JP3829710B2 - カラーフィルタ及びその製造方法、液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に複数の着色膜を形成して成るカラーフィルタ及びその製造方法に関する。また、本発明は、そのカラーフィルタを用いて構成される液晶装置及びその製造方法に関する。また、本発明は、その液晶装置を用いて構成される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機、腕時計、携帯型コンピュータ等といった電子機器に液晶装置が広く用いられている。例えば、文字、数字、図形等といった像を表示するための表示部として用いられている。また、現在の液晶装置では、フルカラーで像を表示することが多くなっており、その場合には、液晶装置の内部にカラーフィルタが設けられる。
【０００３】
カラーフィルタは、一般に、液晶装置を構成する基板の表面に、例えば加色混合の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の着色膜を所定の配列パターン、例えばストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等で並べることによって形成される。
【０００４】
ところで、液晶装置における表示形態として、従来から、太陽光、室内光等といった外部光を利用した反射型表示や、照明装置をバックライトとして用いる透過型表示等が知られている。また、反射型表示と透過型表示のいずれかを必要に応じて選択して実行できる構造の、いわゆる半透過反射型表示も知られている。この半透過反射型表示を行う液晶装置は、例えば、その内部に外部光を反射するための反射膜を設けると共に、この反射膜に開口を設けたり、あるいはこの反射膜を薄く形成したりすることにより、バックライト等から発生した光がその反射膜を透過できるように構成する。
【０００５】
これにより、反射型表示を行う場合には外部光を上記反射膜によって反射して液晶層へ供給し、一方、透過型表示を行う場合にはバックライト等からの光を上記反射膜を透過させて液晶層へ供給する。カラーフィルタを用いたカラー表示が行われる場合には、液晶層へ供給される前の光又は液晶層を通過した後の光がカラーフィルタを通過することにより、適宜の波長成分の光が選択され、これによりカラー表示が行われる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の液晶装置においては、反射型表示を行う場合には、液晶層へ供給される前又は供給された後の光がカラーフィルタを往復して通過、すなわち２回通過するのに対し、透過型表示を行う場合には、液晶層へ供給される前又は供給された後の光がカラーフィルタを１回だけ通過する。つまり、反射型表示の場合と透過型表示の場合とでカラーフィルタを通過する光の光路長が変化する。
【０００７】
このように、従来の液晶装置では、反射型表示の場合と透過型表示の場合とでカラーフィルタを通過する光の光路長が変化するので、外部から観察される色の見え方が反射型表示の場合と透過型表示の場合とで変化してしまい、これを見る者に不自然な感覚を与えていた。
【０００８】
今、色の見え方を色の３属性、すなわち色相（Ｈ：Hue）、明度（Ｖ：Value）、彩度（Ｃ：Chroma）の組み合わせによって認識する場合を考えれば、反射型表示の場合と透過型表示の場合との間で色の３属性の組み合わせに変化が生じ、これにより、外部から観察する色の見え方に変化が生じるものと考えられる。
【０００９】
具体的には、反射型表示の場合には、カラーフィルタを通過する光路長が長くなることにより明度が低下し、一方、透過型表示の場合には、カラーフィルタを通過する光路長が短いことにより彩度が低下することが考えられ、それらにより、色の見え方に相違が生じることが考えられる。
【００１０】
このカラーフィルタは、これを通過する光の波長分布を偏らせる性質を有しており、この性質を定量的に表す概念として光濃度がある。この光濃度は、光の波長分布を偏らせる着色膜の単位厚さ当りの能力と考えることができる。この光濃度が高ければ透過光の彩度は強くなり、光濃度が低ければ透過光の彩度は弱くなると考えられる。
【００１１】
一般に、カラーフィルタの着色膜は、顔料、染料、天然色素等から成る着色剤を適宜の溶媒に溶かして成る膜材料を用いて形成される。そして、上記の光濃度は膜材料に含まれる着色剤の量を変えることによって変えることができる。従って、カラーフィルタを形成する着色剤の量を変化させれば、カラー表示を行った際の色の見え方を変化させることができる。このことを利用して、半透過反射型の液晶装置における色の見え方を、着色剤の含量によって調整することは可能ではあるが、反射型表示の場合と透過型表示の場合の両方を同時に希望通りの色の見え方に調整することは難しかった。
【００１２】
以上のような、半透過反射型の液晶装置におけるカラー表示の場合に見られる不都合は、反射時において着色膜を通過する光路長と透過時において着色膜を通過する光路長とが相違するにもかかわらず、着色膜の光濃度が反射時の場合と透過時の場合とで等しくなっているからであり、反射時の場合と透過時の場合とで着色膜の光濃度をそれぞれに適切な値に設定できれば、反射時と透過時とで均一な色の見え方を実現できると考えられる。そしてこの場合には、カラーフィルタにおける１つの表示単位内、例えば1つのドット内又は１つの画素内において反射時の光路に対応する領域と透過時の光路に対応する領域との間で光濃度を個別に設定する必要がある。
【００１３】
また、半透過反射型の液晶装置に用いられるカラーフィルタに限られず、一般的なカラーフィルタに関しても、１つのドット内又は１つの画素内において着色膜の光濃度を部分的に変化させたいと思う場合が生じるかもしれない。
【００１４】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、カラーフィルタを用いて実現される色表示において色の見え方を１つの表示単位ごとに調整できるようにすることを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
（１）上記目的を達成するため、本発明に係るカラーフィルタは、基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタにおいて、前記基板上に設けられるか又は前記基板とは別体に設けられていて前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部を備えた反射膜を有し、前記複数ドットの着色膜の少なくとも１つは互いに色特性の異なる第１膜と第２膜とを積層して成り、１ドットの着色膜内の前記開口部に対応する領域と前記反射膜に対応する領域との間で、前記第１膜と前記第２膜との膜厚割合が変化し、前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つ又はそれらの少なくとも２つの組み合わせであることを特徴とする。
【００１６】
上記構成のカラーフィルタを用いてカラー表示を行う場合には、複数ドットの着色膜の個々のドットを通過した光が観察者によって観察される。このときの色の見え方は、各ドット内における第１膜と第２膜との膜厚割合によって決められる。例えば、第１膜の膜厚が第２膜の膜厚に比べて大きければ、第１膜の色特性に大きく影響された色の見え方が得られ、反対に、第２膜の膜厚が第１膜の膜厚に比べて大きければ、第２膜の色特性に大きく影響された色の見え方が得られる。このように、上記構成のカラーフィルタによれば、カラーフィルタを用いて実現される色表示において色の見え方を１つの表示単位ごとに調整できる。
【００１７】
（２）上記構成のカラーフィルタにおいては、前記基板上に又は前記基板とは別体に反射膜を設けることができ、さらにその反射膜のうち前記複数ドットの着色膜の個々に対応する領域に開口部を形成することができる。そしてさらに、前記開口部に対応する領域と前記反射膜に対応する領域との間で、前記第１膜と前記第２膜との膜厚割合を異ならせることができる。
【００１８】
上記構成において、「基板上に反射膜を設ける」というのは、カラーフィルタを形成した基板と同じ基板に反射膜を設けるということである。一方、「基板とは別体に反射膜を設ける」というのは、例えば、カラーフィルタを形成した基板に対向する別の基板上に反射膜を設けるということである。
【００１９】
上記構成のカラーフィルタによれば、１ドットの着色膜内において反射膜によって反射する光経路と開口部を通過する光経路との間で、前記第１膜と前記第２膜との膜厚割合を異ならせることができる。反射膜で反射する光は着色膜を往復の２回通過し、開口部を通過する光は着色膜を１回通過する。着色膜を２回通過する反射光に関しては、一般に、明度が不足する傾向にあるが、反射光の光路上にある膜厚割合を光濃度を低くする側へ設定しておけば、明度の不足を補うことができる。他方、着色膜を１回通過する透過光に関しては、一般に、彩度が不足する傾向にあるが、透過光の光路上にある膜厚割合を光濃度を高くする側へ設定しておけば、彩度の不足を補うことができる。このようにして、反射光による色の見え方と透過光による色の見え方とを均一にすることができる。
【００２０】
（３）本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つであるか又はそれらの少なくとも２つの組み合わせとすることができる。つまり、本発明では、第１膜と第２膜とを上記の各色特性の１つ又は複数間で異ならせることができる。
【００２１】
なお、光濃度とは、光の波長分布を偏らせる着色膜の単位厚さ当りの能力のことであり、光濃度が高ければ透過光の彩度が強くなり、光濃度が低ければ透過光の彩度が弱くなる。
【００２２】
（４）本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記第１膜及び前記第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成でき、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とを互いに異ならせることができる。
【００２３】
（５）本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記開口部を備えた反射膜上に形成されてなる第１膜は中央部が前記開口部側に窪む３次元的な谷形状であり、前記第１膜上に形成されてなる前記第２膜はその底面が前記第１膜の窪み面に面接触しその外部表面が平面である３次元的な逆山形状とすることができる。
【００２４】
（６）本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記開口部を備えた反射膜上に形成されてなる第１膜は中央部が前記開口部側とは逆方向に突出する３次元的な山形状であり、前記第１膜上に形成されてなる前記第２膜はその底面が前記第１膜の突出面に面接触しその外部表面が平面である３次元的な逆谷形状とすることができる。
【００２５】
（７）本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記複数ドットの着色膜は、平面的に配列された複数の異なる色相の着色膜を含むように形成できる。
【００２６】
（８）上記のように、異なる色相の複数ドットの着色膜を平面的に配列させる場合には、例えば、加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相の複数ドットの着色膜や、減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相の複数ドットの着色膜等を、平面的に配列させることができる。
【００２７】
（９）本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記第１膜及び前記第２膜の少なくとも一方はインクジェット法によって基板上に付けることができる。ここで及びこれ以降の説明で、インクジェット法とは、微細なインク吐出口を好ましくは複数備えたインクジェットヘッドによって基板の表面を平面的に走査し、その走査中にインク吐出口からインク、すなわち着色膜材料を滴状に吐出することにより、基板上の希望する位置に着色膜をドット状に付着させて塗布する方法である。
【００２８】
このインクジェット法を実現する方法としては、圧電素子等を用いてインク室の容積を変化させることでインクを吐出する方法や、加熱等によるインクの膨張によってインクを吐出する方法等のように種々考えられるが、インクを滴状に吐出する機能を達成できるものであれば、任意の方法を採用できる。
【００２９】
（１０）本発明に係るカラーフィルタにおいて、インクジェット法によらない膜はフォトリソグラフィー法によって基板上に付けることができる。このフォトリソグラフィー法によれば、例えば、スピンコート等といった周知の成膜法によって一様な厚さの着色膜材料層を形成し、その着色膜材料層を所定のパターンで露光し、さらに現像することにより希望パターンの膜を形成する。
【００３０】
（１１）次に、本発明に係る他のカラーフィルタは、基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタにおいて、前記複数ドットの着色膜の少なくとも１つは互いに色特性の異なる第１膜と第２膜とを隣接させて成り、前記第１膜及び前記第２膜のいずれか一方は、他方に対して撥インク性を有する材料によって形成されることを特徴とする。
【００３１】
上記構成のカラーフィルタを用いてカラー表示を行う場合には、複数ドットの着色膜の個々のドットを通過した光が観察者によって観察される。このときの色の見え方は、各ドット内において光が第１膜を通過するか、あるいは第２膜を通過するかによって決められる。例えば、第１膜を通過した光を観察する場合には、第１膜の色特性に大きく影響された色の見え方が得られ、他方、第２膜を通過した光を観察する場合には、第２膜の色特性に大きく影響された色の見え方が得られる。このように、上記構成のカラーフィルタによれば、カラーフィルタを用いて実現される色表示において色の見え方を１つの表示単位ごとに調整できる。（１２）上記構成の本発明に係るカラーフィルタにおいては、前記基板上に又は前記基板とは別体に反射膜を設けることができ、さらにその反射膜のうち前記複数ドットの着色膜の個々に対応する領域に開口部を形成することができる。そしてさらに、前記第１膜又は前記第２膜の一方を前記開口部に対応して設け、前記第１膜又は前記第２膜の他方を前記反射膜に対応して設けることができる。
【００３２】
上記構成において、「基板上に反射膜を設ける」というのは、カラーフィルタを形成した基板と同じ基板に反射膜を設けるということである。一方、「基板とは別体に反射膜を設ける」というのは、例えば、カラーフィルタを形成した基板に対向する別の基板上に反射膜を設けるということである。
【００３３】
上記構成のカラーフィルタによれば、１ドットの着色膜内において反射膜によって反射する光経路と開口部を通過する光経路との間で、通過する膜を第１膜と第２膜との間で切り替えることができる。反射膜で反射する光は着色膜を往復の２回通過し、開口部を通過する光は着色膜を１回通過する。着色膜を２回通過する反射光に関しては、一般に、明度が不足する傾向にあるが、反射光の光路上にある膜として光濃度の低いものを設定しておけば、明度の不足を補うことができる。他方、着色膜を１回通過する透過光に関しては、一般に、彩度が不足する傾向にあるが、透過光の光路上にある膜として光濃度の高いものを設定しておけば、彩度の不足を補うことができる。このようにして、反射光による色の見え方と透過光による色の見え方とを均一にすることができる。
【００３４】
（１３）上記構成の本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つであるか又はそれらの少なくとも２つの組み合わせと考えることができる。つまり、本発明では、第１膜と第２膜とを上記の各色特性の１つ又は複数間で異ならせることができる。
【００３５】
（１４）上記構成の本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記第１膜及び第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成でき、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とを互いに異ならせることができる。
【００３６】
（１５）上記構成の本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記複数ドットの着色膜は、異なる色相を表示する複数ドットの着色膜を平面的に配列させることによって形成できる。
【００３７】
（１６）上記のように、異なる色相を表示する複数ドットの着色膜を平面的に配列させる場合には、例えば、加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相の複数ドットの着色膜や、減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相の複数ドットの着色膜等を、平面的に配列させることができる。
【００３８】
（１７）上記構成の本発明に係るカラーフィルタにおいて、前記第１膜又は前記第２膜のうち先に形成される膜はフォトリソグラフィー法によって基板上に付けることができ、後に形成される膜はインクジェット法によって基板上に付けることができる。
【００３９】
フォトリソグラフィー法によって先に形成された膜は、残りの膜をインクジェット法によって形成する際にバンク材として機能する。本発明では、先に形成される膜を後に形成される膜に対して撥インク性を有する膜によって形成できるので、先に形成した膜によって囲まれる領域へ後の膜をインクジェット法によって供給したとき、後の膜を基板上へ均一に塗布できる。
【００４０】
（１８）次に、本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタの製造方法において、前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部が位置するように前記基板上に又は前記基板とは別体に反射膜を形成する工程と、前記基板上の前記着色膜の形成領域に第１膜を形成する工程と、前記第１膜の上に該第１膜と色特性の異なる第２膜を積層する工程とを有し、前記第１膜と前記第２膜は、１ドットの着色膜内の前記開口部に対応する領域と前記反射膜に対応する領域との間で、膜厚割合が変化するように形成され、前記色特性はＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つ又はそれらの少なくとも２つの組み合わせであることを特徴とする。
【００４１】
（１９）上記構成の本発明に係るカラーフィルタの製造方法においては、前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部が位置するように前記基板上に又は前記基板とは別体に反射膜を形成する工程を設けることができ、さらに、前記開口部に対応する領域と前記反射膜に対応する領域との間で、前記第１膜と前記第２膜との膜厚割合が異なるように前記第１膜及び前記第２膜を形成することができる。
【００４２】
上記構成において、「基板上に反射膜を設ける」というのは、カラーフィルタを形成した基板と同じ基板に反射膜を設けるということである。一方、「基板とは別体に反射膜を設ける」というのは、例えば、カラーフィルタを形成した基板に対向する別の基板上に反射膜を設けるということである。
【００４３】
上記構成のカラーフィルタの製造方法によって製造されるカラーフィルタによれば、１ドットの着色膜内において反射膜によって反射する光経路と開口部を通過する光経路との間で、前記第１膜と前記第２膜との膜厚割合を異ならせることができる。反射膜で反射する光は着色膜を往復の２回通過し、開口部を通過する光は着色膜を１回通過する。着色膜を２回通過する反射光に関しては、一般に、明度が不足する傾向にあるが、反射光の光路上にある膜厚割合を光濃度を低くする側へ設定しておけば、明度の不足を補うことができる。他方、着色膜を１回通過する透過光に関しては、一般に、彩度が不足する傾向にあるが、透過光の光路上にある膜厚割合を光濃度を高くする側へ設定しておけば、彩度の不足を補うことができる。このようにして、反射光による色の見え方と透過光による色の見え方とを均一にすることができる。
【００４４】
（２０）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つであるか又は少なくとも２つの組み合わせとすることができる。つまり、本発明では、第１膜と第２膜とを上記の各色特性の１つ又は複数間で異ならせることができる。
【００４５】
（２１）上記構成のカラーフィルタの製造方法においては、前記第１膜及び第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成でき、そして、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とを互いに異ならせることができる。
【００４６】
（２２）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記第１膜はその中央部分が窪む３次元的な谷形状とすることができ、前記第２膜はその底面が前記第１膜の窪み面に面接触しその外部側表面が平面である３次元的な逆山形状とすることができる。
【００４７】
（２３）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記第１膜はその中央部分が突出する３次元的な山形状とすることができ、前記第２膜はその底面が前記第１膜の突出面に面接触しその外部側表面が平面である３次元的な逆谷形状とすることができる。
【００４８】
（２４）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記複数ドットの着色膜は、異なる色相の複数ドットの着色膜を平面的に配列させることによって形成できる。
【００４９】
（２５）上記のように、異なる色相の複数ドットの着色膜を平面的に配列させる場合には、例えば、加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相の複数ドットの着色膜や、減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相の複数ドットの着色膜等を、平面的に配列させることができる。
【００５０】
（２６）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記第１膜を形成する工程及び前記第２膜を形成する工程の少なくとも一方はインクジェット法によって行うことができる。
【００５１】
（２７）また、上記構成のカラーフィルタの製造方法において、インクジェット法を用いない工程はフォトリソグラフィー法によって行うことができる。このフォトリソグラフィー法によれば、例えば、スピンコート等といった周知の成膜法によって一様な厚さの着色膜材料層を形成し、その着色膜材料層を所定のパターンで露光し、さらに現像することにより希望パターンの膜を形成する。
【００５２】
（２８）次に、本発明に係る他のカラーフィルタの製造方法は、基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタの製造方法において、前記基板上における前記着色膜の形成領域内の一部に第１膜を形成する工程と、前記着色膜の形成領域内であって前記第１膜と隣接する部分に前記第１膜と色特性の異なる第２膜を形成する工程とを有し、前記第１膜は前記第２膜に対して撥インク性を有する材料によって形成されることを特徴とする。
【００５３】
この構成のカラーフィルタの製造方法によって製造されるカラーフィルタを用いてカラー表示を行う場合には、複数ドットの着色膜の個々のドットを通過した光が観察者によって観察される。このときの色の見え方は、各ドット内において光が第１膜を通過するか、あるいは第２膜を通過するかによって決められる。例えば、第１膜を通過した光を観察する場合には、第１膜の色特性に大きく影響された色の見え方が得られ、他方、第２膜を通過した光を観察する場合には、第２膜の色特性に大きく影響された色の見え方が得られる。このように、上記構成のカラーフィルタの製造方法によれば、カラーフィルタを用いて実現される色表示において色の見え方を１つの表示単位ごとに調整できるカラーフィルタを製造できる。
【００５４】
（２９）上記構成のカラーフィルタの製造方法においては、前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部が位置するように前記基板上に又は前記基板とは別体に反射膜を形成する工程を設けることができ、そして、前記第１膜又は前記第２膜の一方は前記開口部に対応して設けることができ、一方、前記第１膜又は前記第２膜の他方は前記反射膜に対応して設けることができる。
【００５５】
上記構成において、「基板上に反射膜を設ける」というのは、カラーフィルタを形成した基板と同じ基板に反射膜を設けるということである。一方、「基板とは別体に反射膜を設ける」というのは、例えば、カラーフィルタを形成した基板に対向する別の基板上に反射膜を設けるということである。
【００５６】
上記構成のカラーフィルタの製造方法によって製造されるカラーフィルタによれば、１ドットの着色膜内において反射膜によって反射する光経路と開口部を通過する光経路との間で、通過する膜を第１膜と第２膜との間で切り替えることができる。反射膜で反射する光は着色膜を往復の２回通過し、開口部を通過する光は着色膜を１回通過する。着色膜を２回通過する反射光に関しては、一般に、明度が不足する傾向にあるが、反射光の光路上にある膜として光濃度の低いものを設定しておけば、明度の不足を補うことができる。他方、着色膜を１回通過する透過光に関しては、一般に、彩度が不足する傾向にあるが、透過光の光路上にある膜として光濃度の高いものを設定しておけば、彩度の不足を補うことができる。このようにして、反射光による色の見え方と透過光による色の見え方とを均一にすることができる。
【００５７】
（３０）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つであるか又は少なくとも２つの組み合わせとすることができる。
【００５８】
（３１）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記第１膜及び第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成でき、この場合には、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とを互いに異ならせることができる。
【００５９】
（３２）上記構成のカラーフィルタの製造方法において、前記複数ドットの着色膜は、異なる色相を表示する複数ドットの着色膜を平面的に配列させることによって形成できる。
【００６０】
（３３）また、上記のように、異なる色相を表示する複数ドットの着色膜を平面的に配列させる場合には、例えば、加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相を表示する複数ドットの着色膜や、減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相を表示する複数ドットの着色膜等を、平面的に配列させることができる。
【００６１】
（３４）上記構成の本発明に係るカラーフィルタの製造方法において、前記第１膜を形成する工程はフォトリソグラフィー法によって行うことができ、前記第２膜を形成する工程はインクジェット法によって行うことができる。
【００６２】
フォトリソグラフィー法によって形成された第１膜は、第２膜をインクジェット法によって形成する際にバンク材として機能する。本発明では、第１膜を第２膜に対して撥インク性を有する膜によって形成できるので、第１膜によって囲まれる領域へ第２膜をインクジェット法によって供給したとき、その第２膜を基板上へ均一に塗布できる。
【００６３】
（３５）次に、本発明に係る液晶装置は、液晶層を挟持する一対の基板と、液晶を駆動する回路と、前記一対の基板の一方に形成されたカラーフィルタとを有する液晶装置において、前記カラーフィルタは、以上に記載した構成の各カラーフィルタによって構成されることを特徴とする。この液晶装置によれば、内蔵するカラーフィルタを用いて実現される色表示において色の見え方を１つの表示単位ごとに調整できる。
【００６４】
（３６）次に、本発明に係る液晶装置の製造方法は、液晶層を挟持する一対の基板と、液晶を駆動する回路と、前記一対の基板の一方に形成されたカラーフィルタとを有する液晶装置の製造方法において、前記カラーフィルタを形成する工程は、以上に記載した構成の各カラーフィルタの製造方法によって行われることを特徴とする。
【００６５】
（３７）次に、本発明に係る電子機器は、液晶装置と、該液晶装置を収容する筐体とを有する電子機器において、前記液晶装置は以上に記載した構成の各液晶装置によって構成されることを特徴とする。
【００６６】
【発明の実施の形態】
（カラーフィルタ及び液晶装置の第１実施形態）
図１は、本発明に係るカラーフィルタを用いた本発明に係る液晶装置の一実施形態を示している。ここに示す液晶装置１は、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式であって、駆動用ＩＣを基板上に直接に実装するＣＯＧ（Chip On Glass）方式であって、反射型表示及び透過型表示の両方を行うことができる半透過反射型であって、カラー表示を行う構造の液晶装置である。この液晶装置１の外観構造は、例えば、図６に示すように構成できる。
【００６７】
図６において、液晶装置１は、液晶パネル２に駆動用ＩＣ３を実装し、さらに照明装置６を付設することによって形成される。液晶パネル２は、第１基板７ａと第２基板７ｂとを環状のシール材８によって貼り合わせて形成される。第１基板７ａは第２基板７ｂの外側へ張り出す張出し部９を有し、駆動用ＩＣ３は導電接着膜、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）４によってその張出し部９上に実装される。
【００６８】
また、照明装置６は、光源１１と導光体１２とを有する。光源１１は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった点状光源や、冷陰極管等といった線状光源によって構成される。また、導光体１２は、光源１１で発生する点状又は線状の光を受け取って液晶パネル２へ面状の光を出射する。文字、数字、図形等といった像は照明装置６の反対側に表示される。
【００６９】
図１は、図６におけるＩ−Ｉ線に従った液晶装置１の断面構造を示している。図１において、シール材８によって貼り合わされた第１基板７ａ及び第２基板７ｂとの間には間隙、いわゆるセルギャップが形成され、そのセルギャップ内に液晶が封入されて液晶層Ｌを構成する。符号２２はセルギャップを一定に維持するためのスペーサを示し、符号２３はシール材８の中に混入された導通材を示している。導通材２３は、第１基板７ａ側の配線と第２基板７ｂ側の配線とを導電接続する。
【００７０】
第１基板７ａは矢印Ａ方向から見て方形状の基材１３ａを有し、その基材１３ａの液晶側表面（図１の上側表面）には反射膜１４が形成され、その上にカラーフィルタ１６が形成され、その上に第１電極１７ａが形成され、その上に配向膜１８ａが形成される。また、基材１３ａの外側表面（図１の下側表面）には位相差板１９ａが形成され、その上に偏光板２１ａが形成される。
【００７１】
第１基板７ａに対向する第２基板７ｂは矢印Ａ方向から見て方形状の基材１３ｂを有し、その基材１３ｂの液晶側表面（図１の下側表面）には第２電極１７ｂが形成され、その上に配向膜１８ｂが形成される。また、基材１３ｂの外側表面（図１の上側表面）には位相差板１９ｂが形成され、その上に偏光板２１ｂが形成される。
【００７２】
第１電極１７ａは、図６に示すように、複数の直線状の電極を互いに平行に並べることにより全体としてストライプ状に形成される。また、第２電極１７ｂは、複数の直線状の電極を第１電極１７ａと直交するように互いに平行に並べることにより全体としてストライプ状に形成される。図６では、構造を分かり易く示すために、複数の第１電極１７ａ及び複数の第２電極１７ｂを、それぞれ、大きな間隔を開けて数本だけ示してあるが、実際には、多数の第１電極１７ａ及び第２電極１７ｂが狭い間隔で高密度に配列される。
【００７３】
第１電極１７ａと第２電極１７ｂは複数の点で交差し、これら複数の交差点はマトリクス状に配列する。これらの個々の交差点によって１つの表示単位、すなわちドットが形成され、このドットがカラー表示のためのＲ，Ｇ，Ｂの３個分集まって１つの画素が形成され、その画素の集まりによって表示領域が形成され、その表示領域内に文字等といった像が表示される。
【００７４】
図１において、基材１３ａ及び１３ｂは、例えば、透明なガラス、透明なプラスチック等によって形成される。反射膜１４は、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等によって形成される。第１電極１７ａ及び第２電極１７ｂは、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）によって形成される。配向膜１８ａ及び１８ｂは、例えば、ポリイミドによって形成される。
【００７５】
図１において矢印ＩＩで示す部分を拡大して示すと図２（ａ）に示す通りである。また、図２（ｂ）は、図１の矢印ＩＩで示す３個のドット部分を矢印Ａ方向から見た平面構造を示している。また、図２（ｃ）は図２（ｂ）におけるｃ−ｃ線に従った断面構造を示している。図２（ａ）に示すように、カラーフィルタ１６は、ドット領域、すなわち着色膜形成領域を区画するバンク２４と、反射膜１４に積層された着色膜２６と、着色膜２６及びバンク２４の上に積層された保護膜２７とによって構成されている。
【００７６】
バンク２４は黒色樹脂を用いることにより、ブラックマスクとして機能させることもできる。また、ブラックマスクは、バンク２４と基材１３ａとの間に別個に形成することもできる。
【００７７】
着色膜２６は、反射膜１４の上に積層された第１膜２８と、その第１膜２８に積層された第２膜２９とによって形成される。反射膜１４は、バンク２４によって囲まれるドット部分、すなわち着色膜形成領域の個々に対応して開口３１を形成する。着色膜２６に関しては、加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色を表示するもの３個が集まって１つの画素を形成する。
【００７８】
本実施形態の場合、第１膜２８は、図２（ａ）及び図２（ｃ）から分かるように、その中央部分が基材１３ａの方向へ窪む３次元的な谷形状に形成される。また、第２膜２９は、その底面が第１膜２８の窪み面に面接触し、その外部側の表面が平面である３次元的な逆山形状形成される。開口３１は、第１膜２８の膜厚が薄くなり第２膜２９の膜厚が厚くなる中央部分に対応して形成されている。
【００７９】
第１膜２８及び第２膜２９は流体である着色膜材料を各ドット領域へ供給した後に乾燥や焼成を行って固化させることによって形成されている。ここで、着色膜材料は、顔料、染料、天然色素等から成る着色剤とバインダー樹脂とを溶媒に溶かすことによって形成されるものであるが、本実施形態では、第１膜２８と第２膜２９との組成を互いに異ならせてある。
【００８０】
具体的には、第１膜２８を形成する膜材料に含まれる着色剤と第２膜２９を形成する膜材料に含まれる着色剤とを同じ色相とし、しかし第１膜２８における着色剤の含有量が第２膜における着色剤の含有量よりも小さくなるようにしてある。これにより、第１膜２８と第２膜２９は同じ色相であるが、光濃度は第１膜２８が低く、第２膜２９が高くなるように設定されている。
【００８１】
上記の通り、反射膜１４の無い領域である開口３１は、第１膜２８の膜厚が薄く、しかも第２膜２９の膜厚が厚くなる部分、すなわちドット領域の中央部分に対応して形成されている。そして、第１膜２８は第２膜２９に比べて光濃度が低く設定されている。また、第１膜２８は谷形状に形成され、さらに第２膜２９は逆山形状に形成されている。
【００８２】
図１において、照明装置６の反対側すなわち観察側から第２基板７ｂを通して取り込まれた太陽光等といった外部光は、図２（ａ）に符号Ｒで示すように反射膜１４で反射して図２（ａ）の上方へ進行して、液晶層Ｌ（図１参照）へ供給される。このとき、反射光Ｒは着色膜２６を往復で２回通過する。一方、開口３１を通過する透過光Ｔは、着色膜２６を１回通過して図２（ａ）の上方へ進行して、液晶層Ｌ（図１参照）へ供給される。
【００８３】
反射光Ｒが着色膜２６を２回通過する部分は、光濃度が低い第１膜２８が厚く、しかも光濃度が高い第２膜２９が薄くなっている。一方、透過光Ｔが１回通過する部分は、光濃度が低い第１膜２８が薄く、しかも光濃度が高い第２膜２９が厚くなっている。このため、個々のドット領域において、反射光Ｒは相対的に光濃度の低い着色膜２６の部分を通過し、透過光Ｔは相対的に光濃度の高い着色膜２６の部分を通過することになる。この結果、反射光Ｒは着色膜２６を２回通過し、透過光Ｔは着色膜２６を１回しか通過しないにもかかわらず、それらの光によってもたらされる色の見え方は、略等しい状態又は違和感のない程度に近い状態で認識される。また、場合によっては、それらの光によってもたらされる色の見え方を故意に異ならせることもできる。
【００８４】
本実施形態に係る図１に示す液晶装置１は以上のように構成されているので、この液晶装置１は反射型表示及び透過型表示の２種類の表示を希望に応じて選択して実行できる。反射型表示は太陽光、室内光等といった外部光が十分である場合に行われるものであり、この場合には、外部光が第２基板７ｂを通して液晶パネル２の内部へ取り込まれ、その光が液晶層Ｌを通過して反射膜１４へ到達する。反射膜１４へ到達した光は、その反射膜１４で反射して液晶層Ｌへ供給される。
【００８５】
一方、外部光が不十分で透過型表示が希望される場合には、図６において照明装置６の光源１１が点灯され、導光体１２から液晶パネル２へ向けて面状の光が供給される。この光は図１において第１基板７ａの基材１３ａを通過し、反射膜１４に形成された開口３１を通過し、さらにカラーフィルタ１６を通過して液晶層Ｌへ供給される。
【００８６】
以上のようにして反射型表示及び透過型表示の場合に液晶パネル２の液晶層Ｌへ光が供給される間、図６において、駆動用ＩＣ３は第１電極１７ａ又は第２電極１７ｂの一方へ走査信号又はデータ信号の一方を供給し、第１電極１７ａ又は第２電極１７ｂの他方へ走査信号又はデータ信号の他方を供給する。こうして、液晶層Ｌへ印加される電圧が画素ごと、より詳しくはドットごとに制御され、液晶の配向がドットごとに制御され、さらに、液晶層Ｌを通過する光がドットごとに変調される。こうしてドットごとに変調された光を第２基板７ｂ側の位相差板１９ｂ及び偏光板２１ｂによって選択的に通過させて、文字等といった像を表示、本実施形態ではカラー表示する。
【００８７】
本実施形態の液晶装置１では、図２（ａ）に示すように、バンク２４によって区画される１つのドット領域内において第１膜２８を谷形状に形成し、第２膜２９を逆山形状に形成したので、１つのドット領域内において第１膜２８と第２膜２９の膜厚割合が変化している。このため、図１の液晶パネル２の第２基板７ｂ側に表示されるカラー像を観察したとき、色の見え方をドットごと、すなわち１つの表示単位ごとに調整できる。
【００８８】
より具体的には、例えば、本実施形態のような半透過反射型の液晶装置において、カラーフィルタを２回通過する反射光を用いたときの色の見え方と、カラーフィルタを１回しか通過しない透過光を用いたときの色の見え方とを１ドットごとの色調整により高い精度で調整できる。
【００８９】
（カラーフィルタの製造方法及び液晶装置の製造方法の第１実施形態）
次に、図１に示す液晶装置１及び図２に示すカラーフィルタ１６を製造するための製造方法の一実施形態を説明する。図７は、液晶装置の製造方法の一実施形態を示している。図７において、工程Ｐ１から工程Ｐ５で示す一連の工程が図１の第１基板７ａを製造するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１５に示す一連の工程が図１の第２基板７ｂを製造するための工程である。
【００９０】
なお、本実施形態では、図１に示す第１基板７ａ及び第２基板７ｂを１個ずつ形成するのではなく、図１１（ａ）に示すように、第１基板７ａを複数形成できる面積を持った大面積、すなわち大判のマザー基材１３ａ’に第１基板７ａの複数分の液晶パネルパターンを形成するものとする。また、図１１（ｂ）に示すように、大判のマザー基材１３ｂ’に第２基板７ｂの複数分の液晶パネルパターンを形成するものとする。
【００９１】
まず、図７の工程Ｐ１において、図１１（ａ）に示すマザー基材１３ａ’の表面に反射膜１４（図１参照）をアルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等を材料として、例えばフォトリソグラフィー法等といったパターニング法によって形成する。このとき、個々のドット領域に対応して開口３１が形成される。次に、工程Ｐ２において、マザー基材１３ａ’（図１１（ａ）参照）上にカラーフィルタ１６を形成する。すなわち、図２（ａ）に示すバンク２４、着色膜２６及び保護膜２７を形成する。
【００９２】
次に、図７の工程Ｐ３において、図１の第１電極１７ａをＩＴＯを材料として周知のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成し、さらに工程Ｐ４において図１の配向膜１８ａを例えばポリイミドを材料として塗布及び焼成によって形成し、さらに工程Ｐ５においてその配向膜１８ａに配向処理、例えばラビング処理を施して液晶の配向を決める。以上により、図１１（ａ）のマザー基材１３ａ’上に図１の第１基板７ａの複数分のパターンが形成される。
【００９３】
一方、図７の工程Ｐ１１において、図１１（ｂ）に示すマザー基材１３ｂ’の表面に第２電極１７ｂをＩＴＯを材料として周知のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成し、さらに工程Ｐ１２において図１の配向膜１８ｂを例えばポリイミドを材料として塗布及び焼成によって形成し、さらに工程Ｐ１３においてその配向膜１８ｂに配向処理、例えばラビング処理を施して液晶の配向を決める。
【００９４】
次に、工程Ｐ１４において、図１のシール材８を印刷等によってマザー基材１３ｂ’の表面に形成し、さらに工程Ｐ１５において図１のスペーサ２２を分散する。以上により、図１１（ｂ）のマザー基材１３ｂ’上に図１の第２基板７ｂの複数分のパターンが形成される。
【００９５】
以上により、第１基板７ａを複数有するマザー基材１３ａ’及び第２基板７ｂを複数有するマザー基材１３ｂ’が形成されると、工程Ｐ２１において、それらのマザー基材１３ａ’及び１３ｂ’をシール材８を間に挟んで貼り合わせる。これにより、図１の液晶パネル２を複数内蔵する大判のパネル構造体が形成される。
【００９６】
次に、工程Ｐ２２において、上記の大判のパネル構造体に対して１回目の切断、すなわち１次ブレイクを行って、各液晶パネル部分の液晶注入用開口３２（図６参照）が外部に露出した状態の１列に長いパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体が形成される。次に、以上のようにして外部へ露出した液晶注入用開口３２を通して、短冊状パネル構造体内の各液晶パネル部分の内部に液晶を注入し、さらにその後、液晶注入用開口３２を樹脂等によって封止する。
【００９７】
次に、液晶封入後の短冊状のパネル構造体に対して２回目の切断、すなわち２次ブレイクを行って、図６に示す液晶パネル２を個々に分断する。分断された液晶パネル２は工程Ｐ２５によって洗浄されて不要な液晶等を取り除かれ、その後、工程Ｐ２６において図１の位相差板１９ａ，１９ｂ及び偏光板２１ａ，２１ｂが例えば貼着によって装着される。その後、工程Ｐ２７において、図６の駆動用ＩＣ３を第１基板７ａ上に実装し、さらに照明装置６を液晶パネル２へ取り付け、これにより、液晶装置１が完成する。
【００９８】
以上の一連の工程において、カラーフィルタ形成工程Ｐ２は、例えば図８のようにして行われる。すなわち、まず、工程Ｐ３１において、図２（ａ），（ｂ），（ｃ）のバンク２４を撥インク性の物質を材料として任意のパターニング法、例えばフォトリソグラフィー法によって図２（ｂ）に示すように格子状に形成する。こうしてバンク２４を格子状に形成することにより、マトリクス状に並んだ複数のドット領域がバンク２４によって区画されて形成される。なお、撥インク性の物質とは、図２（ａ）の第１膜２８を付着させ難い性質、すなわち第１膜２８をはじく性質のことである。また、バンク２４は黒色樹脂を用いることにより、ブラックマスクとして機能させることもできる。
【００９９】
次に、工程Ｐ３２において、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の第１膜２８が順々にインクジェット法によって所定のドット領域に供給されて付着する。ここに言う所定のドット領域は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色をどのような着色配列で並べるかに応じて決まるものであり、そのような着色配列としては、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等が知られている。
【０１００】
ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の３つの色絵素がＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配色である。そして、デルタ配列は、色絵素の配置を段違いにし、任意の隣接する３つの色絵素がＲ，Ｇ，Ｂの３色となる配列である。
【０１０１】
インクジェット法による着色膜材料の塗布処理は、例えば図１１（ａ）に示すように、マザー基材１３ａ’の角部であるスタート位置にインクジェットヘッド４０を配置し、このインクジェットヘッド４０を矢印Ｘ方向へ主走査移動させ、同時に矢印Ｙ方向へ副走査移動させることにより、マザー基材１３ａ’の全面をインクジェットヘッド４０によって走査しながら行われる。このインクジェットヘッド４０には複数の吐出ノズル４４が設けられ、インクジェットヘッド４４によって上記のようにマザー基板１３ａ’を走査する際、目標とする着色配列に対応した適切なタイミングにおいてそれらの吐出ノズル４４からインク、すなわち着色膜材料が吐出され、その吐出された着色膜材料が基板上に塗布、すなわち付けられる。
【０１０２】
インクジェットヘッド４０は、着色膜材料を微小径の液滴として吐出できる構造であれば、任意の構造によって構成できるが、例えば図１３に示すように構成できる。図１３において、インクジェットヘッド４０は、例えばステンレスによって形成されたノズルプレート４７と、それに対向して配置された振動板４８と、それらを互いに接合する複数の仕切部材４９とを有する。ノズルプレート４７と振動板４８との間には、仕切部材４９によって複数のインク室５１と液溜り５２とが形成される。複数のインク室５１と液溜り５２とは通路５３を介して互いに連通している。
【０１０３】
振動板４８の適所にはインク供給穴５４が形成され、このインク供給穴５４にインク供給装置５６が接続される。このインク供給装置５６は着色膜材料Ｍをインク供給穴５４へ供給する。供給された着色膜材料Ｍは液溜り５２に充満し、さらに通路５３を通ってインク室５１に充満する。
【０１０４】
ノズルプレート４７には、インク室５１から着色膜材料Ｍを吐出するためのノズル４４が設けられている。また、振動板４８のインク室５１を形成する面の裏面には、該インク室５１に対応させてインク加圧体５７が取り付けられている。このインク加圧体５７は、図１４に示すように、圧電素子５８と、これを挟持する一対の電極５９ａ及び５９ｂを有する。
【０１０５】
圧電素子５８は、電極５９ａ及び電極５９ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これによりインク室５１の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当する着色膜材料Ｍが液溜り５２から通路５３を通ってインク室５１へ流入する。
【０１０６】
次に、圧電素子５８への通電を解除すると、該圧電素子５８と振動板４８は共に元の形状へ戻る。これにより、インク室５１も元の容積に戻るためインク室５１の内部にある着色膜材料Ｍの圧力が上昇し、ノズル４４から着色膜材料Ｍが液滴Ｑとなって吐出される。なお、ノズル４４の周辺部には、液滴Ｑの飛行曲がりやノズル４４の穴詰まり等を防止するために、例えば、Ｎｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層から成る撥インク層６１が設けられる。
【０１０７】
インクジェットヘッド４０の走査移動を制御するための制御系は特別な構成に限られることなく、任意に構成できるが、例えば図１２に示すようなＣＰＵ（Central Processing Unit）を用いたコンピュータシステムによって構成できる。図１２に示す制御系では、インクジェットヘッド４０には、圧電素子５８に印加する電圧を制御するための圧電制御回路６２、図１３で説明したインク供給装置５６、インクジェットヘッド４０を主走査方向Ｘへ往復移動させるための主走査移動装置６３及びインクジェットヘッド４０を副走査方向Ｙへ往復移動させるための副走査移動装置６４の各機器が接続される。
【０１０８】
主走査移動装置６３及び副走査移動装置６４は、インクジェットヘッド４０を高い精度で細かく移動させることができることが必要であり、例えば、出力回転角度を高い精度で細かく制御できるパルスモータやサーボモータを動力源とする駆動装置を用いることができる。
【０１０９】
上記の各機器の入出力端子はバス６６へ接続され、そのバス６６には、ＣＰＵ６７、ＲＯＭ６８、ＲＡＭ６９、情報記憶媒体７１及びキーボード等といった入力装置７２が接続される。ＲＯＭ６８には、例えば、コンピュータの全体的な初期情報が記憶される。また、ＲＡＭ６９は、各種データを一時的に記憶したり、ＣＰＵ６７のためのワークエリア等として用いられる。
【０１１０】
情報記憶媒体７１は、ハードディスク、ＣＤ（Compact Disc）−ＲＯＭ、メモリカード、その他の記憶媒体によって構成され、コンピュータシステムをインクジェット処理のために機能させるプログラムや、カラーフィルタを構成する着色膜の着色配列データ、例えばストライプ配列、デルタ配列等を特定するためのデータ等が記憶されている。
【０１１１】
コンピュータシステムが始動すると、情報記憶媒体７１に記憶されているデータはＲＡＭ６９へ転送されてそこに記憶され、それらのデータに基づいてＣＰＵ６７は、インクジェット法による塗布処理を達成するための主要な機能を実現する。例えば、目標とする着色配列が達成されるように主走査方向Ｘ及び副走査方向Ｙに関するインクジェットヘッド４０の移動量を演算したり、それらの走査移動が行われているときのどのタイミングで圧電素子を駆動すれば目標とする着色配列が得られるかを演算したりする機能を実現する。
【０１１２】
インクジェットヘッド４０及びそれを駆動するための装置は以上のように構成されているので、図８の第１膜吐出工程Ｐ３２では、まず、図１１（ａ）においてＲ，Ｇ，Ｂのうちの第１色を吐出するように設定されたインクジェットヘッド４０によってマザー基板１３ａ’の全面を走査しながら、プログラムによって規定される適切なタイミングで吐出ノズル４４からインク、すなわち上記第１色の着色膜材料を吐出して目標のドット領域内へ供給する。その後、工程Ｐ３３で着色膜材料を乾燥させて固化することにより、図２（ａ）においてＲ，Ｇ，Ｂのうちの第１色について第１膜２８が形成される。
【０１１３】
本実施形態では、第１膜２８をその中央部分が窪んだ谷形状に形成するが、これは、例えば、乾燥工程Ｐ３３において着色膜材料を比較的高温度で比較的短時間の乾燥を行うこと、例えば１００℃程度で１分間程度加熱することによって達成できる。
【０１１４】
Ｒ，Ｇ，Ｂの第１色について第１膜２８の形成が終了したら、次に、Ｒ，Ｇ，Ｂの第２色を吐出するように設定されたインクジェットヘッド４０を用いて同様の操作を繰り返して、所定のドット位置に第２色の第１膜２８を形成する。そしてその後、さらにＲ，Ｇ，Ｂの第３色に関して同様の操作を繰り返して第３色の第１膜２８を形成し、これにより、図８において第１膜形成工程Ｐ３２及びＰ３３を終了する。
【０１１５】
次に、図８の工程Ｐ３４において、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色についてフォトリソグラフィー法を用いて目標のドット位置に第２膜２９を形成する。これにより、第１膜２８と第２膜とを積層して成る着色膜２６が形成される。なお、第１膜２８及び第２膜２９の材料は、顔料等といった着色剤をバインダー樹脂と共に溶媒に溶かすことによって形成されるものであるが、第１膜２８と第２膜２９との間では、膜材料に含有させる着色剤の量を異ならせることによって光濃度を異ならせてある。具体的には、第１膜２８は第２膜２９に比べて着色剤の含有量を少なくして光濃度を低く設定している。
【０１１６】
以上により、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の着色膜２６が所定の着色配列で形成されると、図８の工程Ｐ３５において図２（ａ）の保護膜２７が、例えばアクリルやポリイミド等といった樹脂や、シリコン酸化膜等といった無機膜を材料として、例えばスピンコート又はインクジェット法によって一様な厚さで形成される。
【０１１７】
着色膜２６を形成する場合に、第１膜２８及び第２膜２９の両方をフォトリソグラフィー法によって形成することも考えられるが、フォトリソグラフィー法の場合には、塗膜形成工程、パターン光の露光工程、そして現像工程のような複雑な工程をＲ，Ｇ，Ｂの３色について繰り返して行わなければならず、工程が非常に複雑となり、時間も長くかかる。これに対し、第１膜２８の形成をインクジェット法によって行うようにした本実施形態では、着色膜材料を吐出して乾燥させるという非常に簡単な作業を行うだけで済むので、非常に好都合である。
【０１１８】
また、フォトリソグラフィー法では、図２（ａ）及び（ｃ）に示すように、第１膜２８を谷形状に形成することが非常に難しいが、インクジェット法を用いればそのような谷形状を簡単に形成できる。
【０１１９】
（カラーフィルタの第２実施形態）
図３は、本発明に係るカラーフィルタの他の実施形態を示している。このカラーフィルタ１６は図１に示した構造の液晶装置１に用いることができる。図２に示した先の実施形態に係るカラーフィルタ１６では、第１膜２８はその中央部が基材１３ａの方向へ窪む３次元的な谷形状に形成され、第２膜２９はその底面が第１膜２８の窪み面に面接触し、その外部側の表面が平面である３次元的な逆山形状に形成された。
【０１２０】
これに対し、図３に示す本実施形態に係るカラーフィルタ１６では、第１膜２８は基材１３ａから突出する３次元的な山形状、すなわちドーム形状に形成され、第２膜２９はその底面が第１膜２８の突出面に面接触し、その外部側の表面が平面である３次元的な逆谷形状に形成されている。
【０１２１】
本実施形態のように中央部が盛り上がったドーム形状の第１膜２８はインクジェット法又はその他の方法を用いて形成できるが、第１膜２８をインクジェット法を用いて形成する場合には、例えば、インクジェット法によって付着させた着色膜材料を比較的低温度で比較的長時間の乾燥を行うこと、例えば４０℃程度で１０分間程度の加熱を行うことによってドーム形状を達成できる。なお、第２膜２９は、インクジェット法、スピンコート、あるいはその他の適宜の膜形成方法によって形成できる。
【０１２２】
第１膜２８を山形状に形成し、第２膜２９を逆谷形状に形成したことにより、本実施形態では、第１膜２８の光濃度を第２膜２９の光濃度よりも高く設定してある。この構成により、開口３１を透過する透過光Ｔの光路に関しては、光濃度の高い第１膜２８が厚く、光濃度の低い第２膜が薄くなっている。また、反射膜１４で反射する反射光Ｒの光路に関しては、光濃度の高い第１膜２８が薄く、光濃度の低い第２膜が厚くなっている。
【０１２３】
以上の結果、着色膜２６を２回通過する反射光Ｒに関しては、彩度が抑え傾向で明度が高められる傾向に設定され、一方、着色膜２６を１回だけしか通過しない透過光Ｔに関しては、彩度が高められる傾向で明度が抑えられる傾向に設定される。この結果、反射光Ｒを用いた場合の色の見え方と透過光Ｔを用いた場合の色の見え方とを略均一又は近付けることができる。また、場合によっては、それらの光によってもたらされる色の見え方を故意に異ならせることもできる。
【０１２４】
（カラーフィルタの製造方法の第２実施形態）
図９は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の実施形態を示している。図８に示した先の実施形態では、工程Ｐ３２から工程３４に至る着色膜形成工程において、第１膜形成工程Ｐ３２及びＰ３３をインクジェット法を用いて行い、第２膜形成工程Ｐ３４はフォトリソグラフィー法を用いて行った。
【０１２５】
これに対し、本実施形態では、図９に示すように、第１膜形成工程（Ｐ４２〜Ｐ４３）及び第２膜形成工程（Ｐ４４〜Ｐ４５）の両方をインクジェット法を用いて行っている。これにより、着色膜形成工程をより一層迅速に且つ高精度に行うことができる。
【０１２６】
なお、第２膜の形成をフォトリソグラフィー法又はスピンコートによって行う場合には、最終的に得られるカラーフィルタの表面状態は平面的に均一になるが、第２膜の形成をインクジェット法を用いて行えば、カラーフィルタの表面状態を画素毎又は表示ドット毎に自由に調節できる。
【０１２７】
（液晶装置の第２実施形態及びカラーフィルタの第３実施形態）
図４は、本発明に係る液晶装置の他の実施形態を示している。また、図５は、図４に示す液晶装置を構成するカラーフィルタであって本発明に係るカラーフィルタのさらに他の実施形態を示している。図４に示す液晶装置８１の外観構造は、例えば、図６に符号１で示した液晶装置と同様に構成できる。なお、図４において、図１の実施形態の場合と同じ部材は同じ符号を用いて示すものとする。
【０１２８】
図４において、第１基板７ａを構成する基材１３ａの液晶側表面（図４の上側表面）には、各ドット領域に対応して開口３１を備えた反射膜１４が形成され、その上に第１電極１７ａが形成され、その上に配向膜１８ａが形成される。また、第１基板７ａに対向する第２基板７ｂの液晶側表面（図４の下側表面）には、カラーフィルタ８６が形成され、その上に第２電極１７ｂが形成され、その上に配向膜１８ｂが形成される。
【０１２９】
つまり、図１に示した実施形態では１つの第１基板７ａに反射膜１４とカラーフィルタ１６の両方を設けたのに対し、図４に示す本実施形態では、反射膜１４を第１基板７ａに設け、カラーフィルタ８６は対向基板である第２基板７ｂに設けてある。
【０１３０】
図４において矢印Ｖで示す部分を拡大して示すと、図５に示す通りである。図５に示すように、カラーフィルタ８６は、複数のドット領域、すなわち着色膜形成領域を区画するバンク２４と、そのドット領域内に形成された着色膜２６とによって形成されている。着色膜２６に関しては、加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色を表示するもの３個が集まって１つの画素を形成する。
【０１３１】
着色膜２６は、ドット領域の周辺部に矢印Ｄ方向から見て枠状、すなわち環状に形成された第１膜２８と、その第１膜２８に隣接して形成された矢印Ｄ方向から見て方形状の第２膜２９とによって形成されている。なお、第１膜２８の内周面と第２膜２９の外周面は光を漏らすことなく完全に密着されている。また、第１膜２８をフォトリソグラフィー法によって形成し、第２膜２９をインクジェット法によって形成する場合を考えるならば、第１膜２８は第２膜２９の構成材料に対して撥インク性を有する材料によって形成することが望ましい。こうすれば、インクジェット法によって吐出した第２膜２９の材料を第１膜２８によって囲まれた領域内で滑らかに流動させることができる。
【０１３２】
カラーフィルタ８６に対向する第１基板７ａに形成された反射膜１４は、対向側のバンク２４によって囲まれるドット領域の個々に対応して開口３１を形成する。そして、上記第２膜２９はそれらの開口３１に対応する位置に形成されている。従って、第２膜２９を囲む第１膜２８は反射膜１４に対向する位置に設けられている。
【０１３３】
第１膜２８及び第２膜２９は流体である着色膜材料を各ドット領域へ供給した後に乾燥や焼成を行って固化させることによって形成される。ここで、着色膜材料は、顔料、染料、天然色素等から成る着色剤とバインダー樹脂とを溶媒に溶かすことによって形成されるものであるが、本実施形態では、第１膜２８と第２膜２９との組成を互いに異ならせてある。
【０１３４】
具体的には、第１膜２８を形成する膜材料に含まれる着色剤と第２膜２９を形成する膜材料に含まれる着色剤とを同じ色相とし、しかし第１膜２８における着色剤の含有量が第２膜における着色剤の含有量よりも小さくなるようにしてある。これにより、第１膜２８と第２膜２９はＲ，Ｇ，Ｂの各色それぞれに関して同じ色相であるが、光濃度は第１膜２８が低く、第２膜２９が高くなるように設定されている。
【０１３５】
図５において、観察側（図５の上側）から第２基板７ｂを通して取り込まれた太陽光等といった外部光は、符号Ｒで示すように反射膜１４で反射して図の上方へ進行しながら液晶層Ｌを通過する。そしてこのとき、反射光Ｒは着色膜２６、特に第１膜２８を往復で２回通過する。一方、開口３１を通過する透過光Ｔは、液晶層Ｌを通過した後に着色膜２６、特に第２膜２９を１回通過する。
【０１３６】
反射光Ｒが着色膜２６を２回通過する部分は、光濃度が低い第１膜であり、一方、透過光Ｔが１回通過する部分は、光濃度が高い第２膜２９である。このため、反射光Ｒは着色膜２６を２回通過し、透過光Ｔは着色膜２６を１回しか通過しないにもかかわらず、それらの光によってもたらされる色の見え方、例えば彩度、明度等を略等しく又はそれらを近付けることができる。また、場合によっては、それらの光によってもたらされる色の見え方を故意に異ならせることもできる。
【０１３７】
（カラーフィルタの製造方法の第３実施形態）
図１０は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の実施形態を示しており、特に図５に示したカラーフィルタを製造するのに適した製造方法を示している。この製造方法では、工程Ｐ５１において、スピンコート等といった成膜法及びフォトリソグラフィー法等といったパターニング法によってバンク２４を所定パターン、例えば格子状に形成して、マトリクス状に並んだドット領域、すなわち着色膜形成領域を形成する。バンク２４は黒色樹脂を用いることにより、ブラックマスクとして機能させることもできる。
【０１３８】
次に、工程Ｐ５２において、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色について、スピンコート等といった成膜法及びフォトリソグラフィー法等といったパターニング法によって第１膜２８を、例えば光濃度の低い物質を材料として形成する。なお、第１膜２８は、第２膜２９に対して撥インク性を有する物質、すなわち第２膜２９を付着させ難い性質を有する物質、すなわち第２膜２９をはじく性質を有する物質によって形成することが望ましい。
【０１３９】
次に、工程Ｐ５３において、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色について、インクジェット法によって第２膜２９を、第１膜２８とは異なった特性の物質、例えば光濃度の高い物質を材料として形成する。このとき、工程５２において第１膜２８を撥インク性の材料によって形成しておけば、インクジェット法によって供給される第２膜２９を各ドット領域内において均一に流す、すなわち延ばすことができる。なお、インクジェット法としては既に説明した方法のインクジェット法を用いることができる。その後、工程Ｐ５４において第２膜２９を乾燥することにより、第１膜２８と第２膜２９とが隣接して成る着色膜２６が形成される。
【０１４０】
本実施形態に係るカラーフィルタの製造方法によれば、インクジェット法を用いて第２膜２９を形成するようにしたので、着色膜２６を迅速且つ高精細に形成することができる。なお、図５の着色膜２６の第１膜２８及び第２膜２９はそれらを両方共、インクジェット法によって形成することもできる。
【０１４１】
（電子機器の実施形態）
図１５は、本発明に係る電子機器の一例である携帯電話機の一実施形態を示している。この携帯電話機１００は、表示部としての液晶装置１０１と、アンテナ１０２と、スピーカ１０３と、キースイッチ群１０４と、マイクロホン１０５とを有する。
【０１４２】
液晶装置１０１は、筐体としての外装ケースに収納されると共に、外装ケースの内部に設けた制御回路（図示せず）によって制御されて、電話通信内容やインターネット情報等を表示する。この液晶装置１０１は、例えば、図１に示した液晶装置１や図４に示した液晶装置８１を用いて構成できる。
【０１４３】
図１６は、本発明に係る電子機器の一例である腕時計の一実施形態を示している。この腕時計１１０は表示部として液晶装置１１１を有している。この液晶装置１１１は、筐体としての外装ケースに収納されると共に、外装ケースの内部に設けた制御回路（図示せず）によって制御されて、時刻、日付等を情報として表示する。この液晶装置１１１は、例えば、図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。
【０１４４】
図１７は、本発明に係る電子機器の一例である携帯型情報処理装置の一実施形態を示している。この携帯型情報処理装置１２０は、例えば、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等として提供されるものである。ここに示す携帯型情報処理装置１２０は、本体１２１の表面に設けられたキーボード等といった入力装置１２２と、表示部としての液晶装置１２３とを有する。本体１２１の内部に配設されたプロセッサの処理により、キーボード１２２を通して入力された情報や、その情報に基づく何等かの演算処理の結果が液晶装置１２３に表示される。
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１４５】
例えば、以上の説明ではマトリクス状に配列されたドット領域内に形成される着色膜としてＲ，Ｇ，Ｂの３原色を考えたが、着色膜はＲ，Ｇ，Ｂに限定されることはなく、例えば減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色膜材料に代えて、Ｃ，Ｍ，Ｙの色を有する着色膜材料を用いれば良い。
【０１４６】
図１１（ａ）に示す実施形態では、マザー基材１３ａ’の１辺の長さよりも短い長さのインクジェットヘッド４０によってマザー基材１３ａ’を走査するようにしたが、マザー基材１３ａ’の１辺の長さと略等しい長さのインクジェットヘッド４０によってマザー基材１３ａ’を走査することもできる。なお、この場合には、主走査方向Ｘに関するインクジェットヘッド４０の移動は行う必要がない。
【０１４７】
また、図１１（ａ）及び（ｂ）に示した実施形態では、マザー基材１３ａ’及び１３ｂ’の中に複数列の液晶パネル形成領域７ａ及び７ｂが設定される場合を例示したが、マザー基材１３ａ’及び１３ｂ’の中に１列の液晶パネル形成領域７ａ等が設定される場合にも本発明を適用できる。また、マザー基板１３ａ’及び１３ｂ’とほぼ同じ大きさの又はそれよりもかなり小さい１個の液晶パネル形成領域７ａ等だけがそのマザー基材１３ａ’及び１３ｂ’の中に設定される場合にも本発明を適用できる。
【０１４８】
また、図１１（ａ）に示したインクジェット方式の膜形成方法では、インクジェットヘッド４０をＸ方向へ移動させて基材１３ａ’を主走査し、基材１３ａ’をＹ方向へ移動させることによりインクジェットヘッド４０によって基材１３ａ’を副走査することにしたが、これとは逆に、基材１３ａ’のＹ方向への移動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド４０のＸ方向への移動によって副走査を実行することもできる。
【０１４９】
また、上記実施形態では、圧電素子の撓み変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェットヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッドを用いることもできる。
【０１５０】
また、以上の実施形態では、液晶装置として単純マトリクス方式の液晶装置を例示したが、本発明は、ＴＦＤ（Thin Film Diode）等といった２端子型の能動素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型の能動素子をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置等に対しても、もちろん、適用できる。
【０１５１】
【発明の効果】
本発明に係るカラーフィルタ、液晶装置及び電子機器によれば、カラーフィルタを用いて実現される色表示において色の見え方を１つの表示単位ごと、すなわちドット領域ごとに調整できる。これにより、色の見え方を希望通りに高精細に調整できる。
【０１５２】
また、本発明に係るカラーフィルタの製造方法及び液晶装置の製造方法によれば、上記のカラーフィルタ、液晶装置及び電子機器を確実に、簡単に且つ安価に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態の断面構造を示す断面図である。
【図２】図１において矢印ＩＩで示す部分を拡大して示す図であって、本発明に係るカラーフィルタの一実施形態を示す図である。
【図３】本発明に係るカラーフィルタの他の実施形態を示す図である。
【図４】本発明に係る液晶装置の他の実施形態の断面構造を示す断面図である。
【図５】図４において矢印Ｖで示す部分を拡大して示す図であって、本発明に係るカラーフィルタの他の実施形態を示す図である。
【図６】本発明に係る液晶装置の一実施形態の外観形状を示す斜視図である。
【図７】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図８】図７に示す製造方法の主要工程を示すと共に、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図９】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１０】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさらに他の実施形態を示す工程図である。
【図１１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法において用いられる主要部材の１つであるマザー基材を示す図である。
【図１２】インクジェット法による膜形成方法を実現するためのインクジェットヘッドの制御系の一例を示すブロック図である。
【図１３】インクジェットヘッドの一例の内部構造を示す断面斜視図である。
【図１４】図１３におけるＩＶ−ＩＶ線に従った断面図である。
【図１５】本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図１６】本発明に係る電子機器の他の実施形態である腕時計を示す斜視図である。
【図１７】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態である携帯情報処理装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
１ 液晶装置
２ 液晶パネル
６ 照明装置
７ａ，７ｂ 基板
１３ａ，１３ｂ 基材
１４ 反射膜
１６ カラーフィルタ
１７ａ，１７ｂ 電極
１８ａ，１８ｂ 配向膜
１９ａ，１９ｂ 位相差板
２１ａ，２１ｂ 偏光板
２４ バンク
２６ 着色膜
２７ 保護膜
２８ 第１膜
２９ 第２膜
３１ 開口
４０ インクジェットヘッド
４４ 吐出ノズル
５７ インク加圧体
５８ 圧電素子
８１ 液晶装置
８６ カラーフィルタ
Ｌ 液晶層
Ｍ 着色膜材料
Ｒ 反射光
Ｔ 透過光

Claims (29)

1. 基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタにおいて、
   前記基板上に設けられるか又は前記基板とは別体に設けられていて前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部を備えた反射膜を有し、
   前記複数ドットの着色膜の少なくとも１つは互いに色特性の異なる第１膜と第２膜とを積層して成り、
   １ドットの着色膜内の前記開口部に対応する領域と前記反射膜に対応する領域との間で、前記第１膜と前記第２膜との膜厚割合が変化し、
   前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つ又はそれらの少なくとも２つの組み合わせであることを特徴とするカラーフィルタ。
2. 請求項１において、前記第１膜及び第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成され、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とが互いに異なることを特徴とするカラーフィルタ。
3. 請求項１から請求項２の少なくとも１つにおいて、前記開口部を備えた反射膜上に形成されてなる第１膜は中央部が前記開口部側に窪む３次元的な谷形状であり、前記第１膜上に形成されてなる前記第２膜はその底面が前記第１膜の窪み面に面接触しその外部表面が平面である３次元的な逆山形状であることを特徴とするカラーフィルタ。
4. 請求項１から請求項２の少なくとも１つにおいて、前記開口部を備えた反射膜上に形成されてなる第１膜は中央部が前記開口部側とは逆方向に突出する３次元的な山形状であり、前記第１膜上に形成されてなる前記第２膜はその底面が前記第１膜の突出面に面接触しその外部表面が平面である３次元的な逆谷形状であることを特徴とするカラーフィルタ。
5. 請求項１から請求項４の少なくとも１つにおいて、前記複数ドットの着色膜は、平面的に配列された複数の異なる色相の着色膜を含むことを特徴とするカラーフィルタ。
6. 請求項５において、前記複数ドットの着色層は加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相の複数ドットの着色膜又は減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相の複数ドットの着色膜を平面的に配列させて成ることを特徴とするカラーフィルタ。
7. 請求項１から請求項６の少なくとも１つにおいて、前記第１膜及び前記第２膜の少なくとも一方はインクジェット法によって基板上に付けられることを特徴とするカラーフィルタ。
8. 請求項７において、インクジェット法によらない膜はフォトリソグラフィー法によって基板上に付けられることを特徴とするカラーフィルタ。
9. 基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタにおいて、
   前記基板上に設けられるか又は前記基板とは別体に設けられていて前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部を備えた反射膜を有し、
   前記複数ドットの着色膜の少なくとも１つは互いに色特性の異なる第１膜と第２膜とを隣接させて成り、
   前記第１膜及び前記第２膜のいずれか一方は、他方に対して撥インク性を有する材料によって形成され、
   前記第１膜又は前記第２膜の一方は前記開口部に対応して設けられ、
   前記第１膜又は前記第２膜の他方は前記反射膜に対応して設けられ、
   前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つ又はそれらの少なくとも２つの組み合わせであることを特徴とするカラーフィルタ。
10. 請求項９において、前記第１膜及び第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成され、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とが互いに異なることを特徴とするカラーフィルタ。
11. 請求項９から請求項１０の少なくとも１つにおいて、前記複数ドットの着色膜は、平面的に配列された複数の異なる色相の着色膜を含むことを特徴とするカラーフィルタ。
12. 請求項１１において、前記複数ドットの着色層は加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相の複数ドットの着色膜又は減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相の複数ドットの着色膜を平面的に配列させて成ることを特徴とするカラーフィルタ。
13. 請求項９から請求項１２の少なくとも１つにおいて、
    前記第１膜又は前記第２膜のうち先に形成される膜はフォトリソグラフィー法によって基板上に付けられ、
    前記第１膜又は前記第２膜のうち後に形成される膜はインクジェット法によって基板上に付けられることを特徴とするカラーフィルタ。
14. 基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタの製造方法において、
    前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部が位置するように前記基板上に又は前記基板とは別体に反射膜を形成する工程と、
    前記基板上の前記着色膜の形成領域に第１膜を形成する工程と、
    前記第１膜の上に該第１膜と色特性の異なる第２膜を積層する工程とを有し、
    前記第１膜と前記第２膜は、１ドットの着色膜内の前記開口部に対応する領域と前記反射膜に対応する領域との間で、膜厚割合が変化するように形成され、
    前記色特性はＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つ又はそれらの少なくとも２つの組み合わせであることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
15. 請求項１４において、前記第１膜及び第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成され、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とが互いに異なることを特徴とするカラーフィルタ。
16. 請求項１４から請求項１５の少なくとも１つにおいて、前記開口部を備えた反射膜上に形成されてなる前記第１膜は中央部分が前記開口部側に窪む３次元的な谷形状であり、前記第１膜上に形成されてなる前記第２膜はその底面が前記第１膜の窪み面に面接触しその外部表面が平面である３次元的な逆山形状であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
17. 請求項１４から請求項１５の少なくとも１つにおいて、前記開口部を備えた反射膜上に形成されてなる前記第１膜は中央部分が前記開口部側とは逆方向に突出する３次元的な山形状であり、前記第１膜上に形成されてなる前記第２膜はその底面が前記第１膜の突出面に面接触しその外部表面が平面である３次元的な逆谷形状であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
18. 請求項１５から請求項１７の少なくとも１つにおいて、前記複数ドットの着色膜は、平面的に配列された複数の異なる色相の着色膜を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
19. 請求項１８において、前記複数ドットの着色膜は加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相の複数ドットの着色膜又は減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相の複数ドットの着色膜を平面的に配列させて成ることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
20. 請求項１４から請求項１９の少なくとも１つにおいて、前記第１膜を形成する工程及び前記第２膜を形成する工程の少なくとも一方はインクジェット法によって行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
21. 請求項２０において、インクジェット法を用いない工程はフォトリソグラフィー法によって行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
22. 基板上に複数ドットの着色膜を形成して成るカラーフィルタの製造方法において、
    前記複数ドットの着色膜の個々に対応して開口部が位置するように前記基板上に又は前記基板とは別体に反射膜を形成する工程と、
    前記基板上における前記着色膜の形成領域内の一部に第１膜を形成する工程と、
    前記着色膜の形成領域内であって前記第１膜と隣接する部分に前記第１膜と色特性の異なる第２膜を形成する工程とを有し、
    前記第１膜は前記第２膜に対して撥インク性を有する材料によって形成され、
    前記第１膜又は前記第２膜の一方は前記開口部に対応して設けられ、
    前記第１膜又は前記第２膜の他方は前記反射膜に対応して設けられ、
    前記色特性は、ＨＶＣ表色系のＨ（色相）、ＨＶＣ表色系のＶ（明度）、ＨＶＣ表色系のＣ（彩度）及び光濃度の少なくとも１つ又はそれらの少なくとも２つの組み合わせであることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
23. 請求項２２において、前記第１膜及び第２膜は溶媒に着色剤を含ませて成る着色膜材料を用いて形成され、この着色膜材料における着色剤の含有量を異ならせることにより、前記第１膜の色特性と前記第２膜の色特性とが互いに異なることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
24. 請求項２２から請求項２３の少なくとも１つにおいて、前記複数ドットの着色膜は、平面的に配列された複数の異なる色相の着色膜を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
25. 請求項２４において、前記複数ドットの着色膜は加法混色の３原色であるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色相の複数ドットの着色膜又は減法混色の３原色であるＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各色相の複数ドットの着色膜を平面的に配列させて成ることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
26. 請求項２２から請求項２５の少なくとも１つにおいて、
    前記第１膜を形成する工程はフォトリソグラフィー法によって行われ、
    前記第２膜を形成する工程はインクジェット法によって行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
27. 液晶層を挟持する一対の基板と、液晶を駆動する回路と、前記一対の基板の一方に形成されたカラーフィルタとを有する液晶装置において、前記カラーフィルタは、請求項１から請求項１３に記載したカラーフィルタによって構成されることを特徴とする液晶装置。
28. 液晶層を挟持する一対の基板と、液晶を駆動する回路と、
    前記一対の基板の一方に形成されたカラーフィルタとを有する液晶装置の製造方法において、
    前記カラーフィルタを形成する工程は、請求項１４から請求項２６に記載した構成のカラーフィルタの製造方法によって行われることを特徴とする液晶装置の製造方法。
29. 液晶装置と、該液晶装置を収容する筐体とを有する電子機器において、前記液晶装置は請求項２７に記載した液晶装置によって構成されることを特徴とする電子機器。

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