JP3929302B2 - 大型回路基板 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の個別回路基板に対応する導体パターン領域を、一括して配列した大型回路基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体パッケージ等の回路基板は、大型回路基板に複数の個別回路基板に対応する導体パターン領域を一括して配列形成し、最終的に個別回路基板の境界線に沿って切断して得られている。
個別の回路基板に切断分離する前に、導体パターンの外部接続用端子(パッド)等の所要部位にニッケルめっきおよび金めっき等の電気めっき被膜を形成することが多い。
【0003】
図7は従来の大型回路基板に、複数の個別回路基板に対応する導体パターン領域を、一括して配列形成した構造例を示す要部平面図であり、分離する前の4つの回路基板の一部分を示している。図7において、50は個別回路基板であり、該回路基板上に配設された導体パターン56は必要に応じてパッド電極51、スルーホール52に接続され、該スルーホール52は裏側の導体パターン(図示せず)と導通している。また、個別回路基板50の境界線沿って形成したメッキ用共通電極線53は、メッキ処理を必要とする導体パターンに接続しており、このメッキ用共通電極線53を用いて該導体パターンに電気メッキを行なうようにしている。電気メッキ終了後は、前記導体パターン56と前記メッキ用共通電極線53の接続をカットライン54、55に沿って切断し、大型回路基板から個別回路基板50を分離することにより、単個の回路基板を得ていた。
【0004】
しかしながら、上記の方法では、1本のメッキ用共通電極線53を切断分離するために、2回の切断工程が必要となるうえ、メッキ用共通電極線53が形成された部分は最後には除去するので、材料に無駄な部分が生じるという問題もあった。
【0005】
そこでこの問題を解決した回路基板構造が特開平11−340609号公報に記載されている。同公報の図1によれば、単位配線板32が複数個作り込まれ、配線パターン34の端子部等の所要露出部に電気めっきを施すため、配線パターン34を繋ぐめっき用リード36が形成されたプリント配線板30において、めっき用リード36は、隣接する単位配線板32間に、隣接する両単位配線板32の対応する所要配線パターン34間をつなげると共に、両単位配線板32を分離する切断線33に対して交叉するよう曲折して設けられている。
【0006】
上記構造によれば、切断線33に沿って1回切断すればすべての配線パターン34を分離できるので、従来の構造より切断工数が半分になり、また材料に無駄も生じないという効果が有る、しかしながら、次のような問題がある。同公報図1の1つの単位配線板32内において、配線パターン34同士の配線間隔が狭いと、切断線33で切断した後の単位配線板32に残存する、隣接する前記めっき用リード36の間隔が、前記切断線33の近傍でより小となり、両者がショートし易くなる。従ってこのような構造では、配線パターン34同士の配線間隔を広げる必要があり、配線密度を高くできないという課題があった。
【0007】
そこでさらにこの問題を解決した回路基板構造がWO01/78139号公報に記載されている。同公報の第4図には、2つの回路基板20Aが隣接して形成された大型回路基板の要部平面図が記載されている。2つの回路基板20Aには、それぞれ、導体パターンとしてのスルーホール11が形成されている。回路基板20Aの表面側では、回路基板20Aを個別に分割するためのカットラインXを跨いで対向するスルーホール11同士が1対1でメッキ用共通電極線22Aで接続されており、さらに回路基板20Aの裏面側では、対角関係にあるスルーホール11同士を、カットラインXを斜めに跨ぐようにメッキ用共通電極線22Bで接続している。つまりメッキ用共通電極線22A、22Bは平面的にカットラインXを蛇行しているが、回路基板20Aの表と裏に別々に形成しているので、両者が接触してショートするという問題は解消され、スルーホール11の間隔(配線パターン間の間隔と同じ)を狭くして配線密度を高めることができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記WO01/78139号公報に記載された回路基板構造でも次のような問題点があった。一般にスルーホール内への金属膜形成は、回路基板素地に対する無電解メッキを用いている。無電解メッキによる金属膜厚は、その処理時間によって異なるものの、非常に薄い膜なので、回路基板表面に予め銅箔を張り合せて形成した配線パターンよりはその抵抗値が高い。そのため、上記WO01/78139号公報に記載されたメッキ用共通電極線22A、22Bによって電気メッキを行なうと、電気メッキ用の電極端子に近い側の膜厚に対し、複数のスルーホール11を介して電気メッキされた部分の膜厚が非常に薄くなり、メッキ膜の厚みに大きなバラツキが生じていた。メッキ膜の厚みが違うと、配線抵抗が異なるので、電気回路としても大きな問題となっていた。
本発明は上記のような問題を解決し、大型回路基板から個別の回路基板を切断するときの工数が少なく、且つ電気メッキしたメッキ膜の厚みバラツキが少ない大型回路基板及び回路基板を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明における大型回路基板は、複数の個別回路基板に対応する導体パターン領域を配列するとともに、該導体パターンに接続したメッキ用共通電極線を配設し、該導体パターンにメッキを施した後に切断して前記個別回路基板を得るための大型回路基板に於いて、該大型回路基板の面方向に離間した位置に第1及び第2の前記メッキ用共通電極線を設け、該第1のメッキ用共通電極線に対し該第2のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部を、該第1のメッキ用共通電極線を経由することなく該第2のメッキ用共通電極線に接続し、該第2のメッキ用共通電極線に対し該第1のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部を、該第2のメッキ用共通電極線を経由することなく該第1のメッキ用共通電極線に接続すると共に、前記第1及び第2のメッキ用共通電極線は互いに異なる基板面に設けたことを特徴とする。
【0012】
請求項2に記載の大型回路基板は、請求項1に於いて、前記第1及び第2の前記メッキ用共通電極線の間に、該第1又は第2の前記メッキ用共通電極線に接続される導体パターンを有することを特徴とする。
【0013】
請求項3に記載の大型回路基板は、請求項1または請求項2に於いて、前記第1のメッキ用共通電極線に対し前記第2のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部が該第1のメッキ用共通電極線に接続され、又は前記第2のメッキ用共通電極線に対し前記第1のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部が該第2のメッキ用共通電極線に接続されることを特徴とする。
【0014】
請求項4に記載の大型回路基板は、請求項1から請求項3において、前記第1のメッキ用共通電極線と前記第2のメッキ用共通電極線との間に切断線が設けられていることを特徴としている。
【0016】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の一実施例を示す大型回路基板の表面側平面図、図2は大型回路基板の裏面側平面図、図3は個別回路基板の境界線部分裏面側を示す要部平面図であり、表面側のメッキ用共通電極線を破線で示している。図4は図3の一部を示す要部拡大平面図である。
図1、図2において、1は4つの個別回路基板2〜5に対応する導体パターン領域を配列した大型回路基板であり、個別回路基板2〜5はボールグリッドアレイ(以下BGAと略記する)の回路基板である。大型回路基板1の四辺に付した記号A、B、C、Dは、大型回路基板1及び個別回路基板2〜5の方向や部位の説明に使用するために付した、四辺を示す記号であり、図2、図3にも同様に付している。
【0017】
図1に示す如く、個別回路基板2〜5の中央部にはICチップ搭載エリア6が配設され、ICチップ搭載エリア6の周囲を取巻くように、リードパターン7が配設されている。8はリードパターン7と接続したスルーホールであり、図2に示した個別回路基板2〜5の裏面側に配設した配線パターン9と接続している。図2に於いて10は略格子状に配設した外部接続用のパッド電極であり、配線パターン9とそれぞれ接続されている。本実施例ではリードパターン7、スルーホール8、配線パターン9、パッド電極10が導体パターンを示している。
【0018】
図1に於いて11、12は電気メッキの時、各導体パターンへ電流を導くためのメッキ用共通電極線であり、一部は個別回路基板2〜5の完成領域内に配設されている。図1に示した表面側においてメッキ用共通電極線11は、個別回路基板2〜5のB辺に沿って配設され、各個別回路基板2〜5のB辺側に隣接する各個別回路基板のD辺側に配設したスルーホール8に接続している。
【0019】
また同様にメッキ用共通電極線12は、個別回路基板2〜5のA辺に沿って配設され、各個別回路基板2〜5のA辺側に隣接する各個別回路基板のC辺側に配設したスルーホール8に接続している。つまりメッキ用共通電極線11、12は、個別回路基板2〜5の表面側のC辺とD辺に沿って配設したスルーホール8とリードパターン7へメッキ電流を供給するとともに、裏面側のC辺とD辺に沿って配設したスルーホール8と接続した配線パターン9、パッド電極10へメッキ電流を供給するための電極線である。
【0020】
同様に図2において、13、14は電気メッキの時、各導体パターンへ電流を導くためのメッキ用共通電極線であり、一部は個別回路基板2〜5の完成領域内に配設されている。図2に示した裏面側においてメッキ用共通電極線13は、個別回路基板2〜5のD辺に沿って配設され、各個別回路基板2〜5のD辺側に隣接する各個別回路基板のB辺側に配設したスルーホール8に接続している。
【0021】
また同様にメッキ用共通電極線14は、個別回路基板2〜5のC辺に沿って配設され、各個別回路基板2〜5のC辺側に隣接する各個別回路基板のA辺側に配設したスルーホール8に接続している。つまりメッキ用共通電極線13、14は、個別回路基板2〜5の裏面側のA辺とB辺に沿って配設したスルーホール8と配線パターン9及びパッド電極10へメッキ電流を供給するとともに、表面側のA辺とB辺に沿って配設したスルーホール8と接続したリードパターン7へメッキ電流を供給するための電極線である。
【0022】
次に図3、図4に基づいて、メッキ用共通電極線11〜14の配置関係を説明する。各図において、メッキ用共通電極線11、12は破線で示してあり、メッキ用共通電極線13、14と裏面側の導体パターンは実線で示してある。この時、メッキ用共通電極線13、14を第1のメッキ用共通電極線とし、メッキ用共通電極線11、12を第2のメッキ用共通電極線と定義する。
【0023】
第1のメッキ用共通電極線13と第2のメッキ用共通電極線11の関係について説明すると、大型回路基板1の面方向に離間した位置に第1のメッキ用共通電極線13及び第2のメッキ用共通電極線11を設け、該第1メッキ用共通電極線13の、該第2のメッキ用共通電極線11と反対側にある前記導体パターン8bの少なくとも一部を、該第1のメッキ用共通電極線13を経由することなく該第2のメッキ用共通電極線11に接続し、該第2のメッキ用共通電極線11の、前記第1のメッキ用共通電極線13と反対側にある前記導体パターン8aの少なくとも一部を、該第2のメッキ用共通電極線11を経由することなく該第1のメッキ用共通電極線13に接続している。
【0024】
第1のメッキ用共通電極線14と第2のメッキ用共通電極線12の関係についても同様であり、上記の説明に於いて符号11を12に、符号13を14に、符号8aを8cに、符号8bを8dにそれぞれ読み替えれば良い。
【0025】
図3ではメッキ用共通電極線11〜14と各スルーホール8との接続がわかるように破線の配線と実線の配線をずらして記載したが、実際には図4の如く表面側と裏面側の配線を重ねることができるので、図4における縦方向の配線間隔を狭くした高密度配線が可能である。
【0026】
上記の如きメッキ用共通電極線11〜14を備えた大型回路基板1に電気メッキを施した後は、図に示した如くメッキ用共通電極線11と13の間、及びメッキ用共通電極線12と14の間をそれぞれ1回切断する(各図中では仮想切断線と記載した)だけで、導体パターンとメッキ用共通電極線11〜14との不要な接続は切断され、各導体パターンが所定の接続関係を保った状態で個別回路基板2〜5を得ることができる。
【0027】
上記実施例によれば、メッキ用共通電極線11〜14から各導体パターンまでの経路には高々1個のスルーホールしか挿入されないため、配線抵抗のバラツキを小さくでき、メッキ電流の差が小さくできるためメッキ厚にも差がなく、且つ個別回路基板2〜5を切断分離するときは、1回の切断で良いので、工数を削減することができる。
【0028】
図3に於いて、前記第1メッキ用共通電極線14の、前記第2のメッキ用共通電極線12と反対側にある複数の前記導体パターン8eは該第1メッキ用共通電極線14に接続されている。従って個別回路基板2〜5に切断した状態で該メッキ用共通電極線14には該個別回路基板2〜5上の複数の導体パターンが接続された状態で残存することになるが、このような構成は例えば電源配線等、2以上の導体パターンを結ぶ配線として利用する事が出来る。
【0029】
すなわち、第1のメッキ用共通電極線14に対し第2のメッキ用共通電極線12と反対側にある導体パターン8eの少なくとも一部を第2のメッキ用共通電極線12を経由することなく第1のメッキ用共通電極線14に接続し、又は第2のメッキ用共通電極線12に対し第1のメッキ用共通電極線14と反対側にある導体パターン8cの少なくとも一部を第1のメッキ用共通電極線14を経由することなく第2のメッキ用共通電極線12に接続する事が出来る。
【0030】
上記の実施例ではメッキ用共通電極線11〜14を導体パターンの一部として利用しているが、勿論本発明はそれに限定されるものではなく、有効な導体パターンとは非導通状態のまま孤立した状態でメッキ用共通電極線11〜14を個別回路基板2〜5に残存させても良い。
【0031】
この場合、無意味なメッキ用共通電極線11〜14が個別回路基板2〜5に残存することになるが、基板スペースとしては、例えば大型部品の搭載スペースや基板保持スペースとして有効利用する事が可能であり、結果的に大型回路基板1から取り得る個別回路基板2〜5の取り個数を増やす事が出来る。無論前記した配線密度の向上、切断工数の減少、均一なメッキ厚等の効果は変わらない。
【0032】
次に本発明の他の実施例を図5に基づいて説明する。図5は個別回路基板2〜5の境界線部分裏面側を示す要部平面図であり、表面側のメッキ用共通電極線11、12を破線で示している。前述の実施例と異なる部分は、導体パターンを構成する一部のスルーホール8fが、メッキ用共通電極線12、14の間に配設したことである。
【0033】
本実施例はパッド電極10の一つ10aを、スルーホール8fを介して個別回路基板2〜5の表面側に配設した導体パターンに導通させることにより、この個別回路基板2〜5を使ったBGAをマザーボード(図示せず)へ実装したとき、個別回路基板2〜5の表面側に配設した導体パターンによってマザーボード側の導体パターンとの電気接続を確認できるようにしている。つまり本実施例は、第1及び第2のメッキ用共通電極線の間に、第1又は第2のメッキ用共通電極線に接続される導体パターンを有しても良いことを示している。
【0034】
なお、上記実施例では個別回路基板2〜5の同一辺に沿って形成したメッキ用共通電極線を、個別回路基板の裏と表、即ち互いに異なる回路基板面に形成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、両者を同一面側に配設しても良い。但しその場合はメッキ用共通電極線の両方を、メッキ用共通電極線を形成していない面側へスルーホールによって引回してから隣接した回路基板側へ導く必要がある。
【0035】
この構成は、前記のようにメッキ用共通電極線が占めるスペースを部品搭載スペースとして利用する場合に、該部品とメッキ用共通電極線との干渉をさける等の目的で好適に実施する事が出来る。前記した配線密度の向上効果は薄れるが、切断工数の減少、均一なメッキ厚等の効果は変わらない。
【0036】
図6は本発明の他の実施例であり、メッキを必要とする導体パターンが各個別回路基板2〜5の対向する辺の一方に偏って延設できる場合は、該導体パターンを該一方の辺に隣接する個別回路基板2〜5の領域に設けられたメッキ用共通電極線11、12に接続するだけで良く、従ってメッキ用共通電極線11、12は一辺あたり1本で良い事になる。
【0037】
また上記実施例では、回路基板の両面に導体パターンを形成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、片面にのみ導体パターンを形成した場合も同様の構造を実施できるものであり、効果も同様に発揮するものである。
【0038】
なお、全ての図に於いて、前記メッキ用共通電極線は直線であって、かつ該直線と直交する切断線で切断されるように描いたが、本発明に於いて前記メッキ用共通電極線は曲線であっても良く、また切断箇所を限定するものでもない。
【0039】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、複数の個別基板に対応する導体パターン領域を配列し、メッキ用共通電極線を介して導体パターンにメッキを施した後に切断して個別回路基板を得るための大型回路基板に於いて、メッキ用共通電極線から各導体パターンまでの配線抵抗のバラツキを小さくでき、電気メッキによるメッキ厚のバラツキが小さくできる上、個別回路基板に分離する切断工数を削減することができる。またメッキ用共通電極線に接続する導体パターンの間隔を小さくする事が出来るので、高密度の基板実装が実現できる。
【0040】
また、残存したメッキ用共通電極線を導体パターンの一部として利用したり、残存したメッキ用共通電極線のスペースを有効に利用出来るので、結果として、大型回路基板から取り得る個別回路基板の取り個数も増やすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す大型回路基板の表面側平面図である。
【図2】図1に示した大型回路基板の裏面側平面図である。
【図3】個別回路基板の境界線部分裏面側を示す要部平面図である。
【図4】図3の一部を示す要部拡大平面図である。
【図5】本発明の他の実施例であり、個別回路基板の境界線部分裏面側を示す要部平面図である。
【図6】本発明の他の実施例を示す大型回路基板の表面側平面図である。
【図7】従来の大型回路基板構造を示す要部平面図である。
【符号の説明】
1 大型回路基板
2、3、4 5 個別回路基板
7 リードパターン
8 スルーホール
9 配線パターン
10 パッド電極
11、12、13、14 メッキ用共通電極線
Claims (4)
- 複数の個別回路基板に対応する導体パターン領域を配列すると共に、該導体パターンに接続したメッキ用共通電極線を配設し、該導体パターンにメッキを施した後に切断して前記個別回路基板を得るための大型回路基板に於いて、該大型回路基板の面方向に離間した位置に第1及び第2の前記メッキ用共通電極線を設け、該第1のメッキ用共通電極線に対し該第2のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部を、該第1のメッキ用共通電極線を経由することなく該第2のメッキ用共通電極線に接続し、該第2のメッキ用共通電極線に対し該第1のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部を、該第2のメッキ用共通電極線を経由することなく該第1のメッキ用共通電極線に接続すると共に、前記第1及び第2のメッキ用共通電極線は互いに異なる基板面に設けたことを特徴とする大型回路基板。
- 前記第1及び第2の前記メッキ用共通電極線の間に、該第1又は第2の前記メッキ用共通電極線に接続される導体パターンを有することを特徴とする請求項1に記載の大型回路基板。
- 前記第1のメッキ用共通電極線に対し前記第2のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部が該第1のメッキ用共通電極線に接続され、又は前記第2のメッキ用共通電極線に対し前記第1のメッキ用共通電極線と反対側にある前記導体パターンの少なくとも一部が該第2のメッキ用共通電極線に接続されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の大型回路基板。
- 前記第1のメッキ用共通電極線と前記第2のメッキ用共通電極線との間に切断線が設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の大型回路基板。
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