JP4249440B2

JP4249440B2 - コポリカーボネートの調製方法、およびこれから得られる透明なコポリカーボネート樹脂

Info

Publication number: JP4249440B2
Application number: JP2002201285A
Authority: JP
Inventors: ジルケ・クラチュマー; ロタル・ブンツェル; ハンス・デムル
Original assignee: Bayer AG
Current assignee: Bayer AG
Priority date: 2001-07-16
Filing date: 2002-07-10
Publication date: 2009-04-02
Anticipated expiration: 2022-07-10
Also published as: US6753405B2; SG99397A1; DE10134480A1; EP1277781A3; KR20030007188A; EP1277781B1; ATE426633T1; EP1277781A2; KR100894600B1; DE50213379D1; ES2321812T3; CN1397582A; US20030027971A1; TWI300420B; CN1250602C; JP2003048976A; BR0202697A

Description

【０００１】
【発明の分野】
本発明は、ポリカーボネートの調製方法、特にジヒドロキシジフェニレンから誘導される構造単位を３５モル％以上含有する透明なコポリカーボネートに関する。
【０００２】
【発明の要旨】
透明なコポリカーボネートの調製方法を開示している。このコポリカーボネートは、分子構造がジヒドロキシジフェニレンから誘導される構造単位を３５モル％以上含有するものであって、反応の最終温度が出発温度に達した後４０分以内に到達される溶融エステル交換法によって調製される。
【０００３】
【発明の背景】
4,4'-ジヒドロキシジフェニルおよび2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン（ビスフェノールＡ）をベースとするコポリカーボネートは、特開昭51-17382号公報、同昭62-227927号公報および同昭61-264020号公報から既に公知であり、欧州特許出願公開第A1-0544407号公報、米国特許第A-5,470,938号公報、同第A-5,532,324号公報および同第A-5,401,826号公報には、特に耐薬品性で熱安定性を有する難燃剤であると同時に、純粋なビスフェノールＡからの市販のポリカーボネートと比較して、同様の機械特性や透明性を有するものとして開示されている。
【０００４】
溶融エステル交換法によるコポリカーボネートの調製も周知である。これは、欧州特許出願公開第A1-0544407号公報またはドイツ特許出願公開第A-19646401号公報にも記載されている。しかし、ジヒドロキシジフェニル３５モル％以上の混入は、ほとんど記載されておらず、しかも本発明者らの独自の調査によれば、透明でない生成物が得られる。さらに、この透明性の欠如を回避する方法は先行文献には全く示されていない。
【０００５】
従って、本発明の課題は、ジヒドロキシジフェニル（以降、ＤＯＤという）から誘導される構造単位を３５モル％以上有する透明なコポリカーボネートの調製方法を開発することであった。
【０００６】
驚くことに、ＤＯＤを３５モル％を超えて含有する透明なコポリカーボネートは、適度な粘度範囲の加熱相(heating-up phase)が最長４０分までに制限される溶融エステル交換法で調製すれば生成されることを見出した。
【０００７】
従って、本発明は、式(I)の化合物：
【化５】

（ここで、Ｒ^１〜Ｒ^４は互いに独立して、Ｈ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲン、好ましくはＨ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルまたはハロゲンを表し、特に好ましくはＲ^１〜Ｒ^４全てが同じ基、特にＨまたはtert-ブチルを表す。）
３５〜６０モル％、好ましくは４０〜５０モル％と式(II)の化合物：
【化６】

（ここで、Ｒ^５〜Ｒ^８は互いに独立して、Ｈ、ＣＨ_３、ＣｌまたはＢｒであり、およびＸは、Ｃ_１〜Ｃ_５アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６シクロアルキレンまたはＣ_５〜Ｃ_１０シクロアルキリデンである。）
６５〜４０モル％、好ましくは６０〜５０モル％を含有する混合物をビスフェノールモノマーとして溶融エステル交換反応させることを包含する、透明なコポリカーボネートの調製方法に関する。ここで、前記百分率（％）は、(I)と(II)との合計モル量に対するものである。本発明の方法は、出発温度から最終温度に達するまでの時間が４０分以内、好ましくは３０分以内であることを更に特徴とする。
【０００８】
２２０〜２４０℃、好ましくは２３５℃の出発温度とは、反応混合物が、先行文献（例えば、ドイツ特許出願公開第A-19646401号公報）から公知のように、連続した縮合反応中に２２０〜２４０℃、好ましくは２３５℃まで加熱されることを意味すると解されるべきである。本発明に拠れば、前記混合物は、透明なコポリカーボネートを生成するために、出発温度から最終温度である２７０〜３３０℃、好ましくは２８０〜３２０℃、特に好ましくは２９０〜３００℃まで４０分以内、好ましくは３０分以内で加熱されなければならない。
【０００９】
式(I)の好ましい化合物は、4,4'-ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラ(tert-ブチル)ジフェニル、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラ(n-ブチル)ジフェニル、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラ(メチル)ジフェニル、および4,4'-ジヒドロキシジフェニルであり、4,4'-ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）が特に好ましい。
【００１０】
式(II)の好ましい化合物は、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン（ビスフェノールＴＭＣ）および1,3-ビス[2-(4-ヒドロキシフェニル)-2-プロピル]ベンゼン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1-フェニルエタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-シクロヘキサンであり、特に2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン（ビスフェノールＡ）および1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン（ビスフェノールＴＭＣ）であるが、最も好ましいのは2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン（ビスフェノールＡ）である。
【００１１】
式(I)の化合物のうちいずれか１種あるいは式(I)の化合物を数種使用して二元コポリカーボネートを形成することが可能である。
【００１２】
式(II)の化合物のうちいずれか１種あるいは式(II)の化合物を数種使用して二元コポリカーボネートを形成することも可能である。
【００１３】
本発明に関し、ジアリールカーボネートは、式(III)および式(IV)の炭酸ジエステルである。
【化７】

【化８】

（上記式中、Ｒ、Ｒ'およびＲ''は互いに独立して、Ｈ、任意に分枝のＣ_１〜Ｃ_３４-アルキル／シクロアルキル、Ｃ_７〜Ｃ_３４-アルカリールまたはＣ_６〜Ｃ_３４-アリールを表し、例えば、ジフェニルカーボネート、ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-ブチルフェニルカーボネート、イソブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-イソブチルフェニルカーボネート、tert-ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-tert-ブチルフェニルカーボネート、n-ペンチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-(n-ペンチルフェニル)カーボネート、n-ヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ-(n-ヘキシルフェニル)カーボネート、シクロヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ-シクロヘキシルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジ-フェニルフェノールカーボネート、イソオクチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-イソオクチルフェニルカーボネート、n-ノニルフェニルフェニルカーボネート、ジ-(n-ノニルフェニル)カーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジ-クミルフェニルカーボネート、ナフチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-ナフチルフェニルカーボネート、ジ-tert-ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-(ジ-tert-ブチルフェニル)カーボネート、ジクミルフェニルフェニルカーボネート、ジ-(ジクミルフェニル)カーボネート、4-フェノキシフェニルフェニルカーボネート(4-phenyoxyphenyl phenyl carbonate)、ジ-(4-フェノキシフェニル)カーボネート、3-ペンタデシルフェニルフェニルカーボネート、ジ-(3-ペンタデシルフェニル)カーボネート、トリチルフェニルフェニルカーボネートおよびジ-トリチルフェニルカーボネートが挙げられ、好ましくはジフェニルカーボネート、tert-ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ-tert-ブチルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジ-フェニルフェノールカーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネートおよびジ-クミルフェニルカーボネートであり、特に好ましくは、ジフェニルカーボネートである。）
【００１４】
カーボネートとして用いられるフェノール性化合物は、前記カーボネート類に加えてヒドロキシアリールとして直接使用すると、ポリカーボネートの末端基に影響を及ぼし得る。好ましい混合物は、ジフェニルカーボネートを有するものである。本発明の方法では、ヒドロキシアリールまたはヒドロキシアリール-保有化合物を反応のちょうど良い時点で、好ましくは反応の出発時に添加することができ、しかもこの添加は、数回に分けてもよい。遊離ヒドロキシアリールの含量は、（ジヒドロキシ化合物に対して）０．４〜１７モル％、好ましくは１．３〜８．６モル％であってよい。前記添加は、反応前に行っても、あるいは反応中に全体的にまたは部分的に行ってもよい。
【００１５】
炭酸ジエステルとジヒドロキシ化合物は、１：１〜１．１、好ましくは１：１．０〜１．０７、特に好ましくは１：１．０２〜１．０６の比率で使用される。上記炭酸ジエステルの混合物を用いてもよい。
【００１６】
アンモニウムまたはホスホニウム化合物（以降、通常の名称であるオニウム塩ともいう）を合成のための触媒として用いてもよい。これらは、ジヒドロキシ化合物の総量に対して、好ましくは０．０００１〜０．０１モル％の量、特に好ましくは０．００２〜０．００６モル％の量で使用する。
【００１７】
ホスホニウム塩は、場合により、強い固有の色を導かない他の好適な触媒との組み合わせて、本発明のコポリカーボネートの調製のための触媒として好ましく使用される。
【００１８】
本発明に関し、ホスホニウム塩は、式(V)で表されるものである。
【化９】

（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、同一または異なって、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０アリール、Ｃ_７〜Ｃ_１０アラルキルまたはＣ_５〜Ｃ_６シクロアルキル、好ましくはメチルまたはＣ_６〜Ｃ_１４アリール、特に好ましくはメチルまたはフェニルであってよく、そしてＸ⁻は、ヒドロキシド、スルフェート、硫酸水素塩、重炭酸塩、カーボネート、ハライド（好ましくは塩素）などのアニオン、あるいは式ＯＲで表されるアルコラートであってよく、ここでＲは、Ｃ_６〜Ｃ_１４アリールまたはＣ_７〜Ｃ_１２アラルキル、好ましくはフェニルであってよい。）
【００１９】
好ましい触媒は、テトラフェニルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムヒドロキシドおよびテトラフェニルホスホニウムフェノラートであり、特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェノラートである。
【００２０】
コポリカーボネートは、制御された方法で枝分かれされてよく、そのため、（ジカルボン酸とジヒドロキシ化合物の合計量に対して）０．０２〜５モル％という少量の枝分かれ剤を含有していてもよい。好適な枝分かれ剤は、ポリカーボネートの調製に適した化合物であり、しかも官能基を３個以上有する。好ましくはフェノール性ＯＨ基を３個以上有するものであって、例えば、1,1,1-トリ-(4-ヒドロキシフェニル)エタンおよびイサチン-ビスクレゾールである。
【００２１】
式(I)〜(V)の遊離体および触媒は、一般に公知であり、大抵の場合、市販されているか、または公知の方法で入手可能である。ビスフェノールの調製は、概して、欧州特許出願公開第第A-720976号公報に記載されており、4,4'-ジヒドロキシジフェニルの調製は、特開昭61-200935号公報に記載されている。
【００２２】
原材料はいずれも、当然、合成から得られる不純物を含んでいてよい。とはいえ、高純度は、望ましくかつ目標であることから、前記遊離体は、できる限り高純度のものを用いる。
【００２３】
本発明のコポリカーボネートは、分子量Ｍｗ（重量平均分子量）が１０、０００〜６０，０００、好ましくはＭｗ２０，０００〜５５，０００であってよく、これらは、塩化メチレン中またはフェノール／o-ジクロロベンゼンの等量の混合液中での相対溶液粘度の測定により求められ、ハンス−ジョージ・イーリアス(Hans-Georg Elias)著、マクロモレキューレ、ヒューシグ・アンド・ウェップ・フェルラーク(Huthig & Wepf Verlag)、バーゼル、ニューヨーク1990年、第５版、第８５〜９３頁に記載されているような光散乱法により較正される。
【００２４】
本発明のポリカーボネートは、熱可塑性材料として常套の方法で２４０℃〜３８０℃の温度、好ましくは２６０℃〜３６０℃において加工され得る。所望の形状の物品およびフィルムは、公知の方法で、射出成形または押出し成形により製造され得る。
【００２５】
本発明のポリカーボネートは、塩素化炭化水素（例えば、塩化メチレン）などの溶媒に容易に溶解し、そのため、加工されて公知の方法でフィルムに注入成形され得る。
【００２６】
特に、フィルムは、本発明の高分子量の芳香族ポリカーボネートから製造され得る。前記フィルムの厚さは、好ましくは１〜１，５００μｍ、特に好ましくは１０〜９００μｍである。
【００２７】
得られるフィルムは、一軸方向または二軸方向に、好ましくは１：１．５〜１：５の比率で自体公知の方法で引き伸ばされ得る。
【００２８】
前記フィルムは、公知のフィルム製造方法、例えば、スリットダイを通じてのポリマー溶融物の押出成形により、フィルムブロー成形機でのブロー成形により、熱成形により、または注入成形によって製造され得る。ここで、フィルムは、単独で使用することができる。しかし、組成物フィルムの望ましい使用および最終特性に依存して、他のプラスチックフィルムを含む複合フィルムを常套の方法で使用することも当然可能であり、一般には、公知のフィルム全てをパートナーにできる。複合体は、２種以上のフィルムから製造され得る。
【００２９】
加えて、本発明のコポリカーボネートは、同時押出しシートなどの他の層系で使用されてもよい。
【００３０】
補助基質および強化基質を本発明のコポリカーボネートに混合して、その特性を変えることができる。使用可能な前記基質は、特に、熱およびＵＶ安定化剤、流動助剤、離型剤、難燃剤、顔料、微粉砕鉱物、および繊維状基質であって、例えば、アルキルおよびアリール-ホスファイト、-ホスフェートおよび-ホスファン、低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、塩、チョーク、石英紛(quartz flour)、ガラスおよび炭素繊維、顔料、およびこれらの組み合わせが挙げられる。前記化合物は、例えば、国際特許出願公開第WO99/55772号公報、第１５〜２５頁、および「プラスチックス・アディティヴズ(Plastics Additives)」、アール・ゲヒター(R. Gachter)およびエイチ・ミュラー(H. Muller)著、ハンサー・パブリッシャーズ1983年に開示されている。
【００３１】
他のポリマー、例えば、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリエステル、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンおよびポリスチレンを、本発明のコポリカーボネートに更に混合してもよい。
【００３２】
これら基質は、好ましくは、完成したポリカーボネートに汎用の装置において加えられるが、必要に応じて、調製プロセスの別の段階で加えられてもよい。
【００３３】
本発明の方法により得られるポリカーボネートは、常套の方法でフィルムまたはシートなどの所望の形状の物品に、例えば押出し機もしくは射出成形機などの汎用の機械において加工されてよい。
【００３４】
本発明は、本発明のポリカーボネートの使用、および成形品および押出し成形品（特に光学物品、フィルムおよびシート）の製造のための対応する成形用組成物の使用、および本発明のポリカーボネートから製造される対応する成形品、特に光学物品も提供する。
【００３５】
耐熱性や耐薬品性などの特性の組み合わせは、本発明のコポリマーの広範な使用を可能にする。本発明のポリカーボネートの考えられ得る用途は、制限されるものではないが、以下の通りである。
１．建物、自動車および航空機の多くの分野において、必要であると知られているセイフティパン(safety panes)およびヘルメットにおけるシールド。
２．ホイル(foils)、特にスキーホイル(ski foils)の製造。
３．ブロー成形品の製造（例えば、米国特許第2964794号公報参照）、例えば、１〜５ガロンの水用ボトル。
４．鉄道の駅、温室および照明プラントなどの屋根の有る建物のための透明シート、特にキャビティシート(cavity sheets)の製造。
５．光学データ記憶装置の製造。
６．交通信号のハウジングまたは交通標識の製造用。
７．発泡体の製造用（例えば、ドイツ特許出願公開第AS-1031507号公報）。
８．トレッドおよびワイヤーの製造用（例えば、ドイツ特許出願公開第AS-1137167号公報および同第OS-1785137号公報）。
９．照明目的のためのガラス繊維内容物を含む半透明のプラスチックとして。
【００３６】
１０．透明な光散乱成形品の製造のための、硫酸バリウム、二酸化チタンおよび／または酸化ジルコニウムまたは有機ポリマーアクリレートゴム（欧州特許第634445号および同第269324号）などの内容物を含む半透明のプラスチックとして。
１１．レンズホルダーなどの精密な射出成形部品の製造用。ガラス繊維内容物を含み、場合により合計重量に対して約１〜１０重量％のＭｏＳ_２を更に含有するポリカーボネートをこのために使用する。
１２．光学装置部品、特に写真およびフィルムカメラ用のレンズの製造（例えば、ドイツ特許出願公開第OS-2701173号公報参照）。
１３．光透過性キャリア、特に光伝導性ケーブルとして（例えば、欧州特許出願公開第特許Ａ-10089801号公報参照）。
１４．導電体用およびプラグシェルおよびプラグインコネクター用の電気絶縁性材料。
１５．香水、シェービングローションおよび皮膚発汗に対して高い耐性を有する携帯電話の製造。
１６．ネットワークインターフェース装置。
１７．有機光伝導体用のキャリア材料として。
１８．サーチライト（いわゆる「ヘッドランプ」）などのランプまたは散乱光パン(scattered light panes)またはインターナルレンズ(internal lenses)の製造用。
１９．酸素処理器、透析器などの医用用途のため。
【００３７】
２０．容器、台所用品およびチョコレートの型などの食品用途のため。
２１．バンパーなどのように燃料や潤滑剤との接触が生じ得る自動車分野において、場合によりＡＢＳもしくは好適なゴムとの適したブレンドの形態での使用のため。
２２．スラロームのポールまたはスキーブーツのバックルなどのスポーツ物品のため。
２３．台所のシンクおよび郵便受のハウジングなどの家庭用物品のため。
２４．配電盤室などのハウジング用。
２５．電気歯ブラシ用ケーシングやヘアドライヤーケーシング。
２６．洗浄液に対して高い耐性を有する、透明な洗濯機−のぞき窓。
２７．安全なガラス、光学補正ガラス。
２８．台所の蒸気、特に油蒸気に高い耐性を有する台所用器具のためのランプカバー。
２９．薬剤用包装フィルム。
３０．チップボックスおよびチップ支持体。
３１．飼育用の馬屋(fattening stable doors)または動物用のケージなどの他の用途のため。
【００３８】
以降の実施例は、本発明を例示するものであるが、本発明を限定するものではない。
【００３９】
【実施例】
相対溶液粘度は、塩化メチレン中、５ｇ／リットルの濃度において２５℃で求め、光散乱により較正した。
フェノール性ＯＨの含量はＩＲ測定により得られる。この目的のために、ポリマー２ｇの５０ｍＬ塩化メチレン溶液と純粋な塩化メチレンとの差を測定し、３,５８２ｃｍ^−１での吸光度を求める。
【００４０】
実施例１
ビスフェノールＡ２７．４０ｇ（０．１２モル）、4,4'-ジヒドロキシジフェニル１４．８８ｇ（０．０８モル）、ジフェニルカーボネート４４．９９ｇ（０．２１モル）およびテトラフェニルホスホニウムフェノラート（混成結晶に対してフェノールを３０重量％含有する混成結晶として計量する）４．９ｍｇ（８×１０^−６モル）を、撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付きビゴーカラム（３０ｃｍ、反射型(mirrored)）を装備した５００ｍＬ３つ口フラスコ内に秤量する。装置は、真空にして窒素を（３回）パージすることによって雰囲気酸素を排除し、そして前記混合物を１５０℃で溶融する。温度を１９０℃に上げて、形成したフェノールを３０分間留去する。次に真空を１００ｂａｒに調節し、混合物を２０分間撹拌する。温度を２３５℃に上げ、１５分後に真空を６０ｍｂａｒにし、更に１５分後、温度を２７０℃に調節する。更に１５分後、真空を５ｍｂａｒに上げ、１５分後に温度を２８０℃に上げる。１５分後、０．５ｍｂａｒにして、混合物を１５分間撹拌し、そして３００℃で３０分間撹拌する。結果を表１にまとめる。
【００４１】
実施例２
ビスフェノールＡ２６．９４ｇ（０．１１８モル）、4,4'-ジヒドロキシジフェニル１５．２５ｇ（０．０８２モル）、ジフェニルカーボネート４６．７０ｇ（０．２２モル）およびフェノール／水９：１中のテトラフェニルホスホニウムフェノラートの５％溶液６９μＬを、撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付きビゴーカラム（３０ｃｍ、反射型）を装備した５００ｍＬ３つ口フラスコ内に秤量する。装置は、真空にして窒素を（３回）パージすることによって雰囲気酸素を排除し、そして前記混合物を１５０℃で溶融する。真空を１００ｍｂａｒに調節し、温度を１９０℃に上げ、そして形成するフェノールを３０分間留去する。温度を２３５℃に上げ、１５分後に温度を１０分で３００℃に調節する。蒸留が静まるとすぐに、真空を段階的に０．５ｍｂａｒまで上げる。次いで、混合物を３００℃で３０分間撹拌する。結果を表１にまとめる。
【００４２】
実施例３
ビスフェノールＡ６２．７８ｇ（０．２８モル）、4,4'-ジヒドロキシジフェニル４１．８５ｇ（０．２３モル）、ジフェニルカーボネート１１０．３２ｇ（０．５２モル）およびテトラフェニルホスホニウムフェノラート（混成結晶に対してフェノールを３０重量％含有する混成結晶として計量したもの）１２．３ｍｇ（２×１０^−５モル）を、撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付きビゴーカラム（３０ｃｍ、反射型）を装備した５００ｍＬ３つ口フラスコ内に秤量する。装置は、真空にして窒素を（３回）パージすることによって雰囲気酸素を排除し、そして前記混合物を１５０℃で溶融する。真空を１００ｍｂａｒに調節し、温度を１９０℃に上げ、そして形成するフェノールを６０分間留去する。温度を２３５℃に上げ、３０分後に温度を３００℃に調節する。蒸留が静まるとすぐに、真空を段階的に０．５ｍｂａｒまで上げる。次いで、混合物を３００℃で３０分間撹拌する。結果を表１にまとめる。
【００４３】
実施例４
ビスフェノールＡ５７．０７ｇ（０．２５モル）、4,4'-ジヒドロキシジフェニル４６．５０ｇ（０．２５モル）、ジフェニルカーボネート１１２．４７ｇ（０．５３モル）およびテトラフェニルホスホニウムフェノラート（混成結晶に対してフェノールを３０重量％含有する混成結晶として計量したもの）１２．３ｍｇ（２×１０^−５モル）を前記フラスコに秤量したこと以外は、実施例３と同様に行った。結果を表１にまとめる。
【００４４】
比較例１
ビスフェノールＡ６２７．８１０ｇ（２．７５モル）、4,4'-ジヒドロキシジフェニル４１８．５０ｇ（２．２５モル）、ジフェニルカーボネート１，１０３．２３ｇ（５．１６モル）およびテトラフェニルホスホニウムフェノラート（混成結晶に対してフェノールを３０重量％含有する混成結晶として計量したもの）０．１２３ｇ（２×１０^−４モル）を、撹拌用容器に秤量する。この容器は、真空にして窒素を（３回）パージすることによって雰囲気酸素を排除し、そして前記混合物を１００ｍｂａｒ下、１５０℃で溶融する。温度を１９０℃に上げて、形成するフェノールを４５分間留去する。温度を４５分で３３０℃に上げる。蒸留が静まるとすぐに、真空を段階的に０．５ｍｂａｒまで上げる。次いで、混合物を３３０℃で３０分間撹拌する。結果を表１にまとめる。
【００４５】
比較例２
ビスフェノールＡ２２．８３ｇ（０．１モル）、4,4'-ジヒドロキシジフェニル１８．６０ｇ（０．１モル）、ジフェニルカーボネート４４．９９ｇ（０．２１モル）およびテトラフェニルホスホニウムフェノラート（混成結晶に対してフェノールを３０重量％含有する混成結晶として計量したもの）４．９ｍｇ（８×１０^−６モル）を、撹拌器、内部温度計、およびブリッジ付きビゴーカラム（３０ｃｍ、反射型）を装備した５００ｍＬ３つ口フラスコ内に秤量する。この器具は、真空にして窒素を（３回）流すことによって雰囲気酸素を排除し、そして前記混合物を１５０℃で溶融する。真空を１００ｍｂａｒに調節し、温度を１９０℃に上げて、形成するフェノールを２０分間留去する。温度を２３５℃に上げ、１５分後に真空を６０ｍｂａｒに調節し、混合物を１５分間撹拌する。２７０℃まで加熱し、１５分後に真空をゆっくりと５ｍｂａｒまで上げる。更に１５分後、温度を１０分で３００℃に調節する。１５分後、真空を０．５ｍｂａｒに上げる。次いで、温度を３２０℃に設定し、１５分後、混合物を３０分間撹拌する。結果を表１にまとめる。
【００４６】
【表１】

表１：コポリカーボネートの比較
ＢＰＡ：ビスフェノールＡ
ＤＯＤ：4,4'-ジヒドロキシジフェニル
【００４７】
前記結果は、公知の方法を考慮した本願クレームの方法が驚くほど優れていることを示している。
比較例１では、より高い終点温度を用いても、実施例１〜４で達成し得るような良好な粘度を有する透明な材料（相応する分子量）を達成することができない。
比較例２では、不溶でかつ通常の非熱可塑性不透明材料のみが生成される。
従って、本発明のクレームされた主題は、新規でかつ発明性がある。
【００４８】
本発明は、例示目的のために先に詳細に記載したが、これは、単にこの目的のためであって、しかも本願クレームによって限定され得ることを除き、本発明の精神および範囲から逸脱することなく当業者により変更が可能であると解されるべきである。

Claims

少なくとも１種のジアリールカーボネートを、式(I)の化合物：

（ここで、Ｒ^１〜Ｒ^４は互いに独立して、Ｈ、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、フェニル、置換フェニルまたはハロゲンを表す。）
３５〜６０モル％と式(II)の化合物：

（ここで、Ｒ^５〜Ｒ^８は互いに独立して、Ｈ、ＣＨ_３、ＣｌまたはＢｒであり、およびＸは、Ｃ_１〜Ｃ_５アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６シクロアルキレンまたはＣ_５〜Ｃ_１０シクロアルキリデンである。）
６５〜４０モル％を含有する混合物と溶融物中でエステル交換反応させることを包含するコポリカーボネートの調製方法において、前記百分率（％）が共に(I)および(II)の合計モル量に関するものであり、２７０〜３３０℃の温度が、２２０〜２４０℃の温度から４０分以内に到達されることを特徴とするコポリカーボネートの調製方法。
エステル交換反応がオニウム塩触媒の存在下で行われる請求項１記載の方法。
エステル交換反応がテトラフェニルホスホニウムフェノラート触媒の存在下で行われる請求項１記載の方法。
触媒が、ビスフェノールの合計モル量に対して１０^−３〜１０^−８モル％の量で存在する請求項２記載の方法。