JP4788548B2 - 液滴吐出装置 - Google Patents

Description

本発明は、ワークテーブルに搭載されたワークに対し、インクジェット方式で機能液滴吐出ヘッドから機能液滴を吐出して描画動作を行う液滴吐出装置に関するものである。

従来、この種の液滴吐出装置において、機能液滴吐出ヘッドに対して相対移動するワークテーブルの前方に近接して配設されると共に、機能液滴吐出ヘッドの描画動作直前の捨て吐出（予備吐出）を受けるフラッシングユニット（描画前フラッシングユニット）を備えたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この捨て吐出は、機能液滴吐出ヘッド内で増粘した機能液を描画直前に排出すべく、フラッシングユニットに対し機能液滴吐出ヘッドの各ノズルから多数発の機能液滴を吐出することで行われるものである。
特開２００６−７６０６６号公報

しかしながら、このような液滴吐出装置では、機能液滴（主滴）の捨て吐出に伴って、霧状に浮遊する微小の機能液滴（副滴）、すなわちミストが発生し、このミストが、ワーク（特に縁部上面）に付着してしまい、描画後のワークの品質を損なうという問題があった。この問題に対し、フラッシングユニットをワークテーブルから十分に離間して配設することで、ミストがワークに掛からないようにすることが考えるが、その場合には装置全体が大型化してしまう。また、１回の捨て吐出における吐出量（吐出発数）を少なくすることで、ミストの発生を抑えることも考えられるが、その場合には増粘した機能液の排出が不十分となってしまう。

本発明は、ミストをワークに付着させることなく、捨て吐出を行うことができる液滴吐出装置を提供することを課題とする。

本発明の液滴吐出装置は、インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドと、ワークを搭載するワークテーブルと、機能液滴吐出ヘッドに対しワークテーブルを相対移動させる移動手段と、を備え、機能液滴吐出ヘッドに対するワークテーブルの相対移動を行いながら、ワークテーブルに搭載されたワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを駆動して描画動作を行う液滴吐出装置において、ワークテーブルの相対移動方向の前方に近接し且つ自身の上面がワークテーブルに搭載されたワークの上面より低い位置となるように配設されると共に、機能液滴吐出ヘッドの描画動作直前の捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、機能液滴吐出ヘッドを昇降させるヘッド昇降手段と、機能液滴吐出ヘッド、移動手段およびヘッド昇降手段を制御する制御手段と、をさらに備え、制御手段は、描画動作直前に、ヘッド昇降手段により機能液滴吐出ヘッドをそのノズル面がワークの上面より低い位置とした状態で、機能液滴吐出ヘッドに捨て吐出を行わせることを特徴とする。

この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドのノズル面がワークの上面よりも低い状態で捨て吐出を行うことで、捨て吐出によりミストが発生したとしても、そのミストが上昇しない限り、ワークに付着することがない。このため、ミストをワークに付着させることなく、捨て吐出を行うことができる。

この場合、ワークテーブルとフラッシングユニットとの間隙からエアーを吸引するエアー吸引口を、さらに備えたことが好ましい。

この構成によれば、ワークテーブルとフラッシングユニットとの間隙に浮遊したミストが、ワークに付着する前に、エアー吸引口から吸引除去される。このため、ミストがワークに付着することをより確実に防止することができる。

この場合、エアー吸引口は、ワークテーブルの相対移動方向の前方側面に形成されていることが好ましい。

この構成によれば、ワークテーブルとフラッシングユニットとの間にエアー吸引口を設けた場合に比べ、ワークテーブルとフラッシングユニットとをより近接して設けることができ、装置全体の小型化を図ることができる。

この場合、制御手段は、捨て吐出と当該捨て吐出から描画動作への移行とを、機能液滴吐出ヘッドに対しワークテーブルを相対移動させながら行わせると共に、当該描画動作への移行時に機能液滴吐出ヘッドを上昇させることが好ましい。

この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドに対しワークテーブルを相対移動させながら、捨て吐出および描画動作への移行を行うことで、描画動作に要する時間を短縮することができる。

以下、添付の図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。本実施形態に係る液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれており、例えば特殊なインクや発光性の樹脂液である機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成（インクジェット法による印刷）するものである。

図１に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２に載置され、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置３と、機台２上で描画装置３に添設されたメンテナンス装置４と、液滴吐出装置１の各部を制御する制御装置５（図２参照）とを備えている。

描画装置３は、Ｘ軸方向に延在するＸ軸テーブル１１と、Ｘ軸テーブル１１に直交するＹ軸テーブル１２と、Ｙ軸テーブル１２に移動自在に取り付けられたキャリッジ１３とを有している。そして、キャリッジ１３には、機能液滴吐出ヘッド１７が搭載されている。なお、図１では、機能液滴吐出ヘッド１７を単一のものとして示すが、その個数および配列は任意である。

Ｘ軸テーブル１１は、基板Ｗを搭載するセットテーブル２１（ワークテーブル）と、セットテーブル２１をスライド自在に支持するＸ軸スライダ２２と、Ｘ軸スライダ２２をＸ軸方向に移動させるモータ駆動のＸ軸移動機構２３（移動手段、図２参照）とを有している。セットテーブル２１は、図示しない真空源（例えば真空ポンプ）に連なる多数の吸着孔を上面に有する吸着テーブルで構成されており、載置された基板Ｗを吸着セットする。Ｘ軸移動機構２３は、機能液滴吐出ヘッド１７に対し、Ｘ軸スライダ２２を介してセットテーブル２１（基板Ｗ）をＸ軸方向に往復移動させる。なお、以下では、セットテーブル２１の往復移動のうち、図１の下側から上側への移動を「往動」といい、上側から下側への移動を「復動」という。つまり、図１では、往動開始時（復動終了時）のセットテーブル２１を実線で示し、復動開始時（往動終了時）のセットテーブル２１を二点鎖線で示している。

また、機能液滴吐出ヘッド１７に対するセットテーブル２１の往動方向前方および復動方向前方には、セットテーブル２１に近接してフラッシングユニット７１が一対設けられている。すなわち、一対のフラッシングユニット７１が、セットテーブル２１をＸ軸方向に挟むようにして、セットテーブルに支持されている（詳細は後述する）。さらに、セットテーブル２１の往動方向の前方側面および復動方向の前方側面には、後述するエアー吸引口９１が一対設けられている。

Ｙ軸テーブル１２は、機台２上に立設した左右の支柱３１に支持されており、Ｘ軸テーブル１１とメンテナンス装置４とを跨ぐように延在している。Ｙ軸テーブル１２は、キャリッジ１３をスライド自在に支持するＹ軸スライダ３２と、Ｙ軸スライダ３２をＹ軸方向に移動させるモータ駆動のＹ軸移動機構３３（図２参照）とを有している。Ｙ軸移動機構３３は、Ｙ軸スライダ３２を介してキャリッジ１３（機能液滴吐出ヘッド１７）をＹ軸方向に移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１２は、機能液滴吐出ヘッド１７をＸ軸テーブル１１の直上部とメンテナンス装置４の各ユニット（後述する）との間で移動させ、また、後述する描画動作において機能液滴吐出ヘッド１７を副走査させる。

キャリッジ１３は、上記のＹ軸スライダ３２にスライド自在に支持されると共に、Ｚ軸テーブル３５（ヘッド昇降手段）を有している。Ｚ軸テーブル３５は、モータ駆動のヘッド昇降機構３６を有し、搭載した機能液滴吐出ヘッド１７を昇降させる。すなわち、後述する機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面３８（図３参照）と、セットテーブル２１に搭載された基板Ｗの上面（基板上面Ｗａ、図３参照）との間隔（ワークギャップ）や、ノズル面３８とフラッシングユニット７１の上面（フラッシング上面７１ａ、図３参照）との間隔（フラッシングギャップ）が、それぞれ所定の値になるように、機能液滴吐出ヘッド１７を上下に微小移動させている。なお、ワークギャップは、機能液滴の飛行曲がり等を防止すべく、極力小さい値（数百μｍ以下）にすることが好ましい。また、フラッシングギャップも、捨て吐出により後述するミストＭ（図４参照）が発生した場合に、ミストＭの浮遊を抑えるべく、極力小さい値にすることが好ましい。

機能液滴吐出ヘッド１７は、図示しない機能液パック等から機能液が供給され、インクジェット方式（例えば圧電素子駆動）で機能液を吐出するものである。そして、後述するヘッドドライバ６１から駆動波形を印加することにより、各ノズル３７から機能液が吐出される。

メンテナンス装置４は、Ｘ軸テーブル１１から遠い順に、吸引ユニット４１と、ワイピングユニット４２とを備えている。吸引ユニット４１とワイピングユニット４２とは、Ｙ軸テーブル１２による機能液滴吐出ヘッド１７の移動軌跡上に設けられており、各ユニットに機能液滴吐出ヘッド１７を臨ませることができるようになっている。

吸引ユニット４１は、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面３８を封止するヘッドキャップ４６を有している。そして、ヘッドキャップ４６を介して、機能液滴吐出ヘッド１７内で増粘した機能液を吸引除去するためのクリーニング動作を行う場合や、新たに投入された機能液滴吐出ヘッド１７に対して機能液の初期充填を行う場合に用いられる。また、ワイピングユニット４２は、クリーニング動作等により機能液が付着して汚れたノズル面３８を、ワイピングシート４７を用いて拭き取るものである。

図２を参照して、液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、ユーザＩ／Ｆ部５１と、駆動部５２と、制御部５３とを備えている。ユーザＩ／Ｆ部５１は、オペレータが各種データを入力する操作パネル５６と、各種情報を表示するモニター５７とを有している。

駆動部５２は、ヘッドドライバ６１と、モータ駆動ドライバ６２と、モニタードライバ６３とを有している。ヘッドドライバ６１は、機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動制御する。モータ駆動ドライバ６２は、Ｘ軸移動機構２３、Ｙ軸移動機構３３およびヘッド昇降機構３６の各駆動モータを制御する。モニタードライバ６３は、モニター５７に映像信号を出力する。

制御部５３は、制御装置５（例えばパソコン）で構成されており、ＣＰＵ、メモリ、入出力インタフェース等を有している。制御部５３は、取得した各種データを、予め記憶した制御プログラムに従って処理した後、駆動部５２に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。

このように構成された液滴吐出装置１は、制御装置５による制御を受けながら、メンテナンス装置４により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うと共に、描画装置３により基板Ｗ（ワーク）上に機能液を吐出する描画動作を行う。すなわち、描画装置３は、Ｘ軸テーブル１１により、機能液滴吐出ヘッド１７に対してセットテーブル２１（基板Ｗ）を往動（主走査）させると共に、これに同期して機能液滴吐出ヘッド１７を駆動し、セットテーブル２１の往動方向前方に配設されたフラッシングユニット７１に対して捨て吐出（詳細は後述する）を行った後、基板Ｗに対して描画動作を行う。

次に、キャリッジ１３をＹ軸方向に移動させることにより、機能液滴吐出ヘッド１７の副走査を行う。その後、機能液滴吐出ヘッド１７に対してセットテーブル２１を復動（主走査）させると共に、これに同期して機能液滴吐出ヘッド１７を駆動し、セットテーブル２１の往動方向前方に配設されたフラッシングユニット７１に対して捨て吐出を行った後、基板Ｗに対して描画動作を行う。以下、主走査と副走査とを繰り返すことにより、基板Ｗ全体に所望の描画が行われる。

なお、本実施形態では、機能液滴吐出ヘッド１７に対するセットテーブル２１の往動および復動のそれぞれにおいて、描画動作を行っているが、往動および復動のいずれか一方のみにおいて描画動作を行ってもよい。また、セットテーブル２１を固定とし、これに対して機能液滴吐出ヘッド１７をＸ軸方向に移動させながら、機能液滴吐出ヘッド１７を駆動して描画動作を行ってもよい。

次に、フラッシングユニット７１およびエアー吸引口９１について詳細に説明する。フラッシングユニット７１は、機能液滴吐出ヘッド１７からの捨て吐出を受けるものである。捨て吐出とは、機能液滴吐出ヘッド１７内で増粘した機能液を、基板Ｗに対する描画動作の直前に排出すべく、セットテーブル２１の移動方向前方に近接して配設されたフラッシングユニット７１に対し、機能液滴吐出ヘッド１７の各ノズル３７から多数発の機能液滴を吐出するものである。

図３に示すように、各フラッシングユニット７１は、上面を開放したフラッシングボックス７２と、フラッシングボックス７２内に敷設された機能液吸収材７３とを有している。各フラッシングボックス７２は、図示しない支持部材を介して、セットテーブル２１に支持されている。すなわち、フラッシングボックス７２は、セットテーブル２１のＸ軸方向の両外側に近接して設けられている。各フラッシングボックス７２は、描画動作時における機能液滴吐出ヘッド１７のＹ軸方向における移動範囲（副走査の範囲）に対応させて、長辺（Ｙ軸方向）の長さが設定されている（図１参照）。

フラッシングボックス７２の縁部上面と、機能液吸収材７３の上面とは、略面一になっている。そして、フラッシングユニット７１は、そのフラッシング上面７１ａ（フラッシングボックス７２の縁部上面ないし機能液吸収材７３の上面）が、セットテーブル２１に搭載された基板Ｗの上面（基板上面Ｗａ）より低い位置となるように配設されている。

また、各フラッシングボックス７２の底面には、機能液を排出するための排出口８１が複数形成されている。各排出口８１には、廃液チューブ８２が接続されており、各排出口８１から排出された機能液は廃液タンク８３に回収されるようになっている。すなわち、廃液タンク８３は、エゼクタ８４に連通しており、フラッシングボックス７２内に受けられた機能液が、廃液タンク８３に向けて吸引除去されるようになっている。

各エアー吸引口９１は、図示しない真空源（例えば、セットテーブル２１の往動に連なる上記の真空ポンプ）に連なっている。また、各エアー吸引口９１は、フラッシングボックス７２と同様に、描画動作時における機能液滴吐出ヘッド１７のＹ軸方向における移動範囲に対応させて、長辺（Ｙ軸方向）の長さが設定されている（図１参照）。そして、セットテーブル２１とフラッシングユニット７１との間隙からエアーを吸引するようになっている。なお、上述したように、各エアー吸引口９１を、セットテーブル２１の往動方向の前方側面（復動方向の前方側面）に設けたことで、セットテーブル２１とフラッシングユニット７１とを極力近接して設けることができ、装置全体の小型化を図ることができる。

図４を参照して、機能液滴吐出ヘッド１７による捨て吐出と、その捨て吐出から描画動作への移行とについて説明する。この液滴吐出装置１では、機能液滴（主滴Ｄ）の捨て吐出に伴って、霧状に浮遊する微小の機能液滴（副滴）、すなわちミストＭが発生するが、このミストＭが、基板Ｗ（特に縁部上面）に付着することを防止できるようになっている。なお、以下では、セットテーブル２１の往動時を例にして説明するが、復動時にも同様にして捨て吐出および描画動作への移行が行われる。

まず、制御装置５が、セットテーブル２１の往動に先立って、Ｚ軸テーブル３５により、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面３８が基板上面Ｗａより低い位置（フラッシング上面７１ａよりは高い位置）となるように、機能液滴吐出ヘッド１７の高さ位置を微調整する（図４（ａ）参照）。このとき、上述したように、フラッシングギャップが、極力小さい値となるようにすることが好ましい。

次に、制御装置５が、Ｘ軸移動機構２３によりセットテーブル２１を往動させると、セットテーブル２１の往動方向前方に配設されたフラッシングユニット７１が、機能液滴吐出ヘッド１７に臨む。そして、制御装置５が、機能液滴吐出ヘッド１７を駆動して、この移動していくフラッシングユニット７１に対して捨て吐出を行わせる（図４（ｂ）参照）。このとき、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面３８が基板上面Ｗａよりも低い状態で捨て吐出を行うことで、捨て吐出によりミストＭが発生したとしても、そのミストＭが上昇しない限り、ミストＭが移動してきた基板Ｗに付着することがない。このため、ミストＭを基板Ｗに付着させることなく、捨て吐出を行うことができる。

しかも、セットテーブル２１とフラッシングユニット７１との間隙に浮遊したミストＭが、移動してきた基板Ｗに付着する前に、エアー吸引口９１から吸引除去される。このため、ミストＭが基板Ｗに付着することをより確実に防止することができる。

捨て吐出の後、制御装置５が、引き続きセットテーブル２１を往動させると共に、機能液滴吐出ヘッド１７を所定のワークギャップとなるように上昇させ、描画動作へと移行する（図４（ｃ）参照）。

なお、セットテーブル２１を一旦停止させてから捨て吐出を行ってもよい。もっとも、本実施形態のように、機能液滴吐出ヘッド１７に対しセットテーブル２１を移動させながら捨て吐出および描画動作への移行を行うことで、描画動作に要する時間を短縮することができる。

図５は、フラッシングユニット７１およびエアー吸引口９１の変形例を示す図である。この変形例は、上記の実施形態と略同様の構成であるが、フラッシングユニット７１は、フラッシング上面７１ａが基板上面Ｗａと面一になるように配設されている。また、エアー吸引口９１は、セットテーブル２１とフラッシングユニット７１との間に配設されている。また、エアー吸引口９１は、図示しない支持部材により、セットテーブル２１に支持されている。

図６を参照して、変形例における機能液滴吐出ヘッド１７の捨て吐出と、その捨て吐出から描画動作への移行とについて説明する。なお、ここでも、セットテーブル２１の往動時を例にして説明するが、復動時にも同様にして捨て吐出および描画動作への移行が行われる。

まず、制御装置５が、セットテーブル２１の往動に先立って、Ｚ軸テーブル３５により、所定のワークギャップとなるように機能液滴吐出ヘッド１７の高さ位置を微調整する（図６（ａ）参照）。このとき、フラッシング上面７１ａが基板上面Ｗａと面一になっているため、フラッシングギャップが、所定のワークギャップと等しくなる。

次に、制御装置５が、Ｘ軸移動機構２３によりセットテーブル２１を往動させると、セットテーブル２１の往動方向前方に配設されたフラッシングユニット７１が、機能液滴吐出ヘッド１７に臨む。そして、制御装置５が、機能液滴吐出ヘッド１７を駆動して、この移動していくフラッシングユニット７１に対して捨て吐出を行わせる（図６（ｂ）参照）。
このとき、セットテーブル２１とフラッシングユニット７１との間隙に浮遊したミストＭが、移動してきた基板Ｗに付着する前に、エアー吸引口９１から吸引除去される。このため、ミストＭを基板Ｗに付着させることなく、捨て吐出を行うことができる。

捨て吐出の後、制御装置５が、引き続きセットテーブル２１を往動させ、描画動作へと移行する（図６（ｃ）参照）。このように、変形例の液滴吐出装置１によれば、捨て吐出の際に、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面３８を基板上面Ｗａよりも低くしておく必要がないので、捨て吐出後、機能液滴吐出ヘッド１７を上昇させる必要がない。しかも、フラッシング上面７１ａが基板上面Ｗａと面一になっているため、捨て吐出後に機能液滴吐出ヘッド１７を昇降させずとも、フラッシングギャップとワークギャップとが同一になる。このため、ワークギャップと同等の小さいフラッシングギャップで捨て吐出を行うことになる。これにより、ミストＭがノズル面３８で抑えられ、周囲に浮遊することがない。したがって、ミストＭがフラッシングユニット７１に受けられやすくすることができる。

次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。

まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図７は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図８は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図８（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。

続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図８（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図８（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。

以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。

次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図８（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図８（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。

図９は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図８に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。

この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。

液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。

実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。

図１０は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。

液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

図１１は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。

この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。

対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。

また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。

なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。

次に、図１２は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。

この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。

回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。

また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。

そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。

このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。

上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。

バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。

上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。

発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。

そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。

陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。

次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１３〜図２１を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１３に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。

まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１４に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１５に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。

表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。

図１６に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１７に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。

次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。

そして次に、図１８に示すように、各色のうちのいずれか（図１８の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。

その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１９に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。

同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２０に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。

対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２１に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。

このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。

次に、図２２は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。

第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。

放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。

第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。

本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。

補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。

ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。

次に、図２３は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。

第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。

第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。

そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。

この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。

第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２４（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２４（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。

本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の基本構成を模式的に示した図である。 液滴吐出装置の制御構成を示すブロック図である。 液滴吐出装置に備えられたフラッシングユニットおよびエアー吸引口廻りの構成を示す図である。 捨て吐出および描画動作への移行について説明する図である。 変形例に係る液滴吐出装置に備えられたフラッシングユニットおよびエアー吸引口廻りの構成を示す図である。 変形例に係る捨て吐出および描画動作への移行について説明する図である。 カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。 （ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 陰極の形成を説明する工程図である。 プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。 電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。 表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。

符号の説明

１…液滴吐出装置 ３…描画装置 １７…機能液滴吐出ヘッド ２１…セットテーブル ２３…Ｘ軸移動機構 ３５…Ｚ軸テーブル ３８…ノズル面 ７１…フラッシングユニット ９１…エアー吸引口

Claims (4)

1. インクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドと、
   ワークを搭載するワークテーブルと、
   前記機能液滴吐出ヘッドに対し前記ワークテーブルを相対移動させる移動手段と、を備え、
   前記機能液滴吐出ヘッドに対する前記ワークテーブルの相対移動を行いながら、前記ワークテーブルに搭載された前記ワークに対し、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動して描画動作を行う液滴吐出装置において、
   前記ワークテーブルの相対移動方向の前方に近接し且つ自身の上面が前記ワークテーブルに搭載された前記ワークの上面より低い位置となるように配設されると共に、前記機能液滴吐出ヘッドの前記描画動作直前の捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、
   前記機能液滴吐出ヘッドを昇降させるヘッド昇降手段と、
   前記機能液滴吐出ヘッド、前記移動手段および前記ヘッド昇降手段を制御する制御手段と、をさらに備え、
   前記制御手段は、前記描画動作直前に、前記ヘッド昇降手段により前記機能液滴吐出ヘッドをそのノズル面が前記ワークの上面より低い位置とした状態で、前記機能液滴吐出ヘッドに前記捨て吐出を行わせることを特徴とする液滴吐出装置。
2. 前記ワークテーブルと前記フラッシングユニットとの間隙からエアーを吸引するエアー吸引口を、さらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
3. 前記エアー吸引口は、前記ワークテーブルの相対移動方向の前方側面に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の液滴吐出装置。
4. 前記制御手段は、前記捨て吐出と当該捨て吐出から前記描画動作への移行とを、前記機能液滴吐出ヘッドに対し前記ワークテーブルを相対移動させながら行わせると共に、当該描画動作への移行時に前記機能液滴吐出ヘッドを上昇させることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出装置。

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