JP4776154B2 - 圧電体素子、インクジェット記録ヘッド、圧電体素子の製造方法 - Google Patents
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Description
更に、従来の構成の圧電体素子では振動板と下部電極の接合界面に面内応力が集中して、製造時の熱処理工程や素子駆動時における剥離の要因となる場合があった。
(a)振動板と下部電極と圧電体膜と上部電極とがこの順に積層された圧電体素子であって、前記下部電極、前記上部電極及び前記圧電体膜がペロブスカイト型酸化物からなり、前記振動板がペロブスカイト型金属酸化物からなり、
前記圧電体素子が、前記振動板と前記下部電極との間に前記振動板を構成する物質と前記下部電極を構成する物質とが混在する領域と、前記下部電極と前記圧電体膜との間に前記下部電極を構成する物質と前記圧電体膜を構成する物質とが混在する領域と、前記圧電体膜と前記上部電極との間に前記圧電体膜を構成する物質と前記上部電極を構成する物質とが混在する領域と、を有し、
前記振動板と前記下部電極との間、前記下部電極と前記圧電体膜との間及び前記圧電体膜と前記上部電極との間に接合界面が実質的に存在せず、
前記下部電極及び前記上部電極がそれぞれ独立してM 1 RuO 3 (M 1 はSr、Ba、およびCaからなる群から選ばれた少なくとも1種を表す。)、またはSr (1-x) M 2 (x) CoO 3 (M 2 はLa、Pr、SmおよびNdからなる群から選ばれた少なくとも1種を表し、xは0≦x<1である)よりなることを特徴とする圧電体素子。
(b)前記領域はいずれもペロブスカイト型結晶構造をもつことを特徴とする(a)に記載の圧電体素子。
(c)前記圧電体膜がPb (1-x) La x (Zr y Ti 1-y )O 3 (式中、0≦x<1、0≦y≦1)よりなることを特徴とする(b)または(c)に記載の圧電体素子。
(d)インクの吐出口に連通する圧力室と、前記圧力室に前記吐出口からインクを吐出するための容積変化を生じさせるための圧電体素子と、を有するインクジェット記録ヘッドにおいて、
前記圧電体素子として、(a)〜(c)のいずれかに記載の圧電体素子が、前記圧力室に対応して配置されていることを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
図1は、本発明の圧電体素子の一実施形態の構成を示す図である。同図において、1は基板である。基板の材質は特に限定されないが、通常850℃以下で行われるゾルゲル法における熱処理工程に対して変形、溶融しない材質が好ましい。また、本発明の圧電体素子を用いて本発明のインクジェット記録ヘッドを製造する際には、基板が圧力室を形成するための圧力室基板を兼ねていてもよい。例えば、このような目的ではシリコン(Si)やタングステン(W)などからなる半導体基板や耐熱ステンレス(SUS)基板が好ましく用いられるが、ジルコニアやアルミナ、シリカなどのセラミックを用いても構わない。また、これらの材料を複数種類組み合わせてもよいし、積層して多層構成として用いてもよい。白金、パラジウムなどの金属層と組み合わせて積層して用いてもよい。
基板の上にゾルゲル法により製造された振動板用塗布液を塗布、乾燥し振動板前駆体を得る。その後、この振動板前駆体を、後に塗布、乾燥して得た下部電極前駆体と同時に焼成することにより振動板とする。塗布後の乾燥温度は含まれる溶媒の種類により異なるが、概ね100℃以上300℃未満が好ましい。所望の振動板の厚みを得るためには、複数回の塗布と乾燥を繰り返せばよい。
少なくとも振動板最上部に塗布、乾燥して得られた振動板前駆体上に下部電極用塗布液を塗布、乾燥して下部電極前駆体を得る。この振動版から下部電極への移行部の形成には、振動板用塗布液と電極用塗布液を混合し、同時に塗布してもよい。同時に塗布することによって製造の簡便化や異なる種類の塗布液間の浸透を効果的に行うことができる。この場合の振動板用塗布液と電極用塗布液の混合比は固形分の質量基準で1:50〜50:1であることが好ましく、1:9〜9:1であることがより好ましい。
また、少なくとも下部電極最上部に塗布、乾燥して得た下部電極前駆体の上に圧電体膜用塗布液を塗布する。この下部電極から圧電体膜への移行部の形成には、下部電極用塗布液と圧電体用塗布液を混合し、同時に塗布してもよい。同時に塗布することによって製造の簡便化や異なる種類の塗布液間の浸透を効果的に行うことができる。この場合の下部電極用塗布液と圧電体膜用塗布液の混合比は固形分の質量基準で1:50〜50:1であることが好ましく、1:9〜9:1であることがより好ましい。このようにして塗布した圧電体膜用塗布液を乾燥して圧電体膜前駆体とする。次に、下部電極前駆体と圧電体膜前駆体を同時に焼成する。圧電体膜用塗布液を塗布すると、この塗布液は下部電極前駆体の表面近傍に浸透する。さらに圧電体膜用塗布液を乾燥し、少なくとも下部電極最上部の前駆体と同時に焼成することにより、下部電極と圧電体膜の接触面では双方の結晶成長が入り乱れて成長し、接合界面が実質的になくなる(図1における3と4の間に示す点線部分)。焼成は、不活性ガス雰囲気、酸素含有雰囲気(空気中等)、酸化鉛雰囲気、水蒸気雰囲気など、任意の雰囲気下で行えばよく、常圧下または減圧下で行うことができる。塗布、乾燥、焼成の条件は振動板を構成する酸化物と同様にすることが好ましい。複数回、塗布、乾燥した下部電極前駆体及び圧電体膜前駆体を同時に焼成しても良い。
上部電極は、圧電体膜上に下部電極と同様に形成する。即ち少なくとも圧電体膜最上部に塗布、乾燥して得られた圧電体膜前駆体の上に上部電極用塗布液を塗布、乾燥して上部電極前駆体を得る。次に、この上部電極前駆体を圧電体膜前駆体と同時に焼成して上部電極とする。また、この移行部についても、上部電極用塗布液と圧電体用塗布液は混合し、同時に塗布してもよい。同時に塗布することによって製造の簡便化や異なる種類の塗布液間の浸透を効果的に行うことができる。
振動板用塗布液としてAl2O3とSrTiO3の組成の塗布液を作製した。
アルミニウム−sec−ブトキシドと安定化剤としてのアセト酢酸エチルを2−プロパノールに加熱溶解させた。これを希塩酸で加水分解させて20質量%(酸化物換算)の振動板用塗布液を得た。
SrTiO3に相当する組成のストロンチウムジエトキシドとチタンイソプロポキシドをエチレングリコールモノメチルエーテル中で加熱溶解した。この溶液を24時間還流させることで加水分解を行い、15質量%(酸化物換算)の振動板用塗布液を得た。
SrRuO3に相当する組成のストロンチウム−2,4−ペンタンジオナートとルテニウム−2,4−ペンタンジオナートをメトキシエタノール中で加熱溶解した。この溶液を希塩酸で加水分解しSrRuO3の10質量%(酸化物換算濃度)の電極用塗布液を得た。
Sr0.5La0.5CoO3に相当する組成のストロンチウム−2,4−ペンタンジオナート、ランタンイソプロポキシド、コバルト−2,4−ペンタンジオナートを2−プロパノール中で加熱溶解した。この溶液を希塩酸で加水分解しSr0.5La0.5CoO3の10質量%(酸化物換算濃度)の電極用塗布液を得た。
Pb1.1La0.01Zr0.52Ti0.48O3に相当する組成の酢酸鉛、ランタンイソプロポキシド、ジルコニウムブトキシド、チタンイソプロポキシドをメトキシエタノール中で加熱溶解した。この溶液を希塩酸で加水分解しPb1.1La0.01Zr0.52Ti0.48O3の10質量%(酸化物換算濃度)の圧電体用塗布液を得た。また下記の市販のPZT塗布液を用いた。
圧電体素子およびその製造方法の実施例を実施例1〜4に示す。
シリコン単結晶基板上に振動板を形成するために上記A液をスピンコーターにより塗布し、150℃のホットプレートで5分間乾燥した。これを6回繰り返して約5μm厚の振動板前駆体を得た。この表面に下部電極として上記C液を同様にスピンコーターで塗布した。この塗布膜を150℃のホットプレートで5分乾燥させて下部電極前駆体を得た。更に、この表面に圧電体膜としてF液を同様にスピンコーターで塗布後、250℃で5分乾燥させて圧電体膜前駆体を得た。このようにして得た振動板前駆体、下部電極前駆体及び圧電体膜前駆体を同時に700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにF液の塗布、乾燥、焼成を10回繰り返した。この後、更にF液の塗布、乾燥を行い、圧電体膜前駆体を得た。その上にC液を塗布し150℃で5分間乾燥させて上部電極前駆体を得た。次に、この圧電体膜前駆体と上部電極前駆体を同時に700℃の電気炉で10分間焼成した。最後に基板の裏面の一部をウェットエッチングしてくり抜くことで図3に示すような本発明の圧電体素子を得た。
実施例1と同様にシリコン単結晶基板上に振動板を形成するために上記B液をスピンコーターにより塗布し、300℃のホットプレートで5分間乾燥した。これを10回繰り返して約4μm厚の振動板前駆体を得た。この表面に下部電極として上記D液を同様にスピンコーターで塗布し、150℃で5分乾燥させて下部電極前駆体を得た。更に、振動板前駆体と下部電極前駆体を同時に700℃で10分間焼成した。さらにD液を塗布し、100℃で5分乾燥し、下部電極前駆体を得た。この表面に圧電体膜としてE液をスピンコーターで塗布した。これを100℃で5分乾燥させて圧電体膜前駆体を得た。更に、この下部電極前駆体と圧電体膜前駆体を同時に700℃の電気炉で10分間焼成した。さらにE液の塗布、乾燥、焼成を15回繰り返した。次に、E液を塗布、乾燥させて圧電体膜前駆体を得た。この上に更にD液を塗布し150℃で5分間乾燥させて上部電極前駆体を得た。次に、この圧電体膜前駆体と上部電極前駆体を同時に700℃の電気炉で10分間焼成させた。更に、D液の塗布、乾燥、焼成を1回行い上部電極とした。最後に基板の裏面の一部をウェットエッチングしてくりぬいて本発明の圧電体素子を得た。
一部をくりぬいたジルコニア基板に10μm厚のジルコニア箔を貼り付けて振動板つき基板とした。この基板の表面に下部電極として約200nm厚の白金をスパッタリング成膜した。さらに圧電体膜としてF液を同様に塗布し、250℃で5分間乾燥後、700℃の電気炉で10分間焼成した。同様にF液の塗布、乾燥、焼成を11回繰り返した。その上に上部電極として約50nm厚の金をイオンコーターで成膜し、比較用の圧電体素子を得た。
実施例1、2及び比較例1を以下のように評価した。
上部電極から振動板までの断面を透過顕微鏡(TEM)で観察し、上部電極、圧電体膜、下部電極及び振動板の各接合界面の有無を確認した。試料により、鮮明に接合界面が確認できるもの(界面あり)、接合界面らしき境界線が見られるもの(界面ほぼ無し)、全く接合界面が判別できないもの(界面無し)があった。また上部電極と下部電極間に10kHz、10Vの交流を印加しながら圧電振動による変位量をレーザードップラー法により測定し、圧電体としての特性を評価した。結果を表1に示す。表1よりわかるように接合界面の見られない試料は変位量が大きく、かつ720時間の耐久試験後も良好に動作していることがわかる。
実施例1、2および比較例1で作製した素子に、図4、5に示すようなノズルが設けられたノズルプレート10を取り付けさらにインクを導入するための導入管路11を設けインクジェット記録ヘッドとした。
上記で作製したインクジェット記録ヘッドに導入路よりインクジェット用インクを導入しインク室7を満たした。次に上部電極と下部電極間に1〜20kHz、10Vの交流電圧を印加しインクの吐出の様子を顕微鏡で観察した。その結果、実施例1、2では各周波数に追随しインク滴を吐出できた。一方、比較例1、2は15kHz〜20kHzの間でインク滴が均一性よく吐出することができなかった。
2 振動板
3 下部電極
4 圧電体膜
5 上部電極
6 ヘッド基台
7 インク室
8 圧電体素子
9 電源
10 ノズルプレート
11 インク導入路
Claims (4)
- 振動板と下部電極と圧電体膜と上部電極とがこの順に積層された圧電体素子であって、前記下部電極、前記上部電極及び前記圧電体膜がペロブスカイト型酸化物からなり、前記振動板がペロブスカイト型金属酸化物からなり、
前記圧電体素子が、前記振動板と前記下部電極との間に前記振動板を構成する物質と前記下部電極を構成する物質とが混在する領域と、前記下部電極と前記圧電体膜との間に前記下部電極を構成する物質と前記圧電体膜を構成する物質とが混在する領域と、前記圧電体膜と前記上部電極との間に前記圧電体膜を構成する物質と前記上部電極を構成する物質とが混在する領域と、を有し、
前記振動板と前記下部電極との間、前記下部電極と前記圧電体膜との間及び前記圧電体膜と前記上部電極との間に接合界面が実質的に存在せず、
前記下部電極及び前記上部電極がそれぞれ独立してM 1 RuO 3 (M 1 はSr、Ba、およびCaからなる群から選ばれた少なくとも1種を表す。)、またはSr (1-x) M 2 (x) CoO 3 (M 2 はLa、Pr、SmおよびNdからなる群から選ばれた少なくとも1種を表し、xは0≦x<1である)よりなることを特徴とする圧電体素子。 - 前記領域はいずれもペロブスカイト型結晶構造をもつことを特徴とする請求項1に記載の圧電体素子。
- 前記圧電体膜がPb (1-x) La x (Zr y Ti 1-y )O 3 (式中、0≦x<1、0≦y≦1)よりなることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電体素子。
- インクの吐出口に連通する圧力室と、前記圧力室に前記吐出口からインクを吐出するための容積変化を生じさせるための圧電体素子と、を有するインクジェット記録ヘッドにおいて、
前記圧電体素子として、請求項1〜3のいずれかに記載の圧電体素子が、前記圧力室に対応して配置されていることを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
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