JP4093897B2 - Surface heating type infrared radiation heating device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、中面積の円板状材料を高速に、均一な温度分布で加熱処理する面加熱型赤外線放射加熱装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の面加熱型赤外線放射加熱装置は、複合型反射ミラー及び赤外線ランプから構成されており、複合型反射ミラーは中空の放物面状反射ミラーと円筒状反射ミラーとを組み合わせてなっており、該放物面状反射ミラーの焦点に赤外線ランプを設置し、該赤外線ランプから加熱物に赤外線を照射し、赤外線ランプから照射される赤外線が、直進光と、放物面状反射ミラーで反射される反射光と、円筒状反射ミラーで反射される斜反射光とを含み、加熱物を加熱することが可能である(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平10−82589号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
シリコン、炭化珪素等の良質な半導体材料の開発には、クリーンな雰囲気中で半導体材料を高速昇温、均一な温度分布で加熱処理することがきわめて重要である。上記公知の従前装置でも、半導体材料を高速昇温、均一な温度分布で加熱処理することができるが、10φ程度の小面積の円板状材料までしか加熱処理できないという課題がある。
本発明は、この課題に鑑み、50φ程度の中面積の円板状材料を高速昇温、均一な温度分布で加熱処理できる新規な面加熱型赤外線放射加熱装置を提供するものである。
【0005】
【課題を解決する為の手段】
そのために、本発明面加熱型赤外線放射加熱装置は、複合型反射ミラー及び赤外線ランプから構成され、複合型反射ミラーは中空の円錐状反射ミラーと円筒状反射ミラーとを組み合わせてなっており、赤外線ランプから放射される赤外線が、直進光と、円錐状反射ミラーで反射される反射光と、円筒状反射ミラーで反射される斜反射光とを含み、加熱物を照射加熱するようにしてある。
本発明によれば、複合型反射ミラーに中空の円錐状反射ミラーと円筒状反射ミラーとを組み合わせて、赤外線ランプから放射される赤外線を直進光と、円錐状反射ミラーで反射される上記直進光と平行する反射光と、円筒状反射ミラーで反射される斜反射光とによって、50φ程度の中面積の円板状材料を高速で昇温し、加熱処理できる。
【0006】
また、本発明は、上記複合型反射ミラーの下部に円板状均熱機構を設置し、赤外線ランプより直進放射された赤外線と水平方向に放射し円錐状反射ミラーで反射した赤外線の放射強度を均一化して加熱物を照射し、加熱物全体を略均一に加熱するようにしてある。
本発明によれば、複合型反射ミラーの下部に円板状均熱機構を設置し、赤外線ランプより直進放射された赤外線と、赤外線ランプから水平方向に放射し円錐状反射ミラーで反射した赤外線の放射強度を均一化して、加熱物を照射し、加熱物全体を略均一に加熱するようにしてあるから、50φ程度の中面積の円板状材料を高速度でしかも略均一な温度分布で昇温し、加熱処理できる。
【0007】
さらに、本発明は、上記円板状均熱機構が、周囲が薄い透明支持板であり、この透明支持板に支持された透明支持板より厚みのある中央部均熱円板からなっているものである。
本発明によれば、円板状均熱機構を、周囲が薄い透明支持板であり、この透明支持板に支持された、この透明支持板より厚みのある中央部均熱円板により構成してあるから、中央部均熱円板を透過する赤外線の照射強度を弱めて周囲の薄い透明支持板を透過する赤外線の照射強度と略均一化し、加熱物全体の加熱を略均一化し、50φ程度の中面積の円板状材料を高速度で略均一な温度分布で昇温し、加熱処理できる。
【0008】
また、本発明では、上記複合型反射ミラーの下方に、上部に透明円板を設けた真空チャンバーを配置し、この真空チャンバー中に加熱物を入れ、上記赤外線ランプから放射した赤外線が上記透明円板を透過し加熱物を照射して加熱物全体を略均一な温度分布に加熱するようにしてある。
本発明では、真空チャンバー中に加熱物を入れ、この真空チャンバー内で加熱物を照射して加熱物全体を略均一な温度分布に加熱するから、加熱効率を高め、高速でクリーンな雰囲気中で加熱物全体を加熱できる。
【0009】
さらに、本発明では、上記真空チャンバー内に、上記透明円板に固着して透明円柱を設けてあるものである。
本発明では、真空チャンバー内に、上記透明円板に固着して透明円柱を設けてあるから、赤外線ランプから放射される斜照射光あるいは円筒状反射ミラーで反射される斜反射光を透明円柱の外壁内面で全反射し、赤外線ランプからの赤外線を加熱物の外側に放射せず、直進光と共に加熱物を照射し、加熱物全体の加熱を均一化し、加熱効率を高めて、高速で均一な温度分布で昇温し、クリーンな雰囲気中で加熱処理できる。
【0010】
また、本発明では、上記請求項1〜5の何れかに記載の面加熱型赤外線放射加熱装置を上記真空チャンバーの上部及び下部の両方に取り付け、加熱物の上面及び下面の両面から赤外線を照射し加熱物全体を均一な温度分布に昇温加熱するようにしてある。
本発明では、加熱物の上面、下面の両方から赤外線を照射し加熱物全体を均一な温度分布に昇温加熱するから、きわめて高速にかつ高効率に加熱処理できる。
【0011】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態を図面に示した実施例に基づいて説明する。図中符号1が複合型反射ミラーで、これは上部に位置する中空の円錐状反射ミラー2とこの円錐状反射ミラー2に連設する中空の円筒状反射ミラー3とを組み合わせて構成してある。そして円錐状反射ミラー2の中心部に赤外線ランプ4を設けてある。
この複合型反射ミラー1は、後述する円筒状真空チャンバー5の上部蓋6上に固定してある。この円筒状真空チャンバー5の上部蓋6には透孔窓7を設け、この透孔窓7位置に透明円板8をOリング31により真空シールし押えリング13により固設してある。この透明円板8がOリング31により真空シールし押えリング13により固設された透孔窓7の直径は上記複合型反射ミラー1の円筒状反射ミラー3の内径と等しくしてあり、赤外線ランプ4からの赤外線が透孔窓7の透明円板を透過して後述する加熱物を照射するようにしてある。
【0012】
赤外線ランプ4から放射される赤外線は、赤外線ランプ4から直接照射される直進光と、赤外線ランプ4から直接照射される斜照射光と、円錐状反射ミラー2で反射される反射光と、円筒状反射ミラー3で反射される斜反射光とを含む。円錐状反射ミラー2で反射される反射光は大部分が赤外線ランプ4から直接照射される直進光と平行する直進光となり、中面積の円板状材料からなる加熱物を照射する。
上記の通り複合型反射ミラー1は、真空チャンバー5の上部蓋6に固定してあるが、複合型反射ミラー1と真空チャンバー5の上部蓋6との間に円板状均熱機構9を設けてある。この円板状均熱機構9は、周囲が薄い透明支持板10であり、この透明支持板10に支持された透明支持板10より厚みのある中央部均熱円板11からなっており、この円板状均熱機構は、その薄い透明支持板10の周囲を複合型反射ミラー1の円筒状反射ミラー2の下部と真空チャンバー5の上部蓋6との間に挟持して支持してある。
【0013】
上記の通り、円筒状反射ミラー2の下部と真空チャンバー5の上部蓋6との間に円板状均熱機構9の薄い透明支持板10の周囲を挟持するために、上記上部蓋6に透明円板8を押えて固定する押えリング13を設けてあり、この押えリング13上に薄い透明支持板10の周囲を挟持してある。
また、真空チャンバー5の上部蓋6は、真空チャンバー5に着脱自在としてあり、複合型反射ミラー1を上部蓋6上に固定したまま、この上部蓋6を真空チャンバー5から離脱して真空チャンバー5の上部を開放し、この開放部から後述する加熱物16を出し入れできるようにしてある。
【0014】
上記真空チャンバー5の上部蓋6にOリング31により真空シールし押えリング13により固設した透明円板8には、真空チャンバー5内に位置付けられる透明円柱12を固着してある。
真空チャンバー5の下方には、上方の複合型反射ミラー1と赤外線ランプ4及び円板状均熱機構9と対称的に下方の複合型反射ミラー1と赤外線ランプ4及び円板状均熱機構9を設けてある。そのために、真空チャンバー5の底板15には上記蓋6と全く同様に透孔窓7を設け、透明円板8を押えリング13で固定してあり、透明円板8には真空チャンバー5内に位置付けられる透明円柱12を固着してある。
また、真空チャンバー5内には加熱物16を載置する加熱物載置台14を設けてある。この加熱物載置台14は中央に透孔17を設け、この透孔17の縁に加熱物16を載置するようにしてある。
さらに、複合型反射ミラー1中には複合型反射ミラー1を冷却するための冷却水を流すようにしてあり、冷却水入口18から冷却水を送り込み、冷却水出口19から冷却水が出てゆくようにしてある。
【0015】
図3に本発明面加熱型赤外線放射加熱装置の外観図を示してある。図に示すように本発明面加熱型赤外線放射加熱装置は支持架台20に支持されている。具体的には支持架台20の上部水平台21の中央に真空チャンバー5を支持し、下方の複合型反射ミラー1を下向きに支持させてある。
上記上部水平台21上に少なくとも2本の螺子軸22,22を起立させ、夫々の螺子軸22,22を回転自在にしてある。夫々の螺子軸22,22に螺子23,23を形成してあり、何れかの螺子軸22の下端にベベルギヤー24を固着し、上部水平台21上に軸支台25を設け、この軸支台25に回転自在に軸支した水平軸26にベベルギヤー24を設け、これらベベルギヤー24,24を噛合せて水平軸26に設けた操作ハンドル27を回転することにより螺子軸22を回転するようにしてある。2本の螺子軸22,22は、同期作動するようにその上端でエンドレスチェーン28により連繋してある。
【0016】
上記夫々の螺子軸22の螺子23,23には、雌螺子29,29を螺合してあり、真空チャンバー5の上部蓋6に固設した連結支持板30に上記雌螺子29を連結してある。この構成により、螺子軸22,22を回転して雌螺子29,29を上下動し、真空チャンバー5の上部蓋6と上方の複合型反射ミラー1を上下動し、真空チャンバー5の上部蓋6を開閉するようにしてある。
【0017】
上記の通りの構成からなる本発明面加熱型赤外線放射加熱装置で加熱物16を加熱する場合には、上記した通り真空チャンバー5の上部蓋6を開放し、加熱物載置台14に加熱物16を載置する。その後上部蓋6を下降して閉じ、真空チャンバー5内の空気を真空ポンプにより排気し、真空チャンバー5内を真空とする。しかる後赤外線ランプ4を点灯して赤外線を放射する。この赤外線ランプ4から放射される赤外線は、赤外線ランプ4から加熱物16に直進する直進光と、赤外線ランプ4から加熱物16に直接照射される斜照射光と、円錐状反射ミラー2で反射されて加熱物16に照射される直進光と斜照射光と、さらに円筒状反射ミラー3で反射される斜反射光とを含む。
【0018】
上記の通りからなる赤外線照射光の放射強度分布は、中心部が強く、外周部は弱くなり、図2のaのようになる。そこで本発明装置では、複合型反射ミラー1と真空チャンバー5の上部蓋6に設けた透明円板8との間に設けた円板状均熱機構9により、中心部の赤外線を吸収し、全体の赤外線強度分布は図2のbのような近似台形状になる。さらに本発明装置では、真空チャンバー5内の透明円柱12によって、この透明円柱12の外壁内面で全反射する照射光によって、加熱物16の周囲を加熱し、加熱物への赤外線強度分布は図2のcのような台形状となり、中面積の円板状加熱物をその全面に亘って等しく加熱することができる。
【0019】
【発明の効果】
本発明面加熱型赤外線放射加熱装置は、複合型反射ミラー及び赤外線ランプから構成され、複合型反射ミラーは中空の円錐状反射ミラーと円筒状反射ミラーとを組み合わせてなっており、赤外線ランプから放射される赤外線が、直進光と、円錐状反射ミラーで反射される反射光と、円筒状反射ミラーで反射される斜反射光とを含み、加熱物を照射加熱するようにしてあるから、赤外線ランプから放射される赤外線を直進光と、円錐状反射ミラーで反射される上記直進光と平行する反射光と、円筒状反射ミラーで反射される斜反射光とによって、50φ程度の中面積の円板状材料を高速で昇温し、加熱処理できる。
【0020】
また、本発明は、上記複合型反射ミラーの下部に円板状均熱機構を設置し、複合型反射ミラーと赤外線ランプより直進放射された赤外線と水平方向に放射し円錐状反射ミラーで反射した赤外線の放射強度を均一化して加熱物を照射し、加熱物全体を略均一に加熱するようにしてあるから、50φ程度の中面積の円板状材料を高速度でしかも略均一な温度分布で昇温し、加熱処理できる。
【0021】
さらに、本発明は、上記円板状均熱機構が、周囲が薄い透明支持板であり、この透明支持板に支持された透明支持板より厚みのある中央部透明円板からなっているものであるから、中央部透明円板を透過する赤外線の照射強度を弱めて周囲の薄い透明支持板を透過する赤外線の照射強度と略均一化し、加熱物全体の加熱を略均一化し、50φ程度の中面積の円板状材料を高速度で略均一な温度分布で昇温し、加熱処理できる。
【0022】
また、本発明では、上記複合型反射ミラーの下方に、上部に透明円板を設けた真空チャンバーを配置し、この真空チャンバー中に加熱物を入れ、上記赤外線ランプから放射した赤外線が上記透明円板を透過し加熱物を照射して加熱物全体を略均一な温度分布に加熱するようにしてあるから、加熱効率を高め、高速でクリーンな雰囲気中で加熱物全体を加熱できる。
【0023】
さらに、本発明では、上記真空チャンバー内に、上記透明円板に固着して透明円柱を設けてあるものであるから、赤外線ランプから直接照射される斜照射光あるいは円筒状反射ミラーで反射される斜反射光を透明円柱の外壁内面で全反射し、赤外線ランプからの赤外線を加熱物の外側に放射せず、直進光と共に加熱物を照射し、加熱物全体の加熱を均一化し、加熱効率を高めて、高速で均一な温度分布で昇温し、クリーンな雰囲気中で加熱処理できる。
【0024】
また、本発明では、上記請求項1〜5の何れかに記載の面加熱型赤外線放射加熱装置を上記真空チャンバーの上部及び下部の両方に取り付け、加熱物の上面及び下面の両面から赤外線を照射し加熱物全体を均一な温度分布に昇温加熱するようにしてあるから、きわめて高速にかつ高効率にしかもクリーンな雰囲気中で加熱処理できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明面加熱型赤外線放射加熱装置の実施例を示す断面正面図。
【図2】本発明加熱装置の赤外線照射の強度分布を示す図。
【図3】本発明面加熱型赤外線放射加熱装置の外観図。
【符号の説明】
1 複合型反射ミラー
2 円錐状反射ミラー
3 円筒状反射ミラー
4 赤外線ランプ
5 真空チャンバー
6 上部蓋
7 透孔窓
8 透明円板
9 円板状均熱機構
10 透明支持板
11 均熱円板
12 透明円柱
13 押えリング
14 加熱物載置台
15 底板
16 加熱物
17 透孔
18 冷却水入口
19 冷却水出口
20 支持架台
21 上部水平台
22 螺子軸
23 螺子
24 ベベルギヤー
25 軸支台
26 水平軸
27 操作ハンドル
28 エンドレスチェーン
29 雌螺子
30 連結支持板
31 Oリング[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a surface heating type infrared radiation heating apparatus that heat-treats a medium-area disc-shaped material at a high speed with a uniform temperature distribution.
[0002]
[Prior art]
A conventional surface heating type infrared radiation heating apparatus is composed of a composite type reflection mirror and an infrared lamp, and the composite type reflection mirror is a combination of a hollow parabolic reflection mirror and a cylindrical reflection mirror, An infrared lamp is installed at the focal point of the parabolic reflection mirror, the infrared ray is irradiated from the infrared lamp to the heated object, and the infrared ray irradiated from the infrared lamp is reflected by the straight light and the parabolic reflection mirror. It is possible to heat the heated object including the reflected light that is reflected and the oblique reflected light that is reflected by the cylindrical reflecting mirror (see, for example, Patent Document 1).
[0003]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 10-82589
[Problems to be solved by the invention]
In developing high-quality semiconductor materials such as silicon and silicon carbide, it is extremely important to heat-treat the semiconductor material at a high temperature and a uniform temperature distribution in a clean atmosphere. Even with the above known conventional apparatus, the semiconductor material can be heat-treated at a high temperature and with a uniform temperature distribution, but there is a problem that only the disk-like material having a small area of about 10φ can be heat-treated.
In view of this problem, the present invention provides a novel surface heating infrared radiation heating apparatus capable of heat-treating a disk-shaped material having a medium area of about 50φ at a high temperature and a uniform temperature distribution.
[0005]
[Means for solving the problems]
Therefore, the surface heating type infrared radiation heating device of the present invention is composed of a composite type reflection mirror and an infrared lamp, and the composite type reflection mirror is a combination of a hollow conical reflection mirror and a cylindrical reflection mirror. The infrared rays radiated from the lamp include straight light, reflected light reflected by the conical reflecting mirror, and oblique reflected light reflected by the cylindrical reflecting mirror, and irradiates and heats the heated object.
According to the present invention, a combination of the composite reflection mirror and the hollow conical reflection mirror and the cylindrical reflection mirror, the infrared light radiated from the infrared lamp goes straight and the straight light reflected by the conical reflection mirror. The disk-shaped material having a medium area of about 50φ can be heated at a high speed and heated by the reflected light parallel to the light and the oblique reflected light reflected by the cylindrical reflecting mirror.
[0006]
In addition, the present invention provides a disc-shaped heat equalizing mechanism at the bottom of the composite reflection mirror, and the infrared radiation intensity radiated in the horizontal direction and reflected from the cone-shaped reflection mirror is radiated straight from the infrared lamp. It is made uniform to irradiate the heated object, and the entire heated object is heated substantially uniformly.
According to the present invention, a disc-shaped heat equalizing mechanism is installed at the lower part of the composite reflection mirror, and the infrared rays radiated straight from the infrared lamp and the infrared rays radiated from the infrared lamp in the horizontal direction and reflected by the conical reflection mirror are reflected. Since the radiation intensity is made uniform, the heated object is irradiated, and the entire heated object is heated substantially uniformly, a medium-area disk-like material of about 50φ is raised at a high speed and with a substantially uniform temperature distribution. Can be heated and heat treated.
[0007]
Further, in the present invention, the disk-shaped heat equalization mechanism is a transparent support plate having a thin periphery, and is composed of a central heat equalizing disk thicker than the transparent support plate supported by the transparent support plate. It is.
According to the present invention, the disc-shaped soaking mechanism is a transparent support plate having a thin periphery, and is supported by the transparent support plate, and is configured by a central soaking disc thicker than the transparent support plate. Therefore, the irradiation intensity of infrared rays transmitted through the central soaking disk is weakened to make the irradiation intensity of infrared rays transmitted through the surrounding thin transparent support plate substantially uniform, the heating of the whole heated object is made substantially uniform, and about 50φ A medium-area disk-shaped material can be heated at a high speed with a substantially uniform temperature distribution and heat-treated.
[0008]
Further, in the present invention, a vacuum chamber having a transparent disk provided thereon is disposed below the composite reflection mirror, and a heated object is placed in the vacuum chamber so that infrared rays radiated from the infrared lamp are emitted from the transparent circle. The whole heated product is heated to a substantially uniform temperature distribution through the plate and irradiated with the heated product.
In the present invention, a heated object is placed in a vacuum chamber, and the heated object is irradiated in the vacuum chamber to heat the entire heated object to a substantially uniform temperature distribution. The entire heated object can be heated.
[0009]
Furthermore, in the present invention, a transparent cylinder is provided in the vacuum chamber so as to be fixed to the transparent disk.
In the present invention, since the transparent cylinder is provided in the vacuum chamber so as to be fixed to the transparent disk, the oblique irradiation light radiated from the infrared lamp or the oblique reflection light reflected by the cylindrical reflecting mirror is transmitted to the transparent cylinder. Totally reflects on the inner surface of the outer wall, does not radiate infrared rays from the infrared lamp to the outside of the heated object, irradiates the heated object with straight light, uniformizes the heating of the entire heated object, improves the heating efficiency, and is uniform at high speed The temperature is raised with a temperature distribution, and heat treatment can be performed in a clean atmosphere.
[0010]
In the present invention, the surface heating type infrared radiation heating device according to any one of
In the present invention, infrared rays are irradiated from both the upper surface and the lower surface of the heated object, and the entire heated object is heated to a uniform temperature distribution, so that heat treatment can be performed very quickly and with high efficiency.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described based on examples shown in the drawings. In the figure,
The
[0012]
The infrared rays radiated from the infrared lamp 4 are a straight light directly irradiated from the infrared lamp 4, an oblique irradiation light directly irradiated from the infrared lamp 4, a reflected light reflected by the
As described above, the
[0013]
As described above, the upper lid 6 is transparent to sandwich the periphery of the thin
The upper lid 6 of the
[0014]
A
Below the
A heated object mounting table 14 on which the heated object 16 is mounted is provided in the
Further, cooling water for cooling the
[0015]
FIG. 3 is an external view of the surface heating type infrared radiation heating apparatus of the present invention. As shown in the figure, the surface heating type infrared radiation heating apparatus of the present invention is supported by a
At least two
[0016]
[0017]
When the heated object 16 is heated by the surface heating type infrared radiation heating apparatus of the present invention configured as described above, the upper lid 6 of the
[0018]
The radiant intensity distribution of the infrared irradiation light as described above has a strong central portion and a weak outer peripheral portion, as shown in FIG. Therefore, in the apparatus of the present invention, the infrared ray at the center is absorbed by the disc-shaped
[0019]
【The invention's effect】
The surface heating type infrared radiation heating apparatus of the present invention is composed of a composite type reflection mirror and an infrared lamp, and the composite type reflection mirror is a combination of a hollow conical reflection mirror and a cylindrical reflection mirror. Infrared lamps that are used to irradiate and heat a heated object include straight light, reflected light reflected by a conical reflecting mirror, and oblique reflected light reflected by a cylindrical reflecting mirror. A circular plate having a medium area of about 50φ by linearly traveling infrared light, reflected light parallel to the straight light reflected by the conical reflecting mirror, and oblique reflected light reflected by the cylindrical reflecting mirror. The material can be heated at high speed and heat-treated.
[0020]
Further, in the present invention, a disc-shaped heat equalizing mechanism is installed at the lower portion of the composite type reflection mirror, and the infrared rays radiated straight from the composite type reflection mirror and the infrared lamp are emitted in the horizontal direction and reflected by the conical reflection mirror. Irradiation intensity of infrared rays is made uniform to irradiate a heated object, and the entire heated object is heated substantially uniformly. Therefore, a disk-shaped material having a medium area of about 50φ has a high speed and a substantially uniform temperature distribution. The temperature can be raised and heat treatment can be performed.
[0021]
Further, in the present invention, the disk-shaped heat equalization mechanism is a transparent support plate having a thin periphery, and is formed of a central transparent disc having a thickness greater than that of the transparent support plate supported by the transparent support plate. Therefore, the intensity of infrared light transmitted through the central transparent disk is weakened to make it substantially uniform with the intensity of infrared light transmitted through the surrounding thin transparent support plate, and the heating of the whole heated object is made substantially uniform. A disk-shaped material having an area can be heated at a high speed with a substantially uniform temperature distribution and heat-treated.
[0022]
Further, in the present invention, a vacuum chamber having a transparent disk provided thereon is disposed below the composite reflection mirror, and a heated object is placed in the vacuum chamber so that infrared rays radiated from the infrared lamp are emitted from the transparent circle. Since the entire heated product is heated to a substantially uniform temperature distribution through the plate and irradiated with the heated product, the heating efficiency can be improved and the entire heated product can be heated in a clean atmosphere at high speed.
[0023]
Further, in the present invention, since the transparent chamber is provided with a transparent cylinder fixed to the transparent disk, the oblique irradiation light directly irradiated from the infrared lamp or the cylindrical reflection mirror is reflected in the vacuum chamber. The oblique reflected light is totally reflected on the inner surface of the outer wall of the transparent cylinder, and the infrared rays from the infrared lamp are not radiated to the outside of the heated object. The temperature can be increased with a uniform temperature distribution at high speed, and heat treatment can be performed in a clean atmosphere.
[0024]
In the present invention, the surface heating type infrared radiation heating device according to any one of
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional front view showing an embodiment of a surface heating type infrared radiation heating apparatus of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing an intensity distribution of infrared irradiation of the heating device of the present invention.
FIG. 3 is an external view of a surface heating type infrared radiation heating apparatus of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
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