JP4001202B2

JP4001202B2 - Electrolytic peeling method by high-speed polarity reversal

Info

Publication number: JP4001202B2
Application number: JP2002069886A
Authority: JP
Inventors: 智弘西山
Original assignee: 西山ステンレスケミカル株式会社
Priority date: 2002-03-14
Filing date: 2002-03-14
Publication date: 2007-10-31
Anticipated expiration: 2022-03-14
Also published as: JP2003268600A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スパッタリング装置・ＣＶＤ装置等に用いられる装置およびそれに付随する治具に付着した付着膜を除去する電解剥離方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）やアルミニウムなどの金属を基板にコーティング又は堆積させる場合、スパッタリングや真空蒸着を行なう。その際、装置内部及び治具に余分な金属が付着するので、このような治具は、再利用のために、付着膜を剥離して洗浄している。
【０００３】
従来の技術では、この付着膜を電気分解により剥離除去する方法として、導電性金属材料の被処理物を陰極又は陽極として、直流又は交流電流による電解剥離法が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、直流による電解剥離法では、導電性金属材料の被処理物を陰極に設定した場合には、反応生成物が被処理物表面に付着する結果、陰極と付着膜の接触面でのガスの生成が抑制されてしまうため、剥離速度が著しく低下するという問題がある。
【０００５】
一方、導電性金属材料の被処理物を陽極に設定した場合には、エッチングが進み過ぎる結果、付着膜が除去されたときには被処理物本体の損傷が激しいという問題点がある。また、アルミニウムや錫などのアルカリで溶解する金属の処理には適さない。
【０００６】
なお、電極の極性を切り換えるＰＲ法も知られているが、被処理物が陽極となる継続時間が長いため、エッチングが進み過ぎ、やはり被処理物本体（母材）の損傷が激しいという問題点がある。
【０００７】
本発明は、上記した従来技術の問題に鑑みてなされたものであって、被処理物本体の腐食を抑えながら、確実に短時間で付着物を除去できる電解剥離法を提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、請求項１に係る電解剥離方法は、導電性金属材料からなる被処理物の表面に付着した膜を剥離する付着膜の剥離方法において、前記被処理物を陰極とする電気分解により被処理物からガスを発生させる電解液を用い、前記被処理物を陰極とする負極性の通電時間と、極性を反転させる逆極性の通電時間との比率を、１０：１〜３０：１に設定すると共に、極性反転の動作周期を５００ｍ秒以下に設定している。
【０００９】
被処理物から電気分解によりガスを発生させる電解液は、硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、クロム酸、ナトリウム化合物又はキレート剤等による酸性、中性、アルカリ性の電解液であり、発生するガスは水素ガス、塩素ガス、酸素ガスなどである。上記の電解液に、更に酸化抑制剤や、界面活性剤等を添加するのが好適である。典型的には、硫酸又はリン酸の単独或いは組合せが５〜１５重量％、界面活性剤０．０５〜０．２重量％、残り水の電解液が好適に使用される。
【００１０】
本発明において、被処理物を陰極とする負極性の通電時間と、電極を反転させる逆極性の通電時間との比率は、１０：１〜３０：１に設定されるが、より好ましくは、１５：１〜２５：１である。また、極性反転の動作周期を５００ｍ秒以下に設定されるが、より好ましくは、負極性の通電時間が１０〜３００ｍ秒に設定される一方、電極を反転させる逆極性の通電時間が１〜１０ｍ秒に設定されるべきである。更に好ましくは、負極性の通電時間が１５〜２５０ｍ秒に設定される。
【００１１】
また、負極性の通電時間と、電極を反転させる逆極性の通電時間との間に、逆極性の通電時間と同程度の無極性状態を設けると、負極性と逆極性の通電時間の比率を１０：１〜３０：１に設定する制御を容易に実現できる。また、極性反転の動作を終了した後、極性を反転させた状態で１〜１０分間保持すると反応生成物の再付着が防止される。なお、本発明は、ＩＴＯ膜やＡｌ膜を除去するのに特に有効である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明をその実施の形態を示す図面に基づいて更に説明する。図１は、本発明の電解剥離法を実現する電極切り換え手法を図示したものであり、横軸に時間、縦軸に被処理物を取り付ける陰極の極性を表してある。
【００１３】
被処理物を陰極とする負極性の状態をプラス側とし、反転極性の状態をマイナス側に記載している。図１において、極性は時間的に切り換えられるが、無極性の状態Ａと、反転極性状態Ｂと、負極性状態Ｃとの関係は、無極性の状態Ａは１〜１０ｍ秒程度、反転極性状態Ｂが１〜１０ｍ秒程度、負極性状態Ｃは１０〜３００ｍ秒程度が好ましい。そして、通電時間の比率としては、反転極性状態Ｂを１とすると、負極性状態Ｃが１０〜３０に設定される。
【００１４】
このように、この極性高速反転動作の動作周期は、１３〜３３０ｍ秒程度であるが、動作周期が短い場合には無極性状態Ａは必須ではない。なお、反転極性状態の継続時間Ｂが長いほどエッチング速度が速まる傾向となるので、付着膜の種類や膜厚やエッチング液などによって、反転極性状態の継続時間Ｂが、上記範囲内で適宜に設定される。また、負極性状態の継続時間Ｃが長いほどエッチング速度が遅くなる傾向となるので、付着膜の種類や膜厚や反転極性状態の継続時間Ｂやエッチング液などによって、上記範囲内で負極性状態の継続時間Ｃが適宜に設定される。ＩＴＯ膜やＡｌ膜を剥離させる場合、３０〜２００μｍ程度の膜厚であれば、一般に、負極性状態Ｃは１５〜２５０ｍ秒程度であり、通電時間の比率は、反転極性状態Ｂを１とした場合に、負状態Ｃの通電時間は１５〜２５である。
【００１５】
図２は、本発明に係る極性高速反転型の電解剥離装置の正面図であり、図３はその側面図である。固定具１０を介して被処理物９が垂直に保持され、この被処理物９に陰極１ａが接続された状態を示している。
【００１６】
図示例では、スイッチング装置６を備えた電源５の陰極側に陰極ケーブル７ａを取り付け、陰極ケーブル７ａの先端にクリップ等の陰極側接続端子８ａを装備する。また、図３に示すように、電源５の陽極側に陽極ケーブル７ｂを取り付け、陽極ケーブル７ｂの先端にクリップ等の陽極接続端子８ｂを装備する。
【００１７】
そして、陰極１ａ及び陽極１ｂを、電解液４を満たした処理液槽２に浸漬している。被処理物９は、固定具１０によって保持された状態で陰極１ａと電気的に接続されている。また、処理槽２は、温度調節用ヒーター３で温度管理されている。
【００１８】
陰極１ａ及び陽極１ｂは、剥離すべき付着膜の膜厚や所望の処理時間に応じて、極間距離が適宜に設定される。なお、陰極１ａおよび陽極１ｂの材質は、導電性金属材料のうち、電解液のｐＨにより酸性又はアルカリ性に耐えうる材質のものが選択される。
【００１９】
使用する電解液は、従来の電解剥離に使用される硫酸、塩酸、リン酸、硝酸、クロム酸、ナトリウム化合物又はキレート剤等による酸性、中性、アルカリ性の電解液を用いることができるが、更に酸化抑制剤や、界面活性剤等を添加することよって、付着膜剥離後の母材の表面状態を良好にすることができる。
【００２０】
上記のような電解液中に被処理物を浸漬させ、図１に関して説明したように電極の極性を高速反転させて被処理物９に通電させる。電流密度は剥離条件に合わせて設定されるが、一般に１〜２０Ａ／ｄｍ²程度である。
【００２１】
このような条件で通電を開始すると、電解液が付着物に侵入することにより、被処理物９と付着物の接触面から水素ガスなどが発生し、その気泡発生に起因して付着物が有効に剥離される。また、負極性時に被処理物９に付着する反応生成物を、極性を高速反転することで離脱させ、ガスの発生を抑制することなく処理することができる。
【００２２】
なお、図２及び図３では、陰極又は陽極を単体としたが、同時に複数の電極を用いて浸漬し、電流密度１〜２０Ａ／ｄｍ²を剥離条件に合わせて設定し、処理を行なうとしてもよい。
【００２３】
【実施例】
次に、本発明の実施例について、従来の方法と比較して説明する。以下の実験では、試料としてＩＴＯ膜が５０μｍ付着した５×１０ｃｍのＳＵＳ製基板を用いた。
【００２４】
比較例１は、従来の方法であるケミカル処理であり、硝酸１０重量％とフッ酸５重量％の水溶液を用いている。また、全ての実験において液温は４０℃に管理した。
【００２５】
【表１】

【００２６】
比較例２は、電流密度１０Ａ／ｄｍ²の直流電流による電解剥離である。電解液として、硫酸７重量％とリン酸１重量％の水溶液を用い、試料を陰極側に取り付けて剥離を行った。
【００２７】
【表２】

【００２８】
比較例３は、ＰＲ(Periodic Reversal Cleaning)法による電解剥離の例である。電流密度１０Ａ／ｄｍ²の負極性の電流と反転極性の電流とを１０秒間隔で電極を切り換えている。また、硫酸１０％、リン酸１％、界面活性剤０．１％からなる電解液を使用した。
【００２９】
【表３】

【００３０】
実施例では、硫酸１０％、リン酸１％、界面活性剤０．１％からなる比較例３と同じ電解液を使用した。また電流密度も同じとし、１０Ａ／ｄｍ²とした。但し、負極性の状態を６０ｍ秒、反転極性の状態を３ｍ秒とした。
【００３１】
【表４】

【００３２】
下記の表５に、前記実施例及び比較例を示す。剥離状態は、ＩＴＯ膜の剥離が完了したものを○、そうでないものを×で示している。なお、厚さ変化によるエッチング量は、母材のエッチング量を意味している。
【００３３】
【表５】

【００３４】
図示の通り、直流電流による電解剥離（比較例２）は、剥離状態、スマット等の反応生成物、厚さ変化による被処理物のエッチング量で、それぞれ剥離に不適である結果となった。ＰＲ法（比較例３）は剥離状態、反応生成物の付着状態共に、良好な結果が得られたが、母材の腐食が激しいため不適となった。陽極時間が長いためと考えられる。
【００３５】
ケミカル処理（比較例１）は、１時間当りの母材のエッチング量は少ないが、処理時間が長いため、被処理物の腐食が起こり、剥離対象物が限定されてしまう。一方、実施例の場合には、電極の極性を高速反転することにより、被処理物のエッチングを抑制し、反応生成物を落としてガスの発生を促進することから、剥離状態が良好である。
【００３６】
また、別の試料として、酸化物を含むＡｌ膜が５００μｍ付着した１０×１０ｃｍのＡｌ製基板を用いた。比較例として、硝酸３４重量％の水溶液を用いている。また、実施例の場合も含め液温は４０℃に管理した。
【００３７】
【表６】

【００３８】
一方、実施例では、硫酸１０％、リン酸１％、界面活性剤０．１％からなる電解液を使用した。また電流密度は３０Ａ／ｄｍ²とし、負極性の状態を６０ｍ秒、反転極性の状態を３ｍ秒とした。
【００３９】
【表７】

【００４０】
下記の表８に実施例と比較例の結果に示す。比較例の場合には、所望レベルまで剥離させようとすると、処理時間を要する上に、母材のエッチング量が多いのに対して、実施例では、母材を腐食することなく付着膜を剥離できる。
【００４１】
【表８】

【００４２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、極性を高速反転して付着膜を剥離するため、被処理物の腐食を低減できるとともに、処理時間を短縮して高効率化することが可能である。また、負極性の状態と反転極性の状態を切り換えることにより、反応生成物を定期的に取り除き、被処理物と付着膜の接触面から発生するガスの生成を抑制することなく剥離することが可能である。
【００４３】
また、陽極酸化を防ぎ、被処理物の腐食を抑制することができる。剥離処理完了後に、極性を反転させた状態で１〜１０分間保持することにより、被処理物表面に付着した反応生成物を取り除くことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における極性反転動作を説明する図面である。
【図２】本発明に係る極性高速反転型の電解剥離装置の正面図である。
【図３】本発明に係る極性高速反転型の電解剥離装置の側面図である。
【符号の説明】
１ａ陰極
１ｂ陽極
２電解液槽
３温度調節用ヒーター
４電解液
５電源
６スイッチング装置
７ａ陰極ケーブル
７ｂ陽極ケーブル
８ａ陰極側端子
８ｂ陽極側端子
９被処理物
１０固定具[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an apparatus for use in a sputtering apparatus, a CVD apparatus, and the like, and an electrolytic stripping method for removing an attached film attached to a jig accompanying the apparatus.
[0002]
[Prior art]
Generally, when a metal such as ITO (indium tin oxide) or aluminum is coated or deposited on a substrate, sputtering or vacuum evaporation is performed. At this time, since extra metal adheres to the inside of the apparatus and the jig, such a jig is peeled off and washed for reuse.
[0003]
In the conventional technique, as a method of peeling and removing the adhesion film by electrolysis, an electrolytic peeling method using a direct current or an alternating current is used with a workpiece of a conductive metal material as a cathode or an anode.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the electrolytic stripping method using direct current, when the object to be processed of the conductive metal material is set as the cathode, the reaction product adheres to the surface of the object to be processed. Since the generation is suppressed, there is a problem that the peeling rate is remarkably reduced.
[0005]
On the other hand, when the object to be processed of the conductive metal material is set as the anode, there is a problem that the main body of the object to be processed is severely damaged when the adhered film is removed as a result of excessive etching. Moreover, it is not suitable for the process of the metal which melt | dissolves with alkalis, such as aluminum and tin.
[0006]
The PR method for switching the polarity of the electrodes is also known, but because the duration of the workpiece to be an anode is long, the etching progresses too much and the body of the workpiece (base material) is still severely damaged. There is.
[0007]
The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide an electrolytic stripping method that can reliably remove deposits in a short time while suppressing corrosion of the object to be processed. To do.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, an electrolytic stripping method according to claim 1 is an adhesion film peeling method for peeling a film attached to a surface of an object to be processed made of a conductive metal material. using the electrolytic solution to generate gas from the processing object by the electrolysis of the energizing time of the negative polarity to the cathode to be treated, the ratio between the reverse polarity energizing time of reversing the polarity, 10: 1 In addition to being set to 30: 1, the polarity inversion operation cycle is set to 500 ms or less.
[0009]
The electrolyte that generates gas from the object to be processed by electrolysis is an acidic, neutral, or alkaline electrolyte with sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, nitric acid, chromic acid, sodium compound, or chelating agent. Hydrogen gas, chlorine gas, oxygen gas, etc. It is preferable to further add an oxidation inhibitor, a surfactant or the like to the above electrolytic solution. Typically, 5 to 15% by weight of sulfuric acid or phosphoric acid alone or in combination, 0.05 to 0.2% by weight of a surfactant, and an electrolytic solution of remaining water are preferably used.
[0010]
In the present invention, the ratio between the negative polarity energization time using the workpiece as a cathode and the reverse polarity energization time for inverting the electrode is set to 10: 1 to 30: 1, more preferably 15 : 1 to 25: 1. In addition, the polarity reversal operation period is set to 500 msec or less. More preferably, the negative polarity energization time is set to 10 to 300 msec, while the reverse polarity energization time to invert the electrode is 1 to 10 msec. Should be set to seconds. More preferably, the negative polarity energization time is set to 15 to 250 milliseconds.
[0011]
In addition, if a nonpolar state similar to the reverse polarity energization time is provided between the negative polarity energization time and the reverse polarity energization time for inverting the electrode, the ratio of the negative polarity and reverse polarity energization time is set. Control set to 10: 1 to 30: 1 can be easily realized. In addition, after the polarity reversal operation is completed, the reaction product is prevented from reattaching if the polarity is reversed for 1 to 10 minutes. The present invention is particularly effective for removing the ITO film and the Al film.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be further described with reference to the drawings showing embodiments thereof. FIG. 1 illustrates an electrode switching method for realizing the electrolytic stripping method of the present invention, wherein the horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the polarity of the cathode to which the workpiece is attached.
[0013]
The negative polarity state where the object to be processed is a cathode is described as the positive side, and the reverse polarity state is described as the negative side . In FIG. 1, the polarity is switched over time, but the relationship between the nonpolar state A, the reverse polarity state B, and the negative polarity state C is as follows. B is preferably about 1 to 10 milliseconds and the negative polarity state C is preferably about 10 to 300 milliseconds. And as a ratio of energization time, when the reverse polarity state B is 1, the negative polarity state C is set to 10-30.
[0014]
As described above, the operation cycle of the high-speed polarity reversal operation is about 13 to 330 milliseconds, but the nonpolar state A is not essential when the operation cycle is short. Since the etching rate tends to increase as the duration B of the reverse polarity state is longer, the duration B of the reverse polarity state is appropriately set within the above range depending on the kind of the attached film, the film thickness, the etching solution, and the like. Is done. Further, since the etching rate tends to be slower as the duration C of the negative polarity state is longer, the negative polarity state is within the above range depending on the kind and thickness of the attached film, the duration B of the reverse polarity state, the etching solution, and the like. Is set as appropriate. When the ITO film or Al film is peeled off, if the film thickness is about 30 to 200 μm, the negative polarity state C is generally about 15 to 250 msec. In the case, the energization time in the negative state C is 15-25.
[0015]
FIG. 2 is a front view of an electrolytic stripping apparatus of the polarity fast reversal type according to the present invention, and FIG. 3 is a side view thereof. The workpiece 9 is held vertically via the fixture 10, and the cathode 1 a is connected to the workpiece 9.
[0016]
In the illustrated example, a cathode cable 7a is attached to the cathode side of the power source 5 provided with the switching device 6, and a cathode-side connection terminal 8a such as a clip is provided at the tip of the cathode cable 7a. As shown in FIG. 3, an anode cable 7b is attached to the anode side of the power source 5, and an anode connection terminal 8b such as a clip is provided at the tip of the anode cable 7b.
[0017]
Then, the cathode 1 a and the anode 1 b are immersed in the treatment liquid tank 2 filled with the electrolytic solution 4. The workpiece 9 is electrically connected to the cathode 1 a while being held by the fixture 10. Further, the temperature of the processing tank 2 is controlled by a temperature adjusting heater 3.
[0018]
The distance between the electrodes of the cathode 1a and the anode 1b is appropriately set according to the thickness of the adhesion film to be peeled off or a desired processing time. The material of the cathode 1a and the anode 1b is selected from among conductive metal materials that can withstand acidity or alkalinity depending on the pH of the electrolytic solution.
[0019]
The electrolytic solution used can be an acidic, neutral or alkaline electrolytic solution such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, nitric acid, chromic acid, sodium compound or chelating agent used for conventional electrolytic stripping. By adding an oxidation inhibitor, a surfactant, or the like, the surface state of the base material after the adhesion film is peeled can be improved.
[0020]
The object to be processed is immersed in the electrolytic solution as described above, and the object 9 is energized with the polarity of the electrode reversed at a high speed as described with reference to FIG. While current density is set in accordance with the etching conditions, it is generally 1 to 20A / dm ² about.
[0021]
When energization is started under such conditions, the electrolyte enters the deposit, and hydrogen gas is generated from the contact surface between the workpiece 9 and the deposit, and the deposit is effective due to the generation of bubbles. Is peeled off. Moreover, the reaction product adhering to the to-be-processed object 9 at the time of negative polarity can be processed by reversing the polarity at high speed and suppressing the generation of gas.
[0022]
In FIGS. 2 and 3, the cathode or anode is used alone, but it may be soaked using a plurality of electrodes at the same time, and the current density 1 to 20 A / dm ² may be set according to the stripping conditions and processed. Good.
[0023]
【Example】
Next, an example of the present invention will be described in comparison with a conventional method. In the following experiment, a 5 × 10 cm SUS substrate with an ITO film of 50 μm attached was used as a sample.
[0024]
Comparative Example 1 is a chemical treatment that is a conventional method, using an aqueous solution of 10% by weight nitric acid and 5% by weight hydrofluoric acid. In all experiments, the liquid temperature was controlled at 40 ° C.
[0025]
[Table 1]

[0026]
Comparative Example 2 is electrolytic stripping by direct current with a current density of 10 A / dm ² . As an electrolytic solution, an aqueous solution of 7% by weight sulfuric acid and 1% by weight phosphoric acid was used, and the sample was attached to the cathode side for peeling.
[0027]
[Table 2]

[0028]
Comparative Example 3 is an example of electrolytic peeling by a PR (Periodic Reversal Cleaning) method. The electrode is switched at a 10-second interval between a negative current having a current density of 10 A / dm ² and a reverse polarity current. Further, an electrolytic solution composed of 10% sulfuric acid, 1% phosphoric acid, and 0.1% surfactant was used.
[0029]
[Table 3]

[0030]
In the examples, the same electrolytic solution as Comparative Example 3 comprising 10% sulfuric acid, 1% phosphoric acid, and 0.1% surfactant was used. The current density was also the same, 10 A / dm ² . However, the negative polarity state was set to 60 milliseconds and the reverse polarity state was set to 3 milliseconds.
[0031]
[Table 4]

[0032]
Table 5 below shows the examples and comparative examples. The peeled state is indicated by ◯ when the ITO film is completely peeled, and by × when it is not. The etching amount due to the thickness change means the etching amount of the base material.
[0033]
[Table 5]

[0034]
As shown in the figure, electrolytic stripping by direct current (Comparative Example 2) resulted in a stripping state, a reaction product such as a smut, and an etching amount of the object to be processed due to a change in thickness. The PR method (Comparative Example 3) gave good results for both the peeled state and the attached state of the reaction product, but was unsuitable due to severe corrosion of the base material. This is probably because the anode time is long.
[0035]
In the chemical treatment (Comparative Example 1), the amount of etching of the base material per hour is small, but since the treatment time is long, the object to be treated is corroded and the object to be peeled is limited. On the other hand, in the case of the embodiment, the polarity of the electrode is reversed at a high speed to suppress the etching of the object to be processed, and the reaction product is dropped to promote the generation of gas.
[0036]
As another sample, a 10 × 10 cm Al substrate on which 500 μm of an Al film containing an oxide was attached was used. As a comparative example, an aqueous solution of 34% by weight nitric acid is used. In addition, the liquid temperature was controlled at 40 ° C. including the case of Examples.
[0037]
[Table 6]

[0038]
On the other hand, in the examples, an electrolytic solution composed of 10% sulfuric acid, 1% phosphoric acid, and 0.1% surfactant was used. The current density was 30 A / dm ² , the negative polarity state was 60 milliseconds, and the reverse polarity state was 3 milliseconds.
[0039]
[Table 7]

[0040]
Table 8 below shows the results of Examples and Comparative Examples. In the case of the comparative example, when it is attempted to peel off to a desired level, the processing time is required and the etching amount of the base material is large, whereas in the example, the attached film is peeled off without corroding the base material. it can.
[0041]
[Table 8]

[0042]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the polarity is reversed at a high speed to peel off the attached film, so that corrosion of the object to be processed can be reduced, and the processing time can be shortened to increase efficiency. . In addition, by switching between the negative polarity state and the reverse polarity state, the reaction product can be periodically removed and stripped without suppressing the generation of gas generated from the contact surface between the object to be treated and the attached film. It is.
[0043]
Moreover, anodization can be prevented and corrosion of the workpiece can be suppressed. After completion of the peeling treatment, the reaction product attached to the surface of the object to be treated can be removed by holding the state with the polarity reversed for 1 to 10 minutes.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram illustrating a polarity reversal operation in the present invention.
FIG. 2 is a front view of a polarity fast reversal type electrolytic stripping apparatus according to the present invention.
FIG. 3 is a side view of a high-speed polarity reversal electrolytic stripping apparatus according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a Cathode 1b Anode 2 Electrolyte tank 3 Temperature adjustment heater 4 Electrolyte 5 Power supply 6 Switching apparatus

7a Cathode cable

7b Anode cable 8a Cathode side terminal 8b Anode side terminal 9 To-be-processed object 10 Fixing tool

Claims

In the peeling method of the attached film that peels off the film attached to the surface of the object to be processed made of a conductive metal material,
Wherein using the electrolytic solution to generate gas from the processing object by the electrolysis of a cathode to be treated,
And the negative current supply time to the cathode of the object to be treated, the ratio between the reverse polarity energizing time of reversing the polarity, 10: 1 to 30: and sets to 1, the operation period of the polarity inversion below 500m sec Electrolytic peeling method characterized by setting to.

The negative whereas polarity energization time is set to 10~300m seconds, electrolytic stripping method of claim 1 in which the energization time of the reverse polarity for inverting the polarity is set to 1~10m seconds.

The negative polarity conduction time, between the reverse polarity energizing time of reversing the polarity, electrolytic stripping of claim 1 or claim 2 is provided with a non-polar state comparable to the energizing time of the opposite polarity Law.

The electrolytic stripping method according to any one of claims 1 to 3, wherein after the polarity reversal operation is finished, the polarity is reversed and held for 1 to 10 minutes.

The electrolytic peeling method according to claim 1, wherein the adhesion film is an ITO film or an Al film.