JP4773158B2

JP4773158B2 - 露光装置

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Publication number: JP4773158B2
Application number: JP2005237381A
Authority: JP
Inventors: 康一梶山; 由雄渡辺
Original assignee: V Technology Co Ltd
Current assignee: V Technology Co Ltd
Priority date: 2005-08-18
Filing date: 2005-08-18
Publication date: 2011-09-14
Anticipated expiration: 2025-08-18
Also published as: JP2007052239A

Description

本発明は、被露光体を所定方向に搬送しながら、被露光体の表面に搬送方向に沿って所定間隔で設定された複数の露光領域に対して、フォトマスクを介して所定の露光パターン列を形成する露光装置に関し、詳しくは、上記複数の露光領域の外部にて互いに隣接する露光領域の間の部分が露光されるのを防止しようとする露光装置に係るものである。

従来の露光装置は、基板が載置されたステージと露光すべき層に対応するフォトマスクとを相対移動させて上記基板の複数の露光領域のそれぞれに一層分のマスクパターンを露光するものであり、上記複数の露光領域に露光した際のフォトマスクに対する上記ステージの位置を各領域毎に測定し、基板上の所定の位置認識用マークに対して位置決めされた状態のフォトマスクを基準として、上記複数の露光領域に露光した際の上記ステージの相対位置を取得する手段と、上記位置認識用マークを検出して上記フォトマスクを位置決めし、そのときのフォトマスクを基準として、上記取得した相対位置が再現されるように、フォトマスクに対する上記ステージの位置を測定しつつ上記ステージとフォトマスクとを相対移動させる手段と、を備え、ステージとフォトマスクとを相対移動させて基板上の複数の露光領域に対してそれぞれ位置決めして一層目のパターンを露光形成する際に、一の露光領域を基準とする他の露光領域の上記相対位置のデータを記憶しておき、二層目のパターンを露光形成する際には、上記相対位置データに基づいて上記ステージとフォトマスクとを相対移動して位置決めし、露光するようになっていた（例えば、特許文献１参照）。
特開２００４−２４６０２５号公報

しかし、このような従来の露光装置においては、基板をステップ移動して基板上に設定された複数の露光領域を一つずつ切り替えてフォトマスクのマスクパターンを露光するものであり、基板をフォトマスクに平行な面内にて、該フォトマスクに形成されたマスクパターンの配列方向と直交する方向に一定速度で搬送しながら複数の露光領域に対して露光するものではなかった。

一方、基板をフォトマスクに形成されたマスクパターンの配列方向と直交する方向に一定速度で搬送しながら複数の露光領域に対して露光するようにした露光装置の場合には、図９に示すように、例えばカラーフィルタ基板８の搬送方向（矢印Ａ方向）に設定された複数の露光領域７のうち、１番目の露光領域７ａと２番目の露光領域７ｂとの間の部分８ｂや、２番目の露光領域７ｂと３番目の露光領域７ｃとの間の部分８ｃにも上記マスクパターンの露光パターン列３１が形成されてしまい、製品の外観品位を低下させるおそれがあった。

そこで、本発明は、このような問題点に対処し、搬送方向に沿って設定された複数の露光領域の外部にて互いに隣接する露光領域の間の部分が露光されるのを防止しようとする露光装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明による露光装置は、複数の露光領域が搬送方向に沿って所定間隔で設定された被露光体を載置面に載置し、所定方向に一定速度で搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上方にて該搬送手段の被露光体の載置面に平行な面内に配設され、前記被露光体の搬送方向に交差する方向に沿って複数のマスクパターンが等間隔で配置されたマスクパターン列を前記搬送方向に設定された前記複数の露光領域と同じ数だけ一定間隔で設けたフォトマスクを載置して、前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動可能としたマスクステージと、前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに載置されたフォトマスクの複数のマスクパターン列の一つに露光光を照射する露光光源と、前記搬送手段とマスクステージとの間に配設され、前記フォトマスクのマスクパターン列を前記被露光体の露光領域に投影する一定倍率の投影レンズと、前記被露光体に設定された複数の露光領域の各搬送方向先頭端部を検出すると前記マスクステージを、一定速度で搬送中の前記被露光体の搬送方向とは反対方向に前記被露光体の搬送速度を前記投影レンズの倍率で除算して得た値に等しい速度で移動させて前記フォトマスクのマスクパターン列を切り換える制御手段と、
を備えたものである。

このような構成により、搬送手段で複数の露光領域が搬送方向に沿って所定間隔で設定された被露光体を載置して所定方向に一定速度で搬送し、搬送手段の上方にて搬送手段の被露光体の載置面に平行な面内に配設されたマスクステージに搬送方向に交差する方向に沿って複数のマスクパターンが等間隔で配置されたマスクパターン列を、上記搬送方向に設定された上記複数の露光領域と同じ数だけ一定間隔で設けたフォトマスクを載置し、被露光体に対する露光期間中常時点灯する露光光源で上記フォトマスクの複数のマスクパターン列のうち一つのマスクパターン列を照射し、一定倍率の投影レンズでフォトマスクのマスクパターン列を一定速度で搬送中の被露光体の露光領域に投影し、制御手段で上記複数の露光領域の各搬送方向先頭端部を検出し、マスクステージを被露光体の搬送速度を投影レンズの倍率で除算して得た値に等しい速度で一定速度で搬送中の被露光体の搬送方向と反対方向に移動させてフォトマスクのマスクパターン列を切り換える。

また、前記投影レンズとマスクステージとの間で前記露光光の光路と異なる方向に偏向された光路上に前記被露光体の露光領域を撮像する撮像手段を配設したものである。これにより、投影レンズとマスクステージとの間で露光光の光路と異なる方向に偏向された光路上に配設された撮像手段で被露光体の露光領域を撮像する。

さらに、前記搬送手段は、前記被露光体が移動して前記複数の露光領域の各搬送方向先頭端部が予め設定された基準位置に達したことを検出する位置検出センサーを備えたものである。これにより、搬送手段に備えた位置検出センサーで被露光体が移動して複数の露光領域の各搬送方向先頭端部が予め設定された基準位置に達したことを検出する。

そして、前記被露光体は、カラーフィルタ基板である。これにより、カラーフィルタ基板上に設定された複数の露光領域にカラーフィルタの露光パターン列を形成する。

請求項１に係る発明によれば、被露光体を所定方向に一定速度で搬送しながら、被露光体の表面に搬送方向に沿って所定間隔で設定された複数の露光領域に対して露光する場合にも、該複数の露光領域の外部にて被露光体の搬送方向に互いに隣接する露光領域の間の部分が露光されるのを防止することができる。したがって、製品の外観品位を向上させることができる。

また、請求項２に係る発明によれば、露光光学系による露光位置と同じ位置を撮像することができる。したがって、各露光領域に予め設定された基準位置を撮像してリアルタイムで露光位置の微調整をすることができる。これにより、被露光体が左右に振れながら移動しても露光位置をそれに追従させることができ、露光パターン列の形成位置精度を向上することができる。

さらに、請求項３に係る発明によれば、フォトマスクに所定間隔で配置されたマスクパターン列の切換を正確に行なうことができる。したがって、搬送方向に設定された複数の露光領域の間の部分が露光されるのを確実に防止することができる。

そして、請求項４に係る発明によれば、カラーフィルタ基板上に設定された複数の露光領域に対してカラーフィルタの露光パターン列を確実に形成することができる。したがって、カラーフィルタの製品の外観品位を向上させることができる。

以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態を示す概念図である。この露光装置は、被露光体を所定方向に一定速度で搬送しながら露光し、被露光体の表面に搬送方向に沿って所定間隔で設定された複数の露光領域に対して、フォトマスクを介して所定の露光パターン列を形成するもので、搬送手段１と、マスクステージ２と、露光光源３と、投影レンズ４と、撮像手段５と、制御手段６とからなる。以下、上記被露光体が露光領域として例えばブラックマトリクスを多面に形成したカラーフィルタ基板である場合について説明する。

上記搬送手段１は、感光性レジストが塗布され、図２に示すように広い基板面上に所定間隔Ｌ１で複数の露光領域７が設定されたカラーフィルタ基板８をステージ９上の載置面１ａに載置して、図１に示す矢印Ａ方向に所定の速度Ｖ１で搬送するものであり、図５に示すようにカラーフィルタ基板８が移動して上記矢印Ａ方向に設定された複数の露光領域７の各搬送方向先頭端部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３が搬送方向に予め設定された基準位置Ｓに達したことを検出する、例えばエンコーダ等の位置検出センサー１０を備えている。さらに、上記搬送手段１は、上記ステージ９を移動させる図示省略の例えば搬送ローラ、該搬送ローラを回転駆動するモータ等の搬送駆動部、及びステージ９の搬送速度を検出する速度センサーも備えている。

上記搬送手段１の上方には、マスクステージ２が配設されている。このマスクステージ２は、フォトマスク１１を載置するものであり、図１に示すように、該フォトマスク１１をカラーフィルタ基板８の搬送方向（矢印Ａ方向）と反対方向（矢印Ｂ方向）に移動可能となっている。

上記フォトマスク１１は、搬送手段１のカラーフィルタ基板８の載置面１ａに平行な面内にて、図３に示すように搬送方向（矢印Ａ方向）と直交する方向に多数のマスクパターン１２が等間隔で配置されたマスクパターン列１３を、カラーフィルタ基板８の矢印Ａで示す搬送方向に沿って一定の間隔Ｌ２で同方向の上記カラーフィルタ基板８の露光領域７と同数だけ設けている。この場合、後述の投影レンズ４の倍率ＭがＭ＝１のとき、上記間隔Ｌ２は、カラーフィルタ基板８の矢印Ａで示す搬送方向に沿って設定された複数の露光領域７の間隔Ｌ１（図２参照）と同じ（Ｌ１＝Ｌ２）になるように設定される。

上記マスクステージ２の上方には、露光光源３が配設されている。この露光光源３は、マスクステージ２に載置されたフォトマスク１１の複数のマスクパターン列１３の一つに露光光を照射するものであり、紫外線を含む露光光を発射する、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプや紫外線発光レーザ等からなり、カラーフィルタ基板８に対する露光期間中常時点灯するようになっている。

上記搬送手段１とマスクステージ２との間には、投影レンズ４が配設されている。この投影レンズ４は、上記フォトマスク１１のマスクパターン列１３を上記カラーフィルタ基板８の露光領域７に投影するものであり、倍率ＭがＭ＝１の例えばテレセントリックのレンズである。

そして、上記露光光源３と、マスクステージ２と、投影レンズ４とで露光光学系１４を構成している。

上記投影レンズ４とマスクステージ２との間で、図１に示すように、紫外線を透過し、可視光を反射するダイクロイックミラー１９によって露光光学系１４の露光光の光路（同図に破線で示す）と異なる方向にて、該光路と交差する方向に偏向された光路（同図に実線で示す）上には、撮像手段５が配設されている。この撮像手段５は、図４（ｂ）に示すカラーフィルタ基板８の露光領域７に形成されたブラックマトリクス１５のピクセル１６を撮像するものであり、搬送手段１の載置面１ａに平行な面内にて、同図（ａ）に示すように搬送方向（矢印Ａ方向）に直交する方向に多数の受光素子１７が一直線に並べて配設され、上記フォトマスク１１による露光位置と近接した位置を撮像するようになっている。そして、図１に示すように、搬送手段１のステージ９の下方に配設された可視光を発射する照明光源１８によって、カラーフィルタ基板８が背面から照明されて該カラーフィルタ基板８上に形成されたブラックマトリクス１５のピクセル１６が鮮明に撮像できるようになっている。なお、上記照明光源１８の可視光に紫外線成分が含まれる場合には、照明光源１８の前面に紫外線カットフィルターを備えてカラーフィルタ基板８に塗布された感光性レジストが露光されるのを防止するとよい。また、上記撮像手段５は、多数の受光素子１７うち、図４（ａ）に示すようにフォトマスク１１の例えば左端マスクパターン１２ａの左端縁部に予め設定された基準位置Ｓ２と所定の位置関係にある受光素子１７を基準受光素子１７ｓとして設定している。

そして、上記露光光学系１４と撮像手段５とは、アライメント機構２０によって、搬送手段１の載置面１ａに平行な面内で、図４（ａ）に矢印Ａで示す搬送方向と直交する矢印Ｘ又はＹ方向に一体的に移動可能とされている他、フォトマスク１１の中心を中心軸として回動可能にされている。

上記搬送手段１と、マスクステージ２と、露光光源３と、撮像手段５と、アライメント機構２０と、照明光源１８とには、制御手段６が接続されている。この制御手段６は、上記カラーフィルタ基板８に設定された複数の露光領域７の各搬送方向先頭端部を検出して上記マスクステージ２をカラーフィルタ基板８の搬送速度Ｖ１と同じ速度Ｖ２（＝Ｖ１）で移動させてフォトマスク１１のマスクパターン列１３を切り換えるものであり、露光光源駆動部２１と、アライメント機構コントローラ２２と、マスクステージコントローラ２３と、画像処理部２４と、搬送手段コントローラ２５と、照明光源駆動部２６と、記憶部２７と、演算部２８と、制御部２９とを備えている。

ここで、上記露光光源駆動部２１は、露光光源３を点灯駆動するものである。また、上記アライメント機構コントローラ２２は、アライメント機構２０を駆動制御するものである。さらに、マスクステージコントローラ２３は、マスクステージ２を矢印Ｂ方向へ速度Ｖ２（＝Ｖ１）で移動させるものである。また、上記画像処理部２４は、撮像手段５で取得された画像を処理して画像データを作成すると共に該画像データと記憶部２７に保存されたルックアップテーブル（以下、「ＬＵＴ」と記載する）とを比較して、図４（ｂ）に示す上記カラーフィルタ基板８の露光領域７に設定された基準位置Ｓ１を検出するものである。さらに、上記搬送手段コントローラ２５は、搬送手段１のステージ９を所定の方向に所定の速度Ｖ１で移動させるものである。また、上記照明光源駆動部２６は、照明光源１８を点灯駆動するものである。さらに、上記記憶部２７は、例えば、上記カラーフィルタ基板８上の基準位置Ｓ１を検出するためのＬＵＴや撮像手段５の基準受光素子１７ｓのセル番号等を記憶しておくものである。さらにまた、演算部２８は、撮像手段５の基準受光素子１７ｓと上記カラーフィルタ基板８上の基準位置Ｓ１を検出した受光素子１７とのずれ量等を算出するものである。そして、制御部２９は、搬送手段１に備えた位置検出センサー１０の出力に基づいてカラーフィルタ基板８の複数の露光領域７の各搬送方向先頭端部を検出し、マスクステージコントローラ２３を起動させると共に、上記各部を適切に駆動制御するものである。

次に、このように構成された露光装置の動作について説明する。
先ず、装置に設けられた図示省略の起動スイッチが投入されると、制御手段６が起動して照明光源駆動部２６により照明光源１８が点灯され、カラーフィルタ基板８を背面から照明可能となる。また、露光光源駆動部２１により露光光源３が点灯される。さらに、撮像手段５が起動して撮像が開始される。そして、搬送手段１は、ステージ９上の所定位置に感光性レジストを塗布したカラーフィルタ基板８を載置して待機状態となっている。このとき、図５に示すように、カラーフィルタ基板８の各露光領域７の搬送方向先頭端部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３は、搬送手段１に予め設定された基準位置Ｓに対してそれぞれＤ１，Ｄ２，Ｄ３の所定距離だけ離れた位置に位置付けられている。

次に、図示省略の露光開始スイッチが投入されると、搬送手段１のステージ９が搬送手段コントローラ２５に制御されて矢印Ａ方向に速度Ｖ１で移動を開始する。このとき、カラーフィルタ基板８の移動距離が位置検出センサー１０によって計測される。具体的には、例えばエンコーダでパルス数がカウントされ、そのパルス数が予め記憶部２７に記憶されたパルス数と移動距離との関係を示すテーブルと比較される。

そして、図６（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板８が距離Ｄ１だけ移動し、エンコーダによってカウントされたパルス数が予め設定された移動距離Ｄ１に相当するパルス数と一致すると、制御部２９は、カラーフィルタ基板８の１番目の露光領域７ａの搬送方向先頭端部Ｐ１が搬送手段１の基準位置Ｓに到達したと判断し、マスクステージコントローラ２３を起動する。これにより、マスクステージコントローラ２３は、同図（ｂ）に示すようにマスクステージ２を矢印Ａで示す搬送方向と反対の矢印Ｂ方向に所定の速度Ｖ２で移動させて、マスクステージ２に載置されたフォトマスク１１の１番目のマスクパターン列１３ａを露光光学系１４の光路上に位置付けて停止させる。

この場合、カラーフィルタ基板８の露光領域７の配置間隔Ｌ１とフォトマスク１１のマスクパターン列１３の配置間隔Ｌ２が同じ寸法（Ｌ１＝Ｌ２）であり、投影レンズ４の倍率ＭがＭ＝１であるので、フォトマスク１１の不透明部分１１ａとそれに対応するカラーフィルタ基板８の上記１番目の露光領域７ａの搬送方向先頭側の部分８ａとが同じ速度（Ｖ２＝Ｖ１）で互いに反対方向に移動する。これにより、カラーフィルタ基板８の上記１番目の露光領域７ａの搬送方向先頭側の部分８ａは、上記マスクステージ２が移動中常時フォトマスクの不透明部分１１ａによってマスクされた状態となり、該１番目の露光領域７ａの搬送方向先頭側の部分８ａには露光が行なわれない。

マスクステージ２が移動してフォトマスク１１が所定位置に位置付けられると露光光が該フォトマスク１１を透過してカラーフィルタ基板８上に達する。これにより、継続して一定の速度Ｖ１で矢印Ａ方向に搬送されるカラーフィルタ基板８の１番目の露光領域７ａに対して露光が行なわれる。同時に、カラーフィルタ基板８上に形成されたブラックマトリクス１５のピクセル１６が撮像手段５によって取得される。

この場合、図４（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板８の基準位置Ｓ１がブラックマトリクス１５の左端ピクセル１６ａの左上端隅部に設定されている場合に、制御手段６は、撮像手段５により取得された画像の画像データと記憶部２７から読み出したＬＵＴとを画像処理部２４で比較し、両者が一致したときピクセル１６ａの左上端隅部を基準位置Ｓ１と判定する。そして、この基準位置Ｓ１を検知した撮像手段５の受光素子１７のセル番号と予め記憶部２７に記憶された基準受光素子１７ｓのセル番号とを比較する。

上記基準位置Ｓ１を検知した撮像手段５の受光素子１７のセル番号と予め記憶部２７に記憶された基準受光素子１７ｓのセル番号とのずれ量は、演算部２８で算出され、該ずれ量がゼロとなるようにアライメント機構２０がアライメント機構コントローラ２２によって駆動制御されて、搬送手段１の載置面１ａに平行な面内で、同図（ａ）に示す矢印Ａと直交する矢印Ｘ又はＹ方向に撮像手段５と露光光学系１４とを一体的に移動する。このようにして、上記撮像手段５の基準受光素子１７ｓがカラーフィルタ基板８の基準位置Ｓ１に位置付けられると、基準受光素子１７ｓと所定の位置関係を有するフォトマスク１１の基準位置Ｓ２、例えば同図に示す左端マスクパターン１２ａの左側縁部とカラーフィルタ基板８の基準位置Ｓ１とが合致して、同図（ｂ）に斜線を付して示すように、目標位置にストライプ状の露光パターン３０を形成することが可能となる。

その後は、撮像手段５により取得された画像データに基づいてアライメント機構２０が制御され、カラーフィルタ基板８の基準位置Ｓ１である左端ピクセル１６ａの左上端隅部にフォトマスク１１の基準位置Ｓ２が位置づけられて露光が進む。また、搬送中にカラーフィルタ基板８に回転ずれが生じた場合には、上記アライメント機構２０が制御されて、フォトマスク１１の中心を中心軸として露光光学系１４と撮像手段５とを一体的に回動（θ）して回転ずれを調整する。これにより、フォトマスク１１は、カラーフィルタ基板８が左右に振れながら搬送されても、それに追従して動く。そして、カラーフィルタ基板８上の１番目の露光領域７ａには、図８に示すようにストライプ状の露光パターン列３１が形成される。

さらに、カラーフィルタ基板８が進んでスタート位置から距離Ｄ２だけ移動すると、図７（ａ）に示すように、２番目の露光領域７ｂの搬送方向先頭端部Ｐ２が搬送手段１の基準位置Ｓに達する。同時に、上述と同様にしてマスクステージ２が同図（ｂ）に示すように搬送方向（矢印Ａ方向）と反対の矢印Ｂ方向に搬送速度Ｖ１と同じ速度Ｖ２（＝Ｖ１）で移動される。そして、フォトマスク１１の２番目のマスクパターン列１３ｂが露光光学系１４の光路上に位置付けられると、マスクステージ２の移動が停止される。この場合、フォトマスク１１の不透明部分１４ｂがカラーフィルタ基板８の搬送速度Ｖ１と同じ速度Ｖ２（＝Ｖ１）でもって矢印Ａで示す搬送方向と反対の矢印Ｂ方向に移動するため、上述と同様に、上記１番目の露光領域７ａと２番目の露光領域７ｂとの間の部分８ｂには露光が行なわれない。

一方、カラーフィルタ基板８は、継続して速度Ｖ１で矢印Ａ方向に搬送されるため、フォトマスク１１が所定位置に位置付けられると上述と同様にしてカラーフィルタ基板８の２番目の露光領域７ｂに対して露光が行なわれる。これにより、図８に示すようにカラーフィルタ基板８の２番目の露光領域７ｂに露光パターン列３１が形成される。

以下同様にして、図８に示すように、カラーフィルタ基板８の２番目の露光領域７ｂと３番目の露光領域７ｃとの間の部分８ｃには、露光パターン列３１が形成されず、３番目の露光領域７ｃに露光パターン列３１が形成される。そして、カラーフィルタ基板８がスタート位置から予め設定された例えば図５に示す距離Ｄ４だけ移動すると露光光源３を消灯して露光を終了する。なお、搬送手段１の載置面１ａに平行な面内にて、搬送方向（矢印Ａ方向）に直交する方向に露光光学系１４を２台並べて配設すれば、１〜３番目の露光領域７ａ〜７ｃの隣の露光領域７に対しても同時に露光が行なわれ、図８に示すように全ての露光領域７に対して露光パターン列３１を形成することができる。

なお、上記実施形態において、撮像手段５が露光光学系１４による露光位置と近接した位置を撮像するように配設された場合について説明したが、これに限られず、撮像手段５は露光位置の搬送方向手前側を撮像するように配設してもよい。この場合、撮像位置を搬送手段１の基準位置Ｓに設定して、撮像手段５が露光領域７の搬送方向先頭端部Ｐ１〜Ｐ３を撮像したときにマスクステージ２の移動を開始するようにすれば、前述と同様に搬送方向に設定された複数の露光領域７の間の部分８ｂ，８ｃに露光パターン列３１が形成されるのを防止することができる。

また、上記実施形態においては、投影レンズ４の倍率ＭがＭ＝１の場合について説明したが、倍率ＭはＭ＝１に限られず任意の値であってもよい。この場合、上記倍率ＭがＭ＝ｍのときには、フォトマスク１１に形成されるマスクパターン列１３の間隔Ｌ２は、露光領域７の搬送方向に沿った間隔Ｌ１の１／ｍに設定され、マスクステージ２の移動速度Ｖ２は、カラーフィルタ基板８の搬送速度Ｖ１の１／ｍとされる。

さらに、上記実施形態においては、被露光体であるカラーフィルタ基板８の搬送方向とフォトマスク１１のマスクパターン列１３とが直交して交差する場合について説明したが、カラーフィルタ基板８の搬送方向と上記フォトマスク１１のマスクパターン列１３との交差角度は、直交に限られず、本発明の目的を達成することができる範囲の交差角度であれば他の角度でもよい。

そして、以上の説明においては、被露光体がカラーフィルタ基板８である場合につい述べたが、これに限られず、複数の露光領域７にストライプ状の露光パターン列３１を形成する基板であれば如何なるものであってもよい。

本発明による露光装置の実施形態を示す概念図である。板面上に複数の露光領域が設定されたカラーフィルタ基板の一例を示す平面図である。上記露光装置に適用されるフォトマスクの一構成例を示す平面図である。上記露光装置におけるカラーフィルタ基板とフォトマスクとのアライメント調整を示す説明図であり、（ａ）はフォトマスクの露光位置と撮像手段の撮像位置を示す図、（ｂ）はカラーフィルタ基板の露光領域を示す図である。上記露光装置において、露光開始直前のカラーフィルタ基板とフォトマスクの関係を示す説明図である。上記露光装置において、カラーフィルタ基板の１番目の露光領域に対する露光を示す説明図である。上記露光装置において、カラーフィルタ基板の２番目の露光領域に対する露光を示す説明図である。上記露光装置によりカラーフィルタ基板の複数の露光領域に露光パターン列が形成された状態を示す平面図である。カラーフィルタ基板の搬送方向に設定された複数の露光領域の外部にて隣接する露光領域の間の部分に露光パターン列が形成された状態を示す平面図である。

符号の説明

１…搬送手段
１ａ…載置面
２…マスクステージ
３…露光光源
４…投影レンズ
５…撮像手段
６…制御手段
７…露光領域
７ａ…１番目の露光領域
７ｂ…２番目の露光領域
７ｃ…３番目の露光領域
８…カラーフィルタ基板（被露光体）
１０…位置検出センサー
１１…フォトマスク
１２…マスクパターン
１３…マスクパターン列
３１…露光パターン列
Ａ…搬送方向
Ｂ…搬送方向と反対方向
Ｌ１…カラーフィルタ基板の露光領域の配置間隔
Ｌ２…フォトマスクのマスクパターン列の配置間隔
Ｖ１…カラーフィルタ基板の搬送速度
Ｖ２…マスクステージの移動速度
Ｓ…搬送手段の基準位置
Ｐ１〜Ｐ３…搬送方向先頭端部

Claims

複数の露光領域が搬送方向に沿って所定間隔で設定された被露光体を載置面に載置し、所定方向に一定速度で搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の上方にて該搬送手段の被露光体の載置面に平行な面内に配設され、前記被露光体の搬送方向に交差する方向に沿って複数のマスクパターンが等間隔で配置されたマスクパターン列を前記搬送方向に設定された前記複数の露光領域と同じ数だけ一定間隔で設けたフォトマスクを載置して、前記被露光体の搬送方向と反対方向に移動可能としたマスクステージと、
前記被露光体に対する露光期間中常時点灯し、前記マスクステージに載置されたフォトマスクの複数のマスクパターン列の一つに露光光を照射する露光光源と、
前記搬送手段とマスクステージとの間に配設され、前記フォトマスクのマスクパターン列を前記被露光体の露光領域に投影する一定倍率の投影レンズと、
前記被露光体に設定された複数の露光領域の各搬送方向先頭端部を検出すると前記マスクステージを、一定速度で搬送中の前記被露光体の搬送方向とは反対方向に前記被露光体の搬送速度を前記投影レンズの倍率で除算して得た値に等しい速度で移動させて前記フォトマスクのマスクパターン列を切り換える制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
前記投影レンズとマスクステージとの間で前記露光光の光路と異なる方向に偏向された光路上に前記被露光体の露光領域を撮像する撮像手段を配設したことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
前記搬送手段は、前記被露光体が移動して前記複数の露光領域の各搬送方向先頭端部が予め設定された基準位置に達したことを検出する位置検出センサーを備えたことを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
前記被露光体は、カラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光装置。