JP4825841B2 - 皮膜形成方法 - Google Patents
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Description
で示されるジエポキシド化合物(a1)、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)及びビスフェノール類(a3)を反応させてなるエポキシ樹脂(a)とアミノ基含有化合物(b)とを反応させることにより得られるアミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)を含んでなる水性皮膜形成剤(I)を含有する電着浴を用い、金属基材を陰極として塗装電圧(V1)1〜50Vで10〜360秒間通電することにより1段目の電着塗装を行い、次いで、金属基材を陰極として塗装電圧(V2)50〜400Vで60〜600秒間通電することにより2段目以降の電着塗装を行うことからなり、塗装電圧(V2)と塗装電圧(V1)の差が10V以上であることを特徴とする、金属基材に2段階以上の多段階通電方法によって皮膜を形成する方法を提供するものである。
水性皮膜形成剤(I)は、ジルコニウム化合物(A)を金属量(質量換算)で30〜20,000ppm、好ましくは50〜10,000ppm、さらに好ましくは100〜5,000ppm、並びに基体樹脂として、特定のジエポキシド化合物(a1)、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)及びビスフェノール類(a3)を反応させてなるエポキシ樹脂(a)とアミノ基含有化合物(b)とを反応させることにより得られるアミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)を含んでなるものである。
本発明に従う1段目の塗装は、ジルコニウム化合物(A)から生じるオキシジルコニウムイオン、フルオロジルコニウムイオンなどのジルコニウム含有イオンを金属素材の表面に析出させることにより皮膜(F1)を形成する工程である。
水性皮膜処理剤(I)において使用される樹脂成分は、基体樹脂と場合により架橋剤を含んでなり、防食性向上などの面から、カチオン性樹脂組成物が好適である。カチオン性樹脂組成物における基体樹脂としては、例えば、分子中にアミノ基、アンモニウム塩基、スルホニウム塩基、ホスホニウム塩基などの水性媒体中でカチオン化可能な基を有する樹脂が挙げられ、基体樹脂の樹脂種としては、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、ポリブタジエン樹脂系、アルキド樹脂系、ポリエステル樹脂系などが挙げられる。
基体樹脂として使用されるアミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)は、特定のジエポキシド化合物(a1)、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)及びビスフェノール類(a3)を反応させてなるエポキシ樹脂(a)と、アミノ基含有化合物(b)とを反応させることにより得られる樹脂である。
ジエポキシド化合物(a1)は、下記式(1)
る]
で示される化合物(以下、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルと称することもある)であり、水性皮膜形成剤(I)の安定性や得られた皮膜の防食性などの面から、通常230〜2,000、特に340〜1,200の範囲内の分子量を有することが好ましい。
アミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)の製造に使用されるビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)には、ポリフェノール化合物とエピハロヒドリンとの反応によって得られる樹脂が包含され、一般に340〜2,000、特に340〜1,000の範囲内の数平均分子量、及び一般に170〜1,500、特に170〜800の範囲内のエポキシ当量を有するものが適している。
0℃及び流速1.0ml/分において、RI屈折計で得られたクロマトグラムと標準ポリスチレンの検量線から求めたものである。
で示されるエポキシ樹脂が好適である。
アミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)の製造に使用されるビスフェノール類(a3)には、下記一般式(3)
ぞれ水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表す]
で示される化合物が包含され、具体的には、例えば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,2−プロパン[ビスフェノールA]、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン[ビスフェノールF]などが挙げられる。
エポキシ樹脂(a)は、以上に述べたジエポキシド化合物(a1)、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)及びビスフェノール類(a3)を付加反応させることにより製造することができる。この付加反応はそれ自体既知の方法で行うことができる。具体的には、例えば、テトラブトキシチタン、テトラプロポキシチタンなどのチタン化合物;オクチル酸錫、ジブチル錫オキシド、ジブチル錫ラウレート等の有機錫化合物;塩化第1錫などの金属化合物のような触媒の存在下に、ジエポキシド化合物(a1)、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)及びビスフェノール類(a3)を混合し、約100〜約250℃の温度で約1〜約15時間加熱することによってエポキシ樹脂(a)を得ることができる。
エポキシ樹脂(a)と反応させるアミノ基含有化合物(b)は、エポキシ基と反応する活性水素を少なくとも1個含有し且つエポキシ樹脂(a)にアミノ基を導入してカチオン化することができるものであればその種類には特に制限はなく、従来からエポキシ樹脂のカチオン化に用いられるものを同様に使用することができ、具体的には、例えば、エタノールアミン、プロパノールアミン、ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミンなどのケチミン化物;ジエタノールアミン、ジ(2−ヒドロキシプロピル)アミン、モノメチルアミノエタノール、モノエチルアミノエタノールなどが挙げられる。
以上に述べたエポキシ樹脂(a)とアミノ基含有化合物(b)を、それ自体既知の方法により付加反応させることによりアミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)を得ることができる。上記付加反応は、適当な溶媒中で、約80〜約170℃、好ましくは約90〜約150℃の温度で1〜6時間、好ましくは1〜5時間程度行うことができる。
を有することが好ましい。
ができる。
機溶剤、顔料分散剤、表面調整剤、界面活性剤などを通常使用されている配合量で含有せしめることができる。
本発明において被塗物として使用される金属基材としては、例えば、冷延鋼板、合金化溶融亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛−鉄二層めっき鋼板、有機複合めっき鋼板などの金属鋼板や、これら金属鋼板から成形された自動車ボディ、2輪車部品、家庭用機器、その他の機器などが挙げられる。
本発明に従えば、水性皮膜形成剤(I)を含有する電着浴を用いて、以下に述べる少なくとも2段階の多段階通電方式によって、金属基材上に本発明が目的とする皮膜を形成せしめることができる。
)と塗装電圧(V1)の差を10V以上、好ましくは15〜50Vの範囲内に保持しつつ60〜600秒間、好ましくは90〜240秒間、さらに好ましくは120〜220秒間通電することにより2段目以降の電着塗装を行うことによって実施することができる。
まず、1段目の通電によって、陰極近傍のpHが上昇し、それにより水性皮膜形成剤(I)中のジルコニウム化合物の加水分解反応が起こり、ジルコニウムイオン種、例えば、ジルコニウムとフッ素との錯体イオンが難溶性の皮膜(F1)、主に、酸化ジルコニウムとして金属基材上に析出する。
温度計、還流冷却器及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、jER828EL(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名、エポキシ樹脂)638.9部、デナコールEX821(注1)300.0部、ビスフェノールA 404.2部及びジメチルベンジルアミン0.2部を仕込み、130℃でエポキシ当量900になるまで反応させた。
下記表1の組成及び配合内容とする以外は、製造例1と同様にしてアミノ基含有エポキシ樹脂溶液No.2〜No.5を得た。
(注2)デナコールEX841: ナガセケムテックス(株)製、商品名、エポキシ当量372。
温度計、還流冷却器及び攪拌機を備えた内容積2リットルのセパラブルフラスコに、jER828EL(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名、エポキシ樹脂)1010部、ビスフェノールA 390部及びジメチルベンジルアミン0.2部を仕込み、130℃でエポキシ当量700になるまで反応させた。
イソホロンジイソシアネート222部にメチルイソブチルケトン44部を加え、70℃に昇温した。その後、メチルエチルケトキシム174部を2時間かけて滴下して、この温度を保ちながら経時でサンプリングし、赤外吸収スペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確認し、樹脂固形分90%のブロックポリイソシアネート化合物(硬化剤)を得た。
上記製造例1で得た80%のアミノ基含有エポキシ樹脂No.1 87.5部(固形分70部)、製造例7で得た硬化剤No.1 33.3部(固形分30部)及び10%ギ酸10.7部を混合し、均一に攪拌した後、脱イオン水181部を強く攪拌しながら約15分かけて滴下し、固形分32.0%のエマルションNo.1を得た。
製造例8と同様の操作により、下記表2の組成及び配合内容のエマルションNo.2〜No.10を得た。
jER828EL(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名、エポキシ樹脂)1010部に、ビスフェノールA 390部、プラクセル212(ポリカプロラクトンジオール、ダイセル化学工業(株)、商品名、重量平均分子量約1,250)240部及びジメチルベンジルアミン0.2部を加え、130℃でエポキシ当量が約1090になるまで反応させた。
製造例18で得た60%の顔料分散樹脂8.3部(固形分5部)、JR−600E(注3)14部(固形分14部)、カーボンMA−7(注4)0.3部(固形分0.3部)、ハイドライトPXN(注5)9.7部(固形分9.7部)、ジオクチル錫オキサイド1部(固形分1部)及び脱イオン水21.2部を混合分散し、固形分55質量%の顔料分散ペーストNo.1を得た。
下記表3に示す化合物を用いる以外は製造例19と同様に操作して、顔料分散ペーストNo.2を得た。
(注4)カーボンMA−7: 三菱化成社製、商品名、カーボンブラック。
(注5)ハイドライトPXN: ジョージアカオリン社製、商品名、カオリン。
製造例8で得たエマルションNo.1 219部(固形分70部)に、製造例19で得た55%顔料分散ペーストNo.1 54.5部(固形分30部)及び脱イオン水726.5部を加えて固形分10%の浴とし、次いでジルコンフッ化アンモニウム5.3部を加えて皮膜形成剤No.1を得た。
下記表4及び表5に示す組成及び配合とする以外は、製造例21と同様にして皮膜形成剤No.2〜No.12を得た。
製造例14で得たエマルションNo.10 219部(固形分70部)に製造例19で得た55%顔料分散ペーストNo.1 54.5部(固形分30部)及び脱イオン水726.5部を加えて固形分10%の浴とし、次いでジルコンフッ化アンモンモニウム5.3部を加えて皮膜形成剤No.13を得た。
下記表6に示す組成及び配合とする以外は、製造例33と同様にして皮膜形成剤No.14を得た。
皮膜形成剤No.1の浴を28℃に調整し、冷延鋼板(70mm×150mm×0.8mm)を陰極(極間距離15cm)として浸漬し、第1段目を塗装電圧:5V、通電時間:60秒間の条件下で、そして第2段目を塗装電圧:150V、通電時間:180秒間の条件下で、乾燥膜厚が20μmとなるように通電を行った。得られた皮膜を電気乾燥機によって170℃で20分間焼付け乾燥し、試験板No.1を得た。
下記表7及び表8に示す皮膜形成剤及び塗装条件を用いる以外は、実施例1と同様にして試験板No.2〜No.12を得た。
表9に示す皮膜形成剤及び塗装条件を用いる以外は、実施例1と同様にして試験板No.13〜No.20を得た。
20μmの乾燥塗膜が得られる条件にて電着塗装を行った後、水洗し、170℃で20分間焼付け乾燥した後、目視でワキ、ヘコミ、ピンホール、平滑性を評価した。
○は問題なく良好である。
△はワキ、ヘコミ、ピンホール、平滑性のいずれかの低下がみられる。
×はワキ、ヘコミ、平滑性のいずれかの低下が著しくみられる。
各皮膜形成剤を密閉容器内で30℃にて30日間攪拌した後、皮膜形成剤を400メッシュ濾過網を用いて全量濾過し、濾過網上の残さ量(mg/L)を測定した。
◎は5mg/L未満、
○は5mg/L以上で、且つ10mg/L未満、
△は10mg/L以上で、且つ15mg/L未満、
×は15mg/L以上、を示す。
試験板の素地に達するように電着塗膜にナイフでクロスカット傷を入れ、これを用いJISZ−2371に準じて480時間耐塩水噴霧試験を行った。評価はナイフ傷からの錆、フクレ幅によって以下の基準で評価した。
◎は錆、フクレの最大幅がカット部より2mm未満(片側)であり、
○は錆、フクレの最大幅が且つト部より2mm以上で且つ3mm未満(片側)であり
、
△は錆、フクレの最大幅が且つト部より3mm以上で且つ4mm未満(片側)であり
、
×は錆、フクレの最大幅が且つト部より4mm以上(片側)である、
ことを示す。
試験板に、スプレー塗装方法で、水性中塗り塗料:WP−300(関西ペイント株式会社製、商品名)を硬化膜厚が25μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行なった。さらに、その中塗塗膜上に、スプレー塗装方法で、上塗り塗料:ネオアミラック6000(関西ペイント株式会社製、商品名)を硬化膜厚が35μmとなるように塗装した後、電気熱風乾燥器で140℃×30分焼き付けを行ない、暴露試験板を作製した。
◎は錆またはフクレの最大幅が且つト部より2mm未満(片側)であり、
○は錆またはフクレの最大幅が且つト部より2mm以上で且つ3mm未満(片側)で
あり、
△は錆またはフクレの最大幅が且つト部より3mm以上で且つ4mm未満(片側)で
あり、
×は錆またはフクレの最大幅が且つト部より4mm以上(片側)である、
ことを示す。
Claims (5)
- ジルコニウム化合物(A)を金属質量換算で30〜20,000ppm含有し、且つ基体樹脂として、下記式(1)
で示されるジエポキシド化合物(a1)、ビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)及びビスフェノール類(a3)を反応させてなるエポキシ樹脂(a)とアミノ基含有化合物(b)とを反応させることにより得られるアミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)を含んでなる水性皮膜形成剤(I)を含有する電着浴を用い、金属基材を陰極として塗装電圧(V1)1〜50Vで10〜360秒間通電することにより1段目の電着塗装を行い、次いで、金属基材を陰極として塗装電圧(V2)50〜400Vで60〜600秒間通電することにより2段目以降の電着塗装を行うことからなり、塗装電圧(V2)と塗装電圧(V1)の差が10V以上であることを特徴とする、金属基材に2段階以上の多段階通電方法によって皮膜を形成する方法。 - ジエポキシド化合物(a1)の量が、ジエポキシド化合物(a1)とビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)とビスフェノール類(a3)の合計固形分を基準にして20〜70質量%であり、且つアミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)の固形分を基準にして15〜50質量%である請求項1に記載の皮膜形成方法。
- 水性皮膜形成剤(I)が、アミノ基含有変性エポキシ樹脂(B)を樹脂成分の合計固形分を基準にして40〜80質量%含有する請求項1に記載の皮膜形成方法。
- 水性皮膜形成剤(I)がブロック化ポリイソシアネート化合物をさらに含んでなる請求項1又は2に記載の皮膜形成方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の皮膜形成方法により得られた塗装物品。
Priority Applications (4)
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