JP4115882B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- H01L2224/486—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/48617—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電源回路などに用いられるスイッチング用IC(IntegralCircuit)に関し、特に、DC/DCコンバータによる電源生成効率の向上に適用して有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、電源回路などの小型化、高速負荷応答を達成するため、電源に使用されるパワーMOSFET(Metal Oxide SemiconductorField Effect Transistor)の高周波数化が進んでいる。
【0003】
特に、パーソナルコンピュータやコンピュータゲーム機などの電源回路に用いられる、非絶縁型DC/DCコンバータは、駆動するCPUなどの大電流化や、受動部品であるチョークコイル、入出力容量の小型化の要求などに伴い、大電流化、高周波化の傾向にある。
【0004】
たとえば、パーソナルコンピュータやコンピュータゲーム機などの電源回路には、非絶縁型DC/DCコンバータが広く用いられている。非絶縁型DC/DCコンバータは、電子システムに搭載されるCPUなどの大電流化や低電圧化に伴い、高効率化、小型化が要求される。
【0005】
非絶縁型DC/DCコンバータは、ハイサイドスイッチとローサイドスイッチで構成され、該スイッチはパワーMOS−FET(Metal Oxide Semiconductor−Field Effect Transitor)がそれぞれ用いられている。
【0006】
これらスイッチは、ハイサイドとローサイドとを同期を取りながら交互にON/OFFすることにより、電圧変換を行っている。ハイサイドスイッチは、DC/DCコンバータのコントロール用スイッチであり、ローサイドスイッチは同期整流用スイッチとなる。
【0007】
また、パワーMOS−FETを樹脂封止した半導体装置においては、たとえば、半導体チップのソース電極を分離して形成したグランド電極と結ぶグランド電極端子をゲート電極端子とソース電極端子の間に設け、ソース、ゲート、グランドの各電極と電極端子間を低インピーダンスの金線などにより接続することにより、高周波動作運転時における半導体装置のノイズを低減するものがある(たとえば、特許文献1)。
【0008】
【特許文献1】
特開2002−009219号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記のようなDC/DCコンバータでは、次のような問題点があることが本発明者により見い出された。
【0010】
図21は、本発明者が検討したDC/DCコンバータ50の概略回路構成図である。DC/DCコンバータ50は、パワーMOS−FETからなるハイサイドスイッチ51とローサイドスイッチ52とが、電源電圧Vinと基準電位との間に直列接続された構成からなる。
【0011】
たとえば、ハイサイドスイッチ51とローサイドスイッチ52とが、1つのパッケージでそれぞれ構成されている場合、図示するように、半導体装置のボンディングワイヤや外部引き出し線、および該パッケージが実装されるプリント配線基板における配線などの寄生インダクタンスLdH,LsH,LdL,LgH,LgL,LsLが生じてしまうことになる。
【0012】
特に、ハイサイドスイッチ51の寄生インダクタンスLsHが大きくなると、該ハイサイドスイッチ51のターンオン損失、ならびにターンオフ損失が大きくなってしまい、変換効率が大幅に低下してしまうという問題がある。
【0013】
図22は、DC/DCコンバータ50における損失成分のLsH依存性を示した説明図である。
【0014】
図22においては、網掛けで示す領域がハイサイドスイッチ51のターンオン損失、ハッチングで示す領域がローサイドスイッチ52のターンオフ損失、および白抜きで示す領域がローサイドスイッチ52の損失をそれぞれ示している。
【0015】
図示するように、寄生インダクタンスLsHが大きくなると、ハイサイドスイッチ51の特にターンオン損失が大きくなり、変換効率が大幅に低下していることが分かる。
【0016】
これは、寄生インダクタンスLsHに主電流が流れることにより、図21のA点とハイサイドスイッチ51のソース端子の間に逆起電力が発生し、ハイサイドスイッチ51に充分なゲート電圧を印加することができなくなるためである。
【0017】
ターンオン損失、およびターンオフ損失は、周波数や出力電流に比例するので、大電流化、高周波数化が進むにつれて損失成分はより大きくなってしまうことになる。
【0018】
また、本発明の目的は、寄生インダクタンスが大きくても、ゲート電圧が受ける影響を低減し、電圧変換効率を大幅に向上させることのできる電源システムを提供することにある。
【0019】
また、本発明の他の目的は、寄生インダクタンスを大幅に低下させることにより、電圧変換効率を大幅に向上させることのできる半導体装置を提供することにある。
【0020】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【0021】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
(1)本発明は、ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタを有する半導体装置であって、第1のパワートランジスタのソース端子は、第1の外部接続端子と第2の外部接続端子とにそれぞれ接続され、第1の外部接続端子、および第2の外部接続端子は、それぞれ異なる経路で分離して形成されているものである。
【0022】
また、本願のその他の発明の概要を簡単に示す。
(2)本発明は、ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタと、ローサイドスイッチとして用いられる第2のパワートランジスタと、第1、および第2のパワートランジスタを駆動するドライバとを備えた半導体装置であり、第1のパワートランジスタのソース端子は、第2のパワートランジスタのドレインと接続される第1の外部接続端子とドライバに備えられたソース側接続端子とにそれぞれ異なる経路で接続されたものである。
(3)また、本発明は、ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタと、ローサイドスイッチとして用いられる第2のパワートランジスタと、第1、および第2のパワートランジスタを駆動するドライバ、およびドライバを駆動制御する制御信号を発生する制御部とよりなるドライバコントローラとを備えた半導体装置であり、第1のパワートランジスタのソース端子は、第2のパワートランジスタのドレインと接続される第1の外部接続端子とドライバコントローラに備えられたソース側接続端子とにそれぞれ異なる経路で接続されたものである。
(4)さらに、本発明は、ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタと、第1のパワートランジスタを駆動するドライバと、平滑用のコイルと、第1のパワートランジスタ、ドライバ、およびコイルを実装するプリント配線基板とを備えた電源システムであり、第1のパワートランジスタのソース端子は、異なる経路で分離してそれぞれ形成された第1の外部接続端子と第2の外部接続端子とに接続されており、プリント配線基板は、第1のパワートランジスタの第1の外部接続端子がドライバに接続される第1の配線と、第1のパワートランジスタの第2の外部接続端子とコイルの接続部とが接続される第2の配線とを有し、第1の配線と第2の配線とは、異なる経路でそれぞれ形成されているものである。
(5)また、本発明は、ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタとローサイドスイッチとして用いられる第2のパワートランジスタとよりなるパワーモジュールと、パワーモジュールを駆動するドライバと、平滑用のコイルと、パワーモジュール、ドライバ、およびコイルを実装するプリント配線基板とを備えた電源システムであり、第1のパワートランジスタのソース端子は、異なる経路で分離してそれぞれ形成された第1の外部接続端子と第2の外部接続端子とに接続されており、プリント配線基板は、第1のパワートランジスタの第1の外部接続端子がドライバに接続される第1の配線と、第1のパワートランジスタの第2の外部接続端子とコイルの接続部とが接続される第2の配線とを有し、第1の配線と第2の配線とは異なる経路でそれぞれ形成されているものである。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【0024】
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1によるパワーMOS−FETの構成の一例を示す説明図、図2は、図1のパワーMOS−FETの断面図、図3は、図1のパワーMOS−FETにおけるチップレイアウトの一例を示す説明図、図4は、図1のパワーMOS−FETを用いてDC/DCコンバータを構成したプリント配線基板の実装例を示す説明図、図5は、図4のプリント配線基板に実装されたDC/DCコンバータの等価回路図、図6は、図1のパワーMOS−FETの他の構成例を示す説明図、図7は、図6のパワーMOS−FETの断面図、図8は、図7のパワーMOS−FETの他の構成例を示す説明図、図9は、図8のパワーMOS−FETの断面図、図23は、図5のDC/DCコンバータ回路における損失の寄生インダクタンス依存性を示す説明図である。
【0025】
本実施の形態において、パワーMOS−FET(第1のパワートランジスタ、半導体装置)1は、電源システムとして用いられる非絶縁型DC/DCコンバータのハイサイドスイッチ用トランジスタであり、たとえば、SOP(Small
Outline Package)などのパッケージからなる。
【0026】
このパワーMOS−FET1のパッケージ構成は、図1、図2に示すように、リードフレーム2の中央部に設けられたダイパッド2aに半導体チップ3が搭載されている。半導体チップ3の主面には、パワーMOS−FET1のソース端子ST、およびゲート端子GTとなる電極部が形成されており、該半導体チップ3の裏面には、パワーMOS−FET1のドレイン端子DTとなる電極部が形成されている。
【0027】
半導体チップ3は、図3に示すように、半導体基板HK上の中央部に絶縁膜Zを介してゲート端子GTが形成されている。また、ゲート端子GTのそれぞれ両側には、チャネル部分を介してソース端子STが形成されている。半導体基板HKの裏面はドレイン端子DTとなる。
【0028】
パワーMOS−FET1のゲート端子GTとなる電極部は、図1、図2における半導体チップ3主面の左上部の一部に形成されており、その他の主面はソース端子STの電極部となる。これら電極部は、たとえば、アルミニウム(Al)などの金属が蒸着されて形成されている。
【0029】
また、半導体チップ3の裏面には、パワーMOS−FET1のドレイン端子DTとなる電極部が形成されている。この電極部は、たとえば、金(Au)などの金属が蒸着されて形成されており、該半導体チップ3の裏面がダイパッド2aに圧着されている。
【0030】
そして、パワーMOS−FET1のドレイン端子DTが接続されているダイパッド2aが延在して、外部引き出し線となる複数(4本)のアウタリードLDとなる。
【0031】
パワーMOS−FET1のゲート端子GTとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介してアウタリードLGに接続されており、該パワーMOS−FET1のソース端子STとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介して1本のアウタリード(第1の外部接続端子)LS1、および2本のアウタリード(第2の外部接続端子)LS2にそれぞれ接続されている。
【0032】
これらダイパッド2a、半導体チップ3、アウタリードLG,LS1,LS2,LGの一部、およびボンディングワイヤWは、封止樹脂によって封止され、パッケージ4が形成されている。
【0033】
アウタリードLS1は、パワーMOS−FET1のゲートを駆動する経路に接続される外部端子であり、アウタリードLS2は、電圧変換した電圧が出力される主電流経路に接続される外部端子である。
【0034】
また、パワーMOS−FET1では、アウタリードLGとアウタリードLS1とが隣り合わせに設けられているので、各々の寄生インダクタンスに逆向きの電流が流れ、該パワーMOS−FET1におけるゲート端子GTのインダクタンスを小さくすることができる。
【0035】
ゲート端子GTのインダクタンスを小さくすることができるので、パワーMOS−FET1のスイッチングスピードを高速にでき、スイッチング損失を減少させることができる。
【0036】
また、パワーMOS−FET1のゲート端子GTのインダクタンスが小さくなることにより、ローサイドスイッチとして用いられるパワーMOS−FETのセルフターンオンを防止することができるという大きな効果も得られることになる。
【0037】
セルフターンオンとは、ローサイドスイッチとして用いられるパワーMOS−FETの内蔵ダイオードが、還流しているモードからハイサイドスイッチがONするモードに切り替わる際に、ローサイドスイッチのゲート電圧が上昇し、ローサイドスイッチが誤動作してしまう現象である。
【0038】
図4は、図1、図2に示したパワーMOS−FET1を用いてDC/DCコンバータ(電源システム)を構成するプリント配線基板の実装図である。なお、図4においては示していないが、実際には、入力および出力のコンデンサなども実装されているものとする。
【0039】
DC/DCコンバータは、パワーMOS−FET1、ローサイドスイッチとなるパワーMOS−FET(第2のパワートランジスタ)5、コントロールIC6、およびコイル7から構成されており、これらがプリント配線基板に実装されている。
【0040】
図示するように、プリント配線基板の右側には、コントロールIC6が実装されている。このコントロールIC6は、外部入力された制御信号に基づいて、パワーMOS−FET1,5をそれぞれ駆動するドライバである。
【0041】
そして、コントロールIC6の左上方には、パワーMOS−FET1が実装されており、該パワーMOS−FET1の下方には、ローサイドスイッチとなるパワーMOS−FET5が実装されている。これらパワーMOS−FET1,5の左側には、コイル7が実装されている。
【0042】
パワーMOS−FET1の4本のアウタリードLDには、パターン配線H1を介して入力電圧Vinが接続されており、該パワーMOS−FET1のアウタリードLGには、パターン配線H2を介してコントロールIC6の一方の出力端子が接続されている。
【0043】
パワーMOS−FET1の2本のアウタリードLS2には、パターン配線(第2の配線)H3を介してコイル7の一方の接続部が接続されており、パワーMOS−FET1のアウタリードLS1には、パターン配線(第1の配線)H4を介してコントロールIC6のソース側接地端子に接続されている。
【0044】
さらに、パワーMOS−FET5は、該パワーMOS−FET5のドレイン端子、ソース端子、ゲート端子として、4本のアウタリードD、3本のアウタリードS、および1本のアウタリードGがそれぞれ設けられている。
【0045】
パワーMOS−FET5のアウタリードDには、パターン配線H3に接続されており、アウタリードSには、パターン配線H5を介してコントロールIC6の接地端子GND1が接続されており、アウタリードGには、パターン配線H6を介してコントロールIC6の他方の出力端子が接続されている。
【0046】
このように、プリント配線基板では、アウタリードLS1とコントロールIC6のソース側接地端子とを専用のパターン配線H4によって接続し、パワーMOS−FET1のゲート駆動用の経路と主電流経路とを分離した構成となっている。
【0047】
図5は、図4のプリント配線基板に実装されたDC/DCコンバータの等価回路図である。
【0048】
図5に示すように、ハイサイドスイッチとなるパワーMOS−FET1のソース電極から主電流が流れる経路と、該パワーMOS−FET1のゲートを駆動するためのソース側接地の経路とが分離されることになり、寄生インダクタンスLsH1,LsH2が大きくなっても、パワーMOS−FET1のゲート電圧が影響を受けなくなる。
【0049】
また、図4においては、プリント配線基板を多層配線基板とし、パターン配線H2,H4を重ねることにより、ゲート端子の寄生インダクタンスをさらに低減することができる。
【0050】
さらに、図4のプリント配線基板において、パワーMOS−FET1と同様に、パワーMOS−FET5のアウタリードS(ソース端子)のパターン配線H5を分離するか、あるいはパワーMOS−FET5を図1、図2に示した構成とし、該パターン配線H5を分離してかつ多層配線基板で重ね合わせることにより、パワーMOS−FET5のセルフターンオン現象を防止することが可能となる。
【0051】
図23は、図5のDC/DCコンバータ回路における損失の寄生インダクタンスLsH1、およびLsH2依存性を示す。各領域は図22の場合と同じ損失を示す。
【0052】
図22と比較するとわかるように、寄生インダクタンスLsH1、およびLsH2が大きくなっても、ハイサイドスイッチのターンオン損失、ターンオフ損失があまり変化せず、全体の損失が変化しないことがわかる。
【0053】
これは、ハイサイドスイッチとなるパワーMOS−FET1のソース電極から主電流が流れる経路と、該パワーMOS−FET1のゲートを駆動するためのソース側接地の経路とが分離されることになり、寄生インダクタンスに主電流が流れることにより発生する逆起電力が、ゲートを駆動するための経路にはほとんど発生せず、ハイサイドスイッチ1に充分なゲート電圧を印加することができるためである。
【0054】
また、パワーMOS−FET1は、図1、図2に示した構成以外でもよく、たとえば、ボンディングワイヤW(図1、図2)を用いずにインダクタンス、および抵抗をより低減させるようにしてもよい。
【0055】
この場合、パワーMOS−FET1は、図6、図7に示すように、パワーMOS−FET1のドレイン端子DTとアウタリードLS1,LS2、およびゲート端子GTとアウタリードLGとが、アルミニウム(Al)や銅(Cu)などからなる金属板8〜10を介してそれぞれ接続されている。
【0056】
これら金属板8〜10と半導体チップ3のドレイン端子DT、ゲート端子GT、ソース端子との接続、および該金属板8〜10とアウタリードLS1,LS2,LG,LDとは、はんだボール11を介してそれぞれ接続されている。
【0057】
また、パッケージ4は、パワーMOS−FET1の裏面となるリードフレーム2が露出するように形成されており、該リードフレーム2の熱抵抗を下げて放熱性をより向上させている。
【0058】
さらに、パワーMOS−FET1は、図8、図9に示すように、図6、図7の構成に、アウタリードLGとアウタリードLS1とを接続する金属板12を設け、はんだボール11を介して接続するようにしてもよい。
【0059】
これにより、寄生インダクタンスに流れる逆向きの電流によるインダクタンスの打ち消し効果をより高めることができ、パワーMOS−FET1におけるゲート端子GTのインダクタンスを一層小さくすることができる。
【0060】
それにより、本実施の形態によれば、ソース端子STをアウタリードLS1とアウタリードLS2とに分離して設けたことにより、パワーMOS−FET1のソース電極から主電流が流れる経路と、該パワーMOS−FET1のゲートを駆動するためのソース側接続の経路とを分離することができる。
【0061】
これにより、寄生インダクタンスを主電流が流れることによって生じる起電圧が、該パワーMOS−FETを駆動するためのゲート電圧に影響を与えるのを防ぐことが可能となり、電圧変換効率を向上させることができ、大電流、高周波数であっても対応することができる。
【0062】
また、プリント配線基板において、アウタリードLS1とコントロールIC6のソース側接地端子とをパターン配線H4によって接続し、パワーMOS−FET1のゲート駆動用の経路と主電流経路とを分離することにより、パワーMOS−FET1の寄生インダクタンスの影響をより低減することができ、変換効率を大幅に向上することができる。
【0063】
(実施の形態2)
図10は、本発明の実施の形態2によるパワーICの構成の一例を示す説明図、図11は、図10のパワーICの断面図、図12は、図10のパワーICを用いてDC/DCコンバータを構成したプリント配線基板の実装例を示す説明図である。
【0064】
本実施の形態2において、パワーIC(パワーモジュール)13は、電源システムとして用いられる非絶縁型DC/DCコンバータのハイサイドスイッチ用トランジスタとローサイドスイッチ用トランジスタとの2つが1つのパッケージに設けられた半導体装置である。このパワーIC13のトランジスタは、いずれもパワーMOS−FETから構成されている。
【0065】
パワーIC13のパッケージ構成は、図10、図11に示すように、リードフレーム14,15の中央部にそれぞれ設けられたダイパッド14a,15aに半導体チップ16,17がそれぞれ搭載されている。ここで、半導体チップ16はハイサイドスイッチのパワーMOS−FETであり、半導体チップ17は、ローサイドスイッチのパワーMOS−FETである。
【0066】
半導体チップ16,17の主面には、ソース端子ST、およびゲート端子GTとなる電極部がそれぞれ形成されており、該半導体チップ16,17の裏面には、ドレイン端子DTとなる電極部がそれぞれ形成されている。
【0067】
ゲート端子GTとなる電極部は、半導体チップ16主面の右上部の一部、および半導体チップ17主面の左上部の一部にそれぞれ形成されており、その他の主面はソース端子STの電極部となる。これら電極部は、たとえば、アルミニウム(Al)などの金属が蒸着されて形成されている。
【0068】
また、半導体チップ16,17の裏面には、ドレイン端子DTとなる電極部が形成されている。この電極部は、金(Au)などの金属が蒸着されて形成されており、該半導体チップ16,17の裏面がダイパッド14a,15aにそれぞれ圧着されている。
【0069】
半導体チップ16において、ドレイン端子DTが接続されているダイパッド14aが延在して、外部引き出し線となるアウタリードLD1となっている。
【0070】
さらに、ゲート端子GTとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介してアウタリードLG1に接続されており、ソース端子STとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介してアウタリード(第1の外部接続端子)LS3、およびアウタリード(第2の外部接続端子)LS4にそれぞれ接続されている。
【0071】
半導体チップ17においては、ドレイン端子DTが接続されているダイパッド15aが延在して、外部引き出し線となる複数のアウタリードLD2となっている。
【0072】
さらに、ゲート端子GTとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介してアウタリードLG2に接続されており、ソース端子STとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介して複数のアウタリードLS5にそれぞれ接続されている。
【0073】
これらダイパッド14a,15a、半導体チップ16,17、アウタリードLD1,LD2,LG1,LG2,LS3,LS4,LS5の一部、およびボンディングワイヤWは、樹脂によって封止されてパッケージ18が形成されている。
【0074】
この場合も、ハイサイドスイッチのパワーMOS−FET1となる半導体チップ16は、ソース端子STを、パワーMOS−FET1のゲートを駆動する経路に接続されるアウタリードLS3と主電流経路に接続されるアウタリードLS4とに分離して設けている。
【0075】
これによって、ハイサイドスイッチとなるパワーMOS−FET1のソース電極から主電流が流れる経路と、該パワーMOS−FET1のゲートを駆動するためのソース側接地の経路とを分離することができる。
【0076】
また、ハイサイドスイッチとローサイドスイッチとの2つのパワーMOS−FET1を1つのパッケージ18に形成することによって、電源システムを構成する際に該システムの小型化や配線インダクタンス、抵抗の低減などを実現することができる。
【0077】
図12は、図10、図11に示したパワーIC13を用いてDC/DCコンバータを構成するプリント配線基板の実装図である。
【0078】
DC/DCコンバータは、パワーIC13、コントロールIC6、およびコイル7から構成されており、これらがプリント配線基板に実装されている。
【0079】
図示するように、プリント配線基板の上方には、コントロールIC6が実装されており、該コントロールIC6の下方には、パワーIC13が実装されている。パワーIC13の右下方には、コイル7が実装されている。
【0080】
パワーIC13のアウタリードLD1には、パターン配線H7を介して入力電圧Vinが接続されており、アウタリードLG1には、パターン配線H8を介してコントロールIC6の一方の出力端子が接続されている。
【0081】
3本のアウタリードLS4には、パターン配線(第2の配線)H9を介してコイル7の一方の接続部が接続されており、アウタリードLS3には、パターン配線(第1の配線)H10を介してコントロールIC6のソース側接地端子に接続されている。
【0082】
アウタリードLD2には、パターン配線H9が接続されており、アウタリードLS5には、パターン配線H11を介してコントロールIC6の接地端子GND1が接続されている。アウタリードLG2には、パターン配線H12を介してコントロールIC6の他方の出力端子が接続されている。
【0083】
この場合においても、プリント配線基板では、アウタリードLS3とコントロールIC6のソース側接地端子とを専用のパターン配線H10によって接続し、パワーIC13のゲート駆動用の経路と主電流経路とを分離した構成となっている。
【0084】
それにより、本実施の形態2においては、ハイサイドスイッチのパワーMOS−FETのゲート−ソース間に電圧が遅れることなく印加されるようになるので、該パワーMOS−FETのスイッチング時間を短縮することができるので、電圧変換効率を向上させることができる。
【0085】
また、パワーIC13においても、ローサイドスイッチとなるパワーMOS−FETのアウタリードLS5を、ハイサイドスイッチとなるパワーMOS−FETと同様に分離して設ける構成としてもよい。
【0086】
さらに、図12のプリント配線基板を多層配線基板とし、パターン配線H8,H10を重ねて配線することにより、ゲート端子の寄生インダクタンスをさらに低減することができる。
【0087】
(実施の形態3)
図13は、本発明の実施の形態3によるパワーICの構成の一例を示す説明図、図14は、図13のパワーICの断面図、図15は、図13のパワーICを用いて絶縁型DC/DCコンバータの構成例を示す回路図、図16は、図13のパワーICの他の構成例を示す説明図、図17は、図16のパワーICの断面図である。
【0088】
本実施の形態3において、パワーIC(パワーモジュール)19は、パワーMOS−FETと該パワーMOS−FETを駆動するドライバとが1つのパッケージに設けられた半導体装置である。
【0089】
パワーIC19は、図13、図14に示すように、リードフレーム20,21の中央部にそれぞれ設けられたダイパッド20a,21aに半導体チップ22,23がそれぞれ搭載されている。ここで、半導体チップ22はドライバであり、半導体チップ23はパワーMOS−FETである。
【0090】
半導体チップ22の主面には、電源電圧端子VDD、制御信号入力端子IN、出力端子OUT、およびソース側接地端子GNDとなる電極部がそれぞれ形成されている。
【0091】
電源電圧端子VDDには、ゲート電圧を印加する電源電圧が供給される。制御信号入力端子INには、制御信号が入力される。出力端子OUTは、パワーMOS−FETを駆動する信号が出力する。半導体チップ22は、たとえば、銀ペーストなどのダイボンディング材を介してダイパッド20aに圧着されている。
【0092】
半導体チップ23の主面には、ソース端子ST、およびゲート端子GTとなる電極部がそれぞれ形成されており、該半導体チップ23の裏面には、ドレイン端子DTとなる電極部がそれぞれ形成されている。
【0093】
ゲート端子GTとなる電極部は、半導体チップ23主面の左上部の一部に形成されており、その他の主面はソース端子STの電極部となる。これら電極部は、たとえば、アルミニウム(Al)などの金属が蒸着されて形成されている。
【0094】
また、半導体チップ23の裏面には、ドレイン端子DTとなる電極部が形成されている。この電極部は、金(Au)などの金属が蒸着されて形成されており、該半導体チップ23の裏面がダイパッド21aに圧着されている。
【0095】
電源電圧端子VDDには、アウタリードVが金などのボンディングワイヤWを介して接続されており、制御信号入力端子INには、ボンディングワイヤWを介してアウタリードSINが接続されている。
【0096】
半導体チップ23においては、ドレイン端子DTが接続されているダイパッド21aが延在して、外部引き出し線となるアウタリードLD3となっている。ゲート端子GTとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介して半導体チップ22のソース側接地端子GNDに接続されている。
【0097】
ソース端子STとなる電極部は、たとえば、金などのボンディングワイヤWを介してリードフレーム20に設けられたアウタリードLS6に接続されており、ゲート端子GTには、半導体チップ22の出力端子OUTがボンディングワイヤWを介して接続されている。この出力端子OUTには、電圧確認用のアウタリードGがボンディングワイヤWを介して接続されている。
【0098】
これによって、ハイサイドスイッチとなるパワーMOS−FET1のソース電極から主電流が流れる経路と、該パワーMOS−FET1のゲートを駆動するためのソース側接地の経路とを分離することができる。
【0099】
そして、これらダイパッド20a,21a、半導体チップ22,23、アウタリードV,G,SIN,LD3,LS6の一部、およびボンディングワイヤWは、封止樹脂によって封止されてパッケージ24が形成されている。
【0100】
また、パワーMOS−FETと該パワーMOS−FETを駆動するドライバとを1つのパッケージによって構成することにより、パワーMOS−FETのゲート端子のインダクタンス、ならびに抵抗を低減することができる。
【0101】
また、図13、図14に示したパワーIC19においては、非絶縁型のDC/DCコンバータだけでなく、絶縁型DC/DCコンバータに適用することも可能である。
【0102】
図15は、図13、図14のパワーIC19を4つ用いて絶縁型DC/DCコンバータを構成した際の回路図である。
【0103】
この場合、絶縁型DC/DCコンバータは、パワーIC(パワーモジュール)19a〜19d、コントロールIC25,25a、コンデンサ26〜28、コイル28aおよび電源トランス29、から構成されている。
【0104】
入力電圧Vin間には、コンデンサ26,27、およびパワーIC19a,19bのパワーMOS−FETがそれぞれ直列接続された構成になっている。コンデンサ26,27の接続部には、電源トランス29の他方の一次側巻き線が接続されている。
【0105】
パワーIC19a,19bの接続部には、電源トランス29の一方の一次側巻き線が接続されており、パワーIC19a,19bに設けられた制御信号入力端子INには、コントロールIC25が接続されている。
【0106】
電源トランス29の一方の2次側巻き線には、スイッチング用のトランジスタとして設けられたパワーIC19cのパワーMOS−FET1の一方の接続部が接続されており、該電源トランス29の他方の2次側巻き線には、スイッチング用のトランジスタとして設けられたパワーIC19dのパワーMOS−FETの一方の接続部が接続されている。
【0107】
パワーIC19cのパワーMOS−FET1の他方の接続部には、パワーIC19dのパワーMOS−FET1の他方の接続部、ならびにコイル28aの一方の接続部がそれぞれ接続されている。
【0108】
パワーIC19c,19dの制御信号入力端子INには、コントロールIC25aが接続されている。コイル28aの他方の接続部には、コンデンサ28の一方の接続部が接続されている。
【0109】
そして、電源トランス29の2次側巻き線の中間タップ、およびコンデンサ28の他方の接続部が、DC/DCコンバータの電圧出力部となり、出力電圧Voutが出力される。
【0110】
パワーIC19a〜19dの制御信号入力端子INには、コントロールIC25,25aによって生成されたPWM(Pulse Width Modulation)信号が印加され、該コントロールIC25,25aによって制御される。
【0111】
それにより、本実施の形態3では、パワーIC19に設けられたパワーMOS−FETにおけるゲートのインダクタンス、および抵抗を低減させることができるので、電圧変換効率を大幅に向上させることができる。
【0112】
また、パワーIC19においても、図6、図7で示したように、ボンディングワイヤWを用いずにインダクタンス、および抵抗をより低減させる構成としてもよい。
【0113】
この場合、パワーIC19は、図16、図17に示すように、半導体チップ22,23に設けられた電極部とアウタリードV,G,SIN,LD3,LD5とがアルミニウム(Al)、あるいは銅(Cu)などからなる金属板30を介してそれぞれ接続されている。
【0114】
これら金属板30と半導体チップ22,23の電極部との接続、および該金属板30とアウタリードV,G,SIN,LD3との接続は、はんだボール31を介してそれぞれ行われている。
【0115】
また、パワーIC19におけるパッケージ24裏面は、リードフレーム20,21がそれぞれ露出するように形成されており、放熱性をより向上し、かつパッケージ24が薄型の構成となっている。
【0116】
(実施の形態4)
図18は、本発明の実施の形態4によるパワーICの構成の一例を示す回路図、図19は、図18のパワーICの構成を示す説明図、図20は、図18のパワーICの他の構成例を示す説明図である。
【0117】
本実施の形態4において、非絶縁型DC/DCコンバータに用いられるパワーIC(パワーモジュール)32は、図18に示すように、ハイサイドスイッチ用のパワーMOS−FET33、ローサイドスイッチ用のパワーMOS−FET34、および該パワーMOS−FET33,34を駆動するドライバIC35が1つのパッケージに設けられた半導体装置である。
【0118】
パワーIC32には、外部端子であるアウタリードとして、電源電圧端子VDD、ブート端子BOOT、電圧確認用端子GH,GL、制御信号入力端子IN、入力電圧端子Vin、接地端子GND1、および電圧出力端子LXが設けられている。
【0119】
電源電圧端子VDDはゲート電圧が印加される端子であり、ブート端子BOOTは、ブートストラップ回路を外付けするための端子である。電圧確認用端子GH,GLは、パワーMOS−FET33,34のゲートに印加される電圧を確認する端子である。
【0120】
制御信号入力端子INが、コントローラICから出力されるPWM信号が入力される端子であり、入力電圧端子Vinは、パワーMOS−FET33の一方の接続部(ドレイン)に供給される電圧が入力される端子であり、接地端子GND1は接地用の端子である。
【0121】
ドライバIC35は、パワーMOS−FET33を駆動するドライバ35a、およびパワーMOS−FET34を駆動するドライバ35bから構成されている。
【0122】
ドライバ35a,35bの入力部には、制御信号入力端子INに接続されており、PWM波形が入力される。ドライバ35aの出力部は、パワーMOS−FET33のゲートが接続されており、ドライバ35bの出力部は、パワーMOS−FET34のゲートが接続されている。これらドライバ35a,35bの出力部が、電圧確認用端子GH,GLにそれぞれ接続されている。
【0123】
パワーMOS−FET33の一方の接続部には、入力電圧端子Vintを介してある電源電圧が供給されており、該パワーMOS−FET33の他方の接続部には、パワーMOS−FET34の一方の接続部が接続されている。パワーMOS−FET34の他方の接続部は、接地端子GND1を介して接地されている。
【0124】
ドライバ35aの電源端子には、ブート端子BOOTが接続されており、該ドライバ35aの基準電位端子には、パワーMOS−FET33,34の接続部が接続されている。ドライバ35bの電源端子には、電源電圧端子VDDが接続されており、該ドライバ35bの基準電位端子には、接地端子GND1が接続されている。
【0125】
また、パワーMOS−FET33とパワーMOS−FET34との接続部には、電圧出力端子LXが接続されており、この電圧出力端子LXがパワーIC32の出力部となる。
【0126】
次に、パワーIC32のパッケージ構成について説明する。
【0127】
パワーIC32は、図19に示すように、たとえば、ノンリード表面実装パッケージの1つであるQFN(Quad Flat Non−leaded package)から構成されている。
【0128】
パワーIC32は、リードフレーム36〜38の中央部にそれぞれ設けられたダイパッド36a,37a,38aに半導体チップ39〜41がそれぞれ搭載されている。
【0129】
半導体チップ39は、ドライバIC35(図18)であり、図19の左上方に設けられている。半導体チップ40は、ハイサイドスイッチとして用いられるパワーMOS−FET33(図18)であり、該半導体チップ39の右側に設けられている。
【0130】
半導体チップ41は、ローサイドスイッチとして用いられるパワーMOS−FET34(図18)であり、該半導体チップ38,39の下方に設けられている。
【0131】
半導体チップ39の主面には、アウタリードとなる電源電圧端子VDD、ブート端子BOOT、電圧確認用端子GH,GL、および制御信号入力端子INが金などのボンディングワイヤWを介して接続される電極部39aが設けられている。半導体チップ39は、たとえば、銀ペーストなどのダイボンディング材を介してダイパッド36aに圧着されている。
【0132】
半導体チップ40の主面には、ソース端子、およびゲート端子となる電極部40a,40bがそれぞれ形成されており、該半導体チップ40の裏面には、ドレイン端子となる電極部が形成されている。
【0133】
ゲート端子となる電極部40bは、半導体チップ40主面の左側の一部に形成されており、その他の主面はソース端子の電極部40aとなる。これら電極部40a,40bは、たとえば、アルミニウム(Al)などの金属が蒸着されて形成されている。半導体チップ40の裏面の電極部は、金(Au)などの金属が蒸着されて形成されており、該半導体チップ40の裏面がダイパッド37aに圧着されている。
【0134】
また、半導体チップ41の主面の左側の一部には、ソース端子となる電極部41aが形成されており、該半導体チップ41のその他の主面には、ゲート端子となる電極部41bが形成されている。この半導体チップ41の裏面には、ドレイン端子となる電極部が形成されている。
【0135】
これら電極部41a,41b、および半導体チップ40の裏面の電極部は、たとえば、金(Au)などの金属が蒸着されて形成されており、該半導体チップ41の裏面がダイパッド38aに圧着されている。
【0136】
そして、半導体チップ39〜41に設けられた電極部39a,40a,40b,41a,41bと該半導体チップ39〜41の周辺部に位置したリードフレーム36〜38のインナリードとが、金などのボンディングワイヤWによって接続されている。
【0137】
そして、これらインナリードが延在して外部接続線となるアウタリードが構成されている。また、半導体チップ39〜41、リードフレーム36〜38のインナリード、ダイパッド36a,37a,38a、およびボンディングワイヤWは、封止樹脂によって封止され、矩形状のパッケージが形成されている。
【0138】
このパワーIC32のパッケージにおいても、半導体チップ39〜41を搭載するダイパッド36a,37a,38aの裏面が、封止樹脂から露出した構成となっており、放熱性を大幅に向上させている。
【0139】
それにより、本実施の形態4においては、パワーMOS−FET33,34、およびドライバIC35を1つのパッケージに設けることにより、該ドライバIC35と該パワーMOS−FET33,34との間に発生するインダクタンス、および抵抗を大幅に低減することができる。
【0140】
また、パワーMOS−FET33においては、ソース端子STとドライバIC35とを接続する経路(ゲート駆動の経路)、およびパワーMOS−FET33のソース端子STとパワーMOS−FET34のドレイン端子DTとを接続する経路(主電流経路)とを分離しているので、寄生インダクタンスの影響を低減することができ、変換効率を大幅に向上することができる。
【0141】
さらに、パワーMOS−FET34においても、ゲート駆動の回路と主電流経路が分離されており、各々の寄生インダクタンスに逆向きの電流が流れることで、ゲート端子GTのインダクタンスを小さくできるため、セルフターンオンを防止できるという大きな効果も得られる。
【0142】
さらに、パワーMOS−FET33のドレイン端子DTからパワーMOS−FET34のソース端子STに逆向きの電流経路ができるので、主回路のインダクタンスを低減することができる。
【0143】
また、本実施の形態4では、パワーIC32がボンディングワイヤWを用いて構成された場合ついて記載したが、たとえば、図20に示すように、ボンディングワイヤを用いずにインダクタンス、および抵抗をより低減させる構成としてもよい。
【0144】
この場合、パワーIC32は、半導体チップ39〜41に設けられた電極部39a,40a,40b,41a,41bとリードフレーム36〜38のインナリードとが、アルミニウム、あるいは銅などからなる金属板42を介してそれぞれ接続されている。
【0145】
これら金属板42と電極部39a,40a,40b,41a,41bとの接続、および該金属板42とリードフレーム36〜38のインナリードとの接続は、はんだボールを介してそれぞれ行われている。
【0146】
ここで、半導体チップ39の電極部39aにおいて、電圧変換効率にほとんど寄与しない外部端子(電源電圧端子VDD、ブート端子BOOT、電圧確認用端子GH,GL、および制御信号入力端子IN)との接続は、ボンディングワイヤWを介して接続されているものとする。
【0147】
それにより、金属板42を用いて接続することにより、各接続配線のインダクタンス、および抵抗をより低減させることができ、電圧変換を高効率化することができる。
【0148】
また、本実施の形態4においては、パワーIC32が、ハイサイドスイッチ用のパワーMOS−FET33、ローサイドスイッチ用のパワーMOS−FET34、および該パワーMOS−FET33,34を駆動するドライバIC35とから構成された場合について記載したが、パワーICは、たとえば、ドライバと該ドライバを駆動制御する制御信号を発生する制御部とを1つの半導体チップに形成したドライバコントローラを備えるようにしてもよい。
【0149】
以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0150】
【発明の効果】
本願によって開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【0151】
(1)DC/DCコンバータにおける電圧変換効率を大幅に向上することができる。
【0152】
(2)また、効率を落とすことなく、大電流、高周波数に対応することができる。
【0153】
(3)上記(1)、(2)により、電源生成の効率を大幅に向上した電源システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1によるパワーMOS−FETの構成の一例を示す説明図である。
【図2】図1のパワーMOS−FETの断面図である。
【図3】図1のパワーMOS−FETにおけるチップレイアウトの一例を示す説明図である。
【図4】図1のパワーMOS−FETを用いてDC/DCコンバータを構成したプリント配線基板の実装例を示す説明図である。
【図5】図4のプリント配線基板に実装されたDC/DCコンバータの等価回路図である。
【図6】図1のパワーMOS−FETの他の構成例を示す説明図である。
【図7】図6のパワーMOS−FETの断面図である。
【図8】図7のパワーMOS−FETの他の構成例を示す説明図である。
【図9】図8のパワーMOS−FETの断面図である。
【図10】本発明の実施の形態2によるパワーICの構成の一例を示す説明図である。
【図11】図10のパワーICの断面図である。
【図12】図10のパワーICを用いてDC/DCコンバータを構成したプリント配線基板の実装例を示す説明図である。
【図13】本発明の実施の形態3によるパワーICの構成の一例を示す説明図である。
【図14】図13のパワーICの断面図である。
【図15】図13のパワーICを用いて絶縁型DC/DCコンバータの構成例を示す回路図である。
【図16】図13のパワーICの他の構成例を示す説明図である。
【図17】図16のパワーICの断面図である。
【図18】本発明の実施の形態4によるパワーICの構成の一例を示す回路図である。
【図19】図18のパワーICの構成を示す説明図である。
【図20】図18のパワーICの他の構成例を示す説明図である。
【図21】本発明者が検討したDC/DCコンバータの概略回路構成図である。
【図22】図21のDC/DCコンバータにおける損失成分の寄生インダクタンスL依存性を示した説明図である。
【図23】図5のDC/DCコンバータにおける損失成分の寄生インダクタンス依存性を示した説明図である。
【符号の説明】
1 パワーMOS−FET(第1のパワートランジスタ、半導体装置)
2 リードフレーム
2a ダイパッド
3 半導体チップ
4 パッケージ
5 パワーMOS−FET(第2のパワートランジスタ)
6 コントロールIC
7 コイル
8〜10 金属板
11 はんだボール
12 金属板
13 パワーIC(パワーモジュール)
14,15 リードフレーム
14a,15a ダイパッド
16,17 半導体チップ
18 パッケージ
19 パワーIC(パワーモジュール)
19a〜19d パワーIC(パワーモジュール)
20,21 リードフレーム
20a,21a ダイパッド
22,23 半導体チップ
24 パッケージ
25,25a コントロールIC
26〜28 コンデンサ
28a コイル
29 電源トランス
30 金属板
31 はんだボール
32 パワーIC(パワーモジュール)
33 パワーMOS−FET
34 パワーMOS−FET
35 ドライバIC
35a ドライバ
35b ドライバ
36〜38 リードフレーム
36a,37a,38a ダイパッド
39〜41 半導体チップ
39a,40a,40b,41a,41b 電極部
50 DC/DCコンバータ
51 ハイサイドスイッチ
52 ローサイドスイッチ
ST ソース端子
GT ゲート端子
DT ドレイン端子
HK 半導体基板
Z 絶縁膜
LS1 アウタリード(第1の外部接続端子)
LS2 アウタリード(第2の外部接続端子)
LS3 アウタリード(第1の外部接続端子)
LS4 アウタリード(第2の外部接続端子)
LS5,LS6 アウタリード
LD1〜LD3 アウタリード
LG アウタリード
G アウタリード
V アウタリード
D アウタリード
SIN アウタリード
W ボンディングワイヤ
H1 パターン配線
H2 パターン配線
H3 パターン配線(第2の配線)
H4 パターン配線(第1の配線)
H5 パターン配線
H6 パターン配線
H7 パターン配線
H8 パターン配線
H9 パターン配線(第2の配線)
H10 パターン配線(第1の配線)
H11 パターン配線
H12 パターン配線
GND1 接地端子
VDD 電源電圧端子
IN 制御信号入力端子
OUT 出力端子
GND ソース側接地端子
BOOT ブート端子
GH,GL 電圧確認用端子
Vint 入力電圧端子
LX 電圧出力端子
Claims (40)
- ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタと、
ローサイドスイッチとして用いられる第2のパワートランジスタと、
前記第1、および第2のパワートランジスタを駆動するドライバとを備え、
前記第1のパワートランジスタのソース端子は、前記第2のパワートランジスタのドレインと接続される第1の外部接続端子と前記ドライバに備えられたソース側接地端子とにそれぞれ異なる経路で接続されたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1のパワートランジスタが形成された半導体チップに設けられた電極部、前記第2のパワートランジスタが形成された半導体チップに設けられた電極部、および前記ドライバが形成された半導体チップに設けられた電極部が、板状の金属板を介してそれぞれ接続されたことを特徴とする半導体装置。 - ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタと、
ローサイドスイッチとして用いられる第2のパワートランジスタと、
前記第1、および第2のパワートランジスタを駆動するドライバと、
前記ドライバを駆動制御する制御信号を発生する制御部よりなるドライバコントローラとを備え、
前記第1のパワートランジスタのソース端子は、前記第2のパワートランジスタのドレインと接続される第1の外部接続端子と前記ドライバコントローラに備えられたソース側接地端子とにそれぞれ異なる経路で接続されたことを特徴とする半導体装置。 - 請求項3記載の半導体装置において、
前記第1のパワートランジスタが形成された半導体チップに設けられた電極部、前記第2のパワートランジスタが形成された半導体チップに設けられた電極部、および前記ドライバコントローラが形成された半導体チップに設けられた電極部が、板状の金属板を介してそれぞれ接続されたことを特徴とする半導体装置。 - ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタと、
ローサイドスイッチとして用いられる第2のパワートランジスタと、
前記第1および第2のパワートランジスタを駆動するドライバとが1つのパッケージに収められ、
前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子と前記パッケージの外部に露出する外部接続端子とに接続するための第1経路と、
前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記ドライバに備えられたソース側接地端子とに接続するための経路であって、前記第1経路とは異なる経路で別に設けられた第2経路とを前記パッケージに有することを特徴とする半導体装置。 - 前記第1経路に金属板を含むことを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
- 前記第2経路に金属板を含むことを特徴とする請求項6記載の半導体装置。
- 前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子とが、前記金属板を介して接続されることを特徴とする請求項6記載の半導体装置。
- 前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子との接続は、並列に設けられた複数本のボンディングワイヤを介して接続されていることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
- 1つのパッケージに形成される半導体装置であって、
ハイサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する入力電圧が与えられる電圧入力端子にドレイン端子の電極が接続される第1のパワートランジスタを有する、第1半導体チップと、
ローサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する接地電圧が与えられる接地電圧端子にソース端子の電極が接続される第2のパワートランジスタを有する、第2半導体チップと、
前記第1および第2のパワートランジスタを駆動するドライバを有する第3半導体チップと、
前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極と前記パッケージ外部に露出する電圧を出力する電圧出力端子とに接続するための第1経路と、
前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記ドライバのソース側接地端子の電極とに接続するための第2経路とを有し、
前記ドライバのソース側接地端子の電極は、前記第2経路および前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極を介して前記第1経路と接続されることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極との接続は、並列に設けられた複数本のボンディングワイヤを介して接続されていることを特徴とする請求項10記載の半導体装置。
- 前記第1経路は、前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極との接続の間に金属板を含むことを特徴とする請求項10記載の半導体装置。
- 前記金属板の配線幅は、前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記ドライバのソース側接地端子の電極とを接続する配線の配線幅より太いことを特徴とする請求項12記載の半導体装置。
- 1つのパッケージに設けられる半導体装置であって、
入力電圧が与えられ、ハイサイドスイッチとして用いられる第1のパワートランジスタを有する第1半導体チップと、
接地電圧が与えられ、ローサイドスイッチとして用いられる第2のパワートランジスタを有する第2半導体チップと、
前記第1および第2のパワートランジスタを駆動するドライバを有する第3半導体チップと、
前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極と前記パッケージの外部に露出する電圧出力端子とに接続するための第1経路と、
前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記ドライバに備えられたソース側接地端子の電極とに接続するための経路であって、前記第1経路と前記第1のパワートランジスタのソース端子より経路が分けて設けられた第2経路とを有し、
前記第1経路は、前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極との間に設けられた第1配線を有し、
前記第2経路は、前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記ドライバに備えられたソース側接地端子の電極との間に設けられた第2配線を有し、
前記第1配線の抵抗値は、前記第2配線の抵抗値より低いことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1配線は、金属板であることを特徴とする請求項14記載の半導体装置。
- 前記半導体装置は、
前記パッケージの外部に露出する制御信号を受ける外部信号入力端子と前記ドライバに備えられた前記制御信号が入力される制御信号入力端子の電極とに接続するための第3経路を備え、
前記第3経路は、ボンディングワイヤを介して形成されていることを特徴とする請求項15記載の半導体装置。 - 前記半導体装置は、
前記パッケージの外部に露出する制御信号を受ける外部信号入力端子と前記ドライバに備えられた前記制御信号が入力される制御信号入力端子の電極とに接続するための第3配線を有する第3経路を備え、
前記第1配線の抵抗値は、前記第3配線の抵抗値より低いことを特徴とする請求項14記載の半導体装置。 - 1つのパッケージに形成される半導体装置であって、
ハイサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する入力電圧が与えられる電圧入力端子にドレイン端子が接続される第1のパワートランジスタを有する第1半導体チップと、
ローサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する接地電圧が与えられる接地電圧端子にソース端子が接続される第2のパワートランジスタを有する第2半導体チップと、
前記第1および第2のパワートランジスタを駆動するドライバを有する第3半導体チップと、
前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記接地電圧端子とに接続するための第1経路と、
前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記ドライバに備えられたソース側接地端子とに接続するための第2経路とを有し、
前記ドライバに備えられたソース側接地端子は、前記第2経路および前記第2のパワートランジスタのソース端子を介して前記第1経路と接続されることを特徴とする半導体装置。 - 前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記接地電圧端子との接続は、並列に設けられた複数本のボンディングワイヤを介して接続されることを特徴とする請求項18記載の半導体装置。
- 前記第1経路には、前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記接地電圧端子とを接続する金属板を含むことを特徴とする請求項18記載の半導体装置。
- 1つのパッケージに収められる半導体装置であって、
ハイサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する入力電圧が与えられる電圧入力端子にドレイン端子が接続される第1のパワートランジスタを有する、第1半導体チップと、
ローサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する接地電圧が与えられる接地電圧端子にソース端子が接続される第2のパワートランジスタを有する、第2半導体チップと、
前記第1および第2のパワートランジスタを駆動するドライバを有する第3半導体チップと、
前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子と前記パッケージの外部に露出する電圧出力端子とに接続するための第1経路と、
前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記ドライバに備えられた第1のソース側接地端子とに接続するための経路であって、前記第1経路とは前記第1のパワートランジスタのソース端子を介して接続された第2経路と、
前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記接地電圧端子とに接続するための第3経路と、
前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記ドライバに備えられた第2のソース側接地端子とに接続するための経路であって、前記第3経路とは前記第2のパワートランジスタのソース端子を介して接続された第4経路とを含むことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子との接続、および前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記接地電圧端子との接続は、並列に設けられた複数本のボンディングワイヤを介してそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項21記載の半導体装置。
- 前記第1経路には、前記第1のパワートランジスタのソース端子と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子との間に第1の金属板を含むことを特徴とする請求項21記載の半導体装置。
- 前記第3経路には、前記第2のパワートランジスタのソース端子と前記接地電圧端子との間に第2の金属板を含むことを特徴とする請求項23記載の半導体装置。
- 前記ドライバは、前記第1のパワートランジスタを駆動する第1ドライバと、前記第2のパワートランジスタを駆動する第2ドライバとを有し、
前記第1のソース側接地端子は、前記第1ドライバに接続され、
前記第2のソース側接地端子は、前記第2ドライバに接続されていることを特徴とする、請求項21から24のいずれかに記載の半導体装置。 - 1つのパッケージに形成される半導体装置であって、
ハイサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する入力電圧が与えられる電圧入力端子にドレイン端子の電極が接続される第1のパワートランジスタを有する、第1半導体チップと、
ローサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する接地電圧が与えられる接地電圧端子にソース端子の電極が接続される第2のパワートランジスタを有する、第2半導体チップと、
前記第1および第2のパワートランジスタを駆動するドライバを有する第3半導体チップと、
前記第1半導体チップの表面に設けられた前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2半導体チップの表面に設けられた前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極と前記パッケージ外部に露出する出力電圧を出力する電圧出力端子に接続するための第1経路と、
前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極から前記第3半導体チップの表面に設けられた前記ドライバのソース側接地端子の電極に接続するための第2経路とを有し、
前記第2経路は、前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極を介して前記第1経路と経路が接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 1つのパッケージに設けられ、このパッケージ外部からの入力電圧を受け、この入力電圧を電圧変換し、前記パッケージ外部に電圧変換した電圧を出力する半導体装置であって、
ハイサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する前記入力電圧が与えられる電圧入力端子にドレイン端子の電極が接続される第1のパワートランジスタを有する、第1半導体チップと、
ローサイドスイッチとして用いられ、前記パッケージ外部に露出する接地電圧が与えられる接地電圧端子にソース端子の電極が接続される第2のパワートランジスタを有する、第2半導体チップと、
前記第1のパワートランジスタを駆動する第1のドライバと前記第2のパワートランジスタを駆動する第2のドライバとを有する第3半導体チップと、
前記第1半導体チップの表面に設けられた前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2半導体チップの表面に設けられた前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極と前記電圧変換した電圧を出力する前記パッケージ外部に露出した電圧出力端子とに接続するための第1経路と、
前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第3半導体チップの表面に設けられた前記第1のドライバのソース側接地端子の電極とに接続するための第2経路とを有し、
前記第1経路と前記第2経路との接続は、前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極を介することを特徴とする半導体装置。 - 前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極との接続は、並列に設けられた複数本のボンディングワイヤを介して接続されていることを特徴とする請求項26もしくは請求項27のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1経路は、前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極と前記第2のパワートランジスタのドレイン端子の電極との接続の間に金属板を含むことを特徴とする請求項26もしくは請求項27のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極はアルミニウムを用いた電極であることを特徴とする請求項26もしくは請求項27のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1のパワートランジスタのソース端子の電極はアルミニウムを用いた電極であることを特徴とする請求項28もしくは請求項29のいずれかに記載の半導体装置。
- 1つの表面実装パッケージに第1半導体チップと第2半導体チップと第3半導体チップとが樹脂で封止される半導体装置であって、
前記パッケージ外部に露出し制御信号が与えられる外部信号入力端子と、
前記パッケージ外部に露出し電源電圧が与えられる電源電圧端子と、
前記パッケージ外部に露出し入力電圧が与えられる電圧入力端子と、
前記パッケージ外部に露出し接地電圧が与えられる接地電圧端子と、
前記パッケージ外部に露出し出力電圧が与えられる電圧出力端子と、
ハイサイドスイッチとして用いられ、第1のソース電極と第1のドレイン電極と第1のゲート電極とを有し、第1のパワーMOSFETを有する前記第1半導体チップと、
ローサイドスイッチとして用いられ、第2のソース電極と第2のドレイン電極と第2のゲート電極とを有し、第2のパワーMOSFETを有する前記第2半導体チップと、
第1の電極と第2の電極と第3の電極と第4の電極とを有し、前記第1および第2のパワーMOSFETを駆動するドライバを有する前記第3半導体チップと、
前記第1のソース電極と前記第2のドレイン電極と前記電圧出力端子とに接続するための第1経路と、
前記第1のソース電極と前記第1の電極とに接続するための第2経路と、
前記第1のゲート電極と前記第2の電極とに接続するための第3経路とを有し、
前記電圧入力端子は前記第1のドレイン電極と接続され、
前記接地電圧端子は前記第2のソース電極と接続され、
前記外部信号入力端子は前記第3の電極とボンディングワイヤを介して接続され、
前記電源電圧端子は前記第4の電極と接続され、
前記第1経路と前記第2経路とは前記第1のソース電極を介して接続され、
前記第1経路には金属板を含むことを特徴とする半導体装置。 - 請求項32記載の半導体装置おいて、
前記第1のソース電極と前記第1のゲート電極はアルミニウムを用いた電極であり、
前記金属板はアルミニウムもしくは銅を用いたものであり、前記第1のソース電極と前記第1半導体チップの表面で接続されることを特徴とする半導体装置。 - 1つの表面実装パッケージに第1半導体チップと第2半導体チップと第3半導体チップとが樹脂で封止される半導体装置であって、
ハイサイドスイッチとして用いられ、第1のソース電極と第1のドレイン電極と第1のゲート電極とを有し、第1のパワーMOSFETを有する前記第1半導体チップと、
ローサイドスイッチとして用いられ、第2のソース電極と第2のドレイン電極と第2のゲート電極とを有し、第2のパワーMOSFETを有する前記第2半導体チップと、
第1の電極と第2の電極と第3の電極と第4の電極とを有し、前記第1および第2のパワーMOSFETを駆動するドライバを有する前記第3半導体チップと、
前記パッケージ外部に露出し、PWM信号が与えられる外部信号入力端子と前記第3半導体チップの電源電圧が与えられる電源電圧端子と接地電圧が与えられる接地電圧端子と入力電圧が与えられる電圧入力端子と出力電圧が与えられる電圧出力端子と、
前記第1のソース電極と前記第2のドレイン電極と前記電圧出力端子とを接続するための第1配線と、
前記第1配線とは別に設けられた配線であり、前記第1のソース電極と前記第1の電極 とを接続するための第2配線と、
前記第1のゲート電極と前記第2の電極とを接続するための第3配線と、
を有し、
前記電圧入力端子は前記第1のドレイン電極と接続され、
前記接地電圧端子は前記第2のソース電極と接続され、
前記外部信号入力端子は第1のボンディングワイヤを介して前記第3の電極と接続され、
前記電源電圧端子は第2のボンディングワイヤを介して前記第4の電極と接続され、
前記第1配線は金属板を含むことを特徴とする半導体装置。 - 請求項34記載の半導体装置において、
前記第3半導体チップは第5の電極を有し、
前記第2のゲート電極と前記第5の電極とを接続するための第4配線を有し、
前記第1のソース電極と第1のゲート電極はアルミニウムを用いた電極であることを特徴とする半導体装置。 - 1つのパッケージに第1半導体チップと第2半導体チップと第3半導体チップとが樹脂で封止された半導体装置であって、
前記パッケージに設けられた外部端子であり、制御信号が与えられる制御信号入力端子と、
前記パッケージに設けられた外部端子であり、電源電圧が与えられる電源電圧端子と、
前記パッケージに設けられた外部端子であり、接地電圧が与えられる接地電圧端子と、
前記パッケージに設けられた外部端子であり、入力電圧が与えられる電圧入力端子と、
前記パッケージに設けられた外部端子であり、出力電圧が与えられる電圧出力端子と、
電圧変換のハイサイドスイッチとして用いられ、前記電圧入力端子に接続される第1のドレイン電極と第1のソース電極と第1のゲート電極とを有する第1のパワーMOSFETを備える半導体チップであり、この半導体チップの表面に前記第1のソース電極を有する第1半導体チップと、
電圧変換のローサイドスイッチとして用いられ、前記接地電圧端子に接続される第2のソース電極と第2のドレイン電極と第2のゲート電極とを有する第2のパワーMOSFETを備える第2半導体チップと、
前記第1のソース電極の接続に用いられる第1の電極と、前記第1のゲート電極の接続に用いられる第2の電極と、前記制御信号入力端子の接続に用いられる第3の電極と、前記電源電圧端子の接続に用いられる第4の電極と、前記第2のゲート電極の接続に用いられる第5の電極とを有し、前記第1および第2のパワーMOSFETを駆動するドライバを備える第3半導体チップと、
前記第1のソース電極と前記第2のドレイン電極と前記電圧出力端子とを接続するための配線であり、前記第1のソース電極と接続をとる第1接続配線を有する第1配線と、
前記第1配線とは別に設けられ、前記第1のソース電極と前記第1の電極とを接続するための配線であり、前記第1のソース電極と接続をとる第2接続配線を有する第2配線と、
前記第1のゲート電極と前記第2の電極とを接続するための第3配線と、
前記第2のゲート電極と前記第5の電極とを接続するための第4配線と、
前記制御信号入力端子と前記第3の電極とを接続する第1のボンディングワイヤと、
前記電源電圧端子と前記第4の電極とを接続する第2のボンディングワイヤと、
を含み、
前記第1接続配線には金属板が用いられていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項36記載の半導体装置において、
前記第1半導体チップは一対の長辺と一対の短辺を有する長方形形状であり、前記第1接続配線は前記長辺を横切るように配線され、
前記第2接続配線は一方の前記短辺を横切るように配線され、
前記第1接続配線の配線幅は、前記第2接続配線の配線幅より広いことを特徴とする半 導体装置。 - 請求項37記載の半導体装置において、
前記第3配線は前記一方の短辺を横切るように配線され、前記第2接続配線と並ぶように配線されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項36から請求項38のいずれかに記載の半導体装置において、
前記第1のソース電極と第1のゲート電極はアルミニウムを用いた電極であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項36〜請求項39のいずれかに1項に記載の半導体装置において、
前記第1の電極は、前記ドライバの基準電位端子であり、
前記第2の電極と前記第5の電極は、前記ドライバの出力部であり、
前記第3の電極は、前記ドライバの入力部であることを特徴とする半導体装置。
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DE102004020172A1 (de) * | 2004-04-24 | 2005-11-24 | Robert Bosch Gmbh | Monolithischer Regler für die Generatoreinheit eines Kraftfahrzeugs |
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US7884454B2 (en) * | 2005-01-05 | 2011-02-08 | Alpha & Omega Semiconductor, Ltd | Use of discrete conductive layer in semiconductor device to re-route bonding wires for semiconductor device package |
US7898092B2 (en) * | 2007-11-21 | 2011-03-01 | Alpha & Omega Semiconductor, | Stacked-die package for battery power management |
US20060145312A1 (en) * | 2005-01-05 | 2006-07-06 | Kai Liu | Dual flat non-leaded semiconductor package |
US7230333B2 (en) * | 2005-04-21 | 2007-06-12 | International Rectifier Corporation | Semiconductor package |
JP3972951B2 (ja) * | 2005-07-04 | 2007-09-05 | オムロン株式会社 | スイッチング電源、電源装置および電子機器 |
DE102005047149A1 (de) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Epitaxiesubstrat, damit hergestelltes Bauelement sowie entsprechende Herstellverfahren |
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TW200744167A (en) * | 2006-05-19 | 2007-12-01 | Richtek Techohnology Corp | Dual-transistor package body |
DE102007002377B4 (de) * | 2006-05-22 | 2011-12-01 | Texas Instruments Deutschland Gmbh | Integrierte Schaltungsvorrichtung |
JP5165214B2 (ja) * | 2006-06-26 | 2013-03-21 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | 半導体装置 |
US20080180921A1 (en) * | 2007-01-31 | 2008-07-31 | Cyntec Co., Ltd. | Electronic package structure |
DE102007013186B4 (de) * | 2007-03-15 | 2020-07-02 | Infineon Technologies Ag | Halbleitermodul mit Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben |
JP5167665B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2013-03-21 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 降圧dc−dcコンバータの制御回路、降圧dc−dcコンバータおよびその制御方法 |
JP4694539B2 (ja) | 2007-07-31 | 2011-06-08 | シャープ株式会社 | 出力制御装置、ならびに、これを用いたac/dc電源装置、回路装置、ledバックライト回路装置及びスイッチング型dc/dcコンバータ装置 |
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JP2009289969A (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Nec Electronics Corp | リードフレーム |
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US8227908B2 (en) | 2008-07-07 | 2012-07-24 | Infineon Technologies Ag | Electronic device having contact elements with a specified cross section and manufacturing thereof |
JP5107839B2 (ja) * | 2008-09-10 | 2012-12-26 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2010258366A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
US8169088B2 (en) * | 2009-07-02 | 2012-05-01 | Monolithic Power Systems, Inc. | Power converter integrated circuit floor plan and package |
US8164199B2 (en) * | 2009-07-31 | 2012-04-24 | Alpha and Omega Semiconductor Incorporation | Multi-die package |
US9257375B2 (en) | 2009-07-31 | 2016-02-09 | Alpha and Omega Semiconductor Inc. | Multi-die semiconductor package |
DE102009029515A1 (de) * | 2009-09-16 | 2011-03-24 | Robert Bosch Gmbh | Leistungshalbleitermodul und Leistungshalbleiterschaltungsanordnung |
US20110075392A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Astec International Limited | Assemblies and Methods for Directly Connecting Integrated Circuits to Electrically Conductive Sheets |
US8410600B2 (en) * | 2009-10-02 | 2013-04-02 | Arkansas Power Electronics International, Inc. | Semiconductor device with protecting film and method of fabricating the semiconductor device with protecting film |
US20110090725A1 (en) * | 2009-10-20 | 2011-04-21 | Texas Instruments Inc | Systems and Methods of Synchronous Rectifier Control |
US8400778B2 (en) * | 2010-02-02 | 2013-03-19 | Monolithic Power Systems, Inc. | Layout schemes and apparatus for multi-phase power switch-mode voltage regulator |
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JP5590115B2 (ja) | 2010-03-16 | 2014-09-17 | 株式会社村田製作所 | 電源装置用駆動回路、電源装置用駆動集積回路及び電源装置 |
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US8362540B2 (en) * | 2010-09-22 | 2013-01-29 | Infineon Technologies Ag | Integrated circuit package with reduced parasitic loop inductance |
US8587101B2 (en) | 2010-12-13 | 2013-11-19 | International Rectifier Corporation | Multi-chip module (MCM) power quad flat no-lead (PQFN) semiconductor package utilizing a leadframe for electrical interconnections |
US9711437B2 (en) | 2010-12-13 | 2017-07-18 | Infineon Technologies Americas Corp. | Semiconductor package having multi-phase power inverter with internal temperature sensor |
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TWI557863B (zh) * | 2013-03-12 | 2016-11-11 | 國際整流器股份有限公司 | 具有控制及驅動器電路的功率四邊扁平無引線(pqfn)之封裝 |
JP6222685B2 (ja) * | 2013-03-21 | 2017-11-01 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 回路基板 |
CN104183531B (zh) * | 2013-05-20 | 2017-04-19 | 广东华中科技大学工业技术研究院 | 引线夹持系统 |
TWI567988B (zh) * | 2014-04-21 | 2017-01-21 | 台達電子工業股份有限公司 | 半導體裝置封裝體 |
US9236789B1 (en) * | 2014-08-04 | 2016-01-12 | Qualcomm Incorporated | Programmable snubber circuit |
JP6263108B2 (ja) * | 2014-09-11 | 2018-01-17 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置、並びにそれを用いたオルタネータ及び電力変換装置 |
JP6434274B2 (ja) * | 2014-10-27 | 2018-12-05 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
CN104779815B (zh) * | 2015-04-02 | 2017-08-01 | 西安交通大学 | 一种可替换IGBT模块的SiC MOSFET智能功率集成模块 |
JP6591220B2 (ja) * | 2015-07-15 | 2019-10-16 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置および電力制御装置 |
CN105552075B (zh) * | 2016-01-22 | 2018-06-22 | 成都芯源系统有限公司 | 一种减少系统环路寄生电感的半导体器件 |
US9991880B2 (en) * | 2016-06-07 | 2018-06-05 | Ford Global Technologies, Llc | Discrete power switching devices with reduced common source inductance |
TWI624152B (zh) * | 2016-11-11 | 2018-05-11 | Excel Cell Electronic Co Ltd | Photoelectric relay |
CN106533137B (zh) * | 2016-12-30 | 2020-09-04 | 天水七四九电子有限公司 | 适用于宽输入电压范围和宽范围输出的同步整流驱动电路 |
CN108282092B (zh) * | 2017-01-05 | 2020-08-14 | 罗姆股份有限公司 | 整流ic以及使用该整流ic的绝缘型开关电源 |
US10153766B2 (en) * | 2017-02-15 | 2018-12-11 | Infineon Technologies Austria Ag | Switch device |
DE112018002579T5 (de) * | 2017-05-19 | 2020-03-19 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleiterbauelement |
CN207603443U (zh) | 2017-09-21 | 2018-07-10 | 北京比特大陆科技有限公司 | 算力板功率级电路、封装电源装置和算力板 |
CN107658283B (zh) * | 2017-09-30 | 2024-05-07 | 杭州士兰微电子股份有限公司 | 用于电机驱动的集成功率模块和智能功率模块 |
JP6855998B2 (ja) * | 2017-10-18 | 2021-04-07 | 株式会社オートネットワーク技術研究所 | 車載用の半導体スイッチ装置及び車載用電源装置 |
WO2020012957A1 (ja) | 2018-07-12 | 2020-01-16 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
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JP7299751B2 (ja) * | 2019-05-14 | 2023-06-28 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
WO2020262212A1 (ja) * | 2019-06-24 | 2020-12-30 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
US11145579B1 (en) * | 2020-09-11 | 2021-10-12 | Navitas Semiconductor Limited | Thermally enhanced electronic packages for GaN power integrated circuits |
CN113067472B (zh) * | 2021-03-16 | 2022-03-29 | 苏州悉智科技有限公司 | 功率半导体封装结构 |
FR3131173B1 (fr) * | 2021-12-17 | 2023-11-03 | Vitesco Technologies | Circuit électronique pour véhicule |
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CN115148692B (zh) * | 2022-05-12 | 2024-09-20 | 重庆涛科电气研究院有限公司 | 一种压接型分立式SiC MOSFET器件封装结构 |
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WO2000045437A1 (fr) * | 1999-01-26 | 2000-08-03 | Hitachi, Ltd. | Procede de reglage de polarisation inverse de circuit mos, et circuit integre mos |
US6137165A (en) * | 1999-06-25 | 2000-10-24 | International Rectifier Corp. | Hybrid package including a power MOSFET die and a control and protection circuit die with a smaller sense MOSFET |
JP2001068498A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-03-16 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP3450803B2 (ja) * | 2000-06-22 | 2003-09-29 | 株式会社東芝 | 樹脂封止型半導体装置 |
US20020071293A1 (en) * | 2000-07-13 | 2002-06-13 | Eden Richard C. | Power semiconductor switching devices, power converters, integrated circuit assemblies, integrated circuitry, power current switching methods, methods of forming a power semiconductor switching device, power conversion methods, power semiconductor switching device packaging methods, and methods a of forming power transistor |
JP3602453B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2004-12-15 | Necエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
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JP4112816B2 (ja) * | 2001-04-18 | 2008-07-02 | 株式会社東芝 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP2004055756A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Sanyo Electric Co Ltd | 混成集積回路装置 |
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