JP4851742B2

JP4851742B2 - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JP4851742B2
Application number: JP2005213441A
Authority: JP
Inventors: 修一山田
Original assignee: 株式会社アドバンセル
Priority date: 2005-07-22
Filing date: 2005-07-22
Publication date: 2012-01-11
Anticipated expiration: 2025-07-22
Also published as: JP2007029798A

Description

本発明は、異方性導電膜（ＡＣＦ；Anisotrophic Conductive Film）を介してフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）を液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に端子間接合するＦＰＣ基板実装工程に際し、その前工程としてのＦＰＣのリード端子に付着する表面付着物を除去する基板洗浄装置に関する。

従来より、ＬＣＤとＦＰＣとの端子間接合するＦＰＣ実装工程においては、ＡＣＦ、ＡＣＰ（Anisotrophic Conductive Paste）、ＮＣＰ（Non Conductive Paste）と称される熱硬化型接着剤を用いてＬＣＤとＦＰＣとの端子間接合が行われている。

ＦＰＣ実装工程は、概ね、（１）ＡＣＦをＬＣＤ又はＦＰＣの基板の端子上に貼り付けるＡＣＦ貼り付け工程、（２）カメラ等の認識手段を用いてＬＣＤとＦＰＣのマークをアラインメントし、ＬＣＤにＦＰＣを低温、低圧力で仮搭載する仮圧着工程、（３）高温、高圧力のヒーターヘッドで押圧し、ＡＣＦを硬化させ、ＦＰＣをＬＣＤに完全に接合する本圧着工程からなる。

このようなＦＰＣ実装工程において、実装前のＬＣＤ又はＦＰＣの基板の接合部分のリード端子上に表面付着物が存在することは、例えばＡＣＦ貼り付け工程では、ＡＣＦの密着力を低下させ、それにより、貼り付けされたＡＣＦが剥がれ易くなり、結果としてＡＣＦ貼り付け工程における歩留まりを低下させる。さらに、この表面付着物の存在は、仮圧着工程においても、カメラによるマーク認識を誤らせ、それにより、ＬＣＤとＦＰＣのアラインメントが不正確になり、結果として所望の端子間接合が得られずエラーとなり、装置を停止するなど重大な障害を招く恐れがある。

このため、ＦＰＣ実装工程に先立って、ＬＣＤ又はＦＰＣのリード端子上の表面付着物を除去する必要があり、表面付着物除去手段としての基板洗浄装置がこれまで提案されてきている（特許文献１〜５参照）。

提案された従来の基板洗浄装置の代表例を図８に示す。基板洗浄装置は、予め洗浄液剤が注滴され、濡れた状態にされているワイピングクロス２０２が掛けられた上下２つの押圧子（図では一方の押圧子２０１のみが示されている）を介して、該ワイピングクロス２０２がＦＰＣの基板本体１１７の洗浄部分に押し付けられる。この状態で、押圧子２０１、ひいては、該押圧子２０１に掛けられているワイピングクロス２０２と、ＦＰＣの基板本体２１７とが、リード端子幅方向、すなわち、該ＦＰＣのリード端子２１４の延びる方向と直交する方向（矢印Ａ方向）に、相対的に移動することでリード端子２１４上の表面付着物を拭き取って洗浄を行っている。

特開２０００−２３７６９９号公報特開２００１−１７０５９３号公報特開２００２−５０６５５号公報特開２００２−１９３６４１号公報特開２００２−２８７６５２号公報

近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は、高機能化、実装エリアの狭縁化が進み、ＬＣＤとフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）との接続部分であるリード端子も高精細化が進んできた。特に近年では、リード端子間のピッチも５０μｍ以下のピッチとなり、リードの線幅も２５μｍ以下と非常に細くなってきている。

このように、リード端子の狭ピッチ化、細線化が進んでくると、従来のような端子洗浄方法であると、図８にも示されるように、リード線２１４間に僅かに入り込んだワイピングクロス２０２がリード端子幅方向に移動することで、隣接するリード端子２１５をなぎ倒し、転倒させる（リード端子２１６参照）。結果として、リード端子２１５、２１６は、基板本体２１７から剥離するなどの損傷を受け、歩留まりを大きく低下させる要因となる。さらに、洗浄工程は、洗浄効果を維持した状態でワークを下流の実装工程に送る、言わば一貫生産ラインに組み込まれることがほとんどであり、したがって、洗浄工程の歩留まりの低下は、下流のラインにある機械の稼働率の低下を招く。また、リード端子直交方向に洗浄すると、リード端子の数が多く、リード端子の長さａに比べてフレキシブルプリント基板の幅ｂのほうが大きくなるため（図３参照）、洗浄長さが長くなり、したがって洗浄時間も長くなる。これを避けるため、洗浄速度を上げると、リード端子に負担がますますかかり、リード端子の変形を助長することにもなる。

本発明の目的は、このような問題に鑑み、フレキシブルプリント基板の特に高精細化されたリード端子に損傷を与えることなく、また効率のよい洗浄をすることができる、フレキシブルプリント基板のリード端子に付着する表面付着物を除去する基板洗浄装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明に係る基板洗浄装置は、上下方向に移動可能な押圧子と、前記押圧子の押圧面に沿って移動可能なワイピングクロスと、前記ワイピングクロスに洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、洗浄されるフレキシブルプリント基板を固定し得る、少なくとも、水平方向に移動可能である基板テーブルとを備える基板洗浄装置であって、前記押圧子の移動により前記ワイピングクロスを前記基板テーブル上に固定されている前記フレキシブルプリント基板に所定の圧力で当接させ、前記フレキシブルプリント基板を洗浄するに際し、前記押圧子と基板テーブルとが相対的に前記フレキシブルプリント基板のリード端子が延びる方向に移動することを特徴とする。

本発明の基板洗浄装置は、前記押圧子が、１つであってもよいし、上下に一対設けられ、上下に開閉するように構成されていてもよい。また、押圧子が上下に一対設けられる場合、ストッパ機構により閉じ量を規制することが好ましい。

さらに、洗浄液供給手段が、押圧子に形成されている微細孔を通してワイピングクロスに供給されることが好ましい。

さらに、前記押圧子の洗浄面以外の面及び前記ガイドローラは、幅方向中心が凹むように漸次傾斜してなる傾斜面が形成されていることが好ましい。

本発明の基板洗浄装置は、上述の通りの構成を備えることにより、フレキシブルプリント基板のリード端子の延びる方向に拭き取り洗浄するので、洗浄時にワイピングクロスがＦＰＣに押し付けられて、ワイピングクロスがリード端子間に入り込んでも、該リード端子をなぎ倒すことなく円滑に洗浄できる。これにより、リード端子へのダメージが低減され、歩留まりが向上する。また、リード端子が延びる方向に洗浄することで、従来の装置より洗浄する時間が短縮できる。このことは、逆に、従来と同じ洗浄時間が掛けるとすると、洗浄速度を下げることができ、より端子を傷付けないより高品位の洗浄が可能となる。

押圧子が１つでも、フレキシブルプリント基板の高品位の洗浄が可能であり、さらに一対の押圧子を設けることで、安定した圧力でフレキシブルプリント基板を洗浄できると共に、一度に該基板の表裏の洗浄が可能となる。

また、押圧子に形成された複数の微細孔から洗浄液を供給することで、適切な量の洗浄液が供給できると共に、洗浄液により装置を汚すことがない。

さらに、押圧子のワイピングクロスガイド中央部において凹んだ形状を取ることにより、ワイピングクロスの中心がずれることがなく、異なる基板の洗浄においても、ガイドローラや押圧子を変更することなく、容易に洗浄することが可能となる。

以下、図１〜図７を用いて本発明に係る実施例に付き説明する。図１は、本発明の一実施例に係る基板洗浄装置の要部側面図である。図２は、図１に示す基板洗浄装置による基板洗浄工程を示しており、（ａ）〜（ｅ）の順に基板の洗浄が行われる。図３は、フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ；以下、単に「基板」ともいう。）の概要を示す上面図である。図４は、図２（ｄ）の状態、すなわち洗浄状態にある基板洗浄装置の要部を示す概略斜視図である。図５は、本発明の別の実施例に係る基板洗浄装置の要部側面図であり、図６は、本発明のさらに別の実施例に係る基板洗浄装置の要部側面図である。図７は、本発明のさらに別の実施例であって、（ａ）は、基板洗浄装置の概略側面図、（ｂ）は、基板洗浄装置の概略正面図、（ｃ）は、別のワイピングクロスを通している基板戦場装置の概略正面図を示す。

（第１の実施例）
図１において、基板洗浄装置１は、概略、上下に対向する一対の押圧子１０、２０、ワイピングクロス２、ガイドローラ３、基板テーブル４、アクチュエータ７、及び洗浄液供給手段（１７、１８、１９、２７、２８、２９）を備えている。

上押圧子１０は、上押圧ヘッド１１、及び該上押圧ヘッド１１から後方に延びる上連結アーム１２を備え、上連結アーム１２がアクチュエータ７の一対の駆動アームのうちの一方の上駆動アーム８に取り付けられている。上押圧子１０は、上押圧ヘッド１１と上連結アーム１２とで断面略逆Ｌ字形の形状をなし、上押圧子１０と下押圧子２０との開閉動作時、この一対の押圧子１０及び２０間に配置されているガイドローラ３と干渉しないように構成されている。

上押圧子１０の上押圧ヘッド１１の押圧面としての下面１１ａ及び前面１１ｂに沿って移動できるように、ワイピングクロス２が配置される。上押圧子１０の少なくとも下面（押圧面）１１ａは、ワイピングクロス２が基板５の拭き取り洗浄を行う際に横方向（Ｙ方向）にずれないように、該ワイピングクロス２を案内するガイド溝（不図示）が形成されている。該ガイド溝の幅は、ワイピングクロスの幅より若干大きい。本実施例では、下面１１ａ及び前面１１ｂのいずれにもガイド溝が形成されている。上押圧ヘッド１１の下面１１ａは、後述する下押圧子２０の下押圧ヘッド２１の押圧面としての上面２１ａに対向しており、各面１１ａ、２１ａに位置しているワイピングクロス２により基板５を挟んで洗浄することから、ガイド溝の深さがワイピングクロス２の厚さよりも小さく形成されていることは言うまでもない。

上押圧子１０の上押圧ヘッド１１には、また、上押圧ヘッド１１を貫通してその下面１１ａ（より詳細には、ガイド溝の底面）に開口する複数の微細孔１７が幅方向（Ｙ方向）に直線状に整列されて形成されている。該複数の微細孔１７内には、洗浄液が送り込まれ、ワイピングクロス２に洗浄液を供給する。

下押圧子２０は、上記上押圧子１０と対をなす押圧子であり、下押圧ヘッド２１、及び該下押圧ヘッド２１から後方に延びる下連結アーム２２を備え、下連結アーム２２がアクチュエータ７の一対の駆動アームのうちの一方の下駆動アーム９に取り付けられている。下押圧子２０は、下押圧ヘッド２１と下連結アーム２２とで断面略Ｌ字形の形状をなしている。

下押圧子２０の下押圧ヘッド２１の押圧面としての上面２１ａ及び前面２１ｂに沿って移動できるように、上記上押圧子１０と同様に、ワイピングクロス２が配置される。したがって、下押圧子２０の少なくとも上面（押圧面）２１ａは、ワイピングクロス２が基板５の拭き取り洗浄を行う際に横方向にずれないように、該ワイピングクロス２を案内するガイド溝（不図示）が形成されている。本実施例では、上面２１ａ及び前面２１ｂのいずれにもガイド溝が形成されている。また、下押圧子２０の下押圧ヘッド２１にも、下押圧ヘッド２１を貫通してその上面２１ａに開口する、洗浄液供給のための複数の微細孔２７が幅方向（Ｙ方向）に直線状に整列されて形成されている。

ワイピングクロス２は、基板５を洗浄する帯状のクロスであり、最上流部で供給リール１０１に巻かれており、該供給リール１０１から繰り出されたワイピングクロス２は、２個の押圧子１０、２０を経由して、最下流部で回収リール１０５に巻き取られる（図７参照）。ワイピングクロス２は、また、図１に示されるように、一対の押圧子１０、２０の間に配置されるガイドローラ３を経由して、それぞれの前面及び押圧面に沿うようにして、上押圧子１０及び下押圧子２０に配置されている。ワイピングクロス２の幅は、後述する洗浄すべきフレキシブルプリント基板の幅（図３（ｂ）；リード端子直交方向の長さ）より若干大きい幅に設定される。

ワイピングクロス２は、上述したように、上押圧ヘッド１１及び下押圧ヘッド２１それぞれに設けられている微細孔１７及び２７から十分に供給される洗浄液により、洗浄中は常に濡れた状態を維持し得る。

ガイドローラ３は、一対の押圧子１０及び２０の間に位置し上押圧子１０に掛けられたワイピングクロス２を下押圧子２０へと案内する。ガイドローラ３は、上押圧子１０の上押圧ヘッド１１及び下押圧子２０の下押圧ヘッド２１の奥（後方）に配置される。ガイドローラ３は、一対の押圧ヘッド１０及び２０が開いているときであっても、ワイピングクロス２が上押圧ヘッド１１の下面１１ａ及び下押圧ヘッド２１の上面２１ａに接しているように、その直径を設定される。

基板テーブル４は、洗浄される基板５が吸着固定されるテーブルであって、水平方向（Ｘ、Ｙ方向）に移動可能であり、基板５の洗浄開始前に位置決めをしなくてはならない。なお、該基板テーブル４は、垂直方向（Ｚ方向）に移動可能であってもよい。該基板テーブル４は、また、基板５を外部（例えば、基板５の供給源）からテーブル４の所定位置まで又は該所定位置から外部（例えば、次工程の装置）へ基板５を吸着しつつ搬送する手段、及び洗浄中に基板５がテーブル４に対して動かないように固定する手段を備えていることが望ましい。

アクチュエータ７は、一対の押圧子１０及び２０を垂直方向（Ｚ方向）に開閉する作動子であって、一対の上下に移動可能な駆動アーム８、９を備えている。一方の上駆動アーム８が、上押圧子１０の上アーム１２に連結され、他方の下駆動アーム９が下押圧子２０の下アーム２２に連結される。したがって、アクチュエータ７の上駆動アーム８及び下駆動アーム９の開閉運動に伴い、上押圧子１０及び下押圧子２０も開閉する。アクチュエータ７は、空気圧式又は電動又はその他のどのような方式で駆動されてもよい。

洗浄液供給手段は、上述したように、また図１に示されるように、上押圧子１０の上押圧ヘッド１１に形成される微細孔１７には、例えば、アルコールやアセトンのような、洗浄液１６の供給源（不図示）に連通する配管１８が継手１９を介して、下押圧子２０の下押圧ヘッド２１の微細孔には、洗浄液２６の供給源に連通する配管２８が継手２９を介してそれぞれ接続されている。洗浄液１６、２６は、供給源から精密ポンプ（不図示）等により所定量に調整され、微細孔１７、２７からワイピングクロス２に供給される。配管１８、２８は、可撓性であることが好ましく、継手１９、２９は、マニホルド（多岐管）として複数の微細孔１７、２７に分配できる構成とすることが好ましい。

洗浄されるフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）５が、図３に示されている。基板５は、基板本体５ｄの両端部に入力側端子部５ａ、出力側端子部５ｂを備え、各端子部５ａ、５ｂには、複数のリード端子５ｃが平行に延びている。なお、本明細書では、図３に示されるように、リード端子５ｃが延びる方向をリード端子方向といい、これと直交する方向をリード端子直交方向という。

以下、図２を用いて、上記本実施例の基板洗浄装置による基板の洗浄に付き説明する。

図２（ａ）においては、基板５が基板テーブル４上に吸着固定されて待機し、且つ、一対の押圧子１０及び２０が上下に開いた状態にある。このとき、精密ポンプにより圧送された所定量の洗浄液１６及び２６が配管１８及び２８、継手１９及び２９を介して微細孔１７及び２７に送り込まれる。微細孔１７及び２７から送り出された所定量の洗浄液１６及び２６は、停止しているワイピングクロス２に吹き付けられる。

図２（ｂ）に示されるように、洗浄液１６、２６が上下２つの押圧面のワイピングクロス２に十分に染み広がった後、基板５が基板テーブル４に固定された状態で、上下に開いた状態にある一対の押圧子１０及び２０の間に必要量だけ進入し、停止する。このとき、基板５の進入方向は、どのような形態で行われてもよいが、後述するようなワイピングクロス２による洗浄方向が基板５のリード方向に合致するように、基板５が位置決めされることが必要である。また、当該位置決めに際し、押圧子１０、２０間に基板５が進入した部分が実際に拭き取り洗浄されるため、基板５の洗浄部分が常に同じになるように、基板テーブル４を精密に移動制御することにより、基板５の押圧面に対する位置決めが正確に行われる必要がある。

基板５の位置決めが完了した後、図２（ｃ）に示されるように、開いていた一対の押圧子１０及び２０が閉じられる。このとき、ワイピングクロス２も一緒に移動し、一対の押圧子１０及び２０によりワイピングクロス２が基板２の洗浄部分、例えば、入力端子部５ａ、を挟み込む。ワイピングクロス２が基板５を挟み込む圧力は、基板５の洗浄部分であるリード端子を傷めないように、一対の押圧子１０及び２０を駆動するアクチュエータを作動させているエア圧力を制御することで調整可能となる。

次に、図２（ｄ）に示されるように、基板５が洗浄液で浸されたワイピングクロス２により適切な圧力で挟まれている状態で、基板５を固定した状態で基板テーブル４を基板５のリード端子方向（本実施例の場合、Ｘ方向）に移動させる。この動作により、基板５のリード端子５ｃに付着している表面付着物がワイピングクロス２により拭き取られると共に、ワイピングクロス２に染み込んでいる洗浄液で洗浄される。このとき、図４に概略示されるように、基板５の拭き取り洗浄方向Ｂがリード端子方向と一致するため、ワイピングクロス２がリード端子５ｃ間に若干入り込んだ状態ではあるが、リード端子５ｃを側面から押すことがなく、それによりリード端子５ｃをなぎ倒すことなく、ワイピングクロス２は、円滑に基板５のリード端子５ｃを拭き取り洗浄することができる。なお、本実施例では、拭き取り洗浄時、基板テーブル４をリード方向に移動させているが、必ずしもこれに限られるものではない。例えば、アクチュエータ７の一対のアーム８、９を引き込ませるようにしてもよいし、ワイピングクロス２を所定距離移動させるようにしてもよい。要は、基板５を挟んでいるワイピングクロス２と基板５のいずれかが、基板５を挟んだ状態で基板５のリード端子５ｃのリード端子方向に移動すればよい。

基板５の洗浄後、図２（ｅ）に示されるように、一対の押圧子１０及び２０が再び上下に開く。本実施例の場合、ワイピングクロス２で上下に挟まれている基板５を図において右方向（Ｘ方向）にさらに移動させ、ワイピングクロス２に挟まれた状態から完全に退避させた後一対の押圧子１０及び２０を上下に開くようにしているが、図２（ｄ）における洗浄後、一対の押圧子１０及び２０を上下に開いた後、基板５を開いた押圧子１０及び２０間から退避させてもよい。

図５（ｅ）の退避状態において、ワイピングクロス２を矢印方向に所定距離移動させ、ワイピングクロス２のきれいな部分で洗浄できるようにして、基板５の対向する端部に配置される出力側端子部５ｂあるいは次の基板５を洗浄する準備態勢が整えられる。

本実施例のようにリード端子方向に洗浄することで、洗浄長さを短くすることができ、従来例に比べて洗浄時間を短縮することもできる。言い換えれば、リード端子方向に洗浄する操作に従来例と同じ時間をかけることができるとすると、本実施例の場合、洗浄速度（例えば、基板テーブル４の移動速度）を、例えば、３０〜８０ｍｍ／ｓｅｃと遅くすることができ、洗浄液１６、２６が基板５のリード端子５ｃに十分行き渡り、従来のように表面付着物の拭き残りが起きたりすることもない。このように洗浄能力を高めることができるばかりでなく、リード端子の変形が少ない洗浄が可能となる。

（第２の実施例）
図５に本発明に係る第２の実施例が示されている。図５に示される基板洗浄装置１’は、押圧子５１が１つだけの装置である。押圧子５１がアクチュエータ５７の駆動アーム６０に連結され、ガイドローラ５３、５３を利用して、押圧ヘッド５１ａの前面及び下面（押圧面）に沿って移動可能にワイピングクロス５２が配置されている点は第１の実施例と同様である。また、押圧ヘッド５１ａに微細孔５９が設けられており、該微細孔５９からワイピングクロス５２に洗浄液を供給するための配管５５、継手５４が微細孔５９に連結されている点も第１の実施例と同様である。

本実施例では、基板５６のリード端子部を洗浄する場合、基板テーブル５８上に固定されている洗浄すべき基板５６に対して押圧子５１を上から所定の圧力で押し付けることでワイピングクロス５２を基板５６のリード端子部に当接させ、その後、例えば基板テーブル５８をリード方向に移動させることで基板５６のリード端子部を拭き取り洗浄する。この説明からも理解されるように、本実施例では、基板５６の片面のみを洗浄する点で第１の実施例と異なる。

本実施例の場合、片面全面を押圧子５１に当接されることができ、それにより、ＦＰＣの入力側端子部５ａ及び出力側端子部５ｂのリード方向が同一ならば、同時に洗浄することができる。したがって、本実施例における基板洗浄装置１’は、リード端子が一方の面にのみ設けられている基板の洗浄に有利である。

（第３の実施例）
図６に本発明に係る第３の実施例が示されている。図６に示される基板洗浄装置１”は、一対の押圧子７１、７６の開閉を駆動するアクチュエータ８７の上下一対の駆動アーム８５、８６の間にストッパ機構８０を備える点でのみ第１の実施例の基板洗浄装置１と異なる。

ストッパ機構８０は、一方の駆動アーム（本実施例では、下駆動アーム８６）上に固定される台座８３に設けられたネジ孔（不図示）に調節ネジ８４を適用し、調節ネジ８４の台座８３からの突出量に応じて、一対の駆動アーム８５、８６の閉じ量を規制するものである。このように構成することにより、該一対の駆動アーム８５、８６にそれぞれ連結される一対の押圧子７１、７６が閉じたとき、ワイピングクロス７２が基板５のリード端子５ｃの間へ入り込むことを微妙に制限することができるので、洗浄時におけるリード端子のダメージを一層低減することができる。

本発明の一実施例に係る基板洗浄装置の要部側面図である。図１に示す基板洗浄装置による基板洗浄工程を示しており、（ａ）〜（ｅ）の順に基板の洗浄が行われる。フレキシブルプリント基板の概要を示す上面図である。図２（ｄ）の状態、すなわち洗浄状態にある基板洗浄装置の要部を示す概略斜視図である。本発明の別の実施例に係る基板洗浄装置の要部側面図である。本発明のさらに別の実施例に係る基板洗浄装置の要部側面図である。本発明の基板洗浄装置の概略側面図である。従来の基板洗浄装置の要部を示す概略斜視図である。

符号の説明

１、１’、１” 基板洗浄装置
２、５２、７２ワイピングクロス
３、５３、７３ガイドローラ
４、５８基板テーブル
５、５６フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）
５ｃリード端子
７、５７、８７アクチュエータ
１０上押圧子
１１上押圧ヘッド
１１ａ上面（押圧面）
１７微細孔
２０下押圧子
２１下押圧ヘッド
２１ａ上面（押圧面）
２７微細孔
８０ストッパ機構

Claims

上下方向に移動可能な押圧子と、
前記押圧子の押圧面に沿って移動可能なワイピングクロスと、
前記ワイピングクロスに洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
洗浄されるフレキシブルプリント基板を固定し得る、少なくとも、水平方向に移動可能である基板テーブルと、
を備える基板洗浄装置であって、
前記押圧子の移動により前記ワイピングクロスを前記基板テーブル上に固定されている前記フレキシブルプリント基板に所定の圧力で当接させ、前記フレキシブルプリント基板を洗浄するに際し、前記押圧子と基板テーブルとが相対的に前記フレキシブルプリント基板のリード端子が延びる方向に移動することを特徴とする基板洗浄装置。
前記押圧子は、１つであることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
前記押圧子は、上下に一対配置され、各押圧子の移動により、該一対の押圧子が開閉することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
前記押圧子は、その閉じ量が規制されるストッパ機構を備える請求項３に記載の基板洗浄装置。
前記洗浄液供給手段は、前記押圧子に形成された複数の微細孔を介して前記ワイピングクロスに洗浄液を供給することを特徴とする請求項１ないし４に記載の基板洗浄装置。