JP4675812B2 - 磁気記録媒体、磁気記録装置および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
図7および図8に示した方法を用いてDTR媒体を作製した。
サーボ領域のバースト部:75%、
データ領域:67%。
下部保護膜13aとして約100nmのアモルファスカーボンを用い、これをエッチバックする際にイオン入射角を0°として、図3に示すように端部領域の保護膜13の膜厚が外周端に向かって減少するように傾斜させた。これらの工程以外は実施例1と同様の方法でDTR媒体を作製した。
外側端部領域にエッジリンスを施さずにレジスト50を残し、保護膜としてCVDによりDLCのみを成膜した。これらの工程以外は実施例1と同様の方法でDTR媒体を作製した。
下部保護膜13aとしてアモルファスカーボンの代わりにSiO2を用いた以外は、実施例1と同様の方法でDTR媒体を作製した。
下部保護膜13aとしてアモルファスカーボンの代わりにSiO2を用いた以外は、参照例2と同様の方法でDTR媒体を作製した。
保護膜13bとしてDLCの代わりにSiO2を用いた以外は、比較例1と同様の方法でDTR媒体を作製した。
実施例1:エッジリンスあり、下部保護膜はカーボン、外側端部領域の保護膜形状は平坦。
参照例2:エッジリンスあり、下部保護膜はカーボン、外側端部領域の保護膜形状は傾斜。
比較例1:エッジリンスなし、外側端部領域の保護膜形状は平坦。
参照例3:エッジリンスあり、下部保護膜はSiO2、外側端部領域の保護膜形状は平坦。
参照例4:エッジリンスあり、下部保護膜はSiO2、外側端部領域の保護膜形状は傾斜。
比較例2:エッジリンスなし、外側端部領域の保護膜形状は平坦。
(1)外側端部領域における保護膜の平均膜厚
外周端から300μmの位置における保護膜の膜厚(下部保護膜13aおよび保護膜13bの合計膜厚)を断面TEMで測定した。
FT−IRにより、潤滑剤のボンディング層とフリー層の含有量の測定を行い、ボンディング層の比率(ボンド率)を求めた。
各々のDTR媒体をドライブに組込み一週間後に取り出した。その後、各々のDTR媒体をSF6雰囲気中に放置した。1日後に各々のDTR媒体について腐食(腐食に伴う白濁)の有無を観察した。
エッジリンスを施した実施例1、参照例3のDTR媒体は、比較例1、2のDTR媒体に比べて、外側端部領域での保護膜の膜厚が厚くなっている。ここで、各例について、隣接領域における保護膜の膜厚は、比較例1または比較例2で測定された外側端部領域における保護膜の膜厚にほぼ等しい。したがって、端部領域と隣接領域との間の保護膜の膜厚差は、実施例1、参照例3で約20nm、参照例2、4で約12nmである。
Claims (5)
- ドーナツ形の基板と、前記基板上の磁性膜と、前記磁性膜上の保護膜とを具備し、前記基板の主面が、外周端と内周端との間の中央部にある記録領域と、外周端または内周端からそれぞれ100μm以上2000μm以内の範囲にある端部領域と、前記端部領域と前記記録領域との間にあり記録がなされない隣接領域とに区分されており、前記端部領域における磁性膜の膜厚が前記隣接領域のそれよりも薄く、前記保護膜はアモルファスカーボンからなる下部保護膜とダイヤモンドライクカーボンからなる最表面の保護膜とを含み、前記端部領域における保護膜の少なくとも一部の膜厚は前記隣接領域のそれよりも厚くなっていることを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記端部領域における保護膜の少なくとも一部の膜厚は、前記隣接領域のそれよりも10nm以上厚くなっていることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 請求項1記載の磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体を回転させるスピンドルモータと、アクチュエータと、前記アクチュエータにより駆動されるアクチュエータアームと、前記アクチュエータアームにより前記磁気記録媒体上に浮上した状態で支持される、記録再生ヘッドを組み込んだヘッドスライダとを具備することを特徴とする磁気記録装置。
- ドーナツ形の基板上に磁性膜を成膜し、
前記磁性膜上に内周端から100μm以上2000μm以内の端部領域を除いてレジストを形成し、外周端から100μm以上2000μm以内の端部領域にエッジリンスを施してレジストを除去し、
凹凸パターンを有するスタンパを用いてインプリントを行い、前記基板の外周端と内周端との間の中央部にある記録領域上のレジストをパターン化し、
前記パターン化されたレジストの凹部に残存するレジスト残渣をエッチングし、
前記パターン化されたレジストの凸部をマスクとして、前記端部領域および記録領域の磁性膜をエッチングし、
前記パターン化されたレジストを剥離し、
スパッタリングによりアモルファスカーボンからなる下部保護膜を成膜してエッチバックし、
外周端部端部領域における導通をとってCVDによりダイヤモンドライクカーボンからなる最表面の保護膜を成膜する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記磁性膜を10nm以上エッチングすることを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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