturing a magnetic wiring circuit board as described in .
前記第1磁性層の厚みT3の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上であることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の磁性配線回路基板の製造方法。 5. The magnetic wired circuit board according to claim 1, wherein the ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion is 0.5 or more. Production method. 前記プレス板で、前記絶縁層と、前記複数の配線部と、前記第1工程により形成された第1磁性層と、第2磁性シートと、前記離型クッションシートとを熱プレスする第2プレス工程をさらに備え、
前記第2プレス工程では、前記第2磁性シートから第2磁性層を形成することを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の磁性配線回路基板の製造方法。
A second press for hot pressing the insulating layer, the plurality of wiring parts, the first magnetic layer formed in the first step, the second magnetic sheet, and the release cushion sheet on the press plate. With additional processes,
5. The method for manufacturing a magnetic wiring circuit board according to claim 1, wherein in the second pressing step, a second magnetic layer is formed from the second magnetic sheet.
前記第1磁性層の厚みT3の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5未満であり、
前記第1磁性層の厚みT3および前記第2磁性層の厚みT4の合計の、前記配線部の厚みT1に対する比が、0.5以上であることを特徴とする、請求項6に記載の磁性配線回路基板の製造方法。
The ratio of the thickness T3 of the first magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion is less than 0.5,
7. The magnetic material according to claim 6, wherein a ratio of the sum of the thickness T3 of the first magnetic layer and the thickness T4 of the second magnetic layer to the thickness T1 of the wiring portion is 0.5 or more. A method for manufacturing printed circuit boards.
記第2磁性シートは、磁性粒子を含有し、
前記第1磁性シートにおける磁性粒子の含有割合が、前記第2磁性シートにおける磁性粒子の含有割合に比べて、低いことを特徴とする、請求項6または7に記載の磁性配線回路基板の製造方法。
The second magnetic sheet contains magnetic particles,
The method for manufacturing a magnetic wiring circuit board according to claim 6 or 7, wherein the content ratio of magnetic particles in the first magnetic sheet is lower than the content ratio of magnetic particles in the second magnetic sheet. .
絶縁層と、
前記絶縁層の厚み方向一方面において、所定方向において互いに間隔を隔てて配置される複数の配線部と、
前記複数の配線部間に充填され、かつ、前記配線部の前記厚み方向一方面と間隔を隔てて対向配置される対向面を被覆する磁性層とを備え、
前記磁性層は、
前記複数の配線部の前記対向面に配置され、前記厚み方向一方側に向かって隆起する複数の凸部と、
複数の前記凸部の間に位置し、隣り合う前記凸部に対して前記厚み方向他方側に向かって凹む凹部とを有し、
前記凸部は、前記厚み方向最一方側に位置する頂部を1つのみ有し、
前記凹部は、前記厚み方向他方側に向かって略湾曲形状に沈下する形状を有しており、隣り合う前記配線部の前記対向面を通過する仮想面に対して、前記厚み方向一方側に位置する底部を有することを特徴とする、磁性配線回路基板。
an insulating layer;
a plurality of wiring portions arranged at intervals from each other in a predetermined direction on one side in the thickness direction of the insulating layer;
a magnetic layer that is filled between the plurality of wiring parts and covers an opposing surface that is arranged opposite to the one surface in the thickness direction of the wiring part at a distance;
The magnetic layer is
a plurality of convex portions disposed on the opposing surfaces of the plurality of wiring portions and protruding toward one side in the thickness direction;
a recessed portion located between the plurality of convex portions and recessed toward the other side in the thickness direction with respect to the adjacent convex portions;
The convex portion has only one apex located on the most one side in the thickness direction,
The recess has a substantially curved shape that sinks toward the other side in the thickness direction, and is located on one side in the thickness direction with respect to a virtual plane passing through the opposing surfaces of the adjacent wiring parts. 1. A magnetic wiring circuit board, characterized in that it has a bottom portion.
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