JP3707451B2 - Manufacturing method of resin-encapsulated semiconductor device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体チップを封止樹脂で封止した樹脂封止型半導体装置の製造方法に関するものであり、特に、封止工程の後、樹脂封止体を半導体チップごとに切断するダイシング工程に主眼をおいた樹脂封止型半導体装置の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、複数の半導体チップをリードフレームに搭載した後、封止樹脂で封止された樹脂封止体が、半導体チップごとに個片に分割された後、製品として出荷されていた。
【0003】
ところが最近になって、封止工程において、半導体チップごとに封止樹脂で封止した後、突出したリードを切断加工するよりも、リードフレームに搭載された複数の半導体チップを一括して封止樹脂により封止した後、半導体チップごとに切断して分割する方法が採用されている。
【0004】
そして、封止樹脂で封止された複数の半導体チップを分割する工程において、複数の半導体チップが封止樹脂により封止された樹脂封止体の表面をダイシングテープに貼り付け、ダイシングブレードに冷却水を供給しながら、樹脂封止体側から切断していた。その後、半導体チップごとに分離された樹脂封止体とダイシングテープとの粘着力を低下させるため、紫外線を樹脂封止体側から照射した後、樹脂封止体をダイシングテープから分離していた。
【0005】
次に、従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法におけるダイシング工程について、図面を参照しながら説明する。
【0006】
図15は、従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法におけるダイシング工程を示す図である。
【0007】
図15(a)に示すように、複数の半導体チップ(図示せず)が封止樹脂1で封止された第1の樹脂封止体2のリードフレーム3側から回転するダイシングブレード4を接触させ、第1の樹脂封止体2を半導体チップごとに切断する。
【0008】
次に、図15(b)に示すように、第1の樹脂封止体2および第2の樹脂封止体5の表面はダイシングテープ6で固定されているが、ダイシングテープ6表面の接着剤7にダイシングブレードが接すると、接着剤7が回転するダイシングブレードに連動して飛散し、第1の樹脂封止体2の隣りの第2の樹脂封止体5の表面に付着する。
【0009】
次に、図15(c)に示すように、第2の樹脂封止体5をダイシングブレード4により半導体チップごとに切断する。
【0010】
なお、図15(d)に示すように、第2の樹脂封止体5のリードフレームには接着剤8が付着した状態となっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、封止樹脂で封止された複数の半導体チップを個片に分割する工程において、ダイシングブレードがダイシングテープの接着剤に達して回転するために、ダイシングテープの接着剤がダイシングブレードの回転方向に飛び散り、飛び散った接着剤が樹脂封止体の表面やリード(外部端子)に付着して、外部端子の表面における電気的接続不良などの不具合が発生していた。
【0012】
前記従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法の課題を解決するために、本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、半導体チップを搭載するためのダイパッドと、前記ダイパッドの周囲に配置されたリードと、少なくとも前記リードの底面に張り付いた封止テープとからなる構成を一単位として、前記ダイパッドが複数配置されたリードフレームを用意する工程と、前記複数のダイパッド各々に前記半導体チップを各々搭載する工程と、前記半導体チップの電極と前記リードとを電気的に接続する工程と、前記複数の半導体チップおよび前記リードの表面を封止樹脂により一括して封止する工程と、前記封止テープを前記リードフレームから剥がす工程と、前記封止樹脂により封止された樹脂封止体の表面に、紫外線硬化型接着剤を表面に有するダイシングテープを貼り付ける工程と、前記樹脂封止体の前記リードフレーム側から紫外線を照射して前記紫外線硬化型接着剤を硬化させる工程と、ダイシングブレードにより前記半導体チップごとに前記樹脂封止体を個片に分割する工程とからなり、前記リードフレームの底面側から前記ダイシングブレードにより前記半導体チップごとに前記樹脂封止体を個片に分割する工程では、前記ダイシングブレードの前記リードフレームの切断部における回転方向は、前記ダイシングブレードの前記リードフレームに対する相対的な進行方向と逆方向であり、前記ダイシングブレードの前記リードフレームの切断部における回転方向と逆方向に切断中の樹脂封止体とは別の樹脂封止体が形成されていることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
【0013】
これにより、ダイシング時の回転するダイシングブレードが、封止テープ表面に形成された紫外線硬化型接着剤に接しても、紫外線硬化型接着剤がすでに硬化しているので、回転するダイシングブレードにより紫外線硬化型接着剤が巻き上げられることがなく、リード表面等における安定した電気的接続を確保することができる。
【0014】
また、ダイシングテープは紫外線が透過する材料からなる。
【0015】
これにより、紫外線がダイシングテープを透過して、ダイシングテープ表面に形成された紫外線硬化型接着剤を硬化させることができる。
【0016】
また、ダイシングブレードにより半導体チップごとに樹脂封止体を個片に分割する工程の後、ダイシングテープ側からさらに紫外線を照射して、前記樹脂封止体と前記ダイシングテープとの間の紫外線硬化型接着剤の接着力を低下させる工程を設ける。
【0017】
これにより、半導体チップが封止樹脂により封止された樹脂封止体を封止テープから容易に剥がすことができる。
【0018】
また、ダイシングテープの基材は、ポリオレフィンまたはポリエステルを主成分とする樹脂である。
【0019】
また、ダイシングテープの表面に形成された紫外線硬化型接着剤は、アクリルまたはシリコンまたはフェノールまたはエポキシを主成分とする。
【0020】
また、紫外線硬化型接着剤の厚みは20[μm]〜30[μm]である。
【0022】
また、半導体チップを搭載するためのダイパッドと、前記ダイパッドの周囲に配置されたリードと、少なくとも前記リードの底面に張り付いた封止テープとからなる構成を一単位として、前記ダイパッドが複数配置されたリードフレームを用意する工程と、前記複数のダイパッド各々に前記半導体チップを各々搭載する工程と、前記半導体チップの電極と前記リードとを電気的に接続する工程と、前記複数の半導体チップおよび前記リードの表面を封止樹脂により一括して封止する工程と、前記封止テープを前記リードフレームから剥がす工程と、前記封止樹脂により封止された樹脂封止体の表面に、紫外線硬化型接着剤を表面に有するダイシングテープを貼り付ける工程と、前記樹脂封止体の前記リードフレーム側から紫外線を照射して前記紫外線硬化型接着剤を硬化させる工程と、ダイシングブレードにより前記半導体チップごとに前記樹脂封止体を個片に分割する工程と、前記樹脂封止体または前記ダイシングブレードを180度回転させ、別の樹脂封止体を切断する工程とからなり、前記リードフレームの底面側から前記ダイシングブレードにより前記半導体チップごとに前記樹脂封止体を個片に分割する工程では、前記ダイシングブレードの前記リードフレームの切断部における回転方向は、前記ダイシングブレードの前記リードフレームに対する相対的な進行方向と逆方向であり、前記ダイシングブレードの前記リードフレームの切断部における回転方向と逆方向に切断中の樹脂封止体とは別の樹脂封止体が形成されている。
【0023】
これにより、仮に、ダイシングブレードの回転運動によって、封止テープ表面の紫外線硬化型接着剤が巻き上げられても、紫外線硬化型接着剤が樹脂封止体およびその周囲のリードに付着することがない。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、初めに製造方法全体の概略について説明し、その後、本実施形態の特徴的部分について詳細に説明する。
【0025】
図1および図2は、本実施形態の樹脂封止型半導体装置の各工程を示す断面図である。
【0026】
まず、図1(a)に示すように、封止テープ9が裏面に貼り付けられたリードフレーム10を用意し、リードフレーム10のダイパッド(図示せず)に半導体チップ11の裏面を接着し、半導体チップ11の電極12とリードフレーム10のリード(図示せず)とを金属細線13により電気的に接続する。
【0027】
次に、図1(b)に示すように、半導体チップ11、金属細線13およびリードの表面を熱硬化性のエポキシ樹脂からなる封止樹脂14により封止する。
【0028】
次に、図1(c)に示すように、リードフレーム10の裏面から封止テープ9を剥がす。
【0029】
次に、図2(a)に示すように、半導体チップ11および金属細線13が封止樹脂14により封止された樹脂封止体15の表面にダイシングテープ16を貼り付け、樹脂封止体15のリードフレーム10側から紫外線を照射して、ダイシングテープ16の樹脂封止体15が搭載されていない領域の紫外線硬化型接着剤17を硬化させる。ダイシングテープ16の周囲はリングフレーム31により固定されている。
【0030】
次に、図2(b)に示すように、回転するダイシングブレード(図示せず)をリードフレーム10の底面側から接触させ、樹脂封止体15を切断して、半導体チップ11ごとに分割する。
【0031】
次に、図2(c)に示すように、ダイシングテープ16側から紫外線を照射して、ダイシングテープ16表面に形成されている、すなわち、ダイシングテープ16と樹脂封止体15との間の紫外線硬化型接着剤17を硬化させる。
【0032】
以上、本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の特徴は、ダイシングブレードでリードフレームおよび樹脂封止体を切断する前に、ダイシングテープ表面の紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより、回転するダイシングブレードがダイシングテープ表面の紫外線硬化型接着剤に接しても、紫外線硬化型接着剤が飛散することを抑制し、別の樹脂封止体およびその周囲のリード等に紫外線硬化型接着剤が付着することがなくなり、樹脂封止型半導体装置を実装基板に実装した際に、安定した電気的接続を確保することができる。
【0033】
次に、前記樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程について詳細に説明する。
【0034】
まず、本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法で用いるリードフレームの一実施形態について説明する。
【0035】
図3は、本実施形態のリードフレームを示す平面図である。
【0036】
図3に示すように、リードフレーム10の短手方向の両端に複数の位置決め穴(丸穴または長穴)18を有し、位置決め穴18の内側領域に樹脂封止領域19が存在する。そして、本実施形態のリードフレーム10は、半導体チップを搭載するためのダイパッド20と、ダイパッド20の周囲に配置されたリード21と、少なくともリード21の底面に貼り付いた封止テープ(図示せず)とからなる構成を一単位として、ダイパッド20が複数配置されている。なお、破線で示した樹脂封止領域19は、半導体チップを搭載して樹脂封止型半導体装置を構成する場合、封止樹脂で封止する領域を示している。
【0037】
また、本実施形態のリードフレーム10は、銅(Cu)材よりなり、リードフレーム10の表面には、パラジウム(Pd)めっき、具体的には、ニッケル(Ni)めっき層、パラジウム(Pd)めっき層、金(Au)めっき層の3層でめっき層を構成し、または、錫−銀(Sn−Ag)、錫−ビスマス(Sn−Bi)等のはんだめっきが部分的に施されているものからなる。リードフレーム10に施されるめっきの厚みはAuめっき、Pdめっきでは1[μm]以下、Agめっきで数[μm]以下である。
【0038】
そして、本実施形態のリードフレーム10のサイズは、短手方向が30〜80[mm]、長手方向が50〜260[mm]、厚みが0.1〜0.4[mm]の範囲で使用される。またリードフレーム10の材質はFe Ni材やCu合金などが使用される。配列される樹脂封止型半導体装置のサイズは3.0×3.0[mm]〜20.0×20.0[mm]である。
【0039】
次に、封止工程について説明する。
【0040】
図4は、封止工程における封止金型および封止金型内の樹脂封止体を示す断面図である。また、図5は、封止工程の後、複数の半導体チップが封止樹脂により封止された樹脂封止体を示した図である。図5(a)は、樹脂封止体の平面図であり、図5(b)は、図5(a)のA−A1箇所における断面図である。
【0041】
図4に示すように、樹脂封止金型22のランナー部23より封止樹脂14を注入し、リードフレーム10の樹脂封止領域、少なくとも半導体チップ11、リードの上面を封止樹脂14により封止する。なお、樹脂封止型半導体装置の組立工程を安定して行うためリードフレーム10の半導体チップ11を接合する側の対向面に熱耐熱性のポリイミドやアルミ箔のような基材を仮貼付する場合もある。
【0042】
また、図5(a)および図5(b)に示すように、複数の半導体チップ11、リードフレーム10の表面および金属細線13が封止樹脂14によって一括して封止される。
【0043】
次に、複数の半導体チップが一括封止された樹脂封止体の分割工程(ダイシング工程)について説明する。
【0044】
図6(a)は、複数の半導体チップが一括して封止樹脂により封止された樹脂封止体がダイシングテープに貼り付けられた状態を示す平面図であり、図6(b)は、図6(a)に示した樹脂封止体を半導体チップごとにダイシングブレードにより切断する工程を示した断面図である。
【0045】
図6(a)および図6(b)に示すように、複数の半導体チップ(図示せず)が封止樹脂14により一括して封止された樹脂封止体15が、ポリオレフィン、ポリエステル等を主成分とする樹脂からなり厚みが0.1[mm]〜0.3[mm]のダイシングテープ16に貼り付けられ、ダイシングテープ16は金属製のリング24に貼り付けられて固定されている。ダイシングテープ16の表面には、アクリル系またはシリコン系またはフェノール系またはエポキシ系等の主成分からなり、厚みが0.01[mm]〜0.10[mm]の紫外線硬化型接着剤17が形成され、樹脂封止体15が接着されているものである。そして、樹脂封止体15のリードフレーム10側から紫外線を照射することで、ダイシングテープ16表面の樹脂封止体15が貼り付けられた部分以外の紫外線硬化型接着剤17を硬化させる。ダイシングテープ16は紫外線を透過できるものであればよく、本実施形態では青色透明のものを用いている。
【0046】
次に、樹脂封止体15のリードフレーム10側からダイシングブレード25により半導体チップ11ごとに切断する。
【0047】
以上のダイシング工程では、ダイシングする前に、ダイシングテープ表面の紫外線硬化型接着剤があらかじめ硬化されているので、回転するダイシングブレードが硬化した紫外線硬化型接着剤に接触しても、紫外線硬化型接着剤が巻き上げられることがなく、周囲のリード表面に紫外線硬化型接着剤が付着することがない。
【0048】
次に、ダイシング工程で用いられるダイシングブレードの一実施形態について説明する。
【0049】
図7は、本実施形態のダイシングブレードを示した図である。
【0050】
図7に示すように、本実施形態のダイシングブレード25は、ダイヤモンドの砥粒をボンド剤で固めたものであり、ダイヤモンドの砥粒の大きさや形状やボンド剤の材料を選定することで最適な切削条件を得られるダイシングブレードとなる。ダイシングブレード25は電着、電鋳等のニッケル等の金属をメッキしたもの、またはフリット、セラミック等を焼結したビトリファイド、またはフェノールレジン等の熱硬化性樹脂を焼結したレジン、または銅(Cu)、すず(Sn)等の各種メタルを用い焼結したメタル等の材質がある。また、ダイシングブレード砥粒はダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、GC、A、WA等の材質である。
【0051】
シリコン(Si)やガリ砒素(GaAs)ウェハーなどを切断するダイシングブレード25は、直径が60[mm]〜80[mm]、厚みが30[μm]〜400[μm]であるが、本実施形態では直径78[mm]、厚みが約300[μm]のものを使用している。本発明の製造方法で重要な点として、シリコン(Si)やガリ砒素(GaAs)ウェハーに比較して樹脂封止型半導体装置(エポキシレジンと金属(リードフレーム)の集合体)を製品分離する場合、切削抵抗が大きく切削時の発熱量も大きくなるが、切削時の切りくずを洗浄したり、発熱を抑えるシャワーリング水の水温を制御することにより、切削時の発熱を抑制することができる。
【0052】
次に、ダイシングテープの接着剤が樹脂封止体に付着するメカニズムについて説明する。
【0053】
図8は、ダイシングブレードがダイシングテープに貼り付けられて固定されている樹脂封止体を切断する状態を示した断面図である。
【0054】
図8に示すように、ダイシングテープ16の基材26の表面に形成された紫外線硬化型接着剤17に、複数の半導体チップが封止樹脂により一括封止された樹脂封止体15が貼り付けられている。そして、樹脂封止体15のリードフレーム側から回転するダイシングブレード25が接触し、ダイシングテープ16の基材26の表面まで切り込む。この時、紫外線硬化型接着剤17が硬化していないと、回転するダイシングブレード25により紫外線硬化型接着剤17が飛散し、リード等の表面に付着する。本発明では、ダイシングする前にあらかじめ、紫外線硬化型接着剤17を硬化させておくことによって、ダイシングブレード25が接触しても紫外線硬化型接着剤17が飛散することを抑制している。
【0055】
次に、ダイシングテープ表面に形成されている紫外線硬化型接着剤(以下、「接着剤」と記載する)の厚みと、接着強度および接着剤がダイシングブレードにより飛散して付着する付着率との関係について説明する。
【0056】
図9は、接着剤の厚みと、接着強度および接着剤がダイシングブレードにより飛散して付着する付着率との関係を示したグラフである。
【0057】
図9に示すように、ダイシングテープの接着剤の厚さが小さくなるほど、接着強度とともに付着発生率も小さくなっている。接着剤厚みが20[μm]では接着強度は比較的大きいが、付着発生率は小さくなっている。接着剤の厚みが15[μm]になると、接着強度の低下も大きくなり樹脂封止体の固定が不安定になる。以上の実験結果から、本実施形態では、ダイシングテープ表面に形成される紫外線硬化型の接着剤の厚みは、20[μm]〜30[μm]に設定することがよい。
【0058】
次に、ダイシングテープの表面に形成された紫外線硬化型接着剤の硬化方法について説明する。
【0059】
まず、第1の実施形態について説明する。
【0060】
図10および図11は、複数の半導体チップが封止樹脂により封止された樹脂封止体がダイシングテープに貼り付けられた状態で、紫外線を照射することにより、紫外線硬化型接着剤を硬化させる方法を示した図である。
【0061】
図10(a)に示すように、複数の半導体チップが封止樹脂により封止された樹脂封止体15の表面をダイシングテープ16に貼り付け、樹脂封止体15のリードフレーム10側から紫外線27を照射し、紫外線硬化型接着剤17を硬化させる。
【0062】
次に、図10(b)に示すように、樹脂封止体15を半導体チップごとにダイシングブレード25により切断する。この際、ダイシングブレード25のリードフレームにおける切断部における回転方向は、ダイシングブレード25のリードフレームに対する相対的な進行方向と逆方向であり、ダイシングブレード25のリードフレームの切断部における回転方向と逆方向に切断中の樹脂封止体とは別の樹脂封止体15が形成されている。
【0063】
次に、図10(c)に示すように、ダイシングテープ16側からさらに紫外線27を照射させて紫外線硬化型接着剤17の接着力を低下させる。
【0064】
以上、本実施形態は、樹脂封止体をマスクとして活用し、樹脂封止体が貼り付けられた部分以外の紫外線硬化型接着剤を硬化させることにより、ダイシング工程において、ダイシングブレードの回転によるダイシングテープ接着剤の飛散する量が抑制され、樹脂封止体に接触したのダイシングテープの接着剤の付着量を低減できる。
【0065】
次に、第2の実施形態について説明する。
【0066】
図11(a)に示すように、複数の半導体チップが封止樹脂により封止された樹脂封止体15の表面をダイシングテープ16に貼り付け、ダイシングテープ16側から紫外線27を照射し、紫外線硬化型接着剤17を硬化させる。
【0067】
次に、図11(b)に示すように、樹脂封止体15を半導体チップごとにダイシングブレード25により切断する。
【0068】
次に、図11(c)に示すように、ダイシングテープ16側からさらに紫外線27を照射させて紫外線硬化型接着剤17の接着力を低下させる。
【0069】
以上、本実施形態でも、ダイシング工程において、ダイシングブレードの回転によるダイシングテープ接着剤の飛散する量が抑制され、成形品上のダイシングテープ接着剤の付着量を低減できる。
【0070】
次に、2つ以上の樹脂封止体(切断前)をダイシングブレードにより切断する際の「ローテーションカット工法」の一実施形態について説明する。
【0071】
図12および図13は、本実施形態の工程を示す斜視図である。
【0072】
まず図12(a)および図12(b)に示すように、複数の半導体チップが封止樹脂により封止された第1の樹脂封止体28をダイシングブレード25により半導体チップごとに切断する。この時、ダイシングブレード25の切断部における回転方向は、第2の樹脂封止体29がある方向と反対方向であるので、ダイシングブレード25の回転による接着剤の飛散があったとしても、接着剤の飛散する方向が第2の樹脂封止体29とは反対方向であるので、第2の樹脂封止体29には接着剤が付着しない。
【0073】
次に、図12(c)に示すように、2つの樹脂封止体を固定しているダイシングチャックテーブル30を180度回転させる。
【0074】
次に、図13(a)および図13(b)に示すように、第2の樹脂封止体29の接着剤が第1の樹脂封止体28がある方向と反対方向に飛散するように、ダイシングブレード25の回転方向を確認し、第2の樹脂封止体29を半導体チップごとに切断する。
【0075】
以上、2つ以上の樹脂封止体を順次ダイシングブレードによりダイシングする場合、未切断の樹脂封止体にダイシングテープの接着剤が飛散しないようにするため、ダイシングブレードの切断部における回転方向を未切断の樹脂封止体と反対方向にしている。
【0076】
次に、ローテーション工法による接着剤の付着量の低下について説明する。
【0077】
図14は、従来のようにローテーション工法を用いない場合と、ローテーション工法を用いてダイシングを行った場合とで、接着剤の樹脂封止体表面に付着する付着量を比較したグラフである。
【0078】
図14に示すように、前述のローテーション工法により、従来に比較して、接着剤の付着量が80%以上削減できている。
【0079】
【発明の効果】
本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、複数の半導体チップが一括して封止樹脂により封止された樹脂封止体を半導体チップごとに切断する工程において、樹脂封止体が貼り付けられた封止テープの表面に形成された紫外線硬化型接着剤を、ダイシングブレードによる切断を行う前に硬化させることで、回転するダイシングブレードが紫外線硬化型接着剤に接触しても紫外線硬化型接着剤が飛散せず、リード等の表面に付着することなく、樹脂封止型半導体装置が実装基板に実装された後に安定した電気的接続を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程を示す断面図
【図2】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程を示す断面図
【図3】本発明の一実施形態のリードフレームを示す平面図
【図4】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図
【図5】本発明の一実施形態の樹脂封止体を示す図
【図6】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図
【図7】本発明の一実施形態のダイシングブレードを示す図
【図8】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図
【図9】本発明の接着剤の接着強度および付着率を示す図
【図10】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程を示す断面図
【図11】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程を示す断面図
【図12】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程を示す断面図
【図13】本発明の一実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程を示す断面図
【図14】本発明の接着剤の付着量を示す図
【図15】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法の各工程を示す斜視図
【符号の説明】
1 封止樹脂
2 第1の樹脂封止体
3 リードフレーム
4 ダイシングブレード
5 第2の樹脂封止体
6 ダイシングテープ
7 接着剤
8 接着剤
9 封止テープ
10 リードフレーム
11 半導体チップ
12 電極
13 金属細線
14 封止樹脂
15 樹脂封止体
16 ダイシングテープ
17 紫外線硬化型接着剤
18 位置決め穴
19 樹脂封止領域
20 ダイパッド
21 リード
22 樹脂封止金型
23 ランナー部
24 リング
25 ダイシングブレード
26 基材
27 紫外線
28 第1の樹脂封止体
29 第2の樹脂封止体
30 ダイシングチャックテーブル
31 リングフレーム[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device in which a semiconductor chip is encapsulated with an encapsulating resin. In particular, the present invention relates to a dicing process of cutting a resin-encapsulated body for each semiconductor chip after the encapsulating process. The present invention relates to a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device that focuses on the main point.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, after mounting a plurality of semiconductor chips on a lead frame, a resin sealing body sealed with a sealing resin is divided into individual pieces for each semiconductor chip and then shipped as a product.
[0003]
However, recently, in a sealing process, after sealing each semiconductor chip with a sealing resin, a plurality of semiconductor chips mounted on the lead frame are sealed together rather than cutting the protruding leads. After sealing with resin, a method of cutting and dividing each semiconductor chip is employed.
[0004]
Then, in the step of dividing the plurality of semiconductor chips sealed with the sealing resin, the surface of the resin sealing body in which the plurality of semiconductor chips are sealed with the sealing resin is attached to the dicing tape and cooled to the dicing blade. While supplying water, cutting was performed from the resin sealing body side. Then, in order to reduce the adhesive force between the resin sealing body separated for each semiconductor chip and the dicing tape, the resin sealing body was separated from the dicing tape after irradiation with ultraviolet rays from the resin sealing body side.
[0005]
Next, a dicing process in the conventional method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device will be described with reference to the drawings.
[0006]
FIG. 15 is a diagram showing a dicing process in a conventional method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device.
[0007]
As shown in FIG. 15A, a plurality of semiconductor chips (not shown) are in contact with a
[0008]
Next, as shown in FIG. 15 (b), the surfaces of the first
[0009]
Next, as shown in FIG. 15C, the second
[0010]
As shown in FIG. 15D, the adhesive 8 is attached to the lead frame of the
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, the dicing blade reaches the adhesive of the dicing tape and rotates in the step of dividing the plurality of semiconductor chips encapsulated with the encapsulating resin into individual pieces. For this reason, the adhesive of the dicing tape scatters in the rotating direction of the dicing blade, and the scattered adhesive adheres to the surface of the resin sealing body and leads (external terminals), resulting in poor electrical connection on the surface of the external terminals. There was a bug.
[0012]
In order to solve the problems of the conventional method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention includes a die pad for mounting a semiconductor chip, and a periphery of the die pad. A step of preparing a lead frame in which a plurality of die pads are arranged, each of the plurality of die pads being provided with a semiconductor chip and a structure comprising at least a sealing tape attached to the bottom surface of the leads as a unit; A step of electrically connecting the electrodes of the semiconductor chip and the leads, a step of collectively sealing the surfaces of the plurality of semiconductor chips and the leads with a sealing resin, A step of peeling the sealing tape from the lead frame, and a surface of the resin sealing body sealed with the sealing resin, an ultraviolet curable adhesive on the surface And the step of attaching a dicing tape to be, theThe lead frame of the resin sealing bodyA step of irradiating ultraviolet rays from the side to cure the ultraviolet curable adhesive, and a step of dividing the resin sealing body into individual pieces for each of the semiconductor chips by a dicing blade.In the step of dividing the resin sealing body into pieces for each semiconductor chip by the dicing blade from the bottom surface side of the lead frame, the rotation direction of the cutting portion of the lead frame of the dicing blade is the dicing blade The resin sealing body is formed in a direction opposite to the advancing direction relative to the lead frame and different from the resin sealing body being cut in the direction opposite to the rotation direction of the cutting portion of the lead frame of the dicing blade. Has beenA method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device.
[0013]
As a result, even if the dicing blade that rotates during dicing contacts the ultraviolet curable adhesive formed on the surface of the sealing tape, the ultraviolet curable adhesive is already cured, so the rotating dicing blade cures the ultraviolet light. The mold adhesive is not wound up, and stable electrical connection on the lead surface or the like can be ensured.
[0014]
The dicing tape is made of a material that transmits ultraviolet rays.
[0015]
Thereby, an ultraviolet-ray permeate | transmits a dicing tape and the ultraviolet curing adhesive agent formed in the dicing tape surface can be hardened.
[0016]
Also, with a dicing bladeHalfEvery conductor chipTreeAfter the step of dividing the oil-sealed body into individual pieces, further irradiating ultraviolet rays from the dicing tape side, the resin sealed body andDicingA step of reducing the adhesive force of the ultraviolet curable adhesive with the tape is provided.
[0017]
Thereby, the resin sealing body in which the semiconductor chip is sealed with the sealing resin can be easily peeled off from the sealing tape.
[0018]
The base material of the dicing tape is a resin mainly composed of polyolefin or polyester.
[0019]
Further, the ultraviolet curable adhesive formed on the surface of the dicing tape has acrylic, silicon, phenol, or epoxy as a main component.
[0020]
The thickness of the ultraviolet curable adhesive is 20 [μm] to 30 [μm].
[0022]
Further, a plurality of die pads are arranged with a unit consisting of a die pad for mounting a semiconductor chip, a lead arranged around the die pad, and at least a sealing tape attached to the bottom surface of the lead as a unit. Preparing a lead frame, mounting each of the semiconductor chips on each of the plurality of die pads, electrically connecting electrodes of the semiconductor chip and the leads, the plurality of semiconductor chips, A step of collectively sealing the surface of the lead with a sealing resin, a step of peeling the sealing tape from the lead frame, and a surface of the resin sealing body sealed with the sealing resin, an ultraviolet curable type A step of applying a dicing tape having an adhesive on the surface, and irradiation with ultraviolet rays from the lead frame side of the resin sealing body A step of curing the ultraviolet curable adhesive, a step of dividing the resin sealing body into individual pieces for each of the semiconductor chips by a dicing blade, rotating the resin sealing body or the dicing blade by 180 degrees, A step of cutting the resin sealing body, and in the step of dividing the resin sealing body into individual pieces for each of the semiconductor chips by the dicing blade from the bottom surface side of the lead frame, the lead frame of the dicing blade The direction of rotation in the cutting portion is opposite to the direction of relative movement of the dicing blade relative to the lead frame, and the resin sealing body being cut in the direction opposite to the direction of rotation in the cutting portion of the lead frame of the dicing blade Another resin sealing body is formed.
[0023]
Thereby, even if the ultraviolet curable adhesive on the surface of the sealing tape is wound up by the rotational movement of the dicing blade, the ultraviolet curable adhesive does not adhere to the resin sealing body and the surrounding leads.
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of a method for producing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention will be described with reference to the drawings. The outline of the entire manufacturing method will be described first, and then the characteristic part of the present embodiment will be described in detail.
[0025]
1 and 2 are cross-sectional views showing respective steps of the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment.
[0026]
First, as shown in FIG. 1A, a
[0027]
Next, as shown in FIG. 1B, the surfaces of the
[0028]
Next, as shown in FIG. 1C, the sealing
[0029]
Next, as shown in FIG. 2A, a dicing
[0030]
Next, as shown in FIG. 2B, a rotating dicing blade (not shown) is brought into contact with the bottom surface side of the
[0031]
Next, as shown in FIG. 2C, ultraviolet rays are irradiated from the dicing
[0032]
As described above, the characteristics of the manufacturing method of the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment are that the ultraviolet curable adhesive on the surface of the dicing tape is cured before cutting the lead frame and the resin encapsulant with a dicing blade. Even if the rotating dicing blade comes into contact with the UV curable adhesive on the surface of the dicing tape, the UV curable adhesive is prevented from scattering, and the UV curable adhesive is applied to another resin encapsulant and its surrounding leads. When the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on the mounting substrate, stable electrical connection can be ensured.
[0033]
Next, each step of the method for manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device will be described in detail.
[0034]
First, an embodiment of a lead frame used in the method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment will be described.
[0035]
FIG. 3 is a plan view showing the lead frame of the present embodiment.
[0036]
As shown in FIG. 3, a plurality of positioning holes (round holes or long holes) 18 are provided at both ends in the short direction of the
[0037]
The
[0038]
The size of the
[0039]
Next, the sealing process will be described.
[0040]
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a sealing mold and a resin sealing body in the sealing mold in the sealing step. FIG. 5 is a view showing a resin sealing body in which a plurality of semiconductor chips are sealed with a sealing resin after the sealing step. Fig.5 (a) is a top view of a resin sealing body, FIG.5 (b) is sectional drawing in the AA1 location of Fig.5 (a).
[0041]
As shown in FIG. 4, the sealing
[0042]
In addition, as shown in FIGS. 5A and 5B, the plurality of
[0043]
Next, the dividing process (dicing process) of the resin sealing body in which a plurality of semiconductor chips are collectively sealed will be described.
[0044]
FIG. 6A is a plan view showing a state where a resin sealing body in which a plurality of semiconductor chips are collectively sealed with a sealing resin is attached to a dicing tape, and FIG. It is sectional drawing which showed the process of cut | disconnecting the resin sealing body shown to Fig.6 (a) for every semiconductor chip with a dicing blade.
[0045]
6A and 6B, a
[0046]
Next, each
[0047]
In the above dicing process, since the ultraviolet curable adhesive on the surface of the dicing tape is cured in advance before dicing, even if the rotating dicing blade comes into contact with the cured ultraviolet curable adhesive, the ultraviolet curable adhesive is used. The agent is not wound up, and the UV curable adhesive does not adhere to the surrounding lead surface.
[0048]
Next, an embodiment of a dicing blade used in the dicing process will be described.
[0049]
FIG. 7 is a view showing the dicing blade of the present embodiment.
[0050]
As shown in FIG. 7, the
[0051]
A
[0052]
Next, the mechanism by which the adhesive of the dicing tape adheres to the resin sealing body will be described.
[0053]
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a state in which the resin sealing body in which the dicing blade is attached to the dicing tape and is fixed is cut.
[0054]
As shown in FIG. 8, a
[0055]
Next, the relationship between the thickness of the ultraviolet curable adhesive (hereinafter referred to as “adhesive”) formed on the surface of the dicing tape and the adhesion strength and the adhesion rate at which the adhesive is scattered and adhered by the dicing blade Will be described.
[0056]
FIG. 9 is a graph showing the relationship between the thickness of the adhesive, the adhesive strength, and the adhesion rate at which the adhesive is scattered and adhered by the dicing blade.
[0057]
As shown in FIG. 9, the smaller the adhesive thickness of the dicing tape, the smaller the adhesion occurrence rate as well as the adhesive strength. When the adhesive thickness is 20 [μm], the adhesive strength is relatively large, but the adhesion occurrence rate is small. When the thickness of the adhesive is 15 [μm], the decrease in the adhesive strength is increased and the fixing of the resin sealing body becomes unstable. From the above experimental results, in this embodiment, the thickness of the ultraviolet curable adhesive formed on the surface of the dicing tape is preferably set to 20 [μm] to 30 [μm].
[0058]
Next, a method for curing the ultraviolet curable adhesive formed on the surface of the dicing tape will be described.
[0059]
First, the first embodiment will be described.
[0060]
FIGS. 10 and 11 show that an ultraviolet curable adhesive is cured by irradiating ultraviolet rays in a state where a resin sealing body in which a plurality of semiconductor chips are sealed with a sealing resin is attached to a dicing tape. It is the figure which showed the method.
[0061]
As shown in FIG. 10A, the surface of a
[0062]
Next, as shown in FIG. 10B, the
[0063]
Next, as shown in FIG. 10C, the
[0064]
As described above, the present embodiment uses the resin sealing body as a mask, and cures the ultraviolet curable adhesive other than the portion where the resin sealing body is attached, thereby dicing by dicing blade rotation in the dicing process. The amount of scattering of the tape adhesive is suppressed, and the adhesion amount of the adhesive on the dicing tape in contact with the resin sealing body can be reduced.
[0065]
Next, a second embodiment will be described.
[0066]
As shown in FIG. 11A, the surface of the
[0067]
Next, as shown in FIG. 11B, the
[0068]
Next, as shown in FIG. 11 (c), the
[0069]
As described above, also in the present embodiment, in the dicing process, the amount of the dicing tape adhesive that scatters due to the rotation of the dicing blade is suppressed, and the amount of the dicing tape adhesive on the molded product can be reduced.
[0070]
Next, an embodiment of a “rotation cut method” for cutting two or more resin sealing bodies (before cutting) with a dicing blade will be described.
[0071]
12 and 13 are perspective views showing the steps of the present embodiment.
[0072]
First, as shown in FIGS. 12A and 12B, the first
[0073]
Next, as shown in FIG. 12C, the dicing chuck table 30 fixing the two resin sealing bodies is rotated 180 degrees.
[0074]
Next, as shown in FIGS. 13A and 13B, the adhesive of the second
[0075]
As mentioned above, when two or more resin sealing bodies are diced sequentially with a dicing blade, in order to prevent the adhesive of the dicing tape from being scattered on the uncut resin sealing body, the rotational direction at the cutting portion of the dicing blade is not changed. The cutting direction is opposite to that of the resin sealing body.
[0076]
Next, a description will be given of a decrease in the adhesion amount of the adhesive by the rotation method.
[0077]
FIG. 14 is a graph comparing the amount of adhesive adhering to the surface of the resin sealing body when the rotation method is not used as in the prior art and when dicing is performed using the rotation method.
[0078]
As shown in FIG. 14, by the above-mentioned rotation method, the adhesion amount of the adhesive can be reduced by 80% or more compared to the conventional method.
[0079]
【The invention's effect】
The method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention includes a step of cutting a resin-encapsulated body in which a plurality of semiconductor chips are collectively encapsulated with an encapsulating resin in a step of cutting each semiconductor chip. The UV curable adhesive formed on the surface of the attached sealing tape is cured before cutting with the dicing blade, so that even if the rotating dicing blade comes into contact with the UV curable adhesive, it is UV curable. Stable electrical connection can be ensured after the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on the mounting substrate without the adhesive scattering and adhering to the surface of the lead or the like.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing steps of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing each step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a lead frame according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view showing a resin sealing body according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing one step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a view showing a dicing blade according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing one step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a diagram showing the adhesive strength and adhesion rate of the adhesive of the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view showing each step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a cross-sectional view showing each step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view showing each step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG.
13 is a cross-sectional view showing each step of a method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 14 is a diagram showing the adhesion amount of the adhesive of the present invention.
FIG. 15 is a perspective view showing each step of a conventional method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device.
[Explanation of symbols]
1 Sealing resin
2 1st resin sealing body
3 Lead frame
4 Dicing blade
5 Second resin sealing body
6 Dicing tape
7 Adhesive
8 Adhesive
9 Sealing tape
10 Lead frame
11 Semiconductor chip
12 electrodes
13 Metal wire
14 Sealing resin
15 Resin encapsulant
16 Dicing tape
17 UV curable adhesive
18 Positioning hole
19 Resin sealing area
20 die pad
21 Lead
22 Resin sealing mold
23 runner club
24 rings
25 Dicing blade
26 Base material
27 UV
28 1st resin sealing body
29 2nd resin sealing body
30 Dicing chuck table
31 Ring frame
Claims (7)
する請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。The method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein the thickness of the ultraviolet curable adhesive is 20 [μm] to 30 [μm].
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002185778A JP3707451B2 (en) | 2002-06-26 | 2002-06-26 | Manufacturing method of resin-encapsulated semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002185778A JP3707451B2 (en) | 2002-06-26 | 2002-06-26 | Manufacturing method of resin-encapsulated semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004031639A JP2004031639A (en) | 2004-01-29 |
JP3707451B2 true JP3707451B2 (en) | 2005-10-19 |
Family
ID=31181310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002185778A Expired - Lifetime JP3707451B2 (en) | 2002-06-26 | 2002-06-26 | Manufacturing method of resin-encapsulated semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3707451B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4580806B2 (en) * | 2004-11-30 | 2010-11-17 | アピックヤマダ株式会社 | Work support frame, work cleaning and drying device, and cutting device |
JP5988600B2 (en) * | 2012-02-10 | 2016-09-07 | 株式会社ディスコ | Method for dividing sapphire wafer |
JP6969944B2 (en) * | 2017-09-19 | 2021-11-24 | 株式会社ディスコ | Cutting method and cutting measures for plate-shaped objects |
JP7404007B2 (en) * | 2019-09-11 | 2023-12-25 | 株式会社ディスコ | Wafer processing method |
-
2002
- 2002-06-26 JP JP2002185778A patent/JP3707451B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004031639A (en) | 2004-01-29 |
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|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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|
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|
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|
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