[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP4591316B2 - 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置 - Google Patents

超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4591316B2
JP4591316B2 JP2005321909A JP2005321909A JP4591316B2 JP 4591316 B2 JP4591316 B2 JP 4591316B2 JP 2005321909 A JP2005321909 A JP 2005321909A JP 2005321909 A JP2005321909 A JP 2005321909A JP 4591316 B2 JP4591316 B2 JP 4591316B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultrasonic
cleaning
wave guide
tank
ultrasonic wave
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005321909A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007125516A (ja
Inventor
定 塩月
光一 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2005321909A priority Critical patent/JP4591316B2/ja
Priority to US11/589,392 priority patent/US7757701B2/en
Priority to CN200610163545XA priority patent/CN1962090B/zh
Publication of JP2007125516A publication Critical patent/JP2007125516A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4591316B2 publication Critical patent/JP4591316B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S134/00Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902Semiconductor wafer

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)

Description

本発明は、超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置に係り、より特別には、機械加工部品等の洗浄を最短時間で実施したい工程において使用するのに適する超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置に関するものである。
製品を加工する場合に、切り屑等の異物や加工補助のために使用された油脂等の除去のため洗浄が必ず必要になる。このことは、機械製品だけではなく、電気製品においても必要となる。高周波数の超音波を利用して、水や溶剤に入れられた被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法は、工業等の分野で広く利用されている。この様な超音波洗浄方法は、流体を被洗浄物に噴射して洗浄するような方法では洗浄することが困難な複雑な形状物や壊れ易い物体の洗浄に特に適している。超音波洗浄方法が適する分野においても、製品が精密で複雑になるに伴い、更に精密な洗浄やより難しい洗浄、より完全な洗浄が求められる結果、より強力な洗浄が必要とされる。
従来の超音波洗浄方法では、被洗浄物に対する洗浄力を高める為に、振動板単位面積あたりの振動子の取付数を増やし、且つ超音波振動子の入力電力をより高いものにして超音波振動板より発振する超音波力(洗浄力)を高めようとしているが、この方法では超音波振動子や振動板に過剰な負荷が作用するため短期間での破損・磨耗を生じる。また、超音波力を最大に引き出す為の脱気液の利用と適正温度への液温コントロール、汚れに対する最適洗浄液種の選定等をした場合においても、超音波の発振を制御する超音波発振器においても過負荷による問題が生じ、物理的な限界から、超音波力(洗浄力)を上げての高速洗浄が困難であった。
本発明は、上述した事情に鑑みなされたもので、従来並みの超音波の入力電力でも超音波力を高めて高速洗浄方法を可能にする超音波洗浄方法及び装置を提供するものである。
本発明の別の目的は、洗浄槽を小型化し洗浄装置の大幅な小型化が可能な超音波洗浄装置を提供することを目的としている。
本発明の請求項1に記載の形態では、超音波洗浄装置(50)は、上述した目的を達成するために、複数の超音波振動子(1)を有し、複数の超音波振動子(1)により発生された振動の超音波力を洗浄液(20)に伝播する超音波振動板(2)と、超音波振動板(2)に対向するように配置され、洗浄液(20)を介して伝播された超音波力を集める超音波導波チャンバ(3)と、超音波導波チャンバ(3)に接合され、超音波導波チャンバ(3)により集められた超音波力を洗浄液(20)を介して、浸漬された被洗浄物(5)に伝播して、被洗浄物(5)洗浄する、洗浄槽(4)とを具備する。超音波導波チャンバ(3)の上部は、その上面(31)により密封された椀状に形成されると共に、超音波導波チャンバ(3)内の洗浄液(20)の液面と上面(31)との間には空気層(10)が形成されており、超音波導波チャンバ(3)は、洗浄液(20)を介して伝播された超音波力を、洗浄液(20)と空気層(10)との界面で反射させて集束させることにより超音波力を集めることを特徴とする。
この様に構成することにより、特に、超音波導波チャンバを設けて洗浄槽に超音波力を集束、集中する機構を利用することにより、従来超音波洗浄力の強化時に問題となった超音波振動子と超音波発振器の破損や故障という問題を生じることなく、超音波洗浄装置の洗浄力が向上できる。従って、従来の超音波洗浄装置の洗浄速度を飛躍的に向上し、且つ洗浄設備の小型化と低コスト化が可能になる。
更に超音波振動板が発生した振動が超音波導波チャンバの液面で反射して、超音波力が集束、集中する構成をより明確にする。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項に記載の形態において、前記洗浄槽は、その下部が前記超音波導波チャンバの前記上面(31)から下方向に突き出ており、その上部が前記超音波導波チャンバの上面(31)から上方向に伸張するように立設することを特徴とする。
本形態によれば、本発明の超音波洗浄装置の構成をより具体化する。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項1又は2に記載の形態において、前記洗浄槽は、前記超音波導波チャンバの実質的に中央に設置されることを特徴とする。
本形態によれば、超音波導波チャンバにより集束された超音波力を、洗浄槽に集中できるので、洗浄力を向上できる。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項1からに記載の形態のいずれか一項において、前記超音波導波チャンバの上面(31)には、前記超音波導波チャンバ内の洗浄液面の高さ(超音波導波ギャップ)を調整するための超音波導波ギャップ調整バルブ(9)が設けられることを特徴とする。
本形態によれば、超音波導波ギャップ調整バルブにより、超音波導波チャンバ内の洗浄液面の高さ(超音波導波ギャップ)を調整することにより、超音波力の集束及び集中を最適に改善することができる。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項1からに記載の形態のいずれか一項において、前記超音波洗浄装置内において、洗浄液は、洗浄槽、超音波導波チャンバの順で流れることを特徴とする。
本形態によれば、洗浄液が洗浄槽、超音波導波チャンバの順で流れるので、洗浄により除去された異物等が速やかに除去されて、被洗浄物の周りの洗浄液の状態をよりクリーンに保つことができ、その結果洗浄効果を改善できる。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項1からに記載の形態のいずれか一項において、本体槽(30)を更に具備し、前記超音波導波チャンバ及び前記洗浄槽を本体槽内に収容する。前記超音波振動板は、超音波導波チャンバに対向するように、本体槽の底面に設置されることを特徴とする。
本形態によれば、本発明の超音波洗浄装置の好適な構成をより明確にする。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項に記載の形態において、前記超音波導波チャンバと前記本体槽の底面(2)の内面との間に形成される、排液ギャップ(12)は0.1〜3mmであることを特徴とする。
本形態によれば、排液ギャップが適切に設定されるので、超音波洗浄装置を通して洗浄液が流された場合に、洗浄槽の液面高さ(洗浄液深さ)を適切な洗浄条件となるように保持することができる。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項6又は7に記載の形態において、循環ポンプ(7)と、循環タンク(8)とが更に具備される。洗浄液は、前記循環タンクに貯められており、前記循環ポンプにより前記循環タンクから吸引されて、前記洗浄槽、前記超音波導波チャンバ、前記本体槽の順で流れて、前記循環タンクに戻ることを特徴とする。
本形態によれば、洗浄液が超音波洗浄装置を通して、洗浄槽、超音波導波チャンバ、本体槽の順で流れるので、洗浄により除去された異物等が速やかに除去されて、被洗浄物の周りの洗浄液の状態を常にクリーンに保つことができ、その結果洗浄効果を改善できる。
本発明の請求項に記載の形態では、上記請求項6から8に記載の形態のいずれか一項において、前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)を計測するための液面計(6)が更に具備される。前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)が適切な深さに保持されるように、液面計を使用して前記超音波洗浄装置は制御されることを特徴とする。
本形態によれば、洗浄槽の洗浄液深さ(14)を適切な深さに保持するように制御することにより、洗浄条件をより適正に設定して洗浄効果を改善できる。
本発明の請求項10に記載の形態の超音波洗浄方法は、複数の超音波振動子(1)により発生された振動を、前記超音波振動子を具備する超音波振動板(2)を介して洗浄液(20)に伝播する手順と、前記洗浄液を内部に収容する超音波導波チャンバ(3)により前記超音波振動板から伝播される振動の超音波力を集める手順と、前記超音波導波チャンバに接合される洗浄槽(4)の内部に貯められた前記洗浄液に浸漬された被洗浄物(5)を、前記超音波力を使用して洗浄する手順とを具備することを特徴とする。超音波導波チャンバ(3)の上部は、その上面(31)により密封された椀状に形成されると共に、超音波導波チャンバ(3)内の洗浄液(20)の液面と前記上面(31)との間には空気層(10)が形成される。超音波力を集める手順において、洗浄液(20)を介して伝播された超音波力を、超音波導波チャンバ(3)において、洗浄液(20)と空気層(10)との界面で反射させて集束させることにより集める。
この様に構成することにより、超音波導波チャンバを設けて、複数の超音波振動子の発生する超音波力を洗浄槽に集束、集中する手順を具備することにより、従来超音波洗浄力の強化時に問題となった超音波振動子と超音波発振器の破損や故障という問題を生じることなく洗浄力の向上ができる、超音波洗浄方法を提供する。従って、従来の超音波洗浄方法の洗浄速度を飛躍的に向上し、且つ洗浄設備の小型化と低コスト化が可能になる。
本発明の請求項11に記載の形態では、上記請求項10に記載の形態において、循環ポンプ(7)により、循環タンク(8)に貯められた前記洗浄液を吸引して、前記洗浄槽、前記超音波導波チャンバの順で流して前記循環タンクに戻るように、前記洗浄液を循環させる手順を、更に具備することを特徴とする。
本形態によれば、洗浄液が装置を通して、洗浄槽、超音波導波チャンバの順で流れるので、洗浄により除去された異物等が速やかに除去されて、被洗浄物の周りの洗浄液の状態を常にクリーンに保つことができ、その結果洗浄効果を改善できる。
本発明の請求項12に記載の形態では、上記請求項11に記載の形態において、前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)を計測するための液面計(6)を具備して、前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)を適切に保持するように制御する手順を、更に具備することを特徴とする。
本形態によれば、洗浄槽の洗浄液深さ(14)を適切な深さに保持するように制御することにより、洗浄条件をより適正に設定して洗浄効果を改善できる。
本発明の請求項13に記載の形態では、上記請求項10から12に記載の形態のいずれか一項において、超音波導波ギャップ調整バルブ(9)が前記超音波導波チャンバの上面(31)に設けられており、前記バルブにより、前記超音波導波チャンバ内の洗浄液面の深さ(超音波導波ギャップ(13))を調整する手順を更に具備することを特徴とする。
本形態によれば、超音波導波ギャップ調整バルブにより、超音波導波チャンバ内の洗浄液面の高さ(超音波導波ギャップ)を調整することにより、超音波力の集束及び集中を改善することができる。
上記の本発明の説明において、カッコ()内の記号又は数字は、以下に示す実施の形態との対応を示すために添付される。
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態の超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を詳細に説明する。図1は、本発明に係る超音波洗浄装置の一実施の形態の構成を図解的に示す説明図である。
図1を参照すると、本発明の一実施の形態の超音波洗浄装置50は、複数の超音波振動子1と、振動子1の発生した振動の超音波力を洗浄液20に伝える超音波振動板2と、超音波力を集める超音波導波チャンバ3と、被洗浄物5を浸漬洗浄する洗浄槽4と、洗浄槽4と超音波導波チャンバ3を収容するための本体槽30とを具備する。本実施の形態において、本体槽30内に、超音波導波チャンバ3が本体槽30の底面(ここでは、超音波振動板)2から離れた状態で設置される。超音波導波チャンバ3は、その上面31が閉じられたお碗形状の容器であり、実質的にその中央に洗浄槽4が設置されている。洗浄槽4は図1に示すように、その一部分(下部)が超音波導波チャンバ3の上面31を貫通してチャンバ3の下端の超えない範囲でチャンバ3内部に突き出ており、その上部が上面31から上方向に伸張するように上面31に立設される。洗浄槽4は超音波導波チャンバ3に接合される。超音波導波チャンバ3は、その上面31に導波ギャップ調整バルブ9を具備しており、導波ギャップ調整バルブ9は、後で説明する超音波導波ギャップ13を適正に調整するバルブである。
本実施の形態において、本体槽30の底面は超音波振動板2の役割も果たしており、底面(超音波振動板)2には、複数の(本実施の形態においては6個であるが、別の数量であっても良い)超音波振動子1が取り付けられる。超音波振動子1は平面的に超音波導波チャンバ3の範囲に収まるように配置されることが好ましい。本体槽30、超音波導波チャンバ及び洗浄槽内には水又は溶剤等の洗浄液20が満たされており、超音波振動子1の発生する振動は、超音波振動板2を介して洗浄液20に伝播され、洗浄液20において発生するキャビテーション等(超音波力)により被洗浄物5を洗浄する。
超音波洗浄装置50は、循環ポンプ7と、循環タンク8と、濾過装置16と、液面計6とを更に具備する。循環タンク8は、循環する洗浄液20を貯めており、循環ポンプ7は、循環タンク8内の清浄な洗浄液20を洗浄槽4に常時供給して、洗浄槽4の洗浄液深さを適正に維持する。液面計6は、洗浄槽4内の洗浄液20の深さを計測、確認しており、レーザー式等の光学タイプ、超音波式、静電式等の電気式、フロートタイプ等の機械式等の種々の既知な液面計であって良い。濾過装置16は、循環ポンプ7のラインに設置されて、汚れた洗浄液20を濾過してきれいにする。
超音波洗浄装置50において、超音波導波チャンバ3の上部が上面31により密封されていることにより、超音波導波チャンバ3内には空気層10が形成される。複数の超音波振動子1の発生する振動は、空気層10と洗浄液20の界面で反射されて、集束、集中され、その超音波力が強化される。一方、本実施の形態の洗浄槽4においては、上記のごとく、複数の超音波振動子1が配置され、超音波導波チャンバ3が設けられることにより、被洗浄物5の周りに超音波力強化エリア11が形成される。超音波力強化エリア11は、本発明の構成により超音波力が集合強化される場所である。また、上記のごとく、超音波導波チャンバ3が本体槽20の底面(超音波振動板)2から離れて設置されるので、図1に示すように、超音波導波チャンバ3と本体槽20の底面(超音波振動板)2との間には、排液ギャップ12が形成される。排液ギャップ12は、洗浄力によって被洗浄物5より分離された異物とそれを含んだ洗浄液20を全周より均一に排液する部分である。排液ギャップ12は通常0.1〜3mmであることが好ましい。排液ギャップ12が適正に設定されることにより、洗浄槽4の洗浄液面は適正な深さに設定できる。
洗浄槽4内の洗浄液深さ14は図1に示すように、本体槽30の底面2の内面から洗浄槽4内の洗浄液の液面までの距離であり、洗浄効果に影響することが分かっている。洗浄槽4内の洗浄液深さ14は、被洗浄物5の洗浄部を浸漬可能であって且つ、洗浄効果を最適条件に設定するように保持される。本実施の形態において、洗浄槽4内の洗浄液深さ14は、75mmに設定される(実際の実施例においても同様に設定された)。また、超音波導波ギャップ13は、本体槽30の底面2の内面から超音波導波チャンバ3内の洗浄液の液面までの距離であり、超音波力に影響を与え、従って洗浄効果に影響を与えることが分かっている。超音波導波ギャップ13は、超音波力を中央の洗浄槽4に導くための最適な条件に設定されることが好ましく、本実施の形態において超音波導波ギャップ13は、3〜20mmに設定される。本実施の形態において、洗浄槽4は円筒形状であり、洗浄槽径15は、反射させた超音波力を合成・集束・集中させるために最適な径に設定されることが好ましく、本実施の形態においては、Φ75mmである(実際の実施例において同様に設定された)。洗浄槽4は、例えば四角、六角、楕円等の筒形等の円筒形以外の形状であっても良く、その相当円直径が円筒形の場合と同等であれば良い。上記の洗浄液深さ14、超音波導波ギャップ13及び洗浄槽径15は、上記の値に限定されず、被洗浄物5の寸法に合わせて適宜設定されても良い。
上記構成にて本発明の作動を説明する。小型の洗浄槽4は、液面計6により計測された洗浄液深さに基づいて、最適な液深さとなるように循環洗浄液流量を調整、供給する。循環洗浄液流量の調整は、循環ポンプ流量を調整したり、配管系に流量調整弁を設ける等既知な手段により可能である。あるいは、洗浄槽4の洗浄液上面を最適液深さに合わせて多少オーバーフローする方法(図示されない)で最適液深さを保つ。洗浄液が循環して流れ、排液ギャップ12による適正な管路抵抗により、洗浄液深さ14は適正に保持される。この状態でまず、被洗浄物5は超音波洗浄力の強化された洗浄槽4に投入される。被洗浄物5に付着した油脂分・異物は、超音波振動子1の発生する超音波のキャビテーション効果(超音波力)で被洗浄物5から効果的に分離され、この分離されたもの(異物等)は、洗浄液20が循環して流れるので、超音波導波チャンバ3を経由し排液ギャップ12を介して全周より洗浄槽4外に排出される。この流れにより、洗浄槽4内の被洗浄物5の回りは、強化超音波エリヤ11でありながら、クリーンな洗浄液状態が保たれるので、すすぎ洗浄の工程も短縮され数秒での洗浄で、1つの被洗浄物5の洗浄(1ケ流しダイレクト搬送)が可能となり、従来の超音波洗浄方法に比較し飛躍的な洗浄速度で洗浄が完了する。
次に上記実施の形態の効果及び作用について説明する。
本発明の上記の一実施の形態の超音波洗浄装置により以下の効果が期待できる。
・超音波導波チャンバを設けて中央の小型洗浄槽に超音波力を集束、集中する機構を利用することにより、従来超音波洗浄力の強化時に問題となった超音波振動子と超音波発振器の破損や故障という問題を生じることなく、超音波洗浄装置の洗浄力が向上できる。
・上記作用が功奏し、即ち、従来の超音波洗浄装置の洗浄速度を飛躍的に向上し、洗浄設備の小型化と低コストな洗浄方法を提供できる。
上記において記載した、あるいは添付図面に示した実施の形態において、本発明の超音波洗浄装置は、洗浄液が装置を循環して流れる装置として記載されたが、該装置を通して洗浄液が循環しない構成であっても良い。即ち、循環ポンプ、循環タンク等が削除されたとしても、本発明は成立する。
上記の説明において、本発明の超音波洗浄装置は、好適な形態ではあるが、説明を分かり易くするために単純化されているので、本装置に付加的な機能を与えるために、付加的な制御、及び例えば、種々のセンサ、配管付属品、その他の付属品等の構成要素が本発明に組み込まれても良い。
上記の実施の形態は本発明の一例であり、本発明は、該実施の形態により制限されるものではなく、請求項に記載される事項によってのみ規定されており、上記以外の実施の形態も実施可能である。
図1は、本発明に係る超音波洗浄装置の一実施の形態の構成を図解的に示す説明図である。
符号の説明
1 超音波振動子
2 超音波振動板
3 超音波導波チャンバ
4 洗浄槽
5 被洗浄物
6 液面計
7 循環ポンプ
8 循環タンク
9 導波ギャップ調整バルブ
10 空気層
11 超音波強化エリア
12 排液ギャップ
16 濾過装置
20 洗浄液
30 本体槽
50 超音波洗浄装置

Claims (13)

  1. 超音波洗浄装置(50)であって、
    複数の超音波振動子(1)を有し、前記複数の超音波振動子(1)により発生された振動の超音波力を洗浄液(20)に伝播する超音波振動板(2)と、
    前記超音波振動板(2)に対向するように配置され、前記洗浄液(20)を介して伝播された前記超音波力を集める超音波導波チャンバ(3)と、
    前記超音波導波チャンバ(3)に接合され、前記超音波導波チャンバ(3)により集められた前記超音波力を前記洗浄液(20)を介して、浸漬された被洗浄物(5)に伝播して、前記被洗浄物(5)洗浄する、洗浄槽(4)と、
    を具備する超音波洗浄装置において、
    前記超音波導波チャンバ(3)の上部は、その上面(31)により密封された椀状に形成されると共に、前記超音波導波チャンバ(3)内の洗浄液(20)の液面と前記上面(31)との間には空気層(10)が形成されており、
    前記超音波導波チャンバ(3)は、前記洗浄液(20)を介して伝播された前記超音波力を、前記洗浄液(20)と前記空気層(10)との界面で反射させて集束させることにより前記超音波力を集める、ことを特徴とする超音波洗浄装置。
  2. 前記洗浄槽は、その下部が前記超音波導波チャンバの前記上面(31)から下方向に突き出ており、その上部が前記超音波導波チャンバの前記上面から上方向に伸張するように立設することを特徴とする請求項に記載の超音波洗浄装置。
  3. 前記洗浄槽は、前記超音波導波チャンバの実質的に中央に設置されることを特徴とする請求項1又は2に記載の超音波洗浄装置。
  4. 前記超音波導波チャンバの前記上面(31)には、前記超音波導波チャンバ内の洗浄液面の高さ(超音波導波ギャップ(13))を調整するための超音波導波ギャップ調整バルブ(9)が設けられることを特徴とする請求項1からのいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
  5. 前記超音波洗浄装置において、洗浄液は、前記洗浄槽、前記超音波導波チャンバの順で流れることを特徴とする請求項1からのいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
  6. 前記超音波洗浄装置は、前記超音波導波チャンバ及び前記洗浄槽を内部に収容する本体槽(30)を更に具備しており、
    前記超音波振動板は、前記超音波導波チャンバに対向するように、前記本体槽の底面に設置されることを特徴とする請求項1からのいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
  7. 前記超音波導波チャンバと前記本体槽の底面(2)の内面との間に形成される、排液ギャップ(12)は、0.1〜3mmであることを特徴とする請求項に記載の超音波洗浄装置。
  8. 前記超音波洗浄装置は、循環ポンプ(7)と、循環タンク(8)とを更に具備しており、洗浄液は、前記循環タンクに貯められており、前記循環ポンプにより前記循環タンクから吸引されて、前記洗浄槽、前記超音波導波チャンバ、前記本体槽の順で流れて、前記循環タンクに戻ることを特徴とする請求項6又は7に記載の超音波洗浄装置。
  9. 前記超音波洗浄装置は、前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)を計測するための液面計(6)を更に具備しており、前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)が適切な深さに保持されるように、前記超音波洗浄装置は制御されることを特徴とする請求項6から8のいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
  10. 複数の超音波振動子(1)により発生された振動を、前記超音波振動子を具備する超音波振動板(2)を介して洗浄液(20)に伝播する手順と、
    前記洗浄液を内部に収容する超音波導波チャンバ(3)により前記超音波振動板から伝播される振動の超音波力を集める手順と、
    前記超音波導波チャンバに接合される洗浄槽(4)の内部に貯められた前記洗浄液に浸漬された被洗浄物(5)を、前記超音波力を使用して洗浄する手順と、
    を具備する超音波洗浄方法において、
    前記超音波導波チャンバ(3)の上部は、その上面(31)により密封された椀状に形成されると共に、前記超音波導波チャンバ(3)内の洗浄液(20)の液面と前記上面(31)との間には空気層(10)が形成されており、
    前記超音波力を集める手順において、前記洗浄液(20)を介して伝播された前記超音波力を、前記超音波導波チャンバ(3)において、前記洗浄液(20)と前記空気層(10)との界面で反射させて集束させることにより集める、ことを特徴とする超音波洗浄方法。
  11. 循環ポンプ(7)により、循環タンク(8)に貯められた前記洗浄液を吸引して、前記洗浄槽、前記超音波導波チャンバの順で流して前記循環タンクに戻るように、前記洗浄液を循環させる手順を、更に具備することを特徴とする請求項10に記載の超音波洗浄方法。
  12. 前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)を計測するための液面計(6)を具備して、前記洗浄槽の洗浄液深さ(14)を適切に保持するように制御する手順を、更に具備することを特徴とする請求項11に記載の超音波洗浄方法。
  13. 前記超音波導波チャンバの上面(31)に設けられた超音波導波ギャップ調整バルブ(9)により、前記超音波導波チャンバ内の洗浄液面の深さ(超音波導波ギャップ(13))を調整する手順を、更に具備することを特徴とする請求項10から12のいずれか一項に記載の超音波洗浄方法。
JP2005321909A 2005-11-07 2005-11-07 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置 Expired - Fee Related JP4591316B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005321909A JP4591316B2 (ja) 2005-11-07 2005-11-07 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置
US11/589,392 US7757701B2 (en) 2005-11-07 2006-10-30 Ultrasonic cleaning method and device
CN200610163545XA CN1962090B (zh) 2005-11-07 2006-11-07 超声波清洗方法和装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005321909A JP4591316B2 (ja) 2005-11-07 2005-11-07 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007125516A JP2007125516A (ja) 2007-05-24
JP4591316B2 true JP4591316B2 (ja) 2010-12-01

Family

ID=38002515

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005321909A Expired - Fee Related JP4591316B2 (ja) 2005-11-07 2005-11-07 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7757701B2 (ja)
JP (1) JP4591316B2 (ja)
CN (1) CN1962090B (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5470186B2 (ja) * 2010-07-30 2014-04-16 日本発條株式会社 被検査物の清浄度検査装置と、清浄度検査方法
US9050171B2 (en) * 2010-10-04 2015-06-09 William J. Foster Small diameter fragmatome for minimally traumatic retained lens fragments removal
GB2497489B (en) * 2010-10-05 2017-02-08 Univ Putra Malaysia A method and apparatus for high intensity ultrasonic treatment of baking materials
MY188904A (en) 2010-10-05 2022-01-13 Univ Putra Malaysia A method and apparatus for high intensity ultrasonic treatment of baking materials
WO2016033442A1 (en) * 2014-08-28 2016-03-03 Applied Materials, Inc. Exfoliation process for removal of deposited materials from masks carriers, and deposition tool components
CN108772373A (zh) * 2018-08-14 2018-11-09 上海台姆超声设备有限公司 全自动中板超声波清洗机
WO2021007425A1 (en) * 2019-07-10 2021-01-14 Postprocess Technologies, Inc. Methods and system for removal of unwanted material from an additively manufactured object

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5653786A (en) * 1979-10-08 1981-05-13 Idemitsu Kosan Co Ultrasonic washer
JPS6339487U (ja) * 1986-09-02 1988-03-14
JPH05220459A (ja) * 1992-02-12 1993-08-31 Kyushu Sumitoku Denshi Kk 連続超音波洗浄装置
JPH06333906A (ja) * 1993-05-24 1994-12-02 Toshiba Ceramics Co Ltd 超音波洗浄装置
JPH10128256A (ja) * 1996-11-01 1998-05-19 Kaijo Corp 超音波洗浄装置
JPH10192800A (ja) * 1997-01-13 1998-07-28 Kaijo Corp 超音波洗浄装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4543130A (en) * 1984-08-28 1985-09-24 Rca Corporation Megasonic cleaning apparatus and method
JPS6339487A (ja) 1986-08-04 1988-02-19 Canon Inc モ−タ−駆動装置
JPS6458389A (en) * 1987-08-28 1989-03-06 Hitachi Ltd Ultrasonic cleaner
JPH06103678B2 (ja) * 1987-11-28 1994-12-14 株式会社東芝 半導体基板の加工方法
JPH0377319A (ja) 1989-08-21 1991-04-02 Dan Kagaku:Kk 超音波洗浄装置
US5090432A (en) * 1990-10-16 1992-02-25 Verteq, Inc. Single wafer megasonic semiconductor wafer processing system
JPH07102318B2 (ja) 1990-11-29 1995-11-08 ソニツク・フエロー株式会社 超音波処理方法
JP2696017B2 (ja) * 1991-10-09 1998-01-14 三菱電機株式会社 洗浄装置及び洗浄方法
US5361787A (en) * 1992-02-25 1994-11-08 Tokyo Electron Kabushiki Kaisha Cleaning apparatus
US5365960A (en) * 1993-04-05 1994-11-22 Verteq, Inc. Megasonic transducer assembly
US5534076A (en) * 1994-10-03 1996-07-09 Verteg, Inc. Megasonic cleaning system
US6026382A (en) * 1997-10-08 2000-02-15 Ncr Corporation Computer-implemented system for relationship management for financial institutions
US6138698A (en) * 1997-11-20 2000-10-31 Tokyo Electron Limited Ultrasonic cleaning apparatus
US6098643A (en) * 1998-11-14 2000-08-08 Miranda; Henry R. Bath system for semiconductor wafers with obliquely mounted transducers
US6523557B2 (en) * 2000-12-13 2003-02-25 Imtec Acculine, Inc. Megasonic bath
JP4042519B2 (ja) 2002-10-11 2008-02-06 株式会社デンソー 超音波洗浄装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5653786A (en) * 1979-10-08 1981-05-13 Idemitsu Kosan Co Ultrasonic washer
JPS6339487U (ja) * 1986-09-02 1988-03-14
JPH05220459A (ja) * 1992-02-12 1993-08-31 Kyushu Sumitoku Denshi Kk 連続超音波洗浄装置
JPH06333906A (ja) * 1993-05-24 1994-12-02 Toshiba Ceramics Co Ltd 超音波洗浄装置
JPH10128256A (ja) * 1996-11-01 1998-05-19 Kaijo Corp 超音波洗浄装置
JPH10192800A (ja) * 1997-01-13 1998-07-28 Kaijo Corp 超音波洗浄装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7757701B2 (en) 2010-07-20
US20070102020A1 (en) 2007-05-10
JP2007125516A (ja) 2007-05-24
CN1962090B (zh) 2010-10-27
CN1962090A (zh) 2007-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5409594A (en) Ultrasonic agitator
JP4591316B2 (ja) 超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置
KR20120098800A (ko) 초음파 세정 장치 및 초음파 세정 방법
JP4893426B2 (ja) 超音波洗浄装置および同装置を用いた食器洗い機
CN101605615B (zh) 超声波洗涤方法
JP2010153541A (ja) 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法
US8486199B2 (en) Ultrasonic cleaning method and apparatus
Fuchs et al. Ultrasonic cleaning
JP4248257B2 (ja) 超音波洗浄装置
JP4623706B2 (ja) 超音波洗浄処理装置
JP2001077070A (ja) メガソニック洗浄装置
JPH08267029A (ja) 超音波洗浄方法およびその装置
JP4894578B2 (ja) 超音波洗浄装置および同装置を用いた食器洗い機
JP5592734B2 (ja) 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法
KR100526214B1 (ko) 메가소닉을 이용한 웨이퍼 세정장치
CN217432448U (zh) 超声波清洁装置
KR102161656B1 (ko) 주파수 가변을 통한 다주파 식기 세척기
JPH09122612A (ja) 洗浄装置
JP5734394B2 (ja) 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法
JP7372535B2 (ja) 超音波処理装置及び超音波処理方法
KR100986586B1 (ko) 초음파 진동자
JP3665153B2 (ja) 超音波洗浄装置
JP2011067820A (ja) 下水処理装置および固液分離膜モジュール
RU2625465C1 (ru) Способ ультразвуковой обработки и установка для его осуществления
JPH08332465A (ja) 洗浄方法及び洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071122

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091015

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100223

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100817

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100830

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4591316

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees