JP4814855B2 - シリカガラスルツボ - Google Patents
シリカガラスルツボ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4814855B2 JP4814855B2 JP2007253106A JP2007253106A JP4814855B2 JP 4814855 B2 JP4814855 B2 JP 4814855B2 JP 2007253106 A JP2007253106 A JP 2007253106A JP 2007253106 A JP2007253106 A JP 2007253106A JP 4814855 B2 JP4814855 B2 JP 4814855B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica glass
- outer layer
- crucible
- layer
- curvature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 149
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 50
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 50
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 21
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/09—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould
- C03B19/095—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould by centrifuging, e.g. arc discharge in rotating mould
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
しかしながら、その反面、溶融の長時間化、加熱用カーボンヒータの大出力化といった厳しい環境下で使用しなければならず、シリカガラスルツボへの悪影響も大きい。
この問題を解決するため、特許文献1には、図5に示すように、外層51がAl添加石英層、中間層52が天然石英層、内層53が高純度合成石英層からなる3層構造の石英ガラスルツボ50について開示されている。
クリストバライトの成長過程においては、粘性が向上し、また、結晶化することで高い耐久性を得ることができるため、前記のようにルツボの変形や破損といった課題を解決することができる。
また、結晶化が完了する長い時間の間に、ルツボが変形する虞があった。
即ち、Al添加シリカ層のAl濃度が高濃度であると、加熱開始後、外層51の結晶化が急激に進行する。このため、ルツボの変形が生じる前に結晶化を完了させることができる。
このように構成することにより、引上げの開始後、高温加熱により、外層の結晶化(クリストバライト化)を速度低下することなく適度な速度で進行させることができ、ルツボ全体と、これを支持するカーボンサセプタとの密着安定性が向上すると共に、早期に十分な耐久性を得ることができる。
このように構成することにより、シリコン単結晶引上げの開始初期段階において、外層が存在しない所定範囲の底部(不透明外層)を軟化させ、ルツボを支持するカーボンサセプタとより密着させることができる。
したがって、本発明に係るシリカガラスルツボによれば、シリコン単結晶の単結晶化率を向上することができる。
このように濃度を設定することにより、外層の結晶化速度を略一定とすることができ、ルツボ安定化と共に、結晶化により十分な耐久性を得ることができる。
尚、前記第一の外層と第二の外層の厚さ寸法は、共に0.5〜2.0mmの範囲で設定されていることが望ましい。
このように構成することにより、単結晶の引き上げ開始後、底部とカーボンサセプタとを十分に密着させることができ、ルツボの支持を安定させることができる。
また、十分な耐久性を得るための外層を形成することができる。
尚、前記結晶化促進剤としては、Al、Ba、Ca、Kが挙げられ、これらのいずれか、もしくは、このうちの複数の組合せから選択することができるが、Alのみとすることが最も好ましい。
このシリカガラスルツボ1は、例えば単結晶引上装置(図示せず)において用いられ、装置内でカーボンサセプタ(図示せず)によって抱持された状態で使用される。
即ち、単結晶引上装置では、シリカガラスルツボ1内に原料シリコンが溶融され、溶融液からシリコン単結晶が引上げられる。
外層2は、結晶化促進剤として例えばAlを添加したAl添加シリカガラス層2a(第一の外層)と、よりAl濃度が高くなるようAlを添加した高Al添加シリカガラス層2b(第二の外層)の2層により形成されている。
さらに、この中間層3より内側には、シリコン単結晶引上げ時に溶融シリコンと接する高純度の合成原料シリカガラス(または天然原料シリカガラス)からなる透明内層4が形成されている。
より詳細に説明すると、図2の断面図に示すように、ルツボ内において底部9は半径Rの曲率(第1の曲率)を有しており、底部コーナー8では半径rの曲率(第2の曲率)を有している。また、ルツボ側部7は鉛直方向に直線状に形成されている。
一方、−5°より小さい範囲に外層2の下端を形成すると、ルツボ全体で外層2が占める割合が小さく、耐久性が低くなる傾向があるためである。
一方、Al濃度が30ppmより低いと結晶化速度が遅くなり、所望の耐久性が得られ難いためである。
一方、90ppmより低いと結晶化速度が遅くなり、外層2の結晶化速度の一定化が困難となるためである。
また、不透明中間層3から連続して形成されたルツボ底部9の不透明外層5における厚さ寸法mt3は6mm以上に形成される。
また、ルツボ底部コーナー8における不透明中間層3の厚さ寸法mt2及びルツボ底部9における不透明外層5の厚さ寸法mt3が6mmより小さいと、充分な耐久性が得られ難いためである。
透明内層4において、ルツボ側部7における厚さ寸法it1と、ルツボ底部コーナー8における厚さ寸法it2と、ルツボ底部9における厚さ寸法it3とは共に、3mm以上の厚さに形成されている。
これは、透明内層4の厚さが3mmより小さいとシリコン溶融と接する透明内層4の内表面の結晶化促進剤濃度を十分に低く、例えば1ppm以下にすることができ難いためである。
その後、引上げの開始から完了までの間に亘り、高温加熱により所定範囲の底部コーナー8及び側部7等の外層2の結晶化(クリストバライト化)が進行する。
したがって、ルツボ1の耐久性を確保しつつ、カーボンサセプタによる支持の密着安定性が得られ、シリコン単結晶の単結晶化率を向上することができる。
図4に示すようなシリカガラスルツボ製造装置10を用いてシリカガラスルツボ1を製造する。シリカガラスルツボ製造装置10のルツボ成形用型11は、例えば複数の貫通孔が穿設された金型、もしくは高純化処理した多孔質カーボン型などのガス透過性部材で構成された内側部材12と、その外周に通気部13を設けて、前記内側部材12を保持する保持体14とから構成されている。
内側部材12に対向する上部にはアーク放電用のアーク電極19と、Al添加原料供給ノズル20と、高Al添加原料供給ノズル21と、天然シリカ粉供給ノズル22と、高純度合成シリカ粉供給ノズル23が設けられている。
次いで、ルツボ成形用型11内にAl添加原料供給ノズル20からAl添加シリカガラス粉(Al濃度30〜100ppm(好ましくは50〜80ppm))を供給する。供給されたAl添加シリカガラス粉は、遠心力によって内側部材12の内面側に押圧され、外層2のAl添加シリカガラス層2aとして形成される。
ここで、外層2は、図2を用いて説明したように下端の位置が決められ、底部が除去される。即ち、製造するシリカガラスルツボ1の曲率変化点から底部にかけて、Al添加シリカガラス層2a及び高Al添加シリカガラス層2bが除去される。
供給された高純度合成シリカ粉は、遠心力によって不透明中間層3及び不透明外層5の内面側に押圧されて、透明内層4の成形体として成形される。
さらに、減圧機構18の作動により内側部材12内を減圧し、アーク電極19に通電してルツボ成形体の内側から加熱し、ルツボ成形体の透明内層4、不透明中間層3、不透明外層5および外層2を溶融して、シリカガラスルツボ1を製造する。
また、引上げの開始後、高温加熱により、外層2の結晶化(クリストバライト化)を速度低下することなく進行させることができ、ルツボ全体と、これを支持するカーボンサセプタとの密着安定性が向上すると共に、早期に十分な耐久性を得ることができる。
また、図1に示した層構造のシリカガラスルツボにおいて、外層における外側の層と内側の層に夫々添加するAlの濃度及びその組み合わせにより比較例1、2を設定した。
尚、前記ルツボの耐久性は、使用前後でのルツボ高さ変化、即ち、沈み込み変形の割合(%)により評価した。
具体的には、耐久性は、沈み込み変形割合(%)=((使用前製品高さ−使用後の製品高さ)/使用前製品高さ)×100により求め、その値が7%以下であれば○で示し、7%より高ければ△で示した。
また、DF率は、95%より高ければ○で示し、90%〜95%であれば△で示し、90%より低ければ×で示した。
また、表1に示す総合評価は、耐久性とDF率が共に○で総合○、いずれかが△であれば総合△、共に△であれば総合×、耐久性が○であってもDF率が×であれば総合×とした。
また、底部においてもAl添加外層を形成した場合(実施例7)にも、若干DF率が低いものの、総合評価としては良好な結果が得られた。
2 外層
2a Al添加シリカガラス層(第一の外層)
2b 高Al添加シリカガラス層(第二の外層)
3 不透明中間層
4 透明内層
5 不透明外層
6 ルツボ上端
7 側部
8 底部コーナー
9 底部
10 シリカガラスルツボ製造装置
Claims (5)
- チョクラルスキー法によって単結晶を引上げるためのシリカガラスルツボにおいて、
結晶化促進剤添加シリカガラスからなる第一の外層と、
前記第一の外層より内側に形成され、前記第一の外層よりも結晶化促進剤の濃度が3倍以上高く形成された結晶化促進剤添加シリカガラスからなる第二の外層と、
前記第二の外層より内側に形成され、天然原料シリカガラスからなる不透明中間層と、
前記不透明中間層より内側に形成され、天然原料シリカガラスまたは合成原料シリカガラスからなる透明内層とを有することを特徴とするシリカガラスルツボ。 - 前記第一の外層における結晶化促進剤濃度は、30〜100ppmの範囲で設定され、
前記第二の外層における結晶化促進剤濃度は、90〜300ppmの範囲で設定されていることを特徴とする請求項1に記載されたシリカガラスルツボ。 - 前記第一の外層と第二の外層の厚さ寸法は、共に0.5〜2.0mmの範囲で設定されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載されたシリカガラスルツボ。
- 第一の曲率を有する底部と、前記底部の周りに形成され、第二の曲率を有する底部コーナーと、前記底部コーナーから上方に延びる側部とを有し、
ルツボ上端から前記側部の下方である前記底部と前記底部コーナーとの間の曲率変化点を基準とする所定範囲までが、前記第一の外層と、前記第二の外層と、前記不透明中間層と、前記透明内層とで形成され、
前記底部が、前記不透明中間層から連続して形成された不透明外層と、前記透明内層とで形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載されたシリカガラスルツボ。 - 前記第一の外層及び第二の外層の下端が形成される前記所定範囲は、
前記第一の曲率の曲率中心と前記曲率変化点とを結ぶ直線上を0°として、該直線を前記曲率中心周りに±5°回転させた範囲内であることを特徴とする請求項4に記載されたシリカガラスルツボ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007253106A JP4814855B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | シリカガラスルツボ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007253106A JP4814855B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | シリカガラスルツボ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009084085A JP2009084085A (ja) | 2009-04-23 |
JP4814855B2 true JP4814855B2 (ja) | 2011-11-16 |
Family
ID=40657993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007253106A Active JP4814855B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | シリカガラスルツボ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4814855B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5472971B2 (ja) * | 2009-05-29 | 2014-04-16 | コバレントマテリアル株式会社 | シリカガラスルツボ |
JP5191003B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2013-04-24 | コバレントマテリアル株式会社 | シリコン単結晶引上げ用シリカガラスルツボ |
JP5453677B2 (ja) * | 2010-06-25 | 2014-03-26 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボ、シリコンインゴットの製造方法 |
SG11201811122UA (en) | 2016-09-13 | 2019-01-30 | Sumco Corp | Quartz glass crucible and manufacturing method thereof |
JP7349779B2 (ja) | 2018-08-09 | 2023-09-25 | 信越石英株式会社 | 石英ガラスるつぼ |
CN109467306B (zh) * | 2018-11-08 | 2021-10-19 | 锦州佑鑫石英科技有限公司 | 单晶硅生产用高强度石英坩埚的加工方法 |
JP7280160B2 (ja) * | 2018-12-13 | 2023-05-23 | モメンティブ・テクノロジーズ・山形株式会社 | シリカガラスルツボ |
KR102243264B1 (ko) * | 2018-12-13 | 2021-04-21 | 쿠어스택 가부시키가이샤 | 실리카 유리 도가니 및 그의 제조 방법 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3621282B2 (ja) * | 1999-02-25 | 2005-02-16 | 東芝セラミックス株式会社 | 石英ガラスルツボおよびその製造方法 |
JP2006124235A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Japan Siper Quarts Corp | 石英ガラスルツボとその製造方法および用途 |
JP2006213556A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Japan Siper Quarts Corp | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボとその製造方法、および取り出し方法 |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007253106A patent/JP4814855B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009084085A (ja) | 2009-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4814855B2 (ja) | シリカガラスルツボ | |
JP5472971B2 (ja) | シリカガラスルツボ | |
JP4717771B2 (ja) | シリカガラスルツボ | |
JP4430949B2 (ja) | 石英ガラスるつぼおよび該るつぼを製造する方法 | |
KR101423074B1 (ko) | 실리카 유리 도가니 | |
JP4995068B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
JP2001348294A (ja) | 多層構造の石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
EP2248776A1 (en) | Quartz glass crucible | |
JPWO2004097080A1 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP4975012B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP6855358B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
JP4678667B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP2018104248A (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
JP2004521851A (ja) | 石英ガラス坩堝の製造方法 | |
CN108977879B (zh) | 一种单晶用高纯石英坩埚及其制备方法 | |
JP6681303B2 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP5517868B2 (ja) | シリカガラスルツボ | |
JP7280160B2 (ja) | シリカガラスルツボ | |
KR102243264B1 (ko) | 실리카 유리 도가니 및 그의 제조 방법 | |
JP2019048730A (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
WO2023229031A1 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP2014065622A (ja) | シリコン単結晶引上げ用シリカガラスルツボの製造方法 | |
JP2004292214A (ja) | 石英ルツボの製造方法 | |
JPH04202086A (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
WO2020031481A1 (ja) | 石英ガラスるつぼ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100527 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101008 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110818 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110823 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110826 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4814855 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140902 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |