JP4876820B2 - 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 - Google Patents

Description

この発明は、例えばカラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタ並びにアレイ基板、プラズマディスプレイ用パネル、光学フィルタなどの製造分野に使用されるものであり、詳しくはガラス基板などの被塗布部材表面に塗布液を吐出しながら、端部の不良膜厚領域の少ない均一な塗布膜を形成する塗布方法および塗布装置、並びにこれらを用いたディスプレイ用部材の製造方法および製造装置の改良に関するものである。

カラー液晶用ディスプレイは、カラーフィルタ、ＴＦＴ用アレイ基板などにより構成されているが、カラーフィルタ、ＴＦＴ用アレイ基板ともに、低粘度の液体材料を塗布して乾燥させ、塗布膜を形成する製造工程が多く含まれている。たとえば、カラーフィルタの製造工程では、ガラス基板上に黒色のフォトレジスト材の塗布膜を形成し、フォトリソ法により塗布膜を格子状に加工した後に、格子間に赤色、青色、緑色のフォトレジスト材の塗布膜を同様の手法により順次形成していく。その他にも、フォトレジスト材を塗布して塗布膜を形成後、カラーフィルタとアレイ基板との間に注入される液晶のスペースを得るための柱を形成する製造工程や、カラーフィルタ上の表面の凹凸を平滑化するためのオーバーコート塗布膜を形成する製造工程などもある。

この塗布膜形成のための塗布装置としては、従来スピナー、バーコータなどが使用されていたが、塗布液の消費量削減や消費電力削減、さらに２ｍ角以上という超大型基板に対応する装置の大型化が困難であることなどにより、近年に至ってスリットコータ（例えば特許文献１）の使用が増加してきている。この公知のスリットコータは塗布ヘッドとしてスリットノズルを有し、このスリットノズルに設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出しながら、一方向に走行するガラス基板などの枚葉状の被塗布部材に塗布膜を形成するものとなっている。

近年製品の高品質化に伴って、基板に塗布するスリットコータに要求される膜厚分布精度はますます高くなってきており、たとえば、端部１０ｍｍを除外して±３％以下の膜厚むらにすることが望まれている。通常、大きな膜厚変動を生じるのは、塗布方向、スリットノズルの長手方向である基板幅方向を問わず、中央部分ではなくて端部である。幅方向端部については、スリットノズルの性能や塗布液の特性によって膜厚分布精度が定まる。一方塗布方向端部については、塗布開始部と塗布終了部の膜厚制御の良否が変動の小さな膜厚分布形成に大きく影響する。特に生産性を向上させるために高速で塗布をする時には、塗布開始部と終了部の膜厚制御を最適化しないと、端部の不良膜厚領域が長くなり、一定膜厚の製品領域が短くなって、基板の有効利用率が低下する。

塗布開始部の膜厚制御手段については、上記のような重要性から数多くの改善手段が提案されており、基板とダイとの間のすきまであるクリアランスを、塗布液の吐出ならびに基板に対するスリットノズルの水平移動と連動させて制御する方法（例えば特許文献２）、スリットノズルと基板を静止させておき、ポンプを駆動して吐出を始めた一定時間後に基板の移動を開始して塗布開始する方法（例えば特許文献３）、等がある。しかしいずれの手段も、原理的にはポンプ供給速度、スリットノズル／基板間の相対移動速度が定常値になってから膜厚を所定の値にするものであって、ポンプ供給速度やスリットノズル／基板間の相対移動速度が定常値になるまでの加速区間（立ち上げ区間）で膜厚を所定値にしようと制御できるものではない。１００ｍｍ／ｓ以上の高速で塗布する時には、加速により通りすぎる長さが、はなはだしい場合には数１０ｍｍにも及ぶため、この長さを１０ｍｍ以下とするには、加速区間に配慮した膜厚制御手段が必要となる。そのような膜厚制御手段としては、ポンプ供給速度、スリットノズル／基板間の相対移動速度ともに、極低速で立ち上げて一定膜厚にしてから、ポンプ供給速度、スリットノズル／基板間の相対移動速度を定常速度まで昇速するもの（例えば特許文献４）や、ポンプ供給速度と、スリットノズル／基板間の相対移動速度の変化率を同じにして、加速区間で所定の膜厚を実現しようと試みたもの（例えば特許文献５）、がある。

また２ｍ角以上の大型基板に塗布をするスリットコータでは装置が大型・大重量化し、移動部分の慣性が大きくなるので、スリットノズル／基板間の相対移動速度を定常値にするまでの加速時間、すなわち加速区間が長くなる。加速区間が長くなると、不良膜厚領域も長くなるので、そうならないようにするためにも、加速区間に配慮した膜厚制御手段を使用して、加速区間で膜厚が所定値になるようにする技術が、大型化の場合にも必須となる。
特開平６−３３９６５６号公報（第５欄１８行目〜第９欄１３行目、図１） 特開２００２−１１３４１１号公報（第５欄３０行目〜第６欄４５行目、第７欄３行目〜３１行目、図１、図５） 特開平８−２２９４８２号公報（第１３欄４６行目〜第１５欄４８行目、図３） 特開２００２−８６０４４号公報（第９欄４３行目〜第１０欄３５行目、図５） 特開平９−２５３５６３号公報（第２欄４２行目〜第３欄５行目、第９欄３４行目〜第１０欄４９行目、図２、図６）

しかしながら、特許文献４の手段では、極低速で立ち上げる時間が余分に必要なので、タクトタイムが余計にかかってしまうという問題点がある。一方特許文献５に示されている手段では、ポンプ供給速度の方が、スリットノズル／基板間の相対移動速度よりも先行して昇速しているために、常に塗布液が供給過多となって、この供給過多となる量が多い場合には加速区間で一定膜厚が得られないという問題点があった。

この発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、定容量ポンプの供給速度と、スリットノズル／基板間の相対移動速度の加速区間で膜厚が所定値になる手段を提示し、高速で塗布する時や大型の装置で移動部の加速区間が長くなる時に塗布開始部に発生する目標膜厚範囲内に到達しない不良膜厚区間を最小とし、それによって均一な膜厚区間を最長にして、一枚の被塗布部材上での有効製品領域を最大とすることが、容易にしかもタクトタイムを長くすることなく実現できて、生産性や歩留まりの向上に大きく寄与する塗布装置及び方法ならびにこの方法を使用したディスプレイ用部材の製造方法を提供することにある。

上記本発明の目的は、以下に述べる手段により達成される。

本発明に係る塗布方法は、一方向に延在する吐出口を有する塗布器を静止した被塗布部材に近接させ、定容量ポンプから塗布器に塗布液を最終的に供給速度Ｑｐとなる供給速度で供給して被塗布部材上に塗布器から塗布液をプリディスペンスし、次いで定容量ポンプから塗布器に塗布液を定常供給速度Ｑｓで供給して被塗布部材に塗布器から塗布液を吐出するとともに、被塗布部材の塗布器に対する相対移動を定常移動速度Ｖｓで行って、被塗布部材上に塗布膜を形成する塗布方法であって、プリディスペンス開始からｔｓ秒後に相対移動を開始するとともに、相対移動の開始からｔｐ秒後には定容量ポンプの供給速度Ｑｐを定常供給速度Ｑｓに増速開始させ、さらに相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常供給速度Ｑｓに達するまでの供給速度Ｑ（ｔ）と定常供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓと、相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常相対移動速度Ｖｓに達するまでの相対移動速度Ｖ（ｔ）と定常相対移動速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓと、を略同一にして塗布することを特徴とする。
本発明に係るディスプレイ用部材の製造方法は、上記に記載の塗布方法を用いてディスプレイ用部材を製造することを特徴とする。

また、本発明に係る塗布装置は、塗布液を吐出するために一方向に延在する吐出口を有する塗布器と、塗布器に塗布液を供給する定容量ポンプと、被塗布部材を保持する載置台と、前記塗布器および載置台のうちの少なくとも一方を相対的に移動させる移動手段を備えて、被塗布部材に塗布膜を形成する塗布装置において、静止した被塗布部材上の塗布開始位置で、同じく静止した塗布器から塗布液を吐出開始して最終的に供給速度Ｑｐとなるプリディスペンスを行い、プリディスペンス開始からｔｓ秒後に相対移動を開始するとともに、相対移動の開始からｔｐ秒後には定容量ポンプの供給速度Ｑｐを定常供給速度Ｑｓに増速開始させ、さらに相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常供給速度Ｑｓに達するまでの供給速度Ｑ（ｔ）と定常供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓと、相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常相対移動速度Ｖｓに達するまでの相対移動速度Ｖ（ｔ）と定常相対移動速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓと、を略同一にして塗布させる制御手段を有することを特徴とする。

本発明に係る塗布方法および塗布装置を用いれば、定容量ポンプの供給速度と、スリットノズル／基板間の相対移動速度の、それぞれの定常速度に対する比を同じにして昇速し、さらにプリディスペンス量や増速タイミング等を調整することで膜厚分布を微調整することができるのであるから、膜厚を加速区間から所定の値にすることができ、高速で塗布する時や大型の装置で移動部の加速区間が長い時にでも、塗布開始部に発生する目標膜厚範囲内に到達しない不良膜厚区間を最小とし、それによって均一な膜厚区間を最長にして、一枚の被塗布部材上での有効製品領域を最大とすることが容易に実現できる。
本発明に係るディスプレイ用部材の製造方法によれば、上記の優れた塗布方法を用いてディスプレイ用部材を製造するのであるから、均一な膜厚区間が長い優れた塗布品位のディスプレイ用部材を高い生産性と高歩留まりで製造することが可能となる。

以下、本発明の好ましい実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は、本発明に係る塗布装置であるスリットコータ１の概略正面図、図２は、本発明の参考となる第１の塗布方法（以下「塗布方法１）と表す場合がある。）を表すポンプ供給速度とステージ速度の時間線図、図３は、本発明に係る第２の塗布方法（以下「塗布方法２）と表す場合がある。）を表すポンプ供給速度とステージ速度の時間線図、図４は従来の塗布方法を表すポンプ供給速度とステージ速度の時間線図である。

まず図１を参照すると、本発明のスリットコータ１が示されている。このスリットコータ１は基台２を備えており、基台２上には、一対のガイドレール４が設けられている。このガイドレール４上には、被塗布部材である基板Ａの載置台、すなわちステージ６が配置されている。ステージ６は図示しないリニアモータで駆動されて図１に矢印で示されているＸ方向に自在に往復動する。ステージ６の移動速度をステージ速度ということにする。またステージ６の上面は吸着孔からなる真空吸着面となっており、基板Ａを吸着保持することができる。

基台２の中央を見ると、門型の支柱１０がある。支柱１０には、上下昇降ユニット７０が備えられており、この上下昇降装置ユニット７０に塗布を行うスリットノズル２０が取り付けられている。

スリットノズル２０は、Ｘ方向に直交する方向（紙面に垂直な方向）にのびているフロントリップ２２、及びリアリップ２４を、シム３２を介してＸ方向に重ね合わせ、図示しない複数の連結ボルトにより一体的に結合されている。スリットノズル２０内の中央部にはマニホールド２６が形成されており、このマニホールド２６もスリットノズル２０の長手方向（Ｘ方向に直交する方向）にのびている。マニホールド２６の下方には、スリット２８が連通して形成されている。このスリット２８もスリットノズル２０の長手方向にのびており、その下端がスリットノズル２０の最下端面である吐出口面３６で開口して、吐出口３４を形成する。なおスリット２８はシム３２によって形成されるので、スリットの間隙（Ｘ方向に測定）は、シム３２の厚さと等しくなる。

このスリットノズル２０を昇降させる上下昇降装置ユニット７０は、スリットノズル２０を吊り下げる形で保持する吊り下げ保持台８０、吊り下げ保持台８０を昇降させる昇降台７８、昇降台７８を上下方向に案内するガイド７４、モータ７２の回転運動を昇降台７８の直線運動に変換するボールねじ７６より構成されている。上下昇降ユニット７０はスリットノズル２０の長手方向の両端部を支持するよう左右１対あって、各々が独立に昇降できるので、スリットノズル２０長手方向の水平に対する傾き角度を任意に設定することができる。これによってスリットノズル２０の吐出口面３６と基板Ａを、スリットノズル２０の長手方向にわたって略並行にすることができる。さらに、この上下昇降ユニット７０によって、ステージ６上の基板Ａとスリットノズル２０の吐出口面３６の間にすきま、すわなち、クリアランスを、任意の大きさに設けることができる。

さらに図１で基台２の右側端部を見ると、拭き取りユニット９０がガイドレール４上にＸ方向に移動自在に取付られている。拭き取りユニット９０には、スリットノズル２０の吐出口３４周辺に係合する形状を有する拭き取りヘッド９２が、ブラケット９４を介してスライダー９６に取り付けられている。スライダー９６は駆動ユニット９８により、スリットノズル２０の長手方向、すなわちＸ方向に直行する方向に自在に移動する。駆動ユニット９８とトレイ１００は台車１０２上に固定されている。台車１０２はガイドレール４上にあり、ガイドレール４に案内されて、図示しないリニアモータによりＸ方向に自在に往復動できるので、拭き取りユニット９０全体がＸ方向に往復動できる。また拭き取りを行う時は、拭き取りヘッド９２がスリットノズル２０に係合する位置まで拭き取りユニット９０全体をＸ方向に移動させ、スリットノズル２０を下降して拭き取りヘッド９２に係合させる。そして、駆動ユニット９８を駆動して拭き取りヘッド９２をスリットノズル２０の長手方向に摺動させると、スリットノズル２０の吐出口３４付近に残存している塗布液その他の汚染物を除去、清掃することができる。除去した塗布液その他はトレイ１００で回収される。トレイ１００は図示しない排出ラインに接続されており、内部にたまった塗布液等の液体を外部に排出、回収することができる。またトレイ１００は、スリットノズル２０からエアー抜き等で吐出される塗布液を回収するために使用することもできる。なお拭き取りヘッド９２はスリットノズル２０に均等に係合できるようゴム等の弾性体、合成樹脂が好ましい。

さらにまた基台２の左側を見ると、基板Ａの厚さを測定する厚さセンサー１２０が支持台１２２に取り付けられている。厚さセンサー１２０はレーザを使用したものであることが好ましい。厚さセンサー１２０により基板Ａの厚さを測定することで、どのような厚さの基板Ａに対しても、スリットノズル２０の吐出口面３６と基板Ａの隙間であるクリアランスを、常に一定にすることができる。

再びスリットノズル２０を見ると、スリットノズル２０のマニホールド２６の上流側は、塗布液供給装置４０に連なる供給ホース６０に、内部通路（図示しない）を介して常時接続されており、これにより、マニホールド２６へは塗布液供給装置４０から塗布液を供給することができる。マニホールド２６に入った塗布液はスリットノズル２０の長手方向に均等に拡幅されて、スリット２８を経て、吐出口３４から吐出される。

なお、塗布液供給装置４０は、供給ホース６０の上流側に、フィルター４６、供給バルブ４２、シリンジポンプ５０、吸引バルブ４４、吸引ホース６２、タンク６４を備えている。タンク６４には塗布液６６が蓄えられており、圧空源６８に連結されて任意の大きさの背圧を塗布液６６に付加することができる。タンク６４内の塗布液６６は、吸引ホース６２を通じてシリンジポンプ５０に供給される。シリンジポンプ５０では、シリンジ５２、ピストン５４が本体５６に取り付けられている。ここでピストン５４は図示しない駆動源によって上下方向に自在に往復動できる。シリンジポンプ５０は、一定の内径を有するシリンジ５２内に塗布液を充填し、それをピストン５４により押し出して、スリットノズル２０に基板Ａを一枚塗布する分だけ供給する定容量型のポンプである。シリンジ５２内に塗布液６６を充填するときは、吸引バルブ４４を開、供給バルブ４２を閉として、ピストン５４を下方に移動させる。またシリンジ５２内に充填された塗布液をスリットノズル２０に向かって供給するときは、吸引バルブ４４を閉、供給バルブ４２を開とし、ピストン５４を上方に移動させることで、ピストン５４でシリンジ５２内部の塗布液を押し上げて排出する。ピストン５４の移動速度にシリンジ断面積をかけあわせたものが塗布液の供給速度、すなわちポンプ供給速度となる。

なお制御信号にて動作するリニアモータ、モータ７２、塗布液供給装置４０、等はすべて制御装置１３０に電気的に接続されている。そして、制御装置に組み込まれた自動運転プログラムにしたがって制御指令信号が各機器に送信されて、あらかじめ定められた動作を行う。なお条件変更時は操作盤１３２に適宜変更パラメータを入力すれば、それが制御装置１３０に伝達されて、運転動作の変更が実現できる。特に塗布液供給装置４０の中では、シリンジポンプ５０、供給バルブ４２、吸引バルブ４４、切替バルブ２４０が電気的に接続されており、制御装置１３０にその電気的信号をとりこんだり、制御装置１３０からの指令により、任意の動作をさせることができる。制御装置１３０を用いれば、塗液供給装置４０、上下昇降ユニット７０、ステージ６の動作を自在に制御できるので、ポンプ供給速度や、スリットノズル２０とステージ６すなわち基板Ａとの相対移動速度となるステージ速度、の大きさや、両者の駆動開始／停止タイミングを任意に設定でき、塗布開始部、塗布終了部での塗布膜厚分布が任意のものに制御できる。

次にスリットコータ１による本発明の参考となる第１の塗布方法について詳述する。まずスリットコータ１の各動作部の原点復帰が行われると、各移動部はスタンバイ位置に移動する。すなわち、ステージ６は図１の左端部（破線で示す位置）、スリットノズル２０は最上部に移動するとともに、拭き取りユニット９０はトレイ１００がスリットノズル２０の下部位置にくるよう移動する。ここで、タンク６４〜スリットノズル２０まで、塗布液６６はすでに充満されており、スリットノズル２０内部の残留エアーを排出する作業も既に終了している。この時の塗布液供給装置４０の状態は、シリンジ５２に塗布液６６が充填、吸引バルブ４４は閉、供給バルブ４２は開、そしてピストン５４は最下端の位置にあり、いつでも塗布液６６をスリットノズル２０に供給できるようになっている。

最初に、ステージ６の表面に図示しないリフトピンを上昇させ、図示しないローダから基板Ａがリフトピン上部に載置される。次にリフトピンを下降させて基板Ａをステージ６上面に載置し、同時に吸着保持する。これと並行して塗布液供給装置４０を稼働させて、スリットノズル２０の吐出口３４付近を完全に塗布液でみたす、すなわち初期化を行うために、あらかじめ決めていた量の塗布液６６を、シリンジポンプ５０からスリットノズル２０に供給し、塗布液６６をスリットノズル２０からトレイ１００に向かって吐出する。塗布液６６の供給停止後、拭き取りヘッド９２をスリットノズル２０の吐出口３４の真下の位置にくるよう拭き取りユニット９０を移動させる。そして、スリットノズル２０を下降させてスリットノズル２０の吐出口面３６を拭き取りヘッド９２に係合後、拭き取りヘッド９２をスリットノズル２０長手方向に摺動させて、スリットノズル２０の吐出口３４付近をスリットノズル長手方向にわたって清掃する。清掃完了後、拭き取りユニット９０はもとの場所（図１の右端）に復帰する。

拭き取りユニット９０が基台２の右端部に移動したのを確認したら、基板Ａを載置したステージ６の移動を開始する。この時スリットノズル２０は上下方向には、塗布が行われる位置よりもはるか上方の拭き取り位置にあり、一方シリンジポンプ５０は停止して、待機している。そして基板Ａが厚さセンサー１２０下を通過する時に基板厚さを測定し、基板Ａの塗布開始部がスリットノズル２０の吐出口３４の真下に達したら、ステージ６を停止させる。この時、測定した基板Ａの厚さデータを用い、上下昇降ユニット７０を駆動して、スリットノズル２０の吐出口面３６と基板Ａ間のすきま、すなわちクリアランスがあらかじめ定めた値になるようスリットノズル２０を下降させて停止させる。スリットノズル２０とステージ６が完全に停止した状態で、図２に示すように、シリンジポンプ５０を駆動して、ポンプ供給速度Ｑｐで、一定容量だけプリディスペンスする。このプリディスペンスによって、静止しているスリットノズル２０と基板Ａ間のすきまに塗布液が満たされ、ビードＢが形成される。なお図２〜４には、各タイミングにおけるスリットノズル２０と基板Ａとの相対位置関係、並びに塗布液６６の基板Ａの塗布状況も合わせて示されている。プリディスペンス終了後に、シリンジポンプ５０とステージ６を同時に動作開始させる。この時ポンプ供給速度は定常ポンプ供給速度Ｑｓ、ステージ６は定常ステージ速度Ｖｓまで立ち上げるが、それぞれ動作開始から定常ポンプ供給速度Ｑｓ、定常ステージ速度Ｖｓまで立ち上がるまでのポンプ供給速度Ｑ、ステージ速度Ｖ、いいかえればステージ６の動作開始（相対移動開始）からｔ秒後のポンプ供給速度Ｑ（ｔ）、ステージ速度Ｖ（ｔ）は、Ｑ（ｔ）／ＱｓがＶ（ｔ）／Ｖｓと略同一となるように制御する。ポンプ動作開始からのポンプ供給速度Ｑ（ｔ）と定常ポンプ供給速度Ｑｓの比、Ｑ（ｔ）／Ｑｓを、ステージ動作開始からのステージ速度Ｖと定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓとを略同一にするということは、１）定常のポンプ供給速度Ｑｓで定常のステージ速度Ｖｓで移動する基板Ａに塗布される膜厚Ｔｈで、シリンジポンプ５０とステージ６の動作開始から、すなわち加速区間で塗布される、２）ポンプ供給速度Ｑ（ｔ）、ステージ速度Ｖ（ｔ）ともに、同じ立ち上がりに要する加速時間ｔａで、定常ポンプ供給速度Ｑｓ、ステージ速度Ｖｓに達する、ということを意味する。これは、プリディスペンスによってあらかじめ必要なビードＢが形成されているために、膜厚Ｔｈに対応したポンプ供給速度Ｑ（ｔ）とステージ速度Ｖ（ｔ）にしてやれば、いかなる場合でも膜厚Ｔｈで塗布できることも示している。以上のシリンジポンプ５０のポンプ供給速度Ｑと、ステージ６のステージ速度Ｖの塗布開始部の制御によって、塗布開始部から定常膜厚Ｔｈの塗布膜Ｃを形成することが、原理的に可能となる。

以上のように塗布を開始し、シリンジポンプ５０からは定常ポンプ供給速度Ｑｓで塗布液をスリットノズル２０に供給し、ステージ６は定常ステージ速度Ｖｓで移動することで、基板Ａに厚さＴｈの塗布膜Ｃが安定して形成される。そして基板Ａの塗布終了位置より少し手前の位置がスリットノズル２０の吐出口３４の真下にきたら、ピストン５４を停止させて塗布液６６の供給を停止し、つぎに基板Ａの塗布終了位置がスリットノズル２０の吐出口３４の真下に来たときに、上下昇降ユニット７０を駆動して、スリットノズル２０を上昇させる。これによって基板Ａとスリットノズル２０の間に形成されたビードＢが断ち切られ、塗布が終了する。

そのあいだもステージ６は動作を継続し、終点位置にきたら停止し、基板Ａの吸着を解除してリフトピンを上昇させて基板Ａを持ち上げる。この時図示されないアンローダによって基板Ａの下面が保持され、次の工程に基板Ａを搬送する。基板Ａをアンローダに受け渡したら、ステージ６はリフトピンを下降させ原点位置に復帰する。ステージ６の原点位置復帰後、拭き取りユニット９０を、トレイ１００がスリットノズル２０の吐出口３４の下部に配置するよう移動させる。

移動完了後、吸引バルブ４４を開、供給バルブ４２を閉として、ピストン５４を下降させて、塗布液６６をシリンジ５２内に充填する。充填完了後、ピストン５４を停止させ、吸引バルブ４４を閉、供給バルブ４２を開として、次の基板Ａが来るのを待ち、同じ動作をくりかえす。

以上の塗布方法では、塗布開始部のシリンジポンプ５０、ステージ６の加速区間から定常時の膜厚Ｔｈになるように制御を行っているので、塗布開始部の定常膜厚Ｔｈにならない不良膜厚区間を最小とし、定常膜厚Ｔｈの製品領域を最大にすることが可能となる。特に加速区間の実長さが長くなって不良膜厚区間が長くなる１００ｍｍ／ｓ以上の高速塗布時や、２ｍ角以上基板用のスリットコータでステージやスリットノズルを保持するガントリーの加速時間が長くなる時に、この塗布方法は威力を発揮し、不良膜厚区間を１０ｍｍ以下に容易にでき、膜厚が均一で有効な製品領域を大きくすることができる。

本発明に係る第２の塗布方法は、塗布開始が以下のようである以外は、第１の塗布方法と全く同じである。すなわち、基板Ａの厚さを測定後、上下昇降ユニット７０を駆動して、スリットノズル２０の吐出口面３６と基板Ａ間のクリアランスがあらかじめ定めた値になるようスリットノズル２０を下降させて停止させる。スリットノズル２０とステージ６が完全に停止した状態で、図３に示すように、シリンジポンプ５０を駆動開始して、ポンプ供給速度Ｑｐで塗布液をスリットノズルから吐出し、静止しているスリットノズル２０と基板Ａ間のすきまに塗布液が満たされ、ビードＢが形成されるようプリディスペンスする。そしてシリンジポンプ５０が動作開始してからｔｓ秒後に、シリンジポンプ５０がポンプ供給速度Ｑｐで塗布液を供給している途中で、ステージ６の動作を開始させる。この後ステージ６の動作開始、すなわちスリットノズル２０とステージ６の相対移動の開始からｔｐ秒後、シリンジポンプ５０の動作開始からはｔｓ＋ｔｐ秒後に、シリンジポンプ５０はポンプ供給速度Ｑｐから定常ポンプ供給速度Ｑｓまで立ち上げ開始する。このポンプ供給速度Ｑｐから定常ポンプ供給速度Ｑｓまで立ち上げる加速区間、すなわちスリットノズル２０とステージ６の相対移動の開始からｔ秒後（ただしｔ≧ｔｐ）でのポンプ供給速度Ｑ（ｔ）と定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓを、同じくスリットノズル２０とステージ６の相対移動の開始からｔ秒後（ただしｔ≧ｔｐ）でのステージ速度Ｖ（ｔ）と定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓ、を略同一になるように制御することが好ましい。すなわち、シリンジポンプ５０をポンプ供給速度Ｑｐから増速開始するタイミングでは、ステージ速度Ｖ（ｔ）が、Ｖｓ×Ｑｐ／Ｑｓに達している。これによって、定常のポンプ供給速度Ｑｓで定常のステージ速度Ｖｓで移動する基板Ａに塗布される膜厚Ｔｈで、加速区間から塗布されることになる。なおビードＢを形成するために必要なシリンジポンプ５０からのプリディスペンス量は、プリディスペンスを開始してからステージ６を移動開始するまでの時間ｔｓの大きさによって調整する。以上のシリンジポンプ５０のポンプ供給速度と、ステージ６のステージ速度の塗布開始部の制御によって、塗布開始部から定常膜厚Ｔｈの塗布膜Ｃを形成することが原理的に可能となる。以上の第２の塗布方法でも、第１の塗布方法と同じように、塗布開始部のシリンジポンプ５０、ステージ６の加速区間から定常時の膜厚Ｔｈになるように制御を行っているので、塗布開始部の定常膜厚Ｔｈにならない不良膜厚区間を最小とし、定常膜厚Ｔｈの製品領域を最大にすることが可能となる。特に加速区間での通過長さが長くなって不良膜厚区間が長くなる１００ｍｍ／ｓ以上の高速塗布時や２ｍ角以上基板用の大型スリットコータ使用時に、本発明の塗布方法は威力を発揮し、不良膜厚区間を１０ｍｍ以下に容易にでき、製品領域を大きくすることができる。特に第２の塗布方法は、プリディスペンスから塗布開始をシリンジポンプ５０の動作を続けて行っているので、第１の塗布方法よりもタクトタイムをより短縮して、生産性の向上に役立たせることができる。

なお上記で、シリンジポンプ５０をポンプ供給速度Ｑｐから増速開始するタイミングでは、ステージ速度Ｖが、Ｖｓ×Ｑｐ／Ｑｓに達していて、ポンプ供給速度Ｑｐから定常ポンプ供給速度Ｑｓまで立ち上げる加速区間でのポンプ供給速度Ｑと定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑ／Ｑｓを、同じく加速区間でのステージ速度Ｖと定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ／Ｖｓ、と略同一になるように制御するということは、図３で、シリンジポンプ５０のポンプ供給速度をゼロから定常ポンプ供給速度Ｑｓまで立ち上げる加速時間を、ステージ６のステージ速度をゼロから定常ステージ速度Ｖｓで立ち上げる加速時間と同じｔａにするということである。この関係を使用し、ステージ６が移動開始してからシリンジポンプ５０がポンプ供給速度Ｑｐから増速開始するまでの時間ｔｐを、ｔｐ＝ｔａ×Ｑｐ／Ｑｓで算出して、固有値のようにして定めてもよい。

なお塗布方法２を用いた時のプリディスペンス時のポンプ供給速度Ｑｐと定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑｐ／Ｑｓは、好ましくは０．０１〜０．６、より好ましくは０．０５〜０．３にする。この範囲よりも小さい時は、プリディスペンスに時間がかかって全体のタクトタイムが長くなり、この範囲よりも大きいときは、ポンプ供給速度Ｑとステージ速度Ｖの加速中である加速区間で、ポンプ供給速度Ｑと定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑ／Ｑｓが、ステージ速度Ｖと定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ／Ｖｓと略同一になる領域（ポンプ供給速度Ｑがプリディスペンス時のポンプ供給速度Ｑｐよりも大きくなる領域）が狭くなり、不良膜厚領域が長くなるという不都合がある。

また第２の塗布方法では、ポンプ供給速度Ｑｐでプリディスペンスを開始したが、ｔｓ＋ｔｐ秒後までにポンプ供給速度Ｑｐに達するようにしてもよい。この場合、ポンプ供給速度Ｑｐになるまでの速度プロファイルはいかなるものであってもよく、たとえばポンプ供給速度Ｑｐまで時間に比例や時間のべき乗に比例して増速、一旦ポンプ供給速度Ｑｐ以上にオーバーシュートしてポンプ供給速度Ｑｐまで減じるもの、等を適用できる。いかなる速度プロファイルでポンプ供給速度Ｑｐに達してもよいが、ｔｓ秒後にスリットノズル２０と基板Ａ間のすきまに必要な大きさのビードＢを形成するプリディスペンス量が与えられることが必要条件となる。

また、ポンプ供給速度Ｑ、ステージ移動速度Ｖの加速時間ｔａはいかなる値にしても、本発明の参考となる塗布方法１、本発明の塗布方法２ともに有効である。特に２ｍ角以上のガラス基板に塗布できるようなスリットコータでは、ステージまたはスリットノズルの移動速度の加速時間である立ち上がり時間ｔａは０．４秒以上と、小型装置の０．２秒に比べて長くなるが、そのような場合にでも本発明の参考となる塗布方法１や本発明の塗布方法２はその効力を発揮して、塗布開始部の定常膜厚Ｔｈにならない不良膜厚区間を最小とし、定常膜厚Ｔｈの製品領域を最大にすることが可能となる。また本発明の参考となる塗布方法１、本発明の塗布方法２ともに、タクトタイムが長くなるような操作は行っていないので、本発明の塗布方法を実施することで、タクトタイムが長くなることもない。

なお従来の塗布開始方法が図４に示されている。図４を参照すると、ポンプ供給速度Ｑｐでプリディスペンスを行うのに引き続いて、シリンジポンプ駆動開始からｔｓ秒後にステージ６の移動を開始して塗布開始が行われる。立ち上げを行う加速区間では、時間ｔａの間にシリンジポンプはポンプ供給速度Ｑｐから定常ポンプ供給速度Ｑｓまで増速し、ステージ６はゼロから定常ステージ速度Ｖｓまで増速される。したがって、加速区間のポンプ供給速度Ｑとプリディスペンス時のポンプ供給速度の差（Ｑ−Ｑｐ）と定常ポンプ供給速度Ｑｓの比（Ｑ−Ｑｐ）／Ｑｓを、加速区間でのステージ速度Ｖと定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ／Ｖｓ、と略同一になるように制御されている。この方法では、シリンジポンプ５０のポンプ供給速度Ｑｐから増速開始するタイミングが、ステージ６の動作開始タイミングに合わせているために、シリンジポンプ５０からの塗布液供給が先行して供給過多となるために、定常時の膜厚Ｔｈよりも厚くなり、不良膜厚区間の減少に寄与しない。また、定常ポンプ供給速度Ｑｓで塗布液を定常ステージ速度Ｖｓで移動する基板Ａに供給することで基板Ａに厚さＴｈの塗布膜を形成するが、立ち上げを行う加速区間のポンプ供給速度Ｑとステージ速度ＶをＱ／ＱｓとＶ／Ｖｓを略同一にすることで定めれば膜厚Ｔｈの塗布膜Ｃが加速区間でもえられるのに、加速区間のポンプ供給速度Ｑとステージ速度Ｖを（Ｑ−Ｑｐ）／ＱｓとＶ／Ｖｓを略同一にすることで定めているので、同じステージ速度Ｖに対してポンプ供給速度Ｑが高くなり、これからも加速区間では膜厚Ｔｈよりも厚い塗布膜Ｃが形成されるということがわかる。

以上の実施例では、スリットノズル２０を静止、ステージ６を移動させて塗布を行う例を示したが、スリットノズル２０を移動、ステージ６を静止させて塗布を行っても、全く同じ本発明の作用がえられる。これはポイントなるのは、スリットノズル２０とステージ６上の基板Ａの相対速度であり、それはスリットノズル２０、ステージ６のどちらが移動しても同じことを意味するためである。したがってステージ速度Ｖ、定常ステージ速度Ｖｓは、ステージ６のスリットノズル２０に対する相対速度Ｖ、定常相対移動速度Ｖｓといってもよい。

さらにまた、上記の塗布方法２で、一定容量のプリディスペンスを実行、終了してから、塗布方法２の塗布開始方法を実施してもよい。この場合は、プリディスペンスを２回に分割して行うことになる。

なお本発明が適用できる塗布液としては粘度が１〜１００mPaS、より望ましくは１〜５０mPaSであり、ニュートニアンであることが塗布性から好ましいが、チキソ性を有する塗液にも適用できる。とりわけ溶剤に揮発性の高いもの、たとえばＰＧＭＥＡ、酢酸ブチル、乳酸エチル等を使用している塗布液を塗布するときに有効である。具体的に適用できる塗布液の例としては、上記にあげたカラーフィルター用のブラックマトリックス、ＲＧＢ色画素形成用塗布液の他、レジスト液、オーバーコート材、柱形成材料等がある。基板である被塗布部材としてはガラスの他にアルミ等の金属板、セラミック板、シリコンウェハー等を用いてもよい。さらに使用する塗布状態と塗布速度が１０ｍｍ／ｓ〜６００ｍｍ／ｓ、より好ましくは１００ｍｍ／ｓ〜３００ｍｍ／ｓ、スリットノズルのリップ間隙は５０〜１０００μｍ、より好ましくは８０〜２００μｍ、塗布厚さがウェット状態で１〜５０μｍ、より好ましくは２〜２０μｍである。

以下、本発明の効果を実施例を用いて説明する。
実施例１
１１００×９６０ｍｍで厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板を洗浄後に、スリットコータ１を用いて塗布を行った。スリットノズルは吐出口の長手方向長さが１１００ｍｍ、スリットの間隙が１００μｍで、基板に１１００ｍｍ幅の塗布膜が形成できるものであり、塗布速度は２００ｍｍ／ｓにした。１１００ｍｍの長辺側を基板幅方向とし、９６０ｍｍの短辺方向に塗布を行った。塗布液はカラーフィルター用Ｒｅｄの感光性ネガレジストで、固形分濃度１４％、粘度が３mPaSであった。定常時、すなわち塗布時のシリンジポンプ５０からの定常ポンプ供給速度Ｑｓは、真空乾燥後の厚さが２．８μｍ、すなわち塗布直後にＴｈ＝２０μｍになるように、４４００μｌ／ｓに設定した。上記の第２の塗布方法で塗布を開始することにし、ステージ６を駆動して、まずスリットノズル２０の吐出口が基板の塗布開始部、すなわち基板端の直上位置になるように基板を移動させて停止させた。それからスリットノズルを下降して、基板〜スリットノズルの吐出口面間のクリアランスを１００μｍになるようにした。スリットノズル２０と基板が停止した状態で、図３に示される通りにシリンジポンプを駆動して、ポンプ供給速度Ｑｐ＝３２５μｌ／ｓでプリディスペンスを行い、プリディスペンスを開始してからｔｓ＝０．６秒後にステージ６を移動開始した。ステージ６はｔａ＝０．４秒後に定常ステージ速度Ｖｓ＝２００ｍｍ／ｓに立ち上げた。さらにステージ６移動開始から、ｔｐ＝０．０３秒後に、ステージ６のステージ速度Ｖが１４．８ｍｍ／ｓに達した段階で、ポンプ供給速度３２５μｌ／ｓで駆動中のシリンジポンプ５０に指令を出して、ポンプ供給速度を定常ポンプ供給速度Ｑｓ＝４４００μｌ／ｓまでにする立ち上げを開始した。なお、同じタイミングで定常ポンプ供給速度Ｑｓ、定常ステージ速度Ｖｓに達するように、すなわちシリンジポンプ５０がポンプ供給速度Ｑｐから定常ポンプ供給速度Ｑｓへの増速開始から０．３７秒後に定常ポンプ供給速度Ｑｓに達するように駆動した。これらの駆動によって、ステージ６の移動開始からｔ秒後（ただしｔ≧ｔｐ＝０．０３秒）では、シリンジポンプ５０の供給速度Ｑ（ｔ）は、Ｑ（ｔ）＝（（ｔ−０．０３）／０．４）×Ｑｓ＋Ｑｐ、ステージ速度Ｖ（ｔ）はＶ（ｔ）＝（ｔ／０．４）×Ｖｓと表される。ここで、上記の記述より、ｔｐ／ｔａ×Ｑｓ＝（０．０３／０．４）×Ｑｓ＝Ｑｐとなるようにしているので、Ｑ（ｔ）／Ｑｓ＝（ｔ／０．４）×Ｑｓ／Ｑｓ＝ｔ／０．４、一方ステージ速度の方はＶ（ｔ）／Ｖｓ＝（ｔ／０．４）×Ｖｓ／Ｖｓ＝ｔ／０．４となるので、ステージ６の移動開始からｔ秒後（ただしｔ≧ｔｐ＝０．０３秒）では、定常供給速度Ｑｓに達するまでの供給速度Ｑ（ｔ）と定常供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓと、定常相対移動速度Ｖｓに達するまでの相対移動速度Ｖ（ｔ）と定常相対移動速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓが、同一になっている。
そして、以上のようにしてシリンジポンプ５０とステージ６を、定常ポンプ供給速度Ｑｓ、定常ステージ速度Ｖｓにそれぞれ駆動して塗布を行い、基板端から９５５ｍｍのガラス基板の位置にスリットノズル２０の吐出口３４がきた時に、シリンジポンプ５０を停止し、スリットノズル２０を、基板端から９６０ｍｍのガラス基板位置が吐出口３４の真下に来たところで、塗布終了のために上昇させた。以上の塗布後に、到達真空度６５Ｐａの真空乾燥を行った。そして塗布方向の膜厚分布を、光干渉式の膜厚計で測定し、図５に示す膜厚分布図をえた。図５より、この時の膜厚精度Ｕを、端部１０ｍｍを除く領域でＵ＝（最大値−最小値）／（２×平均値）×１００（％）で求め、１．６％の値をえて、目標の３％未満を達成した。

比較例１
塗布開始方法に特許文献３の方法を用い、塗布開始は、スリットノズル２０と基板が停止した状態から、プリディスペンスを行わずにシリンジポンプ５０を駆動して塗布液をスリットノズルに供給開始して定常ポンプ供給速度４４００μｌ／ｓにまで０．２秒で立ち上げるともに、シリンジポンプ５０の駆動開始から０．０６秒後に、ステージ６を駆動開始して、定常ステージ速度２００ｍｍ／ｓまで０．２秒で立ち上げた他は、実施例１と全く同じ条件でガラス基板に塗布をして乾燥を行った。ここで、シリンジポンプ５０の供給速度Ｑ（ｔ）は、Ｑ（ｔ）＝（ｔ／０．２）×Ｑｓ、ステージ速度Ｖ（ｔ）はＶ（ｔ）＝（（ｔ−０．０６）／０．２）×Ｖｓと表される。シリンジポンプ５０の駆動開始からｔ秒後（ただしｔ≧０．０６秒）では、定常供給速度Ｑｓに達するまでの供給速度Ｑ（ｔ）と定常供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓ＝ｔ／０．２、定常相対移動速度Ｖｓに達するまでの相対移動速度Ｖ（ｔ）と定常相対移動速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓ＝（ｔ−０．０６）／０．２となり、Ｑ（ｔ）／ＱｓとＶ（ｔ）／Ｖｓは同一になっていない。乾燥後の塗布方向の膜厚分布を、光干渉式の膜厚計で測定し、図６に示す塗布開始部が厚い膜厚分布図をえた。図６より、膜厚精度Ｕを端部１０ｍｍを除く領域でＵ＝（最大値−最小値）／（２×平均値）×１００（％）で求め、５．５％の値をえた。シリンジポンプ５０の駆動開始からステージ６を駆動開始するまでの時間を調整したが、膜厚精度は５．５％が最良値で、目標の３％を達成できなかった。

参考例１
スリットコータ１を用いてカラーフィルターを製造した。スリットノズルは、吐出口の長手方向長さが１１００ｍｍ、スリットの間隙が１００μｍで、基板に１１００ｍｍ幅の塗布膜が形成できるものであった。

まず、１１００×１３００ｍｍで厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板を洗浄後に、短辺側をスリットノズル長手方向として、ブラックマトリックス塗布液を厚さ１０μｍ、スリットノズルと基板との間のクリアランス１００μｍで１５０ｍｍ／ｓにて塗布した。塗布は本発明の参考となる第１の塗布方法を用いた。すなわち、まずステージ６を駆動して塗布開始位置である基板端を、スリットノズル２０の吐出口の直下で停止させ、ついでスリットノズルを下降させて、スリットノズルの吐出口面と基板間のクリアランスが１００μｍとなる位置で、スリットノズルを静止させた。スリットノズルと基板が静止している状態で、シリンジポンプを駆動して、２００μｌ／ｓのポンプ供給速度で、２００μｌだけプリディスペンスをした。プリディスペンス終了後に、シリンジポンプとステージ６を同時に駆動開始し、０．５秒後に、シリンジポンプは定常ポンプ供給速度１６５０μｌ／ｓ、ステージ６は定常ステージ速度１５０ｍｍ／ｓに立ち上げた。この加速区間中の、ポンプ供給速度Ｑ（ｔ）と定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓ、ステージ速度Ｖ（ｔ）と定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓは、同じ時間でシリンジポンプ５０、ステージ６ともに、ゼロから定常ポンプ供給速度Ｑｓ、ステージ速度Ｖｓに立ち上げているので、ｔ／０．５と同一となった。そして、基板端から１２９５ｍｍの位置にスリットノズル２０の吐出口３４がきた時に、シリンジポンプ５０を停止し、スリットノズル２０を、基板端から１３００ｍｍの位置が吐出口３４の真下に来たところで、塗布終了のためにスリットノズルを引き上げた。なおこの時塗布したブラックマトリックス塗布液には、チタン酸窒化物を遮光材、アクリル樹脂をバインダー、ＰＧＭＥＡを溶剤にそれぞれ用い、固形分濃度を１０％、粘度を４mPaSに調整した感光性のものを用いた。なお塗布のタクトタイムは６０秒であった。さて、塗布した基板は３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行った後、２６０度のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行い、基板の幅方向にピッチが２５４μｍ、基板の長手方向にピッチが８５μｍ、線幅が２０μｍとなる格子形状で、厚さが１μｍとなるブラックマトリックス膜を作成した。なお、乾燥後の格子模様形成前の状態で塗布厚さを測定し、膜厚精度Ｕを端部１０ｍｍを除く領域でＵ＝（最大値−最小値）／（２×平均値）×１００（％）で算出したところ、基板走行方向、幅方向とも３％以下であった。

次にウェット洗浄後、Ｒ色用塗布液を厚さ２０μｍ、スリットノズルと基板との間のクリアランス１００μｍ、塗布速度１５０ｍｍ／ｓで塗布をした。このときのプリディスペンスはポンプ供給速度２００μｌ／ｓで、容量２２０μｌだけ行い、プリディスペンス終了後に、シリンジポンプとステージ６を同時に駆動開始し、駆動開始から０．５秒後に、シリンジポンプは定常ポンプ供給速度３３００μｌ／ｓ、ステージ６は定常ステージ速度１５０ｍｍ／ｓに立ち上げ、その他はブラックマトリックス液の時と全く同じ条件で塗布を行った。シリンジポンプとステージ６は同時に駆動開始し、同じ０．５秒で各々の定常速度に達しているので、シリンジポンプとステージ６はの駆動開始からｔ秒後では、ポンプ供給速度Ｑ（ｔ）と定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓ、ステージ速度Ｖ（ｔ）と定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓは、同じｔ／０．５となった。

Ｒ色用塗布液はアクリル樹脂をバインダー、ＰＧＭＥＡを溶媒、ピグメントレッド１７７を顔料にして固形分濃度１０％で混合し、さらに粘度を５mPaSに調整した感光性のものであった。２０μｍの塗布膜を塗布した基板は、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行って、Ｒ画素部にのみ厚さ２μｍのＲ色塗膜を残し、２６０度のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行なった。つづいてブラックマトリックス、Ｒ色の塗膜を形成した基板に、Ｇ色用塗布液を厚さ２０μｍ、スリットノズルと基板との間のクリアランス１００μｍ、塗布速度１５０ｍｍ／ｓで塗布をした。このときのプリディスペンスはポンプ供給速度２００μｌ／ｓで、容量２１０μｌだけ行い、プリディスペンス終了後に、シリンジポンプとステージ６を同時に駆動開始し、駆動開始から０．５秒後に、シリンジポンプはゼロから定常ポンプ供給速度３３００μｌ／ｓ、ステージ６はゼロから定常ステージ速度１５０ｍｍ／ｓに立ち上げ、その他はブラックマトリックス液の時と全く同じ条件で塗布を行った。シリンジポンプとステージ６は同時に駆動開始し、同じ０．５秒で各々の定常速度に達しているので、シリンジポンプとステージ６はの駆動開始からｔ秒後では、ポンプ供給速度Ｑ（ｔ）と定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓ、ステージ速度Ｖ（ｔ）と定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓは、同じｔ／０．５となった。２０μｍの塗布膜を塗布した基板は、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行って、Ｇ色画素部にのみ厚さ２μｍのＧ色塗膜を残し、２６０度のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行なった。さらにブラックマトリックス、Ｒ色、Ｇ色の塗膜を形成した基板に、Ｂ色用塗布液を厚さ２０μｍ、スリットノズルと基板との間のクリアランス１００μｍ、塗布速度１５０ｍｍ／ｓで塗布をした。このときのプリディスペンスはポンプ供給速度２００μｌ／ｓで、容量２００μｌだけ行い、プリディスペンス終了後に、シリンジポンプとステージ６を同時に駆動開始し、駆動開始から０．５秒後に、シリンジポンプはゼロから定常ポンプ供給速度３３００μｌ／ｓ、ステージ６はゼロから定常ステージ速度１５０ｍｍ／ｓに立ち上げ、その他はブラックマトリックス液の時と全く同じ条件で塗布を行った。シリンジポンプとステージ６は同時に駆動開始し、同じ０．５秒で各々の定常速度に達しているので、シリンジポンプとステージ６はの駆動開始からｔ秒後では、ポンプ供給速度Ｑ（ｔ）と定常ポンプ供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓ、ステージ速度Ｖ（ｔ）と定常ステージ速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓは、同じｔ／０．５となった。２０μｍの塗布膜を塗布した基板は、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行って、Ｂ色画素部にのみ厚さ２μｍのＢ色塗膜を残し、２６０度のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行なった。なお、Ｇ色用塗布液はＲ色用塗布液で顔料をピグメントグリーン３６にして固形分濃度１０％で粘度を５mPaSに調整したもの、Ｂ色用塗布液にはＲ色用塗布液で顔料をピグメントブルー１５にして固形分濃度１０％で粘度を５mPaSに調整したものであった。Ｒ、Ｇ、Ｂ色塗布時のタクトタイムはいずれも６０秒であった。なお、塗布品位は各色とも申し分のないものであり、膜厚分布についても乾燥後、各色とも測定し、膜厚精度Ｕを端部１０ｍｍを除く領域でＵ＝（最大値−最小値）／（２×平均値）×１００（％）で算出したところ、基板走行方向、幅方向とも３％以下と良好であった。

そして最後にＩＴＯをスパッタリングで付着させた。この製造方法にて、１０００枚のカラーフィルターを作成した。得られたカラーフィルターは、基板端部から１０ｍｍをのぞいた製品領域で塗布むらがなく、色度も均一で、品質的に申し分ないものであった。

本発明に係る塗布装置であるスリットコータ１の概略図である。 本発明の参考となる第１の塗布方法を表すポンプ供給速度とステージ速度の時間線図である。 本発明に係る第２の塗布方法を表すポンプ供給速度とステージ速度の時間線図である。 従来の塗布方法を表すポンプ供給速度とステージ速度の時間線図である。 実施例１で塗布をした結果である膜厚分布図である。 比較例で塗布をした結果である膜厚分布図である。

符号の説明

１ スリットコータ
２ 基台
４ ガイドレール
６ ステージ
１０ 門型ガントリー
２０ スリットノズル（塗布器）
２２ フロントリップ
２４ リアリップ
２６ マニホールド
２８ スリット
３２ シム
３４ 吐出口
３６ 吐出口面
３８ 斜面
４０ 塗布液供給装置
４２ 供給バルブ
４４ 吸引バルブ
４６ フィルター
５０ シリンジポンプ
５２ シリンジ
５４ ピストン
５６ 本体
６０ 供給ホース
６２ 吸引ホース
６４ タンク
６６ 塗布液
６８ 圧空源
７０ 上下昇降ユニット
７２ モータ
７４ ガイド
７６ ボールネジ
７８ 昇降台
８０ 吊り下げ保持台
９０ 拭き取りユニット
９２ 拭き取りヘッド
９４ ブラケット
９６ スライダー
９８ 駆動ユニット
１００ トレイ
１０２ 台車
１２０ 厚さセンサー
１２２ 支持台
１３０ 制御装置
１３２ 操作盤
Ａ 基板（被塗布部材）
Ｂ ビード
Ｃ 塗布膜
Ｑ ポンプ供給速度
Ｑｓ 定常ポンプ供給速度
Ｔｈ：膜厚
Ｖ ステージ速度
Ｖｓ 定常ステージ速度
ｔａ 加速時間
ｔｐ ステージを駆動開始から、シリンジポンプ増速開始するまでの時間
ｔｓ シリンジポンプ駆動開始から、ステージを駆動開始するまでの時間

Claims (3)

1. 一方向に延在する吐出口を有する塗布器を静止した被塗布部材に近接させ、定容量ポンプから塗布器に塗布液を最終的に供給速度Ｑｐとなる供給速度で供給して被塗布部材上に塗布器から塗布液をプリディスペンスし、次いで定容量ポンプから塗布器に塗布液を定常供給速度Ｑｓで供給して被塗布部材に塗布器から塗布液を吐出するとともに、被塗布部材の塗布器に対する相対移動を定常移動速度Ｖｓで行って、被塗布部材上に塗布膜を形成する塗布方法であって、プリディスペンス開始からｔｓ秒後に相対移動を開始するとともに、相対移動の開始からｔｐ秒後には定容量ポンプの供給速度Ｑｐを定常供給速度Ｑｓに増速開始させ、さらに相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常供給速度Ｑｓに達するまでの供給速度Ｑ（ｔ）と定常供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓと、相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常相対移動速度Ｖｓに達するまでの相対移動速度Ｖ（ｔ）と定常相対移動速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓと、を略同一にして塗布することを特徴とする塗布方法。
2. 請求項1に記載の塗布方法を用いてディスプレイ用部材を製造することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。
3. 塗布液を吐出するために一方向に延在する吐出口を有する塗布器と、塗布器に塗布液を供給する定容量ポンプと、被塗布部材を保持する載置台と、前記塗布器および載置台のうちの少なくとも一方を相対的に移動させる移動手段を備えて、被塗布部材に塗布膜を形成する塗布装置において、静止した被塗布部材上の塗布開始位置で、同じく静止した塗布器から塗布液を吐出開始して最終的に供給速度Ｑｐとなるプリディスペンスを行い、プリディスペンス開始からｔｓ秒後に相対移動を開始するとともに、相対移動の開始からｔｐ秒後には定容量ポンプの供給速度Ｑｐを定常供給速度Ｑｓに増速開始させ、さらに相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常供給速度Ｑｓに達するまでの供給速度Ｑ（ｔ）と定常供給速度Ｑｓの比Ｑ（ｔ）／Ｑｓと、相対移動の開始からｔ秒後（ｔ≧ｔｐ）であって定常相対移動速度Ｖｓに達するまでの相対移動速度Ｖ（ｔ）と定常相対移動速度Ｖｓの比Ｖ（ｔ）／Ｖｓと、を略同一にして塗布させる制御手段を有することを特徴とする塗布装置。

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