JP4673261B2 - Coating equipment - Google Patents
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Description
本発明は、スリットダイによって塗液を基材表面に均一に塗工し、薄膜を形成する塗工装置に関する。 The present invention relates to a coating apparatus that uniformly coats a coating liquid on a substrate surface with a slit die to form a thin film.
従来から、コーティングビードを安定して保持させるために、基材流れ方向上流側に減圧室を設けた塗工装置が提案され、減圧度を上げるために、基材走行方向に延設された減圧室を設けることが提案されている(特許文献1参照)。 Conventionally, in order to stably hold the coating bead, a coating apparatus provided with a decompression chamber on the upstream side in the base material flow direction has been proposed, and in order to increase the degree of decompression, the decompression extended in the base material traveling direction. It has been proposed to provide a chamber (see Patent Document 1).
この場合には、減圧効果を高めるためにノズル先端をできるだけ吐出口に近づける構成を採ることが困難である。 In this case, it is difficult to adopt a configuration in which the nozzle tip is as close as possible to the discharge port in order to enhance the pressure reduction effect.
また、均一な引圧を発生させるためにある程度大きな減圧室を設ける必要があり、塗工装置が全体として大型化するだけでなく、保全性、操作性を損なうという問題もある。 In addition, it is necessary to provide a certain degree of decompression chamber in order to generate a uniform pulling pressure, which not only increases the size of the coating apparatus as a whole, but also impairs maintainability and operability.
そして、これらの問題を解決できるものとして、ビードを安定保持するために、上流側に減圧用スリットを、下流側に塗液吐出用スリットを形成してなる塗工装置が提案されている(特許文献2参照)。 As a solution to these problems, there has been proposed a coating apparatus in which a decompression slit is formed on the upstream side and a coating liquid discharge slit is formed on the downstream side in order to stably hold the bead (patent) Reference 2).
具体的には、上流側ブロックと下流側ブロックの少なくとも2つのブロックを組み合わせて、塗液を幅方向に均一に吐出させるためのマニホールドおよびスリット状のランド部を構成したスリットダイを有し、該スリットダイ内に配置された少なくとも2枚のシムプレートの間に、少なくとも1枚のプレートリップを挟み込むとともに、その両側から上下流側ブロックで挟み込み、これらを密着係合させることにより、上流側に減圧用スリットを、下流側に塗液吐出用スリットを形成してなる。
特許文献2に記載された塗工装置を採用した場合には、全体としての小型化、保全性、操作性の向上を達成することができる。
When the coating apparatus described in
しかし、近年の基材の広幅化に対応させて塗液吐出用スリットを長くした場合には、同様に減圧用スリットも長くしなければならず、この結果、減圧用スリットの全範囲にわたって均一な減圧効果を達成することができなくなってしまうという問題がある。 However, when the coating liquid discharge slit is lengthened corresponding to the recent widening of the base material, the decompression slit must be lengthened as well, and as a result, uniform over the entire range of the decompression slit. There is a problem that the decompression effect cannot be achieved.
また、塗液の種類などに応じて減圧効果を調整することが必要であっても、減圧効果の調整を簡単には達成することができないという問題もある。 Moreover, even if it is necessary to adjust the pressure reduction effect according to the type of coating liquid, there is a problem that the pressure reduction effect cannot be easily adjusted.
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、全体としての小型化、保全性、操作性の向上を達成することができ、しかも、塗液吐出用スリットと平行な方向における全範囲にわたって均一な減圧効果を達成することができるとともに、減圧効果の調整を簡単に達成することができる塗工装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and can achieve overall size reduction, maintainability, and improvement in operability, and the entire range in a direction parallel to the coating liquid discharge slit. An object of the present invention is to provide a coating apparatus that can achieve a uniform decompression effect over a wide range and can easily achieve the adjustment of the decompression effect.
請求項1の塗工装置は、バックアップロールに対向配置されたスリットダイを有し、前記スリットダイから吐出された塗液が、バックアップロール上を搬送される基材の表面に塗工される塗工装置であって、前記スリットダイは、塗工用マニホールドと塗液塗出用スリットが形成された本体ブロックと、前記塗液吐出用スリットよりも基材の流れ方向の上流側に形成された凹所と、前記凹所と連通された吸引孔と、前記凹所に位置調整可能に装着された調整用ブロックとを有し、前記バックアップロールと対向する凹所の一部と前記調整用ブロックで減圧室が構成され、前記調整用ブロックを挟んで前記バックアップロールと反対側の前記凹所の一部と前記調整用ブロックで整流室が構成されたことを特徴とする。
The coating apparatus according to
請求項2の塗工装置は、前記整流室の内部に整流部材を収容したものである。
The coating apparatus of
請求項1の塗工装置は、全体としての小型化、保全性、操作性の向上を達成することができ、しかも、塗液吐出用スリットと平行な方向における全範囲にわたって均一な減圧効果を達成することができ、減圧室を簡単に構成することができるので、減圧効果の調整を簡単に達成することができるという特有の効果を奏する。
The coating apparatus of
請求項2の塗工装置は、より均一な減圧効果を達成することができるという特有の効果を奏する。
The coating apparatus according to
以下、添付図面を参照して、本発明の塗工装置の実施の形態を詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a coating apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は本発明の塗工装置の一実施形態を示す概略縦断側面図、図2は同正面図、図3は図1の二点鎖線で囲まれた部分を示す拡大図である。 FIG. 1 is a schematic longitudinal side view showing an embodiment of the coating apparatus of the present invention, FIG. 2 is a front view thereof, and FIG. 3 is an enlarged view showing a portion surrounded by a two-dot chain line in FIG.
この塗工装置1は、バックアップロール2に対向配置されたスリットダイ3を有し、スリットダイ3から吐出された塗液が、コーティングビードを形成した状態で、バックアップロール2上を搬送される基材(被塗工シート状基材)の表面に塗工される。
This
前記スリットダイ3は、塗工用マニホールド32と塗液吐出用スリット33が形成された本体ブロック31と、塗液吐出用スリット33よりも基材の流れ方向の上流側に形成された凹所34と、凹所34と連通された吸引孔35と、凹所34に位置調整可能に装着された調整用ブロック36とを有している。
The
したがって、調整用ブロック36を装着することによって、凹所34の一部(バックアップロール2と対向する部分)が減圧室37に構成され、凹所34の他の一部(調整用ブロック36を挟んでバックアップロール2と反対側の部分)が整流室38に構成されている。この整流室38には、発泡体、金属メッシュなどの整流部材39が収容されていることが好ましい。
Therefore, by attaching the
また、前記吸引孔35のサイズ、個数、間隔は適宜設定することができる。
The size, number and interval of the
前記塗液吐出用スリット33と前記減圧室37との間隔は、例えば、1〜50mmの範囲において、塗液の種類、塗布厚さなどを考慮して最適の値に設定することが好ましい。 The interval between the coating liquid discharge slit 33 and the decompression chamber 37 is preferably set to an optimal value in the range of 1 to 50 mm, for example, in consideration of the type of coating liquid and the coating thickness.
さらに、前記減圧室37の開口厚さ(基材の流れ方向のサイズ)は、例えば、1〜20mmの範囲において、塗液の種類、塗布厚さなどを考慮して最適の値に設定することが好ましく、前記減圧室37の奥行きは、例えば、1〜100mmの範囲において、塗液の種類、塗布厚さなどを考慮して最適の値に設定することが好ましい。 Furthermore, the opening thickness (size in the flow direction of the base material) of the decompression chamber 37 is set to an optimum value in consideration of, for example, the type of coating liquid and the coating thickness in the range of 1 to 20 mm. The depth of the decompression chamber 37 is preferably set to an optimum value in the range of 1 to 100 mm, for example, in consideration of the type of coating liquid and the coating thickness.
上記の構成の塗工装置を採用すれば、次のようにして、基材の表面に所望の厚さの塗膜を形成することができる。 If the coating apparatus having the above configuration is employed, a coating film having a desired thickness can be formed on the surface of the substrate as follows.
バックアップロール2の回転によって基材が搬送される。また、スリットダイ3の先端面と基材表面との間隙が例えば10μm〜1mmの範囲内の所定の設定値となるように、スリットダイ3がバックアップロール2に接近される。
The base material is conveyed by the rotation of the
また、塗工用マニホールド32まで送液された塗液は、塗工用マニホールド32から塗液吐出用スリット33への流路が縮小経路であるため、幅方向に均一に広げられる。 Further, the coating liquid fed to the coating manifold 32 is uniformly expanded in the width direction because the flow path from the coating manifold 32 to the coating liquid discharge slit 33 is a reduction path.
均一に広げられた塗液は、塗液吐出用スリット33を通して吐出され、コーティングビードを形成しつつ基材に塗布される。 The uniformly spread coating liquid is discharged through the coating liquid discharge slit 33 and applied to the substrate while forming a coating bead.
塗液送液量が安定した後、減圧室37が減圧される。したがって、空気の流れは、コーティングビードの上流側部分、減圧室37、整流室38、吸引孔35の順となる。そして、減圧度の強さの、幅方向均一性は、整流室38(好ましくは、整流部材39が収容された整流室38)によって達成される。
After the coating liquid feeding amount is stabilized, the decompression chamber 37 is decompressed. Therefore, the air flow is in the order of the upstream portion of the coating bead, the decompression chamber 37, the
そして、減圧室37が塗液吐出用スリット33の直上流側に配置されているので、減圧度低下防止のためのシール構造を要することなく、コーティングビード近傍に塗工幅方向に均一化された高い減圧を与えることができる。その結果、コーティングビードを所望の形態に安定して維持することができ、極めて薄い膜を均一に塗工することができる。 And, since the decompression chamber 37 is arranged immediately upstream of the coating liquid discharge slit 33, it is made uniform in the coating width direction in the vicinity of the coating bead without requiring a seal structure for preventing a reduction in the degree of decompression. A high vacuum can be applied. As a result, the coating bead can be stably maintained in a desired form, and an extremely thin film can be applied uniformly.
また、本体ブロック31に対する調整用ブロック36の相対位置を変化させることによって、減圧室37のサイズを変化させ、ひいては、減圧効果を変化させることができる。
Further, by changing the relative position of the
さらに、塗工動作を行わないときには、減圧室37によりゴミを吸引することができる。 Furthermore, when the coating operation is not performed, dust can be sucked by the decompression chamber 37.
3 スリットダイ
33 塗液吐出用スリット
36 調整用ブロック
37 減圧室
38 整流室
39 整流部材
3 Slit Die 33 Coating
Claims (2)
前記スリットダイから吐出された塗液が、バックアップロール上を搬送される基材の表面に塗工される塗工装置であって、
前記スリットダイは、塗工用マニホールドと塗液塗出用スリットが形成された本体ブロックと、
前記塗液吐出用スリットよりも基材の流れ方向の上流側に形成された凹所と、
前記凹所と連通された吸引孔と、
前記凹所に位置調整可能に装着された調整用ブロックとを有し、
前記バックアップロールと対向する凹所の一部と前記調整用ブロックで減圧室が構成され、
前記調整用ブロックを挟んで前記バックアップロールと反対側の前記凹所の一部と前記調整用ブロックで整流室が構成された
ことを特徴とする塗工装置。 Having a slit die placed opposite the backup roll,
The coating liquid discharged from the slit die is a coating device that is coated on the surface of a substrate conveyed on a backup roll,
The slit die is a main body block formed with a coating manifold and a coating liquid coating slit,
A recess formed on the upstream side in the flow direction of the base material from the coating liquid discharge slit;
A suction hole communicating with the recess;
An adjustment block mounted in the recess so as to be position-adjustable;
A decompression chamber is constituted by a part of the recess facing the backup roll and the adjustment block,
A coating apparatus , wherein a rectifying chamber is constituted by a part of the recess opposite to the backup roll and the adjustment block across the adjustment block .
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