JP3534334B2 - 筒体内面複合メッキ装置 - Google Patents
筒体内面複合メッキ装置Info
- Publication number
- JP3534334B2 JP3534334B2 JP11925897A JP11925897A JP3534334B2 JP 3534334 B2 JP3534334 B2 JP 3534334B2 JP 11925897 A JP11925897 A JP 11925897A JP 11925897 A JP11925897 A JP 11925897A JP 3534334 B2 JP3534334 B2 JP 3534334B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composite plating
- plated
- annular gap
- cylinder
- plating solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D15/00—Electrolytic or electrophoretic production of coatings containing embedded materials, e.g. particles, whiskers, wires
- C25D15/02—Combined electrolytic and electrophoretic processes with charged materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/04—Tubes; Rings; Hollow bodies
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
ー等の筒体の内面を複合メッキする筒体内面複合メッキ
装置に関するものである。
に棒状電極を挿入し、棒状電極と被メッキ筒体内面との
間の環状隙間に、金属イオンを含むメッキ液に耐磨耗性
材料、潤滑性材料等の微粒子を分散させた複合メッキ液
を下方から上方ヘ向けて流し、棒状電極と被メッキ筒体
との間に電圧を印加して、被メッキ筒体内面を複合メッ
キする、アップフロー方式の筒体内面複合メッキ装置
が、種々提案されている。
式の筒体内面複合メッキ装置には、環状隙間内を流れる
複合メッキ液の流速の周方向分布が不均一であり、電流
密度を高めると低流速域にヤケ、ザラツキ、無メッキ、
剥離、花咲き等の外観不良を生ずるので、実用上、電流
密度を20A/dm2 程度までしか上げられず、生産性
が低いという問題があった。本発明は上記問題に鑑みて
なされたものであり、1個又は複数個連結した被メッキ
筒体内に棒状電極を挿入し、棒状電極と被メッキ筒体内
面との間の環状隙間に下方から上方ヘむけて複合メッキ
液を流し、棒状電極と被メッキ筒体との間に電圧を印加
して、被メッキ筒体内面を複合メッキする筒体内面複合
メッキ装置であって、従来の装置に比べて生産性の高い
筒体内面複合メッキ装置を提供することを目的とする。
に、本発明においては、1個又は複数個連結した被メッ
キ筒体内に棒状電極を挿入し、棒状電極と被メッキ筒体
内面との間の環状隙間に下方から上方ヘ向けて複合メッ
キ液を流し、棒状電極と被メッキ筒体との間に電圧を印
加して、被メッキ筒体内面を複合メッキする筒体内面複
合メッキ装置であって、被メッキ筒体の上方に前記環状
隙間から上向きに流出する複合メッキ液に対面して邪魔
板を配設し、複合メッキ液が邪魔板に衝突することによ
り発生する静圧を利用して、前記環状隙間内メッキ液流
の流速の周方向分布を均一化し、邪魔板に衝突した複合
メッキ液を邪魔板外周縁全体から放射状に放出させるこ
とを特徴とする筒体内面複合メッキ装置を提供する。本
発明に係る筒体内面複合メッキ装置においては、棒状電
極と被メッキ筒体内面との間の環状隙間から上向きに流
出した複合メッキ液が邪魔板に衝突する。環状隙間を流
れる複合メッキ液の流速の周方向分布が不均一である
と、前記環状隙間から上向きに流出した複合メッキ液が
邪魔板に衝突することによって発生する静圧の周方向分
布が不均一になる。すなわち、流速の大きな部位では大
きな静圧が発生し、流速の小さな部位では小さな静圧が
発生する。この結果、流速の大きな部位では流路抵抗が
増大して流速が低下し、流速の小さな部位では流路抵抗
が減少して流速が増大する。この結果、前記環状隙間を
流れる複合メッキ液の流速の周方向分布が均一化され
る。本発明に係る筒体内面複合メッキ装置においては、
棒状電極と被メッキ筒体内面との間の環状隙間を流れる
複合メッキ液の流速の周方向分布が均一化なので、電流
密度を従来に比べて高くしても外観不良は発生しない。
従って、本発明に係る筒体内面複合メッキ装置は、従来
の装置に比べて生産性が高い。
キ筒体の上端と下端とに接して、前記環状隙間の外径と
同一値以上の長さに亘って被メッキ筒体と同軸に延在す
る整流筒を配設した。整流筒を配設し、棒状電極と被メ
ッキ筒体内面との間の環状隙間の前後に該環状隙間と同
様の環状隙間を形成して、棒状電極と被メッキ筒体内面
との間の環状隙間の前後端における流路形状の極端な変
化を抑制することにより、棒状電極と被メッキ筒体内面
との間の環状隙間内の複合メッキ液の流れを安定化さ
せ、流れの乱れを抑制することができる。この結果、前
記環状隙間を流れる複合メッキ液の流速の周方向分布が
均一化され、従来に比べて電流密度を高めることが可能
となり、生産性が向上する。
キ筒体の下方に流量調整槽を配設し、流量調整槽に前記
環状隙間の下端に対峙する開口を設け、該開口を通して
流量調整槽から前記環状隙間へ複合メッキ液を流す。ポ
ンプで圧送した複合メッキ液を配管から直接棒状電極と
被メッキ筒体内面との間の環状隙間へ流入させるのでは
なく、一旦流量調整槽ヘ流入させ、流量調整槽内で部分
的な偏流を取り除いた後に前記環状隙間ヘ流入させるこ
とにより、棒状電極と被メッキ筒体内面との間の環状隙
間内の複合メッキ液の流れを安定化させ、流れの乱れを
抑制することができる。この結果、前記環状隙間を流れ
る複合メッキ液の流速の周方向分布が均一化され、従来
に比べて電流密度を高めることが可能となり、生産性が
向上する。
整槽に複数の開口を設け、各開口の上方に棒状電極が挿
入された被メッキ筒体を置き、各開口から各環状隙間へ
複合メッキ液を流す。一つの流量調整槽から複数セット
の被メッキ筒体ヘ複合メッキ液を供給して、同時に複数
セットの被メッキ筒体を複合メッキすることにより、生
産性が向上する。
キ筒体を筒体内面複合メッキ装置に固定する固定治具
に、被メッキ筒体内面から外部ヘ延びるポート穴に連通
する複合メッキ液抜き取り穴を生成した。被メッキ筒体
内面から外部ヘ延びるポート穴と固定治具に形成した複
合メッキ液抜き取り穴とを介して、棒状電極と被メッキ
筒体内面との間の環状隙間を流れる複合メッキ液の漏出
を許容することにより、被メッキ筒体内面から外部ヘ延
びるポート穴に残留する洗浄液、前処理液等が前記環状
隙間を流れる複合メッキ液へ混入して複合メッキ液を汚
染する事態の発生を防止することができる。
極と被メッキ筒体内面との間の環状隙間から上向きに流
出し、邪魔板に衝突した複合メッキ液を、邪魔板の周縁
から被メッキ筒体の周囲に放散させると共に、被メッキ
筒体の下方へ流れた複合メッキ液を回収して前記環状隙
間へ循環させる。邪魔板に衝突した複合メッキ液を、邪
魔板の周縁から被メッキ筒体の周囲に放散させる場合、
邪魔板に衝突した複合メッキ液を、被メッキ筒体の周囲
に放散させることなく、配管を介して閉回路で回収し前
記環状隙間へ循環させる場合に比べて、被メッキ筒体の
複合メッキ装置への取付け作業が容易になり、生産性が
向上する。
極と被メッキ筒体内面との間の環状隙間から上向きに流
出し、邪魔板に衝突した複合メッキ液を、邪魔板の周縁
から被メッキ筒体の周囲に放散させると共に、被メッキ
筒体の下方へ流れた複合メッキ液を回収して前記環状隙
間へ循環させ、且つ邪魔板の周縁を下方ヘ屈曲させた。
邪魔板の周縁を下方ヘ屈曲させ、邪魔板に衝突した複合
メッキ液を邪魔板の周縁から斜め下方ヘ放散させること
により、複合メッキ液が径方向へ遠方まで飛散するのを
防止することができる。
極と被メッキ筒体内面との間の環状隙間から上向きに流
出し、邪魔板に衝突した複合メッキ液を、邪魔板の周縁
から被メッキ筒体の周囲に放散させると共に、被メッキ
筒体の下方へ流れた複合メッキ液を回収して前記環状隙
間へ循環させ、且つ被メッキ筒体の周囲に複合メッキ液
飛散防止壁を配設したこ。被メッキ筒体の周囲に複合メ
ッキ液飛散防止壁を配設することにより、環境汚染を防
止することができ、且つ複合メッキ液の回収率を高める
ことができる。
極と被メッキ筒体内面との間の環状隙間から上向きに流
出し、邪魔板に衝突した複合メッキ液を、被メッキ筒体
の周囲に放散させることなく、配管を介して閉回路で回
収し前記環状隙間へ循環させる。邪魔板に衝突した複合
メッキ液を、被メッキ筒体の周囲に放散させることな
く、配管を介して閉回路で回収し前記環状隙間へ循環さ
せることにより、環境汚染を防止し、且つ複合メッキ液
の回収率を高めることができる。
る。メッキ工場の建屋の一角が飛散防止壁1と床板2と
で囲われて複合メッキ室Aが形成されている。床板2の
直下に流量調整槽3が配設されている。床板2は流量調
整槽3の頂板を形成している。床板2の流量調整槽3の
頂板を形成する部位に、複数の円形開口2aが形成され
ている。各開口2aの周囲の床板2に形成された円環状
の溝に、絶縁材料から成る円環状の第1ワーク固定治具
4aの下端が嵌合している。第1ワーク固定治具4aは
図示しない止め金具を用いて、床板2に着脱可能に固定
されている。絶縁材料から成る円環状の第2ワーク固定
治具4bが、第1ワーク固定治具4a上に載置されてい
る。第2ワーク固定治具4bは、図示しない止め金具を
用いて第1ワーク固定治具4aに着脱可能に固定されて
いる。第2ワーク固定治具4bの内縁部は、円筒状に下
方へ延在し、第1整流筒5aを形成している。
固定治具4bと同軸に、円筒状の被メッキ筒体100
が、2段に積み重ねられて載置されている。上段の被メ
ッキ筒体100上に、被メッキ筒体100と同軸に、絶
縁材料から成る円環状の第3ワーク固定治具4cが載置
されている。第3ワーク固定治具4cの内縁部は、円筒
状に上方ヘ延在し、第2整流筒5bを形成している。第
2ワーク固定治具4b上と第3ワーク固定治具4cとに
複数のタイロッド6が係合している。タイロッド6に螺
合する図示しないナットを締めつけることにより、第2
ワーク固定治具4bと2段の被メッキ筒体100と第3
ワーク固定治具4cとは、一体化されている。
キ筒体100の内面から外部ヘ延びる図示しないポート
穴に連通する複合メッキ液抜き取り穴4b1 が形成され
ている。第3ワーク固定治具4cに、上段の被メッキ筒
体100の内面から外部ヘ延びる図示しないポート穴に
連通する複合メッキ液抜き取り穴4c1 が形成されてい
る。
は、被メッキ筒体100の内径と同一値に設定されてい
る。第1整流筒5a、第2整流筒5bの延在長さは、被
メッキ筒体100の内径と同一値以上に設定されてい
る。
接近して、円板状の邪魔板7が配設されている。邪魔板
7の周縁部7aは斜め下方へ折り曲げられている。
成された円形断面の棒状体8が、被メッキ筒体100と
同軸に上下に延在している。棒状体8の上端部は、図示
しない治具を介して、メッキ工場の建屋によって支持さ
れている。邪魔板7は棒状体8によって支持されてい
る。棒状体8は、第2整流筒5b、被メッキ筒体10
0、第1整流筒5aに挿入されている。棒状体8の下端
部は第1整流筒5aの下端から下方へ突出している。棒
状体8の、第2整流筒5b、被メッキ筒体100、第1
整流筒5aに対峙する部分の表面がニッケルメッキさ
れ、円形断面棒状の可溶性陽極9を形成している。
穴2bが形成されている。複合メッキ室Aの床板2の直
下に、且つ流量調整槽3の直下に、傾斜した底板を有す
るメッキ液回収室10が形成されている。メッキ液回収
室10の下方に、メッエキ液循環槽11が配設されてい
る。配管12がメッキ液循環槽11から流量調整槽3ヘ
延びている。配管12の途上にポンプ13が配設されて
いる。
複合メッキ装置を用いた、被メッキ筒体100の複合メ
ッキ作業の手順を説明する。各開口2aの周囲の床板2
上に第1ワーク固定治具4aを載置固定する。第1ワー
ク固定治具4a上に第2ワーク固定治具4bを載置固定
する。第2ワーク固定治具4b上に、被メッキ筒体10
0を2段に積み重ねて載置する。上段の被メッキ筒体1
00上に第3ワーク固定治具4cを載置する。タイロッ
ド6を第2ワーク固定治具4b、第3ワーク固定治具4
cに係合させ、図示しないナットを用いてタイロッド6
を締めつける。邪魔板7を取り付けた棒状体8を上方か
ら第2整流筒5b、被メッキ筒体100、第1整流筒5
aへ挿入する。可溶性陽極9を図示しない配線を介して
図示しない直流電源の陽極に接続し、被メッキ筒体10
0を図示しない配線を介して上記直流電源の陰極に接続
する。
1に蓄えられた複合メッキ液を、配管12を介して、流
量調整槽3へ圧送する。図1で矢印で示すように、流量
調整槽3を満たした複合メッキ液が、可溶性陽極9と第
1整流筒5aとの間の環状隙間へ上向きに流入し、次い
で可溶性陽極9と被メッキ筒体100との間の環状隙間
内を上向きに流れる。可溶性陽極9と被メッキ筒体10
0との間に電圧を印加する。複合メッキ液中の金属イオ
ンが金属微粒子となって被メッキ筒体100の内面上に
析出し金属皮膜を形成する。複合メッキ液中の分散剤微
粒子が被メッキ筒体100の内面上に析出する金属微粒
子間に閉じ込められ金属皮膜中に分散する。この結果、
被メッキ筒体100の内面上に複合メッキ皮膜が形成さ
れる。可溶性陽極9から金属イオンが複合メッキ液中に
供給され、消費された金属イオンが補充される。複合メ
ッキ液は可溶性陽極9と被メッキ筒体100との間の環
状隙間を通過し、可溶性陽極9と第2整流筒5bとの間
の環状隙間内を上向きに流れ、可溶性陽極9と第2整流
筒5bとの間の環状隙間の上端から上向きに流出する。
可溶性陽極9と第2整流筒5bとの間の環状隙間の上端
から上向きに流出した複合メッキ液は、邪魔板7に衝突
し、邪魔板7に沿って径方向外方へ流れ、更に、邪魔板
7の斜め下方へ折り曲げられた周縁部に沿って径方向外
方且つ斜め下方へ流れ、邪魔板7の周縁から斜め下方へ
放散する。
ヘ延びる図示しないポート穴と第2ワーク固定治具4b
に形成した複合メッキ液抜き取り穴4b1 とを介して、
また上段の被メッキ筒体100の内面から外部ヘ延びる
図示しないポート穴と第3ワーク固定治具4cに形成し
た複合メッキ液抜き取り穴4c1 とを介して、棒状の可
溶性電極9と被メッキ筒体100の内面との間の環状隙
間を流れる複合メッキ液が漏出する。
合メッキ液は、ワーク固定治具4a〜4cと被メッキ筒
体100との組立体の外面を伝って、複合メッキ室Aの
床板2上へ流れ下り、メッキ液回収穴2aを通ってメッ
キ液回収室10へ流入し、メッキ液回収室10の傾斜し
た底壁を流れ下ってメッキ液循環槽11へ戻る。複合メ
ッキ液を循環させつつ所定時間複合メッキ作業を継続
し、被メッキ筒体100の内面上に所望の膜厚の複合メ
ッキ皮膜を形成する。各開口2a上に載置された複数セ
ットの被メッキ筒体100に、同時に複合メッキ液を供
給して、複数セットの被メッキ筒体100を同時に複合
メッキする。
体8を上方ヘ引き抜き、第3ワーク固定治具4cとタイ
ロッド6とを撤去し、被メッキ筒体100を第2ワーク
固定治具4bから取り外す。未加工の被メッキ筒体10
0を第2ワーク固定治具4b上に載置し、第3ワーク固
定治具4cとタイロッド6とを取り付け、複合メッキ作
業を再開する。
おいては、棒状の可溶性電極9と第2整流筒5bとの間
の環状隙間から上向きに流出した複合メッキ液が、邪魔
板7に衝突する。前記環状隙間を流れる複合メッキ液の
流速の周方向分布が不均一であると、前記環状隙間から
上向きに流出した複合メッキ液が邪魔板7に衝突するこ
とによって発生する静圧の周方向分布が不均一になる。
すなわち、流速の大きな部位では大きな静圧が発生し、
流速の小さな部位では小さな静圧が発生する。この結
果、流速の大きな部位では流路抵抗が増大して流速が低
下し、流速の小さな部位では流路抵抗が減少して流速が
増大する。この結果、前記環状隙間を流れる複合メッキ
液の流速の周方向分布が均一化され、ひいては、棒状の
可溶性電極9と被メッキ筒体100の内面との間の環状
隙間を流れる複合メッキ液の流速の周方向分布が均一化
される。本実施例に係る筒体内面複合メッキ装置におい
ては、棒状の可溶性電極9と被メッキ筒体100の内面
との間の環状隙間を流れる複合メッキ液の流速の周方向
分布が均一化なので、電流密度を従来に比べて高くして
も外観不良は発生しない。従って、本実施例に係る筒体
内面複合メッキ装置は、従来のアップフロー方式の筒体
内面複合メッキ装置に比べて生産性が高い。
おいては、第1整流筒5a、第2整流筒5bを配設し、
棒状の可溶性電極9と被メッキ筒体100の内面との間
の環状隙間の前後に該環状隙間と同様の環状隙間を形成
して、棒状の可溶性電極9と被メッキ筒体100の内面
との間の環状隙間の前後端における流路形状の極端な変
化を抑制したので、棒状の可溶性電極9と被メッキ筒体
100の内面との間の環状隙間内の複合メッキ液の流れ
が安定化し、流れの乱れが抑制される。この結果、前記
環状隙間を流れる複合メッキ液の流速の周方向分布が均
一化され、従来に比べて電流密度を高めることが可能と
なり、生産性が向上する。複合メッキ液の流れの安定化
を十分に図るために、第1整流筒5a、第2整流筒5b
の延在長さを棒状の可溶性電極9と被メッキ筒体100
の内面との間の環状隙間の外直径と同一値以上に設定す
るのが望ましい。
おいては、被メッキ筒体100の下方に流量調整槽3を
配設し、流量調整槽3に、棒状の可溶性電極9と被メッ
キ筒体100の内面との間の環状隙間の下端に対峙する
開口2aを設け、開口2aを通して流量調整槽3から前
記環状隙間へ複合メッキ液を流す。ポンプ13で圧送し
た複合メッキ液を配管12から前記環状隙間へ直接流入
させるのではなく、一旦流量調整槽3ヘ流入させ、流量
調整槽3内で部分的な偏流を取り除いた後に前記環状隙
間ヘ流入させるので、棒状の可溶性電極9と被メッキ筒
体100の内面との間の環状隙間内の複合メッキ液の流
れが安定化し、流れの乱れが抑制される。この結果、前
記環状隙間を流れる複合メッキ液の流速の周方向分布が
均一化され、従来に比べて電流密度を高めることが可能
となり、生産性が向上する。
おいては、単一の流量調整槽3から複数セットの被メッ
キ筒体100ヘ複合メッキ液を供給して、同時に複数セ
ットの被メッキ筒体100を複合メッキするので、生産
性が向上する。
おいては、被メッキ筒体100の内面から外部ヘ延びる
図示しないポート穴と第2ワーク固定治具4b、第3ワ
ーク固定治具4cに形成した複合メッキ液抜き取り穴4
b1 、4c1 とを介して、棒状の可溶性電極9と被メッ
キ筒体100の内面との間の環状隙間を流れる複合メッ
キ液の漏出を許容したので、前記ポート穴に残留する洗
浄液、前処理液等が前記環状隙間を流れる複合メッキ液
へ混入して複合メッキ液を汚染する事態の発生を防止す
ることができる。
おいては、邪魔板7に衝突した複合メッキ液を、邪魔板
7の周縁から被メッキ筒体100の周囲に放散させるの
で、邪魔板7に衝突した複合メッキ液を、被メッキ筒体
100の周囲に放散させることなく、配管を介して閉回
路で回収して、棒状の可溶性電極9と被メッキ筒体10
0の内面との間の環状隙間へ循環させる場合に比べて、
被メッキ筒体100の複合メッキ装置への取付け作業が
容易になり、複合メッキ作業の生産性が向上する。
おいては、邪魔板7の周縁を下方ヘ屈曲させ、邪魔板7
に衝突した複合メッキ液を邪魔板7の周縁から斜め下方
ヘ放散させるので、複合メッキ液が径方向へ遠方まで飛
散するのを防止することができる。
おいては、被メッキ筒体100の周囲に複合メッキ液飛
散防止壁1を配設して複合メッキ室Aを形成したので、
複合メッキ液がメッキ工場内の他の場所まで飛散して環
境汚染が発生するのを防止することができ、且つ複合メ
ッキ液の回収率を高めることができる。
使用して、2サイクルエンジンのシリンダ内面の複合メ
ッキを行った。複合メッキ装置の諸元、複合メッキ条件
を以下に示す。 被メッキ筒体の内直径:59mm 可溶性陽極の直径 :39mm 複合メッキ液組成 スルファミン酸ニッケル(60重量%水溶液) 790g/リットル 塩化ニッケル(6水和物) 15g/リットル ほう酸 45g/リットル サッカリンナトリウム 5g/リットル 次亜燐酸(50重量%水溶液) 0.6g/リットル SiC粒子(平均粒径:2.5μm) 100g/リットル pH 3.5〜4.5 メッキ液温度 55〜60℃ メッキ処理時間 30分
図2に示す。図2から分かるように、本実施例に係る筒
体内面複合メッキ装置を使用することにより、電流密度
を30A/dm2 まで上げても、或いは更に40A/d
m2まで上げても、良好な複合メッキ皮膜が得られるこ
とが分かる。
は上記実施例に限定されない。図1に一点鎖線で示すよ
うに、邪魔板7に衝突した複合メッキ液を、被メッキ筒
体100の周囲に放散させることなく、配管14を介し
て閉回路でメッキ液循環槽11へ回収し、棒状の可溶性
電極9と被メッキ筒体100の内面との間の環状隙間へ
循環させても良い。係る構成により、環境汚染を防止
し、且つ複合メッキ液の回収率を高めることができる。
可溶性陽極9に代えて、不溶性陽極を使用しても良い。
第1整流筒5a、第2整流筒5bの内径を、可溶性陽極
9と被メッキ筒体100の内面との間の環状隙間の外径
よりも若干大にしても良い。
は、被メッキ筒体の上方に棒状電極と被メッキ筒体との
間の環状隙間から上向きに流出する複合メッキ液に対面
して邪魔板を配設し、被メッキ筒体の上端と下端とに接
して前記環状隙間の外径と同一値以上の長さに亘って被
メッキ筒体と同軸に延在する整流筒を配設し、被メッキ
筒体の下方に複合メッキ液の部分的な偏流を取り除く流
量調整槽を配設したので、棒状電極と被メッキ筒体内面
との間の環状隙間を流れる複合メッキ液の流速の周方向
分布が均一化される。本発明に係る筒体内面複合メッキ
装置においては、棒状電極と被メッキ筒体内面との間の
環状隙間を流れる複合メッキ液の流速の周方向分布が均
一化なので、電流密度を従来に比べて高くしても外観不
良は発生しない。従って、本発明に係る筒体内面複合メ
ッキ装置は、従来の装置に比べて生産性が高い。
の側断面図である。
を用いた複合メッキによって得られた複合メッキ皮膜の
外観判定結果を示す図である。
Claims (9)
- 【請求項1】 1個又は複数個連結した被メッキ筒体内
に棒状電極を挿入し、棒状電極と被メッキ筒体内面との
間の環状隙間に下方から上方ヘむけて複合メッキ液を流
し、棒状電極と被メッキ筒体との間に電圧を印加して、
被メッキ筒体内面を複合メッキする筒体内面複合メッキ
装置であって、被メッキ筒体の上方に前記環状隙間から
上向きに流出する複合メッキ液に対面して邪魔板を配設
し、複合メッキ液が邪魔板に衝突することにより発生す
る静圧を利用して、前記環状隙間内メッキ液流の流速の
周方向分布を均一化し、邪魔板に衝突した複合メッキ液
を邪魔板外周縁全体から放射状に放出させることを特徴
とする筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項2】 被メッキ筒体の上端と下端とに接して、
前記環状隙間の外径と同一値以上の長さに亘って被メッ
キ筒体と同軸に延在する整流筒を配設したことを特徴と
する請求項1に記載の筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項3】 被メッキ筒体の下方に流量調整槽を配設
し、流量調整槽に前記環状隙間の下端に対峙する開口を
設け、該開口を通して流量調整槽から前記環状隙間へ複
合メッキ液を流すことを特徴とする請求項1又は2に記
載の筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項4】 流量調整槽に複数の開口を設け、各開口
の上方に棒状電極が挿入された被メッキ筒体を置き、各
開口から各環状隙間へ複合メッキ液を流すことを特徴と
する請求項3に記載の筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項5】 被メッキ筒体を筒体内面複合メッキ装置
に固定する固定治具に、被メッキ筒体内面から外部ヘ延
びるポート穴に連通する複合メッキ液抜き取り穴を形成
したことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記
載の筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項6】 前記環状隙間から上向きに流出し、邪魔
板に衝突した複合メッキ液を、邪魔板の周縁から被メッ
キ筒体の周囲に放散させると共に、被メッキ筒体の下方
へ流れた複合メッキ液を回収して前記環状隙間へ循環さ
せることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記
載の筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項7】 邪魔板の周縁を下方ヘ屈曲させたことを
特徴とする請求項6に記載の筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項8】 被メッキ筒体の周囲に複合メッキ液飛散
防止壁を配設したことを特徴とする請求項6又は7に記
載の筒体内面複合メッキ装置。 - 【請求項9】 前記環状隙間から上向きに流出し、邪魔
板に衝突した複合メッキ液を、被メッキ筒体の周囲に放
散させることなく、配管を介して閉回路で回収し前記環
状隙間へ循環させることを特徴とする請求項1乃至5の
何れか1項に記載の筒体内面複合メッキ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11925897A JP3534334B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 筒体内面複合メッキ装置 |
US09/074,400 US6183610B1 (en) | 1997-05-09 | 1998-05-08 | Apparatus for composite plating the inner surface of a cylindrical body |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11925897A JP3534334B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 筒体内面複合メッキ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10310896A JPH10310896A (ja) | 1998-11-24 |
JP3534334B2 true JP3534334B2 (ja) | 2004-06-07 |
Family
ID=14756886
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11925897A Expired - Fee Related JP3534334B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 筒体内面複合メッキ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6183610B1 (ja) |
JP (1) | JP3534334B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10102145B4 (de) * | 2000-01-19 | 2008-04-03 | Suzuki Motor Corp., Hamamatsu | Galvanisiervorbehandlungsvorrichtung und Galvanisierbehandlungsvorrichtung |
KR20020031908A (ko) * | 2000-10-24 | 2002-05-03 | 권석수 | 중공형 부품용 도금장치 및 도금방법 |
US7833389B1 (en) * | 2005-01-21 | 2010-11-16 | Microcontinuum, Inc. | Replication tools and related fabrication methods and apparatus |
US9307648B2 (en) | 2004-01-21 | 2016-04-05 | Microcontinuum, Inc. | Roll-to-roll patterning of transparent and metallic layers |
US8062495B2 (en) * | 2005-01-21 | 2011-11-22 | Microcontinuum, Inc. | Replication tools and related fabrication methods and apparatus |
WO2007100849A2 (en) | 2006-02-27 | 2007-09-07 | Microcontinuum, Inc. | Formation of pattern replicating tools |
US8101050B2 (en) * | 2006-06-20 | 2012-01-24 | Vetco Gray Inc. | System, method, and apparatus for continuous electroplating of elongated workpieces |
US9589797B2 (en) | 2013-05-17 | 2017-03-07 | Microcontinuum, Inc. | Tools and methods for producing nanoantenna electronic devices |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5293636A (en) | 1976-02-02 | 1977-08-06 | Suzuki Motor Co | Method of composite plating inner surfaces of cylinder |
JPS5531006A (en) | 1978-08-25 | 1980-03-05 | Ube Ind Ltd | Preparation of methacrylic acid |
WO1992011492A1 (fr) * | 1990-12-21 | 1992-07-09 | Emu.Dee.Aru Co., Ltd. | Appareil de distillation seche a gazeification par combustion, possedant un generateur de gaz de distillation seche et une section a bruleur de gaz de combustion |
JPH07145496A (ja) * | 1993-05-28 | 1995-06-06 | Enthone Omi Inc | 金属塩溶液から金属を回収する方法及び装置 |
JP3333025B2 (ja) | 1993-12-08 | 2002-10-07 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属材料の電気複合めっき方法および装置 |
EP0677652B1 (en) * | 1994-03-18 | 1998-12-02 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Linerless engine cylinder block |
-
1997
- 1997-05-09 JP JP11925897A patent/JP3534334B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-05-08 US US09/074,400 patent/US6183610B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10310896A (ja) | 1998-11-24 |
US6183610B1 (en) | 2001-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69929967T2 (de) | Elektroplattierungssystem und verfahren zur elektroplattierung auf substraten | |
JP3534334B2 (ja) | 筒体内面複合メッキ装置 | |
DE19738970C2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Galvanisieren eines Halbleitersubstrats | |
US6251251B1 (en) | Anode design for semiconductor deposition | |
DE10309085A1 (de) | Defektverminderung bei galvanisch niedergeschlagenem Kupfer für Halbleiteranwendungen | |
TW490510B (en) | Method and apparatus for producing electrolytic copper foil | |
US3763027A (en) | Sparger | |
US3506546A (en) | Copper coating | |
KR20100049357A (ko) | 수평셀의 도금용액의 유량을 증가시키는 이물질 여과용 스트레이너 | |
JPH07145496A (ja) | 金属塩溶液から金属を回収する方法及び装置 | |
US5540829A (en) | Composite plating method for hollow member | |
JPS62133097A (ja) | 半導体ウエハのめつき装置 | |
JP2835546B2 (ja) | エッチング等の処理槽 | |
DE102017206722B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer beschichteten Oberfläche eines tribologischen Systems | |
US6706329B1 (en) | Local nickel plating for aluminum alloy radiator | |
US6992016B2 (en) | Chemical processing method, and method of manufacturing semiconductor device | |
JP2007297652A (ja) | めっき方法及びめっき装置 | |
CN212976077U (zh) | 一种铜加工用清洗设备 | |
JP3343077B2 (ja) | めっき用電極 | |
JP2641594B2 (ja) | メッキ装置 | |
KR100454505B1 (ko) | 경사형 전극링을 갖는 전기 도금 장치 | |
JP3243666U (ja) | チップ電気メッキ又はチップ洗浄機に用いられる陰極導電ローラーの新規装置 | |
JPH11181590A (ja) | 電解めっき方法および装置 | |
JP3264175B2 (ja) | 電気めっき装置および電気めっき方法 | |
JP2000282292A (ja) | アルマイト処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20031222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040305 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090319 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100319 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110319 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140319 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |