JP4117530B2 - 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 315
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 85
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 72
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 58
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 26
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/06—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of fluids in transparent cells
-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/7035—Proximity or contact printers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
- G03H1/0408—Total internal reflection [TIR] holograms, e.g. edge lit or substrate mode holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
- G03H2001/0094—Adaptation of holography to specific applications for patterning or machining using the holobject as input light distribution
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2223/00—Optical components
- G03H2223/25—Index matching material
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Geophysics And Detection Of Objects (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ホログラムを利用して露光を行うホログラフィック露光装置に係り、特に、ホログラムマスクをプリズムと密接させるために使うマッチングリキッド等の充填液の液量を判定し補充するために装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置のパターニングプロセスにおいて、TIR型(Total Internal Reflection:全内部反射型)ホログラフィック露光技術が注目されてきている。この露光技術は、ホログラムマスクに対し所望のパターンを記録する記録工程と、このホログラムマスクに再生光を照射して半導体パターン用のフォトレジストを感光する露光工程とからなる。
【0003】
記録工程では、まず半導体装置のパターンに対応したマスクパターン(元レチクル)にレーザー光の記録ビームを照射して回折光を生じさせ、ホログラムマスクの記録面に射出する。一方、ホログラムマスクの記録面に対し一定の角度でホログラムマスクの裏側から参照光を照射し、元レチクルからの回折光と干渉させる。これによってホログラムマスクの記録面に干渉パターンを生じさせこれをホログラム記録面に記録させる。
【0004】
露光工程では、元レチクルと同じ位置にホログラムマスクを置いて、記録時と反対方向から再生光である露光ビームを照射し、フォトレジスト上に元のパターンを再現した回折光を結像させてフォトレジストを露光する。
【0005】
ホログラムマスクには特定のレチクルパターンの干渉パターンが記録されるため、露光すべきパターンが変わるたびにホログラムマスクをプリズムから取り外し新たなホログラムマスクをプリズムと密着させる必要がある。従来、ホログラムマスクとプリズムとを屈折率に影響を与えずに密接させるためにマッチングリキッドという光学的特性を調整した充填液が使われていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、マッチングリキッドには揮発性があるため、長時間露光しているうちに徐々にマッチングリキッドが揮発し、正しい露光が行えなくなるという問題があった。このため、適当なタイミングで露光を中断し、マッチングリキッドの有無を確かめ、液量が不足している場合には補充するという作業を強いられていた。
【0007】
特に、一旦ホログラムマスクがプリズムに取り付けられると、ホログラムマスクはホログラフィック露光装置の内部に配置されるため、露光の前にマッチングリキッドの液量を肉眼で確かめることには困難が伴う。
【0008】
また、マッチングリキッドの液量のチェックのみならず、マッチングリキッドを頻繁に補充することも大変煩わしいものであった。せめて連続した露光工程中はマッチングリキッドの補充をしないで済ますことが望まれる。
【0009】
【課題を解決するための手段】
そこで上記課題に鑑み、本発明は、光学部品間の充填液の液量を自動的に判定しうる液量判定装置、それを用いた露光装置を提供することを目的とする。
【0010】
また本発明は、充填液の補充回数を減らすことのできる充填液貯留装置を提供することを目的とする。
【0011】
本発明の液量判定装置は、複数の光学部品間を充填する充填液の液量を判定するための液量判定装置において、前記充填液を介して対向する一対の前記光学部品のうち一方の光学部品について、当該光学部品の対向面上の検査位置に略垂直に検査光を射出するための検査光射出装置と、前記対向面上における任意の複数の前記検査位置に前記検査光を射出させるために前記検査光射出装置を搬送するための搬送装置と、前記検査光射出装置から前記対向面に向けて射出された前記検査光の反射光に基づいて前記複数の検査光に対応する複数の反射位置を特定するための反射位置特定装置と、前記反射位置特定装置が特定した前記複数の反射位置に基づいて前記検査位置における前記充填液の有無を判定するための判定装置と、前記充填液を一対の前記光学部品間に供給する充填液供給装置と、を備え、前記判定装置は、前記対向面の周辺部における前記複数の検出位置の各々に対応する反射位置が所定の条件を満たしているか否かに基づいて、各々の前記検出位置における前記充填液の液量が十分であるか否かを判定するものであり、前記充填液供給装置は、前記判定装置においていずれかの前記検出位置について前記充填液の液量が十分でないと判定された場合に、前記充填液の液量が十分でないと判定された前記検査位置の分布に基づいて供給すべき前記充填液の液量を決定することを特徴とする。
【0012】
ここで判定装置は、検査位置を対向面の中心付近とした場合において特定された反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の光学部品が装着されていないと判定してもよい。
【0021】
また本発明は、本発明の液量判定装置と、一方の光学部品としてのホログラムマスクと、ホログラムマスクに露光ビームを照射して露光領域を露光する照射手段と、を備える露光装置であってもよい。
【0022】
本発明の液量判定方法は、上記液量判定装置において実施するのに適する液量判定方法でもある。すなわち、本発明の液量判定方法は、複数の光学部品間を充填する充填液の液量を判定するための液量判定方法において、前記充填液を介して対向する一対の前記光学部品のうち一方の光学部品について、当該光学部品の対向面上の検査位置に略垂直に検査光を射出するステップと、前記対向面上における任意の複数の前記検査位置に前記検査光を射出させるステップと、前記対向面に向けて射出された前記検査光の反射光に基づいて前記複数の検査光に対応する複数の反射位置を特定するステップと、特定した前記複数の反射位置に基づいて前記検査位置における前記充填液の有無を判定するステップと、前記充填液を一対の前記光学部品間に供給するステップと、を備え、前記判定するステップは、前記対向面の周辺部における前記複数の検出位置の各々に対応する反射位置が所定の条件を満たしているか否かに基づいて、各々の前記検出位置における前記充填液の液量が十分であるか否かを判定するものであり、前記充填液を供給するステップは、前記判定するステップにおいていずれかの前記検出位置について前記充填液の液量が十分でないと判定された場合に、前記充填液の液量が十分でないと判定された前記検査位置の分布に基づいて供給すべき前記充填液の液量を決定することを特徴とする。
【0023】
ここで判定するステップは、検査位置を対向面の中心付近とした場合において対向面の中心付近における検査位置に対応する反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の光学部品が装着されていないと判定してもよい。
【0027】
また判定するステップは、対向面内における所定の領域の周囲における複数の検査位置の各々について充填液の液量が充分であるか否かを判定してもよい。このとき、充填液を供給するステップは、いずれかの検査位置について充填液の液量が十分でないと判断された場合に充填液を供給する。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
(実施形態1)
本発明の実施形態1は、本発明の液量判定装置を備えたTIR型ホログラフィック露光装置に係り、充填液の液量の検査位置をホログラムマスク面の周辺部とした露光装置に関する。
【0029】
図1に、本実施形態1におけるTIR型ホログラフィック露光装置の全体構成図を示す。
【0030】
図1に示すように、露光装置は、プリズム202、ステージ222を備えるステージ装置224、第1情報処理装置226、距離測定光学系240、膜厚測定光学系250、光源260、搬送装置262、第2情報処理装置270、露光光源280、露光光源駆動装置282、第3情報処理装置264、充填液供給装置230を備えて構成される。プリズム202にはホログラムマスク200が充填液であるマッチングリキッド204を介して密着されている。
【0031】
光源260は、本発明の検査光射出装置に係り、距離測定光学系240および膜厚測定光学系250のための検査光を射出可能に構成されている。
【0032】
搬送装置262は、本発明の搬送装置に係り、マッチングリキッド204を介してホログラムマスク200と対向するプリズム202の対向面203上における任意の検査位置に検査光が射出できるように光源260を搬送するようになっている。すなわち搬送装置262は、第3情報処理装置264の制御によって、前記対向面203に対応する任意の位置(P1やP2や図面の垂直方向)に搬送可能になっており、プリズム202の反射によってホログラムマスク200に射出される検査光が対向面203の任意の位置に当該面に垂直に供給可能になっている。
【0033】
距離測定光学系240は、本発明の反射位置特定装置の一部に係り、ビームスプリッタ242、シリンドリカルレンズ244、光センサ246、誤差信号検出器248を備え、ホログラムマスク200の記録面と被露光基板上に塗布された感光性材料膜表面214との距離を調整して露光時のフォーカスを制御することが可能に構成されている。
【0034】
ビームスプリッタ242は、光源260から射出された検査光がプリズム202で反射された後、ホログラムマスク200との対向面203または被露光基板210の感光性材料膜表面214で反射された反射光の光路を垂直な方向に変更するようになっている。
【0035】
シリンドリカルレンズ244は、光軸に垂直な二方向のうち一方のみにレンズとして作用し他方には光学的な作用を及ぼさないように構成されており、入射する光の射出点からの距離に応じて、二方向に対称的な集光形状が得られる焦点距離が変化するようになっている。このため光源260からの検査光がどの反射位置で反射されたかに応じて光センサ244上に集光する反射光の形状の対称性が変化するようになっている。
【0036】
光センサ244は光軸を中心として4分割されたフォトデテクタであり、それぞれのフォトデテクタに入射する検査光の光量に応じた電気信号を出力するようになっている。
【0037】
誤差信号検出器248は、光センサ244のフォトデテクタからそれぞれ出力された電気信号の差分を演算し誤差信号を出力するようになっている。
【0038】
第3情報処理装置264は、本発明の反射位置特定装置および判定装置に係り、前記誤差信号に基づいて本発明の反射位置の特定と液量判定とを実施するようになっている。
【0039】
充填液供給装置230は、駆動装置232、タンク234、流路ポンプ236、および供給パイプ238を備え、第3情報処理装置264においてマッチングリキッドの液量が十分でないと判定された場合に、所定量のマッチングリキッド204をプリズム202とホログラムマスク200との間隙に充填液を供給するように構成されている。
【0040】
具体的には、駆動装置232は、第3情報処理装置264の制御信号に基づいて所定の時間駆動信号を出力するようになっている。流路ポンプ236は、この駆動信号が出力されている期間中、タンク234に貯留されている補充用のマッチングリキッド204を供給パイプ238に供給するようになっている。供給パイプ238に出力されたマッチングリキッドはプリズム202とホログラムマスク200との間隙に直接供給されるようになっているが、この間隙へのマッチングリキッドの供給部分に後述する充填液貯留装置300を介して供給するように構成してもよい。
【0041】
その他の構成の説明に移る。ステージ装置224は、感光性材料膜212が形成された被露光基板210を真空チャック等でステージ222上に保持して、少なくとも上下方向(Z方向)へのステージ222の位置調整が可能に構成されている。第1情報処理装置226は距離測定光学系240から出力された誤差信号に基づいて、ホログラム記録面201と被露光基板上に形成された感光性材料膜表面214との距離に基づいてフォーカスが適正となるようにステージ220の位置を設定するように構成されている。膜厚測定光学系250は、ビームスプリッタ、フォトデテクタ、増幅器、A/D変換器等を備え、被露光基板210上に形成された感光性材料膜212の膜厚を測定するための構成を備えている。第2情報処理装置270は、膜厚測定光学系250により出力された感光性材料膜212の膜厚の相対値に基づいて露光の光量を制御するように構成されている。露光光源280は、ホログラムマスク200のホログラム記録面202に露光ビームを照射可能に構成されている。露光光源駆動装置282は、露光光源280を移動して被露光基板210上の所望の露光領域を走査して露光するように構成されている。
【0042】
図2の対向面203の平面図を参照して、本実施形態における検出位置を説明する。本実施形態1では、対向面203上に検査光を射出する検査位置を、図2に示すように、対向面203の周辺部としている点に特徴がある。
【0043】
図2において、レチクルパターンが再生される露光領域DA2に対し、マージンをとった有効領域DA1が任意に定められている。マッチングリキッドはEの部分から供給可能である。破線で示すように、揮発するにつれてプリズムとホログラムマスクとの密着面(間隙)の周囲からマッチングリキッド204が揮発し、充填液領域LA1が縮小していく。本実施形態ではこの有効領域DA1よりも充填液領域LA1が縮小したか否かを判定する。すなわち、図2に示すように、検査光による検出位置MP11aおよびbを対向面203の周辺部に設定する。これら複数の検出位置のうち、いずれか一つのみについて検出してもいいし、幾つかについて検出してもよいし、総てについて検出してもよい。例えば、対向面203における対角線上にある検出位置MP11aでは、中心点MPCからの距離が遠いために早めにマッチングリキッドが蒸発すると考えられる。このため、比較的早期に、すなわち、マッチングリキッドの揮発量が少ないうちにマッチングリキッドの液量不足を検出可能である。一方、対向面203における辺の中央部分では対角線における液量不足より若干遅く液量不足が検出されると考えられる。
【0044】
次に図3のフローチャートを参照しながら本実施形態1の液量判定処理動作を説明する。当該液量判定処理は、本ホログラフィック露光装置における露光工程の最初に行うように設定してもよいし、露光工程とは独立して定期的に行ってマッチングリキッドが未使用時に無くならないようにしてもよい。
【0045】
まず、検査に先立って第3情報処理装置264は、搬送装置262を制御して光源260を移動させ、プリズム202の対向面203の中心点MPCに検査光が射出できるようにする(S10)。もしホログラムマスク200がプリズム202にマッチングリキッドを介して装着されているならば、検出光は対向面203で反射されることなくホログラム記録面201に達し、そこで一部が反射され、大部分が被露光基板210の感光性材料膜面214で反射される。もしもホログラムマスクがプリズムに装着されているならば、少なくとの対向面の中心付近にはマッチングリキッドが存在していなければならないはずである。そこで、第3情報処理装置264は、距離測定光学系240から出力された誤差信号が、検出光が総て対向面203で反射されたことを示している場合にはマッチングリキッド無し、つまりホログラムマスクが装着されていないと判定し(S11:N)、図示しない表示装置やランプにその旨の表示をさせる(S12)。
【0046】
ホログラムマスクが装着されていると判定された場合(S11:Y)、第3情報処理装置264は予めメモリに記憶されているか入力されるかした検出レベルを特定する(S13)。検出レベルとは、どの程度マッチングリキッドの充填液境界LA1が縮小していたらアラームを出すかを定めるレベルをいう。例えば図2で説明したように、比較的早めにアラームを出すなら、対向面203の対角線周辺部に検出位置MP11bを設定するし、もう少しマッチングリキッドの揮発を許容するなら検出位置MP11aなどに設定する。
【0047】
次いで液量判定に移る。まず第3情報処理装置264は、搬送装置262を制御し、設定した検出位置の各々について位置情報を読み出し(S14)、その位置情報で特定される対向面203上の検出位置に検出光を出力させる。そして距離測定光学系240から出力された誤差信号に基づいて、上記と同様にマッチングリキッドの有無を判定する。もしもマッチングリキッドがその検出位置に存在するなら、検出光はその検出位置で反射されることなくホログラムマスク200に達するが、マッチングリキッドが揮発してその検出位置に存在しなくなっているなら、検出光はその検出位置で反射される。誤差信号が検出光の反射位置として対向面以外の位置を示している場合には(S15:Y)、その検出位置にはマッチングリキッドが存在するため、次の検出位置の検出に移行する(S16:N)。総ての検出位置におけるマッチングリキッドの有無を検査し(S14〜S16)、総ての検出位置においてマッチングリキッドが存在していることを判定できたら(S16:Y)、第3情報処理装置264は補充する必要が無い旨の表示を必要に応じて行い(S17)、液量判定処理を終了する。次いで必要に応じて露光工程に移行する。一方、いずれかの検出位置についてマッチングリキッドが存在していないことが検出された場合(S15:N)、必要に応じてマッチングリキッドが不足している旨の表示を行う(S18)。
【0048】
マッチングリキッドが不足していると判定された場合には(S18)その旨の表示を見た操作者が人手でマッチングリキッドを補充するようにしてもよいが、本実施形態ではさらに充填液供給装置230によるマッチングリキッドの補充を行う(S19)。すなわち、第3情報処理装置264は検出レベルを参照し、どの程度の液量のマッチングリキッドを供給すべきかを決定し、その液量に応じた期間だけ駆動装置232を駆動して流路ポンプ236を動作させる。タンク234からは流路ポンプ236の駆動されている期間だけマッチングリキッドが、プリズム202とホログラムマスク200との間隙に供給される。なお、マッチングリキッドの供給後に再び同じ検出位置の液量判定を行って十分にマッチングリキッドが供給されたかを確認してもよい。また、流路ポンプ236の駆動期間を予め決める代わりに、この液量判定の結果をフィードバックさせて液量が回復し次第流路ポンプを停止させるように構成してもよい。
【0049】
以上、実施形態1によれば、検査位置を対向面の中心付近とした場合において特定された反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の光学部品が装着されていないと判定するので、ホログラムマスクの装着すべき旨の警告を出すことができる。また液量判定に先立ち、ホログラムマスクの存在を確認できる。
【0050】
本実施形態1によれば、対向面の周辺部において液量判定をするように構成したので、比較的早期にマッチングリキッドの不足を検出することができる。
【0051】
本実施形態1によれば、液量不足が判定された後に充填液供給装置がマッチングリキッドを適量供給するので、マッチングリキッドの供給を自動化し、人手を介しての困難なマッチングリキッドの補充を省くことが可能である。
(実施形態2)
本発明の実施形態2は、前記実施形態1と同様のホログラフィック露光装置に係り、複数の検査位置について充填液の液量判定を行って液量不足と判定された検査位置の分布に基づいて供給すべき充填液の液量を決定する露光装置に関する。
【0052】
本実施形態2におけるホログラフィック露光装置の構成は実施形態1と同様であるため説明を省略する。
【0053】
図4の対向面203の平面図を参照して、本実施形態における検出位置を説明する。本実施形態2では、対向面203上に検査光を射出する検査位置を、図4に示すように、対向面203の内部に複数設けている点に特徴がある。
【0054】
図4において、レチクルパターンが再生される露光領域DA2に対し、マージンをとった有効領域DA1が任意に定められている。この有効領域DA1にほぼ十分にマッチングリキッドを行き渡らせるためには、少なくともマッチングリキッドは充填液領域LA1を占めていなければならない。また露光領域DA2に対する露光処理を行うためにはどんなにマッチングリキッドが少なくても充填液領域LA2の範囲にはマッチングリキッドが存在しなくてはならない。そこで本実施形態2では、マッチングリキッドの揮発量に応じた制御が行えるように、充填液領域LA1およびLA2の内外に検査位置MP21aおよびb、MP22aおよびbを設ける。そして液量不足と判定された検査位置の分布に応じて補充する液量を変化させる。例えば表1に示すように検出された液量不足の検出位置に応じたマッチングリキッドの補充量を定めることができる。
【0055】
【表1】
図4に示した検出位置は例示に過ぎず適宜変更が可能である。例えば、これら複数の検出位置のうち、幾つかについて検出してもよいし、総てについて検出してもよい。例えば、プリズム底面が中心軸に対して幾何学的に対称な形状を有している場合、この対向面で幾何学的に中心軸対称な位置にある検出位置同士は充填液の充填度がほぼ同じであると考えられるので、一方の検出を省いてもよい。
【0056】
次に図5のフローチャートを参照しながら本実施形態2の液量判定処理動作を説明する。当該液量判定処理は、本ホログラフィック露光装置における露光工程の最初に行うように設定してもよいし、露光工程とは独立して定期的に行ってマッチングリキッドが未使用時に無くならないようにしてもよい。
【0057】
まず、検査に先立って第3情報処理装置264は、搬送装置262を制御して光源260を移動させ、プリズム202の対向面203の中心点MPCに検査光が射出できるようにする(S20)。もしホログラムマスク200がプリズム202にマッチングリキッドを介して装着されているならば、検出光は対向面203で反射されることなくホログラム記録面201に達し、そこで一部が反射され、大部分が被露光基板210の感光性材料膜面214で反射される。もしもホログラムマスクがプリズムに装着されているならば、少なくとの対向面の中心付近にはマッチングリキッドが存在していなければならないはずである。そこで、第3情報処理装置264は、距離測定光学系240から出力された誤差信号が、検出光が総て対向面203で反射されたことを示している場合にはマッチングリキッド無し、つまりホログラムマスクが装着されていないと判定し(S21:N)、図示しない表示装置やランプにその旨の表示をさせる(S22:表1参照)。
【0058】
ホログラムマスクが装着されていると判定された場合(S21:Y)、液量判定に移る。まず第3情報処理装置264は、搬送装置262を制御し、設定した検出位置の各々について位置情報を読み出し(S23)、その位置情報で特定される対向面203上の検出位置に検出光を出力させる。そして距離測定光学系240から出力された誤差信号に基づいて、反射位置を検出し(S24)、それに対応させてマッチングリキッドの有無を判定する(S25)。もしもマッチングリキッドがその検出位置に存在するなら、検出光はその検出位置で反射されることなくホログラムマスク200に達するが、マッチングリキッドが揮発してその検出位置に存在しなくなっているなら、検出光はその検出位置で反射される。一つの検出位置の液量判定が終了するとその結果を記憶し、次の検出位置の液量判定に移行する(S26:N)。総ての検出位置におけるマッチングリキッドの有無を検査したら(S23〜S26)、第3情報処理装置264は液量不足と判定された検出位置の分布に応じて補充するマッチングリキッドの液量を決定し対応したアラーム表示を行う(S27)。例えば第3情報処理装置は表1に示すような対応関係を利用する。
【0059】
さて、マッチングリキッドの補充が必要であると判定されている場合には、操作者が人手でマッチングリキッドを補充するようにしてもよいが、本実施形態ではさらに充填液供給装置230によるマッチングリキッドの補充を行う(S28)。すなわち、第3情報処理装置264は表1など、液量不足と判定された検出位置の分布に基づいた供給すべきマッチングリキッドの液量を決定し、その液量に応じた期間だけ駆動装置232を駆動して流路ポンプ236を動作させる。タンク234からは流路ポンプ236の駆動されている期間だけマッチングリキッドが、プリズム202とホログラムマスク200との間隙に供給される。なお、マッチングリキッドの供給後に再び同じ検出位置の液量判定を行って十分にマッチングリキッドが供給されたかを確認してもよい。
【0060】
以上、実施形態2によれば、検査位置を対向面の中心付近とした場合において特定された反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の光学部品が装着されていないと判定するので、ホログラムマスクの装着すべき旨の警告を出すことができる。また液量判定に先立ち、ホログラムマスクの存在を確認できる。
【0061】
本実施形態2によれば、液量不足と判定された検出位置の分布を検出するように構成したので、どの程度マッチングリキッドが不足しているか端的に通知することができ、不足している液量に応じたマッチングリキッドの補充が行える。
【0062】
このとき、液量不足が判定された後に充填液供給装置がマッチングリキッドを適量供給するので、マッチングリキッドの供給を自動化し、人手を介しての困難なマッチングリキッドの補充を省くことが可能である。
(実施形態3)
本発明の実施形態3は、前記実施形態1と同様のホログラフィック露光装置に係り、露光領域の周囲における複数の検査位置の各々について充填液の液量が充分であるか否かを判定する露光装置に関する。
【0063】
本実施形態3におけるホログラフィック露光装置の構成は実施形態1と同様であるため説明を省略する。
【0064】
図6の対向面203の平面図を参照して、本実施形態における検出位置を説明する。本実施形態3では、部分露光を行う場合を想定している。すなわちホログラムマスク面の一部の領域に露光すべき露光領域DAが設定されている。少なくともこの露光領域にマッチングリキッドが存在すれば、露光処理が行える。そこで本実施形態では、対象となる露光領域DAの周囲について液量不足を判定する点に特徴がある。
【0065】
すなわち、図6において、レチクルパターンが再生される露光領域DAに対し、その周囲の液量を判定する。さらに必要に応じて露光領域DAの中心点MPCや露光領域内の任意の点MP31,32,・・・3xを検出位置としてもよい。
【0066】
次に図7のフローチャートを参照しながら本実施形態3の液量判定処理動作を説明する。当該液量判定処理は、本ホログラフィック露光装置における露光工程の最初に行うように設定してもよいし、露光工程とは独立して定期的に行ってマッチングリキッドが未使用時に無くならないようにしてもよい。
【0067】
まず、検査に先立って第3情報処理装置264は、露光領域DAの中心点の位置情報を読み出して(S30)、搬送装置262を制御して光源260を移動させ、露光領域DAの中心点MPCに検査光が射出できるようにする(S31)。もしホログラムマスク200がプリズム202にマッチングリキッドを介して装着されているならば、検出光は対向面203で反射されることなくホログラム記録面201に達し、そこで一部が反射され、大部分が被露光基板210の感光性材料膜面214で反射される。もしもホログラムマスクがプリズムに装着されているならば、少なくとの対向面の中心付近にはマッチングリキッドが存在していなければならないはずである。そこで、第3情報処理装置264は、距離測定光学系240から出力された誤差信号が、検出光が総て対向面203で反射されたことを示している場合にはマッチングリキッド無し、つまりホログラムマスクが装着されていないと判定し(S32:N)、図示しない表示装置やランプにその旨の表示をさせる(S33)。
【0068】
ホログラムマスクが装着されていると判定された場合(S32:Y)、液量判定に移る。まず第3情報処理装置264は、露光領域DAの位置情報を読み出す(S34)。そして搬送装置262を制御し、露光領域DAの周囲を検査光が走査していくようにして検査を開始する(S35)。液量が確保されている限り(S36:Y)、一周するまでは(S39:N)、連続的に誤差信号に基づく液量の判定を行う。液量不足が検出されることなく検出光が露光領域DAの周囲を一周できたら(S39:Y)、液量が充分であると考えられるため、補充無しの表示をして(S40)処理を終了する。必要に応じて露光工程に移行する。
【0069】
一方、いずれかの位置において液量不足と判定された場合には(S36:N)、液量不足の表示を行う(S37)。マッチングリキッドの補充が必要であると判定されている場合には、操作者が人手でマッチングリキッドを補充するようにしてもよいが、本実施形態ではさらに充填液供給装置230によるマッチングリキッドの補充を行う(S38)。すなわち、第3情報処理装置264は所定の液量に応じた期間だけ駆動装置232を駆動して流路ポンプ236を動作させる。タンク234からは流路ポンプ236の駆動されている期間だけマッチングリキッドが、プリズム202とホログラムマスク200との間隙に供給される。なお、マッチングリキッドの供給後に再び同じ検出位置の液量判定を行って十分にマッチングリキッドが供給されたかを確認してもよい。また、流路ポンプ236の駆動期間を予め決める代わりに、この液量判定の結果をフィードバックさせて液量が回復し次第流路ポンプを停止させるように構成してもよい。
【0070】
以上、実施形態3によれば、検査位置を露光領域の中心とした場合において特定された反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の光学部品が装着されていないと判定するので、ホログラムマスクの装着すべき旨の警告を出すことができる。また液量判定に先立ち、ホログラムマスクの存在を確認できる。
【0071】
本実施形態3によれば、露光領域の周囲において液量を判定するように構成したので、最低限必要なマッチングリキッドの液量を判定できる。
【0072】
このとき、液量不足が判定された後に充填液供給装置がマッチングリキッドを適量供給するので、マッチングリキッドの供給を自動化し、人手を介しての困難なマッチングリキッドの補充を省くことが可能である。
(実施形態4)
本発明の実施形態4は、上記した充填液供給装置と共に、または、独立して使用すること可能な補充液貯留装置に関する。
【0073】
図8に、本実施形態の補充液貯留装置の構成図を示す。図8に示すように、本補充液貯留装置300は、複数の光学部品であるプリズム202とホログラムマスク200が側面をそろえてマッチングリキッド204が充填されるべき間隙を介して隣接している部分に設けられる。例えば、ホログラフィック露光装置においてはプリズムの背面にそのような部位がある。そして断面が取っ手形状となるような本体310を備えており、その内部にマッチングリキッドを溜める貯留部312を有し、当該貯留部312が当該部分における間隙の端部に向けて開口している。この本体310は例えば接着剤などで貼りしろ316においてプリズム202に貼り合わせられる。本体の長さは、ある程度のマッチングリキッドが貯留できるならば、プリズムの一辺と同じ長さでもそれ以下でもよい。この中にマッチングリキッド204を充填してから間隙部分に取り付けることにより、マッチングリキッドが貯留部312から常に間隙に供給される。
【0074】
なお、当該補充液貯留装置を図1に示した充填液供給装置230と併せて使用する場合には、例えば本体310に開口314を設けて充填液供給装置230における供給パイプ238を接続するように構成する。他方、この開口を開閉自在な蓋として構成し、人手を介してスポイトなどで充填液を補充可能に構成してもよい。
【0075】
本実施形態の補充液貯留装置によれば、全体としてのマッチングリキッドの液量を上げることができ、マッチングリキッドを補充するための保守周期を長くすることができ、頻繁に煩わしいマッチングリキッドの補充をしなくて済むようになる。
(実施形態5)
本発明の実施形態5は、前述した充填液供給装置と共に、または、独立して使用すること可能な補充液貯留装置に関する。
【0076】
図9に、本実施形態の補充液貯留装置の構成図を示す。図9に示すように、本補充液貯留装置300bは、複数の光学部品の側面が段違いに、すなわちプリズム202に比べホログラムマスク200bが若干小さく作られその側面が段違いになっている場所に設けられる。そしてプリズム202側から段違いになっている部分に張り出して設けられる延長板320を備えている。延長板320は例えば貼りしろ326においてプリズム202と貼り合わせられている。延長板の長さは、ある程度のマッチングリキッドが貯留できるならば、プリズムの一辺と同じ長さでもそれ以下でもよい。延長板320とプリズム202の底部とホログラムマスクの側面とによって囲まれる貯留空間322内には、マッチングリキッドが表面張力およびその粘性によって貯留されるようになっている。この構成のよって、マッチングリキッドが貯留空間322から常に間隙に供給される。
【0077】
なお、当該補充液貯留装置を図1に示した充填液供給装置230と併せて使用する場合には、例えば延長板320に開口324を設けて充填液供給装置230における供給パイプ238を接続するように構成する。他方、この開口を開閉自在な蓋として構成し、人手を介してスポイトなどで充填液を補充可能に構成してもよい。
【0078】
本実施形態の補充液貯留装置によれば、全体としてのマッチングリキッドの液量を上げることができ、マッチングリキッドを補充するための保守周期を長くすることができ、頻繁に煩わしいマッチングリキッドの補充をしなくて済むようになる。
(実施形態6)
本発明の実施形態6は、前述した充填液供給装置と共に、または、独立して使用すること可能な補充液貯留装置に関する。
【0079】
図10に、本実施形態の補充液貯留装置の構成図を示す。図10に示すように、本補充液貯留装置300cは、複数の光学部品のうち下側に配置される光学部品の方、すなわちホログラムマスク200cが棚部332においてせり出しており、棚部の側面に充填液の流出防止柵330を備えている。そして棚部332と流出防止柵330とで囲まれる空間334に貯留されるマッチングリキッドを間隙の端部から供給可能に構成されている。流出防止柵330はホログラムマスク200cの周囲に貼り合わせられている。この柵はホログラムマスクの周囲を覆っている必要はなく、マッチングリキッドを適量貯留可能ならばその一部、例えば一辺のみに設けるようにしてもよい。
【0080】
なお、当該補充液貯留装置を図1に示した充填液供給装置230と併せて使用する場合には、例えば棚部332上部の空間334に対し充填液供給装置230における供給パイプ238からマッチングリキッドが供給されるように構成する。流出防止策の側面に開口を設けてここからマッチングリキッドを供給してもよい。またこの実施形態では空間334が上方に向けて開口しているので、比較的楽に人手を介してスポイトなどで充填液を補充することもできる。
【0081】
本実施形態の補充液貯留装置によれば、全体としてのマッチングリキッドの液量を上げることができ、マッチングリキッドを補充するための保守周期を長くすることができ、頻繁に煩わしいマッチングリキッドの補充をしなくて済むようになる。
(その他の変形例)
本発明は、上記各実施形態に限定されることなく種々に変更して適用することが可能である。
【0082】
例えば、上記実施形態ではホログラフィック露光装置における応用例を示したが、これに限定されることなく本発明は他の露光方法に利用することが可能である。
【0083】
また、充填液の液量判定のための構成や充填液を供給するための構成は実施形態の距離測定方法に限定されることはなく公知技術を種々適用することが可能である。
【0084】
同様に、充填液貯留装置についても、上記の実施形態に限定されず種々に変更して適用することが可能である。
【0085】
【発明の効果】
本発明によれば、複数の光学部品間を充填する充填液の有無を判定する構成を備えたので、人手による困難な充填液の液量検査を省き、液量が不足していることを自動的に判定し、必要に応じて充填液を補充することができる。
【0086】
また本発明によれば、光学部品の間隙と連結している部分に充填液を貯留する構造を提供したので、充填液の総量を上げ、充填液の補充回数を減らすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態1における液量判定装置および露光装置の構成図である。
【図2】実施形態1における液量判定のための対向面における検査位置の配置を説明する平面図である。
【図3】実施形態1における液量判定方法を説明するフローチャートである。
【図4】実施形態2における液量判定のための対向面における検査位置の配置を説明する平面図である。
【図5】実施形態2における液量判定方法を説明するフローチャートである。
【図6】 実施形態3における液量判定のための対向面における検査位置の配置を説明する平面図である。
【図7】実施形態3における液量判定方法を説明するフローチャートである。
【図8】実施形態4における充填液貯留装置の構造を説明する図である。
【図9】実施形態5における充填液貯留装置の構造を説明する図である。
【図10】実施形態6における充填液貯留装置の構造を説明する図である。
【符号の説明】
200 ホログラムマスク
202 プリズム
203 対向面
204マッチングリキッド
230 充填液供給装置
232 駆動装置
234 タンク
236 流路ポンプ
238 供給パイプ
240 距離測定光学系
260 光源
262 搬送装置
264 第3情報処理装置
300、300b、300c 充填液貯留装置
Claims (7)
- 複数の光学部品間を充填する充填液の液量を判定するための液量判定装置において、
前記充填液を介して対向する一対の前記光学部品のうち一方の光学部品について、当該光学部品の対向面上の検査位置に略垂直に検査光を射出するための検査光射出装置と、
前記対向面上における任意の複数の前記検査位置に前記検査光を射出させるために前記検査光射出装置を搬送するための搬送装置と、
前記検査光射出装置から前記対向面に向けて射出された前記検査光の反射光に基づいて前記複数の検査光の各々に対応する反射位置を特定するための反射位置特定装置と、
前記反射位置特定装置が特定した前記反射位置に基づいて各々の前記検査位置における前記充填液の有無を判定するための判定装置と、
前記充填液を一対の前記光学部品間に供給する充填液供給装置と、を備え、
前記判定装置は、前記対向面の周辺部における前記複数の検出位置の各々に対応する反射位置が所定の条件を満たしているか否かに基づいて、各々の前記検出位置における前記充填液の液量が十分であるか否かを判定するものであり、
前記充填液供給装置は、前記判定装置においていずれかの前記検出位置について前記充填液の液量が十分でないと判定された場合に、前記充填液の液量が十分でないと判定された前記検査位置の分布に基づいて供給すべき前記充填液の液量を決定すること
を特徴とする液量判定装置。 - 前記判定装置は、前記検査位置を前記対向面の中心付近とした場合において前記対向面の中心付近における検査位置に対応する前記反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき前記一方の光学部品が装着されていないと判定する、請求項1に記載の液量判定装置。
- 前記判定装置は、前記対向面内における所定の領域の周囲における複数の前記検査位置の各々について前記充填液の液量が十分であるか否かを判定し、
前記充填液供給装置は、いずれかの前記検査位置について前記充填液の液量が十分でないと判断された場合に前記充填液を供給する、請求項1に記載の液量判定装置。 - 請求項1に記載の液量判定装置と、
前記一方の光学部品としてのホログラムマスクと、
前記ホログラムマスクに露光ビームを照射して露光領域を露光する照射手段と、を備える露光装置。 - 複数の光学部品間を充填する充填液の液量を判定するための液量判定方法において、
前記充填液を介して対向する一対の前記光学部品のうち一方の光学部品について、当該光学部品の対向面上の検査位置に略垂直に検査光を射出するステップと、
前記対向面上における任意の複数の前記検査位置に前記検査光を射出させるステップと、
前記対向面に向けて射出された前記検査光の反射光に基づいて前記複数の検査光の各々に対応する反射位置を特定するステップと、
特定した前記反射位置に基づいて各々の前記検査位置における前記充填液の有無を判定するステップと、
前記充填液を一対の前記光学部品間に供給するステップと、を備え、
前記判定するステップは、前記対向面の周辺部における前記複数の検出位置の各々に対応する反射位置が所定の条件を満たしているか否かに基づいて、各々の前記検出位置における前記充填液の液量が十分であるか否かを判定するものであり、
前記充填液を供給するステップは、前記判定するステップにおいていずれかの前記検出位置について前記充填液の液量が十分でないと判定された場合に、前記充填液の液量が十分でないと判定された前記検査位置の分布に基づいて供給すべき前記充填液の液量を決定することを特徴とする液量判定方法。 - 前記判定するステップは、前記検査位置を前記対向面の中心付近とした場合において前記対向面の中心付近における検査位置に対応する前記反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき前記一方の光学部品が装着されていないと判定する、請求項5に記載の液量判定方法。
- 前記判定するステップは、前記対向面内における所定の領域の周囲における複数の前記検査位置の各々について前記充填液の液量が十分であるか否かを判定し、
前記充填液を供給するステップは、いずれかの前記検査位置について前記充填液の液量が十分でないと判断された場合に前記充填液を供給する、請求項5に記載の液量判定方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002103064A JP4117530B2 (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 |
US10/394,034 US7073542B2 (en) | 2002-04-04 | 2003-03-24 | Liquid quantity determination unit, photolithography apparatus, and liquid quantity determination method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002103064A JP4117530B2 (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008042582A Division JP4811679B2 (ja) | 2008-02-25 | 2008-02-25 | 液量判定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003297735A JP2003297735A (ja) | 2003-10-17 |
JP4117530B2 true JP4117530B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=29389136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002103064A Expired - Fee Related JP4117530B2 (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7073542B2 (ja) |
JP (1) | JP4117530B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100437358C (zh) * | 2003-05-15 | 2008-11-26 | 株式会社尼康 | 曝光装置及器件制造方法 |
US6867844B2 (en) | 2003-06-19 | 2005-03-15 | Asml Holding N.V. | Immersion photolithography system and method using microchannel nozzles |
JP4343597B2 (ja) * | 2003-06-25 | 2009-10-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2005019616A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Canon Inc | 液浸式露光装置 |
US6809794B1 (en) * | 2003-06-27 | 2004-10-26 | Asml Holding N.V. | Immersion photolithography system and method using inverted wafer-projection optics interface |
DE60308161T2 (de) | 2003-06-27 | 2007-08-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels |
WO2005029559A1 (ja) * | 2003-09-19 | 2005-03-31 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
EP1519231B1 (en) * | 2003-09-29 | 2005-12-21 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101361892B1 (ko) | 2003-10-08 | 2014-02-12 | 가부시키가이샤 자오 니콘 | 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법, 노광 장치 및 노광 방법, 디바이스 제조 방법 |
EP2267536B1 (en) * | 2003-10-28 | 2017-04-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US7411653B2 (en) * | 2003-10-28 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US7528929B2 (en) | 2003-11-14 | 2009-05-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2005076321A1 (ja) | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7463330B2 (en) | 2004-07-07 | 2008-12-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20060044533A1 (en) * | 2004-08-27 | 2006-03-02 | Asmlholding N.V. | System and method for reducing disturbances caused by movement in an immersion lithography system |
KR20070100864A (ko) * | 2004-12-07 | 2007-10-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
KR101197071B1 (ko) * | 2005-03-30 | 2012-11-06 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 조건의 결정 방법, 노광 방법 및 노광 장치, 그리고디바이스 제조 방법 |
US7411654B2 (en) | 2005-04-05 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20060232753A1 (en) * | 2005-04-19 | 2006-10-19 | Asml Holding N.V. | Liquid immersion lithography system with tilted liquid flow |
US20090033890A1 (en) * | 2005-06-29 | 2009-02-05 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, substrate processing method, and device producing method |
JP2007103658A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Canon Inc | 露光方法および装置ならびにデバイス製造方法 |
US7773195B2 (en) * | 2005-11-29 | 2010-08-10 | Asml Holding N.V. | System and method to increase surface tension and contact angle in immersion lithography |
KR20100088736A (ko) * | 2009-02-02 | 2010-08-11 | 삼성전자주식회사 | 노광장치 |
US11131929B2 (en) * | 2018-11-07 | 2021-09-28 | Waymo Llc | Systems and methods that utilize angled photolithography for manufacturing light guide elements |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62173731A (ja) * | 1986-01-28 | 1987-07-30 | Toshiba Corp | 被検査物の表面検査装置 |
US5257128A (en) * | 1988-06-22 | 1993-10-26 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Freezing/perfusion microscope stage |
-
2002
- 2002-04-04 JP JP2002103064A patent/JP4117530B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-03-24 US US10/394,034 patent/US7073542B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7073542B2 (en) | 2006-07-11 |
JP2003297735A (ja) | 2003-10-17 |
US20040103950A1 (en) | 2004-06-03 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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