JP4468541B2 - 再結晶ＳｉＣの製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐酸化性、耐食性、熱伝導性に優れた高純度の再結晶ＳｉＣを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
高純度の再結晶ＳｉＣは、耐酸化性、耐食性、熱伝導性に優れ、それらの特性が要求される多様な分野での利用が期待されている。このような再結晶ＳｉＣの製造方法として、ＵＳＰ２９６４８２３には、４５〜１５０μｍのＳｉＣ粉１０〜６０重量％と０．１〜８μｍのＳｉＣ微粉４０〜９０重量％とを水で混ぜ、スリップキャストで成形し、還元雰囲気中において２１００〜２４５０℃で焼成する方法が開示されている。
【０００３】
また、特開昭６１−１７４７２号公報には、β型ＳｉＣ微粒に平均粒径が５μｍ以下のα型又はβ型ＳｉＣ微粉末を混合、成形し、１７５０〜２５００℃で焼成する方法が開示されている。
【０００４】
更に、特開平１０−１６７８５４号公報には、ＳｉＯ2含有率が０．１〜５重量％で平均粒径が０．３〜５０μｍのＳｉＣ原料粉と有機樹脂バインダーを混合して成形し、その成形体を酸素含有率が１〜１０％の雰囲気中において該成形体中の熱分解炭素の含有率が０．５〜５重量％となるように加熱した後、該成形体を１５００〜２０００℃の非酸化雰囲気で焼成する方法が示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これら従来の再結晶ＳｉＣの製造法では、原料を所望の製品形状に成形することが難しく、最終的に得られる再結晶ＳｉＣ焼結体の純度を低下させることなく成形性を向上させる製造技術の確立が望まれていた。
【０００６】
本発明は、このような従来の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、成形性が良く、耐酸化性、耐食性に優れるとともに高い熱伝導率を有する高純度の再結晶ＳｉＣ焼結体が得られるような再結晶ＳｉＣの製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、粒径５μｍ以下の微粒を１０重量％以上含むＳｉＣ原料に、外配で１〜１２重量％の粘土を添加し、混合して、これを所望の形状に成形し、得られた成形体を２０００℃以上の非活性雰囲気で焼成することを特徴とする再結晶ＳｉＣの製造方法、が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
前記のとおり、本発明の製造方法は、粒径５μｍ以下の微粒を１０重量％以上含むＳｉＣ原料に対し所定量の粘土を添加することを特徴としており、これにより、ＳｉＣ原料の成形性が大幅に向上する。また、再結晶ＳｉＣは通常２０００℃以上の非活性雰囲気で焼成されるが、このような高温雰囲気で焼成を行うと、粘土成分であるＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3などの酸化物は蒸発するため、最終的に得られる焼結体には、粘土を添加したことよる純度の低下はほとんど見られず、高純度の再結晶ＳｉＣが得られる。
【０００９】
ＳｉＣ原料に対する具体的な粘土の添加量は、外配で１〜１２重量％、好ましくは１〜８重量％である。粘土の添加量が１２重量％を超えると、焼成時に粘土成分が蒸発しきれず、残留するＳｉやＡｌの量が多くなって再結晶ＳｉＣの生成が阻害され、熱伝導率が低くなる。一方、粘土の添加量が１重量％未満では成形性の向上がほとんど見られない。
【００１０】
ＳｉＣ原料は、α型、β型のいずれを用いてもよいが、粒径５μｍ以下の微粒を１０重量％以上含むものを使用する。ＳｉＣ原料に含まれる粒径５μｍ以下の微粒が１０重量％未満である場合には、再結晶ＳｉＣが十分に生成し難く、強度や熱伝導率が低くなる。
【００１１】
ＳｉＣ原料に添加する粘土としては、可塑性を有するのもであれば特に限定はされず、例えば、ガイロメ粘土、木節粘土、カオリン、ハロイサイト、ボールクレイ等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることができる。
【００１２】
このような粘土をＳｉＣ原料に添加して混合し、更に水を加えて全体を可塑化することによりペーストが作製される。なお、必要に応じて有機質バインダーや、界面活性剤等の成形助剤を加えてもよい。
【００１３】
こうして得られたペーストを、プレス成形、押出し成形等の成形方法で、所望の形状に成形する。例えば、押出し成形によりハニカム形状の成形体を作製すれば、これを焼成することにより、排ガス浄化用の触媒担体や、ディーゼルエンジンの排ガスに含まれる微粒子（パティキュレート）を捕集するためのフィルター（ディーゼルパティキュレートフィルター）として好適に使用できるハニカム構造体が得られる。
【００１４】
成形体は、乾燥後、必要であればバインダーを仮焼して燃焼又は蒸発させ、その後非活性雰囲気で焼成する。焼成温度は、２０００℃以上、好ましくは２１００℃以上とする。このような高温での焼成により、再結晶ＳｉＣが十分に生成されるとともに、粘土を構成するＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等が蒸発し、高純度な再結晶ＳｉＣが得られる。なお、焼成温度が２０００℃未満の場合は、再結晶ＳｉＣが十分に生成せず、強度や熱伝導率が低くなる。
【００１５】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００１６】
（実施例１）
粒径５μｍ以下の粒子を１６重量％含む平均粒径２０μｍのＳｉＣ粉末１００重量％に対し、外配でガイロメ粘土５重量％、メチルセルロース３重量％、界面活性剤１重量％、及び水２５重量％を加え、混合後、押出し成形により、外径φ１００ｍｍ、長さ１００ｍｍ、セル密度１６セル／ｃｍ2、リブ厚４３０μｍのハニカム形状の成形体を成形した。この成形体を酸化雰囲気中にて４００℃で仮焼してバインダー成分を除去した後、Ａｒ雰囲気中にて２２００℃で焼成してハニカム構造の再結晶ＳｉＣ焼結体を得た。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、強度、熱伝導率、及び粘土成分の蒸発せず残留したＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の量を測定し、その結果を表１に示した。
【００１７】
なお、強度は、ハニカムの流路方向に１セル分を切出し、スパン３５ｍｍの３点曲げで測定した。また、残留したＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の量は、湿式化学分析及びガス分析により測定した。
【００１８】
（実施例２〜７）
表１に示されるＳｉＣ原料及びガイロメ粘土を使用し、実施例１と同様の方法で成形、仮焼を行い、表１に示す焼成温度で、実施例１と同様の焼成を実施した。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、実施例１と同様の測定を行い、その結果を同じく表１に示した。
【００１９】
（比較例１）
粒径５μｍ以下の粒子を１０重量％含む平均粒径４６μｍのＳｉＣ粉末１００重量％に対し、外配でガイロメ粘土１５重量％、メチルセルロース３重量％、界面活性剤１重量％、及び水２５重量％を加え、混合後、押出し成形により、外径φ１００ｍｍ、長さ１００ｍｍ、セル密度１６セル／ｃｍ2、リブ厚４３０μｍのハニカム形状の成形体を成形した。この成形体を酸化雰囲気中にて４００℃で仮焼してバインダー成分を除去した後、Ａｒ雰囲気中にて２０００℃で焼成してハニカム構造の再結晶ＳｉＣ焼結体を得た。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、前記実施例１と同様に強度、熱伝導率、及び残留したＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の量を測定し、その結果を表１に示した。
【００２０】
（比較例２及び３）
表１に示されるＳｉＣ原料及びガイロメ粘土を使用し、比較例１と同様の方法で成形、仮焼を行い、表１に示す焼成温度で、比較例１と同様の焼成を実施した。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、実施例１と同様の測定を行い、その結果を同じく表１に示した。
【００２１】
（比較例４）
粒径５μｍ以下の粒子を２８重量％含む平均粒径１５μｍのＳｉＣ粉末１００重量％に対し、外配でメチルセルロース３重量％、界面活性剤１重量％、及び水２５重量％を加え、混合後、押出し成形を試みたが、成形性が悪く、前記実施例１〜７及び比較例１〜３のようなハニカム形状の成形体を得ることができなかった。
【００２２】
【表１】
【００２３】
表１に示すとおり、本発明の製造方法で得られた実施例の再結晶ＳｉＣ焼結体は、成形時における成形性に優れるとともに、添加した粘土の構成成分であるＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の残留もほとんど見られず、比較例の再結晶ＳｉＣ焼結体に比して強度、熱伝導率とも優れた結果を示した。
【００２４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の再結晶ＳｉＣの製造方法によれば、ＳｉＣ原料に対して所定量の粘土を添加することにより、従来の製造方法に比べ成形性が大幅に改善される。また、成形体中の粘土成分は焼成時に蒸発するので、粘土添加による純度の低下はなく、耐酸化性、耐食性、熱伝導性に優れた高純度の再結晶ＳｉＣが得られる。本発明にて得られる再結晶ＳｉＣは、耐火物やフィルター等の用途に好適に使用でき、特に、ハニカム形状に成形し焼成して得られたハニカム構造体は、触媒担体やディーゼルパティキュレートフィルターとして最適である。
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐酸化性、耐食性、熱伝導性に優れた高純度の再結晶ＳｉＣを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
高純度の再結晶ＳｉＣは、耐酸化性、耐食性、熱伝導性に優れ、それらの特性が要求される多様な分野での利用が期待されている。このような再結晶ＳｉＣの製造方法として、ＵＳＰ２９６４８２３には、４５〜１５０μｍのＳｉＣ粉１０〜６０重量％と０．１〜８μｍのＳｉＣ微粉４０〜９０重量％とを水で混ぜ、スリップキャストで成形し、還元雰囲気中において２１００〜２４５０℃で焼成する方法が開示されている。
【０００３】
また、特開昭６１−１７４７２号公報には、β型ＳｉＣ微粒に平均粒径が５μｍ以下のα型又はβ型ＳｉＣ微粉末を混合、成形し、１７５０〜２５００℃で焼成する方法が開示されている。
【０００４】
更に、特開平１０−１６７８５４号公報には、ＳｉＯ2含有率が０．１〜５重量％で平均粒径が０．３〜５０μｍのＳｉＣ原料粉と有機樹脂バインダーを混合して成形し、その成形体を酸素含有率が１〜１０％の雰囲気中において該成形体中の熱分解炭素の含有率が０．５〜５重量％となるように加熱した後、該成形体を１５００〜２０００℃の非酸化雰囲気で焼成する方法が示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これら従来の再結晶ＳｉＣの製造法では、原料を所望の製品形状に成形することが難しく、最終的に得られる再結晶ＳｉＣ焼結体の純度を低下させることなく成形性を向上させる製造技術の確立が望まれていた。
【０００６】
本発明は、このような従来の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、成形性が良く、耐酸化性、耐食性に優れるとともに高い熱伝導率を有する高純度の再結晶ＳｉＣ焼結体が得られるような再結晶ＳｉＣの製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、粒径５μｍ以下の微粒を１０重量％以上含むＳｉＣ原料に、外配で１〜１２重量％の粘土を添加し、混合して、これを所望の形状に成形し、得られた成形体を２０００℃以上の非活性雰囲気で焼成することを特徴とする再結晶ＳｉＣの製造方法、が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
前記のとおり、本発明の製造方法は、粒径５μｍ以下の微粒を１０重量％以上含むＳｉＣ原料に対し所定量の粘土を添加することを特徴としており、これにより、ＳｉＣ原料の成形性が大幅に向上する。また、再結晶ＳｉＣは通常２０００℃以上の非活性雰囲気で焼成されるが、このような高温雰囲気で焼成を行うと、粘土成分であるＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3などの酸化物は蒸発するため、最終的に得られる焼結体には、粘土を添加したことよる純度の低下はほとんど見られず、高純度の再結晶ＳｉＣが得られる。
【０００９】
ＳｉＣ原料に対する具体的な粘土の添加量は、外配で１〜１２重量％、好ましくは１〜８重量％である。粘土の添加量が１２重量％を超えると、焼成時に粘土成分が蒸発しきれず、残留するＳｉやＡｌの量が多くなって再結晶ＳｉＣの生成が阻害され、熱伝導率が低くなる。一方、粘土の添加量が１重量％未満では成形性の向上がほとんど見られない。
【００１０】
ＳｉＣ原料は、α型、β型のいずれを用いてもよいが、粒径５μｍ以下の微粒を１０重量％以上含むものを使用する。ＳｉＣ原料に含まれる粒径５μｍ以下の微粒が１０重量％未満である場合には、再結晶ＳｉＣが十分に生成し難く、強度や熱伝導率が低くなる。
【００１１】
ＳｉＣ原料に添加する粘土としては、可塑性を有するのもであれば特に限定はされず、例えば、ガイロメ粘土、木節粘土、カオリン、ハロイサイト、ボールクレイ等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることができる。
【００１２】
このような粘土をＳｉＣ原料に添加して混合し、更に水を加えて全体を可塑化することによりペーストが作製される。なお、必要に応じて有機質バインダーや、界面活性剤等の成形助剤を加えてもよい。
【００１３】
こうして得られたペーストを、プレス成形、押出し成形等の成形方法で、所望の形状に成形する。例えば、押出し成形によりハニカム形状の成形体を作製すれば、これを焼成することにより、排ガス浄化用の触媒担体や、ディーゼルエンジンの排ガスに含まれる微粒子（パティキュレート）を捕集するためのフィルター（ディーゼルパティキュレートフィルター）として好適に使用できるハニカム構造体が得られる。
【００１４】
成形体は、乾燥後、必要であればバインダーを仮焼して燃焼又は蒸発させ、その後非活性雰囲気で焼成する。焼成温度は、２０００℃以上、好ましくは２１００℃以上とする。このような高温での焼成により、再結晶ＳｉＣが十分に生成されるとともに、粘土を構成するＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等が蒸発し、高純度な再結晶ＳｉＣが得られる。なお、焼成温度が２０００℃未満の場合は、再結晶ＳｉＣが十分に生成せず、強度や熱伝導率が低くなる。
【００１５】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００１６】
（実施例１）
粒径５μｍ以下の粒子を１６重量％含む平均粒径２０μｍのＳｉＣ粉末１００重量％に対し、外配でガイロメ粘土５重量％、メチルセルロース３重量％、界面活性剤１重量％、及び水２５重量％を加え、混合後、押出し成形により、外径φ１００ｍｍ、長さ１００ｍｍ、セル密度１６セル／ｃｍ2、リブ厚４３０μｍのハニカム形状の成形体を成形した。この成形体を酸化雰囲気中にて４００℃で仮焼してバインダー成分を除去した後、Ａｒ雰囲気中にて２２００℃で焼成してハニカム構造の再結晶ＳｉＣ焼結体を得た。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、強度、熱伝導率、及び粘土成分の蒸発せず残留したＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の量を測定し、その結果を表１に示した。
【００１７】
なお、強度は、ハニカムの流路方向に１セル分を切出し、スパン３５ｍｍの３点曲げで測定した。また、残留したＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の量は、湿式化学分析及びガス分析により測定した。
【００１８】
（実施例２〜７）
表１に示されるＳｉＣ原料及びガイロメ粘土を使用し、実施例１と同様の方法で成形、仮焼を行い、表１に示す焼成温度で、実施例１と同様の焼成を実施した。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、実施例１と同様の測定を行い、その結果を同じく表１に示した。
【００１９】
（比較例１）
粒径５μｍ以下の粒子を１０重量％含む平均粒径４６μｍのＳｉＣ粉末１００重量％に対し、外配でガイロメ粘土１５重量％、メチルセルロース３重量％、界面活性剤１重量％、及び水２５重量％を加え、混合後、押出し成形により、外径φ１００ｍｍ、長さ１００ｍｍ、セル密度１６セル／ｃｍ2、リブ厚４３０μｍのハニカム形状の成形体を成形した。この成形体を酸化雰囲気中にて４００℃で仮焼してバインダー成分を除去した後、Ａｒ雰囲気中にて２０００℃で焼成してハニカム構造の再結晶ＳｉＣ焼結体を得た。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、前記実施例１と同様に強度、熱伝導率、及び残留したＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の量を測定し、その結果を表１に示した。
【００２０】
（比較例２及び３）
表１に示されるＳｉＣ原料及びガイロメ粘土を使用し、比較例１と同様の方法で成形、仮焼を行い、表１に示す焼成温度で、比較例１と同様の焼成を実施した。こうして得られた再結晶ＳｉＣ焼結体について、実施例１と同様の測定を行い、その結果を同じく表１に示した。
【００２１】
（比較例４）
粒径５μｍ以下の粒子を２８重量％含む平均粒径１５μｍのＳｉＣ粉末１００重量％に対し、外配でメチルセルロース３重量％、界面活性剤１重量％、及び水２５重量％を加え、混合後、押出し成形を試みたが、成形性が悪く、前記実施例１〜７及び比較例１〜３のようなハニカム形状の成形体を得ることができなかった。
【００２２】
【表１】
表１に示すとおり、本発明の製造方法で得られた実施例の再結晶ＳｉＣ焼結体は、成形時における成形性に優れるとともに、添加した粘土の構成成分であるＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の残留もほとんど見られず、比較例の再結晶ＳｉＣ焼結体に比して強度、熱伝導率とも優れた結果を示した。
【００２４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の再結晶ＳｉＣの製造方法によれば、ＳｉＣ原料に対して所定量の粘土を添加することにより、従来の製造方法に比べ成形性が大幅に改善される。また、成形体中の粘土成分は焼成時に蒸発するので、粘土添加による純度の低下はなく、耐酸化性、耐食性、熱伝導性に優れた高純度の再結晶ＳｉＣが得られる。本発明にて得られる再結晶ＳｉＣは、耐火物やフィルター等の用途に好適に使用でき、特に、ハニカム形状に成形し焼成して得られたハニカム構造体は、触媒担体やディーゼルパティキュレートフィルターとして最適である。
Claims (6)
- 粒径５μｍ以下の微粒を１０重量％以上含むＳｉＣ原料に、ガイロメ粘土、木節粘土、カオリン、ハロイサイト及びボールクレイからなる群より選択される１種以上の粘土を外配で１〜１２重量％添加し、混合して、これを所望の形状に成形し、得られた成形体を２０００℃以上の非活性雰囲気で焼成することを特徴とする再結晶ＳｉＣの製造方法。
- 前記ＳｉＣ原料に添加される粘土がガイロメ粘土である請求項１記載の再結晶ＳｉＣの製造方法。
- 前記ＳｉＣ原料に対する前記粘土の添加量が外配で１〜８重量％である請求項１又は２に記載の再結晶ＳｉＣの製造方法。
- 焼成温度が２１００℃以上である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の再結晶ＳｉＣの製造方法。
- 前記成形体の成形方法が押出し成形である請求項１ないし４のいずれか１項に記載の再結晶ＳｉＣの製造方法。
- 前記成形体がハニカム形状に成形されたものである請求項１ないし５のいずれか１項に記載の再結晶ＳｉＣの製造方法。
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| JP2000076457A JP4468541B2 (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | 再結晶ＳｉＣの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000076457A JP4468541B2 (ja) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | 再結晶ＳｉＣの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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-
2000
- 2000-03-17 JP JP2000076457A patent/JP4468541B2/ja not_active Expired - Lifetime
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