JP4263559B2 - 現像処理装置及び現像処理方法 - Google Patents
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Description
を特徴とする,現像処理装置。
18 現像処理装置
60 スピンチャック
70 筐体
71 多孔質板
72 現像液吐出ノズル
80 ノズル移動機構
110 受け板
S 陰圧室
W ウェハ
Claims (13)
- 基板を現像処理する現像処理装置であって,
基板を水平に保持する基板保持部材と,
前記基板保持部材に保持された基板の上方に配置され,内部に陰圧室を形成する筐体と,
前記筐体内に設けられ,現像液を吐出する現像液吐出ノズルと,
前記筐体内において前記現像液吐出ノズルを移動させるノズル移動機構と,を備え,
前記現像液吐出ノズルの下面には,基板の一方向の寸法よりも長い距離に渡って吐出口が形成され,
前記ノズル移動機構は,前記現像液吐出ノズルを,前記基板の一方向と直交する方向に向けて少なくとも基板の寸法よりも長い距離を移動させることができ,
前記筐体の下面部は,現像液が通過可能な多孔質板により形成され,
前記現像液吐出ノズルの前記吐出口は,前記多孔質板の上面に近接しており,
前記吐出口から吐出される現像液が,前記陰圧室内を前記筐体の外部よりも陰圧にした状態で前記多孔質板内に含ませた現像液を押し出して,現像液が基板に供給されることを特徴とする,現像処理装置。 - 前記筐体の多孔質板は,平面から見て少なくとも基板よりも大きい方形に形成されていることを特徴とする,請求項1に記載の現像処理装置。
- 前記筐体を上下動させる筐体昇降駆動部をさらに備えたことを特徴とする,請求項1又は2のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記ノズル移動機構は,前記筐体内に設けられていることを特徴とする,請求項1,2又は3のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記基板保持部材に保持された基板の外側に設けられ,前記基板の外側に落下する現像液を前記基板と同一平面上で受ける受け部材をさらに備えたことを特徴とする,請求項1,2,3又は4のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記受け部材の外形は,平面から見て少なくとも前記多孔質板よりも大きい方形に形成され,
当該受け部材の中央部付近には,平面から見て基板よりも僅かに大きい開口部が形成されていることを特徴とする,請求項5に記載の現像処理装置。 - 前記受け部材を昇降する受け部材昇降駆動部をさらに備えたことを特徴とする,請求項5又は6のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記現像液吐出ノズルの吐出口は,現像液吐出ノズルの下端面に形成され,
当該現像液吐出ノズルの下端面における前記吐出口の周辺部には,前記多孔質板に接する水平部が形成されていることを特徴とする,請求項1,2,3,4,5,6又は7のいずれかに記載の現像処理装置。 - 前記筐体内には,複数の現像液吐出ノズルが設けられていることを特徴とする,請求項1,2,3,4,5,6,7又は8のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記多孔質板は,多孔質板の上面から下面に近づくにつれ気孔径が小さくなるように形成されていることを特徴とする,請求項1,2,3,4,5,6,7,8又は9のいずれかに記載の現像処理装置。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の現像処理装置を用いた現像処理方法であって,
陰圧室内を筐体の外部よりも陰圧にし,多孔質板内に現像液を含ませる工程と,
その後,前記筐体の多孔質板を基板の表面に近接する工程と,
その後,現像液吐出ノズルの吐出口から前記多孔質板に向けて現像液を吐出し,その現像液を吐出した状態の前記現像液吐出ノズルを前記多孔質板に沿って移動させることによって,前記吐出口から吐出された現像液により前記多孔質板内に含ませた現像液を押し出させて,前記多孔質板を通じて基板に現像液を供給する工程と,を有することを特徴とする,現像処理方法。 - 前記多孔質板と基板との隙間に現像液を介在した状態で基板を現像することを特徴とする,請求項11に記載の現像処理方法。
- 基板に供給される現像液の量を,前記現像液の供給時における前記多孔質板と基板との隙間により設定することを特徴とする,請求項11又は12のいずれかに記載の現像処理方法。
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