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JP3527113B2 - Memory self-test device and semiconductor integrated circuit incorporating this memory self-test device - Google Patents

Memory self-test device and semiconductor integrated circuit incorporating this memory self-test device

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Publication number
JP3527113B2
JP3527113B2 JP33028798A JP33028798A JP3527113B2 JP 3527113 B2 JP3527113 B2 JP 3527113B2 JP 33028798 A JP33028798 A JP 33028798A JP 33028798 A JP33028798 A JP 33028798A JP 3527113 B2 JP3527113 B2 JP 3527113B2
Authority
JP
Japan
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memory
circuit
clock signal
test
read
Prior art date
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JP33028798A
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Inventor
茂 久原
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NEC Electronics Corp
Original Assignee
NEC Electronics Corp
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Publication date
Application filed by NEC Electronics Corp filed Critical NEC Electronics Corp
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、メモリセルフテス
ト装置及びこのメモリセルフテスト装置を内蔵した半導
体集積回路に関し、特にメモリの読み出し速度に依存し
てエラーが発生するというモードの故障を検出する技術
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a memory self-test device and a semiconductor integrated circuit incorporating the memory self-test device, and more particularly to a technique for detecting a failure in a mode in which an error occurs depending on a memory reading speed. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、メモリセルにデータを記憶させる
ための幾つかの方法が知られている。このような方法の
一つに、メモリセルを構成するトランジスタ(以下、
「セルトランジスタ」という)の閾値を変化させること
により論理“0”又は“1”を記憶させる方法がある。
例えば、フラッシュメモリの場合、セルトランジスタの
ゲートはフローティングゲートとコントロールゲートの
2種類で構成される。
2. Description of the Related Art Heretofore, there are known some methods for storing data in a memory cell. One of such methods is a transistor that constitutes a memory cell (hereinafter,
There is a method of storing the logic "0" or "1" by changing the threshold value of "cell transistor".
For example, in the case of a flash memory, the gate of the cell transistor is composed of two types, a floating gate and a control gate.

【0003】そして、セルトランジスタのフローティン
グゲートに蓄積される電子の量を制御することにより、
セルトランジスタの閾値を変動させ、以て論理“0”又
は“1”を記憶する。論理“0”を記憶させるセルトラ
ンジスタの閾値電圧をVtm0、論理“1”を記憶させる
セルトランジスタの閾値電圧をVtm1とし、読み出し時
にセルトランジスタのゲートに印加する電圧をVrとす
れば、例えば下記式(1)を満足するように各電圧V
tm0、Vr及びVtm1を定めることにより、論理“0”及
び“1”の読み出しが実現できる。 Vtm0>Vr>Vtm1・・・式(1)
By controlling the amount of electrons accumulated in the floating gate of the cell transistor,
The threshold value of the cell transistor is changed so that the logic "0" or "1" is stored. V tm0 the threshold voltage of the cell transistor to store the logic "0", the threshold voltage of the cell transistor to store the logic "1" and V tm1, if the voltage applied to the gate of the cell transistor at the time of reading and V r, For example, each voltage V so as to satisfy the following equation (1)
tm0, by determining the V r and V tm1, can be realized reading logic "0" and "1". V tm0 > V r > V tm1 ... Equation (1)

【0004】即ち、論理“0”が記憶されたセルトラン
ジスタのゲートに読み出し電圧Vrが印加されてもセル
トランジスタはオフのままである。従って、ビット線を
通して接続されたセンスアンプに電流が流れず、これに
より論理“0”として判別される。論理“1”が記憶さ
れたセルトランジスタのゲートに読み出し電圧Vrが印
加されるとセルトランジスタはオンになる。従って、ビ
ット線を通して接続されたセンスアンプにオン電流が流
れ込み、これにより論理“1”として判別される。
That is, even if the read voltage V r is applied to the gate of the cell transistor in which the logic "0" is stored, the cell transistor remains off. Therefore, a current does not flow in the sense amplifier connected through the bit line, so that it is determined as a logic "0". When the read voltage V r is applied to the gate of the cell transistor storing the logic “1”, the cell transistor is turned on. Therefore, the on-current flows into the sense amplifier connected through the bit line, and it is determined as logic "1".

【0005】ところで、フラッシュメモリを高温で長期
間動作させた場合に、何らかの原因で閾値電圧Vtm1
上昇するというモードの故障が発生する場合がある。こ
の場合、読み出し電圧Vrと閾値電圧Vtm1との差が小さ
くなるためオン電流が減少し、センスアンプの動作が遅
くなる。そのため、規格速度より十分遅い速度で読み出
す場合は正しいデータが得られるが、規格速度で読み出
す場合は誤ったデータが得られるという現象が生じる。
By the way, when the flash memory is operated at a high temperature for a long time, there is a case where a failure occurs in a mode in which the threshold voltage V tm1 rises for some reason. In this case, since the difference between the read voltage V r and the threshold voltage V tm1 becomes small, the on-current decreases and the operation of the sense amplifier becomes slow. Therefore, when reading at a speed sufficiently slower than the standard speed, correct data can be obtained, but when reading at the standard speed, incorrect data can be obtained.

【0006】このようなモードの故障を有するフラッシ
ュメモリを排除するために、従来は、専用のテスタ等と
いった評価装置が使用されている。この評価装置では、
フラッシュメモリの内容を規格速度で読み出し、この読
み出されたデータと予め用意された期待値データとを比
較して一致するかどうかを調べることにより、フラッシ
ュメモリが規格通りに動作するかどうか、つまり良品で
あるかどうかを調べている。
In order to eliminate a flash memory having such a mode failure, an evaluation device such as a dedicated tester has been conventionally used. In this evaluation device,
Whether the flash memory operates according to the standard, that is, by reading the contents of the flash memory at the standard speed and comparing the read data with the expected value data prepared in advance to check if they match We are checking if it is a good product.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなテスト方法では、フラッシュメモリをテストするた
めに専用の評価装置を用意する必要があり、テストに要
するコストが高くなるという問題がある。また、この評
価装置を用いたテストでは、個々のフラッシュメモリを
評価装置にマウントしなければならないのでテストに長
時間を必要とし、工数が増大するという問題がある。
However, in such a test method, it is necessary to prepare a dedicated evaluation device for testing the flash memory, which causes a problem that the cost required for the test becomes high. In addition, in the test using this evaluation device, each flash memory must be mounted on the evaluation device, which requires a long time for the test, resulting in an increase in the number of steps.

【0008】このような問題を解消する技術として、例
えば特開平3−269900号公報に「半導体集積回
路」が開示されている。この半導体集積回路では、テス
トの対象となる書き換え可能なメモリ(被テストメモ
リ)を含む回路が1つの半導体チップ上に形成されてい
る。この半導体集積回路は、テスト動作時は、実動作時
に被テストメモリと他の回路との間で信号の授受を行う
信号線が電気的に切り離されたテストモードに設定され
る。
As a technique for solving such a problem, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-269900 discloses a "semiconductor integrated circuit". In this semiconductor integrated circuit, a circuit including a rewritable memory (memory under test) to be tested is formed on one semiconductor chip. During a test operation, this semiconductor integrated circuit is set to a test mode in which a signal line for exchanging signals between the memory under test and another circuit during an actual operation is electrically disconnected.

【0009】そして、テストに用いるデータを記憶する
半導体集積回路内部のROMからのテスト用データ又は
半導体集積回路外部から供給されるテスト用データを、
外部から入力されるテスト用クロックに応じて被テスト
メモリに書き込み、その後、被テストメモリからのデー
タとROM又は外部からのテスト用データとを比較し、
その比較結果を半導体集積回路外部に出力する。このよ
うに、半導体集積回路に内蔵された被テストメモリの単
独テストが該半導体集積回路自身によって行われる。
Then, the test data from the ROM inside the semiconductor integrated circuit for storing the data used for the test or the test data supplied from the outside of the semiconductor integrated circuit is
Write to the memory under test according to the test clock input from the outside, and then compare the data from the memory under test with the test data from the ROM or external,
The comparison result is output to the outside of the semiconductor integrated circuit. In this way, the individual test of the memory under test contained in the semiconductor integrated circuit is performed by the semiconductor integrated circuit itself.

【0010】しかしながら、この半導体集積回路は、上
述したような、フラッシュメモリを高温で長時間動作さ
せた場合に読み出し速度が遅くなるといったモードの故
障を検出することはできない。また、この半導体集積回
路は、被テストメモリをテストするためのテスト用デー
タを記憶するためのROM、或いはテスト用データを外
部から入力するための回路が必要であり、回路が複雑化
すると共に集積化率が低下する。また、テスト用データ
を作成する必要があるのでテストのための工数が増加す
る。
However, this semiconductor integrated circuit cannot detect a mode failure such as a slow reading speed when the flash memory is operated at a high temperature for a long time as described above. Further, this semiconductor integrated circuit requires a ROM for storing test data for testing the memory under test, or a circuit for inputting test data from the outside, which complicates the circuit and increases integration. The conversion rate decreases. In addition, the number of man-hours for testing increases because it is necessary to create test data.

【0011】また、特開平9−219099号公報には
「半導体メモリのセルフバーンイン回路」が開示されて
いる。このセルフバーンイン回路は、所定のセルフバー
ンインテスト条件が満たされると、バーンインテストの
ための所定の制御信号、アドレス信号及びテストデータ
を発生するバーンイン感知部と、前記制御信号の制御に
よって、前記アドレス信号に応じて選択されるメモリセ
ルで前記テストデータがライト/リードされることによ
りバーンインテストが遂行されるメモリセルアレーとを
含んでいる。
Further, Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-219099 discloses a "self-burn-in circuit for semiconductor memory". The self-burn-in circuit includes a burn-in sensing unit that generates a predetermined control signal for burn-in test, an address signal, and test data when a predetermined self-burn-in test condition is satisfied, and the address signal by controlling the control signal. Memory cell array in which a burn-in test is performed by writing / reading the test data in a memory cell selected according to the above.

【0012】このバーンイン回路によれば、バーンイン
テスト動作に必要な各種制御信号及びテストデータ等が
チップの内部で発生されるので、印加される外部電圧が
所定のレベルを越え外部から正常のバーンインテストを
知らせる信号が入力されなければ自らバーンイン動作を
遂行する。しかしながら、このバーンイン回路でも、フ
ラッシュメモリを高温で長時間動作させた場合に読み出
し速度が遅くなるといったモードの故障を検出すること
はできない。
According to this burn-in circuit, since various control signals and test data necessary for the burn-in test operation are generated inside the chip, the applied external voltage exceeds a predetermined level and a normal burn-in test is performed from the outside. If the signal for notifying is not input, the burn-in operation is performed by itself. However, even with this burn-in circuit, it is not possible to detect a mode failure such that the read speed becomes slow when the flash memory is operated at a high temperature for a long time.

【0013】本発明は、上述した諸問題を解消するため
になされたものであり、従来のテスタ等の評価装置を用
いたテストと比較して、テストコスト、時間、工数を削
減できるメモリセルフテスト装置及びこのメモリセルフ
テスト装置を内蔵した半導体集積回路を提供することを
目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and is a memory self-test capable of reducing the test cost, time, and man-hours as compared with the conventional test using an evaluation device such as a tester. An object of the present invention is to provide a device and a semiconductor integrated circuit incorporating the memory self-test device.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の態様に係
るメモリセルフテスト装置は、セルトランジスタにより
構成されたメモリと、メモリセルフテスト回路とを備え
ている。
According to a first aspect of the present invention
The memory self-test device that uses
Includes configured memory and memory self-test circuit
ing.

【0015】本発明の第1の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリは、第1クロック信号を
用いることによってテストして良品判定されている。前
記メモリセルフテスト回路は、前記第1クロック信号を
用いて前記メモリから読み出されたデータと前記第1ク
ロック信号より遅い第2クロック信号を用いて前記メモ
リから読み出されたデータとを比較することによって、
前記メモリのセルトランジスタの閾値電圧が変動したか
否かを調べる再テストを行う。
A memory self-test according to the first aspect of the present invention
In the storage device, the memory stores the first clock signal.
The product is tested and judged as good. Previous
The memory self-test circuit outputs the first clock signal.
The data read from the memory and the first clock
Using the second clock signal slower than the lock signal, the memo
By comparing the data read from the
Has the threshold voltage of the cell transistor of the memory changed?
Perform a retest to see if it does.

【0016】本発明の第1の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリセルフテスト回路は、読
み出し回路と、一時記憶手段と、比較回路とを備えてい
る。前記読み出し回路は、前記第1クロック信号又は前
記第2クロック信号を用いて前記メモリからデータを読
み出す。前記一時記憶手段は、前記読み出し回路で前記
第2クロック信号を用いて読み出されたデータを一時記
憶する。前記比較回路は、前記読み出し回路で前記第1
クロック信号を用いて読み出されたデータと前記一時記
憶手段から読み出されたデータとを比較して比較結果を
表す信号を出力する。
A memory self-test according to the first aspect of the present invention
In the storage device, the memory self-test circuit
Equipped with a projection circuit, a temporary storage means, and a comparison circuit
It The read circuit is configured to output the first clock signal or the previous clock signal.
Read data from the memory using the second clock signal
To stick out. The temporary storage means is the read circuit.
Temporarily record the data read using the second clock signal
I remember. The comparison circuit is the read circuit and is the first circuit.
The data read using the clock signal and the temporary recording
The data read from the memory is compared and the comparison result is
Output the signal that represents.

【0017】本発明の第1の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリセルフテスト回路は、分
周回路を備えている。前記分周回路は、第1クロック信
号を分周することにより第2クロック信号を生成する。
A memory self-test according to the first aspect of the present invention
In the storage device, the memory self-test circuit
It has a circuit. The frequency divider circuit has a first clock signal.
The second clock signal is generated by dividing the signal.

【0018】本発明の第1の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリは、不揮発メモリ、特に
セルトランジスタの閾値電圧を変化させることにより情
報を記憶するフラッシュメモリとすることができる。こ
のメモリは、クロック信号に同期して動作する同期型メ
モリで構成できる。
A memory self-test according to the first aspect of the present invention
In the storage device, the memory may be a non-volatile memory, particularly a flash memory that stores information by changing the threshold voltage of a cell transistor. This memory can be composed of a synchronous memory that operates in synchronization with a clock signal.

【0019】本発明の第2の態様に係るメモリセルフテ
スト装置は、複数のセルトランジスタにより構成された
メモリと、メモリセルフテスト回路とを具備する。前記
メモリと前記メモリセルフテスト回路とは1つの半導体
基板上に形成されている。
A memory self-test according to the second aspect of the present invention
The strike device is composed of a plurality of cell transistors.
It has a memory and a memory self-test circuit. The above
The memory and the memory self-test circuit are one semiconductor
It is formed on the substrate.

【0020】本発明の第2の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリは、第1クロック信号を
用いることによってテストして良品判定されている。前
記メモリセルフテスト回路は、前記メモリを再テストす
る。前記メモリセルフテスト回路は、第1クロック信号
を用いて前記メモリから読み出されたデータと前記第1
クロック信号より遅い第2クロック信号を用いて前記メ
モリから読み出されたデータとを比較することによっ
て、前記セルトランジスタの閾値電圧が変動したか否か
を調べる。
A memory self-test according to the second aspect of the present invention
In the storage device, the memory stores the first clock signal.
The product is tested and judged as good. Previous
The memory self-test circuit retests the memory.
It The memory self-test circuit uses the first clock signal
The data read from the memory and the first
The second clock signal, which is slower than the clock signal, is used to
By comparing the data read from the memory
Whether or not the threshold voltage of the cell transistor has changed.
Find out.

【0021】本発明の第2の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリセルフテスト回路は、読
み出し回路と、一時記憶手段と、比較回路とを備えてい
る。前記読み出し回路は、前記第1クロック信号又は前
記第2クロック信号を用いて前記メモリからデータを読
み出す。前記一時記憶手段は、前記読み出し回路で前記
第2クロック信号を用いて読み出されたデータを一時記
憶する。前記比較回路は、前記読み出し回路で前記第1
クロック信号を用いて読み出されたデータと前記一時記
憶手段から読み出されたデータとを比較して比較結果を
表す信号を外部に出力する。
A memory self-test according to the second aspect of the present invention
In the storage device, the memory self-test circuit
Equipped with a projection circuit, a temporary storage means, and a comparison circuit
It The read circuit is configured to output the first clock signal or the previous clock signal.
Read data from the memory using the second clock signal
To stick out. The temporary storage means is the read circuit.
Temporarily record the data read using the second clock signal
I remember. The comparison circuit is the read circuit and is the first circuit.
The data read using the clock signal and the temporary recording
The data read from the memory is compared and the comparison result is
Output the signal that represents.

【0022】本発明の第2の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリセルフテスト回路は、分
周回路を備えている。前記分周回路は、前記第1クロッ
ク信号を分周することにより第2クロック信号を生成す
る。
A memory self-test according to the second aspect of the present invention
In the storage device, the memory self-test circuit
It has a circuit. The frequency divider circuit includes the first clock
A second clock signal is generated by dividing the frequency signal
It

【0023】本発明の第2の態様に係るメモリセルフテ
スト装置において、前記メモリは不揮発メモリ、特にセ
ルトランジスタの閾値電圧を変化させることにより情報
を記憶するフラッシュメモリとすることができる。この
メモリは、クロック信号に同期して動作する同期型メモ
リで構成できる。
A memory self-test according to the second aspect of the present invention
In the storage device, the memory may be a non-volatile memory, particularly a flash memory that stores information by changing the threshold voltage of a cell transistor. This memory can be composed of a synchronous memory that operates in synchronization with a clock signal.

【0024】上記の半導体基板(前記メモリと前記メモ
リセルフテスト回路とが形成された半導体基板)によれ
ば、テスタ等の評価装置を用いずに、セルフテストを実
現することができる。
The above semiconductor substrate (the memory and the memory
Re-self test circuit and the semiconductor substrate on which it is formed)
For example , the self-test can be realized without using an evaluation device such as a tester.

【0025】なお、本発明では、規格速度より十分遅い
速度では正しいデータが読み出せるメモリをテストする
ことを前提としている。即ち、何らかの原因で閾値電圧
tm 0及びVtm1が変動しても、Vtm0>Vr>Vtm1の関
係が保たれているメモリ、つまり一定以上の品質を有す
るメモリをテスト対象としている。従って、本発明は、
メモリの初期選別のために使用するより、一通りの選別
が終了したメモリを対象に行うテスト、例えば信頼性評
価試験や製品出荷最終段階の確認等に使用するのが好ま
しい。
The present invention is premised on testing a memory in which correct data can be read at a speed sufficiently slower than the standard speed. That is, even if the threshold voltages V tm 0 and V tm1 fluctuate for some reason, the test target is a memory in which the relationship of V tm0 > V r > V tm1 is maintained, that is, a memory having a certain quality or more. Therefore, the present invention provides
Rather than being used for the initial selection of the memory, it is preferably used for a test to be performed on the memory that has undergone a series of selections, such as a reliability evaluation test and confirmation of the final stage of product shipment.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0027】図2は本発明に係る半導体集積回路の一例
としてのマイクロコンピュータ11を示す。このマイク
ロコンピュータ11は、不揮発メモリであるフラッシュ
EEPROM12、セルフテスト回路13及び論理回路
14から構成されている。論理回路14には、中央処理
装置(CPU)及び周辺回路等が含まれる。なお、本発
明のメモリセルフテスト装置は、フラッシュEEPRO
M12とセルフテスト回路13とから構成されている。
FIG. 2 shows a microcomputer 11 as an example of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The microcomputer 11 is composed of a flash EEPROM 12, which is a non-volatile memory, a self-test circuit 13, and a logic circuit 14. The logic circuit 14 includes a central processing unit (CPU), peripheral circuits and the like. The memory self-test device of the present invention is a flash EEPROM.
It is composed of an M12 and a self-test circuit 13.

【0028】このマイクロコンピュータ11は、外部か
ら与えられる第1クロック信号CK1に同期して動作す
る。この同期動作を実現するために、フラッシュEEP
ROM12、セルフテスト回路13及び論理回路14の
それぞれに第1クロック信号CK1が供給されるように
なっている。
The microcomputer 11 operates in synchronization with a first clock signal CK1 given from the outside. In order to realize this synchronous operation, the flash EEP
The first clock signal CK1 is supplied to each of the ROM 12, the self-test circuit 13, and the logic circuit 14.

【0029】フラッシュEEPROM12は、第1クロ
ック信号CK1に同期して書き込み及び読み出しが行わ
れる同期型メモリである。また、セルフテスト回路13
は、詳細は後述するが、外部からの第1クロック信号C
K1に基づいて第2クロック信号CK2を生成し、これ
ら第1クロック信号CK1及び第2クロック信号CK2
を用いてフラッシュEEPROM12をテストし、その
結果を一致/不一致信号としてマイクロコンピュータ1
1の外部に送出する。
The flash EEPROM 12 is a synchronous memory in which writing and reading are performed in synchronization with the first clock signal CK1. In addition, the self-test circuit 13
Will be described in detail later, but the first clock signal C from the outside
A second clock signal CK2 is generated based on K1, and the first clock signal CK1 and the second clock signal CK2 are generated.
The flash EEPROM 12 is tested by using the microcomputer and the result is used as a match / mismatch signal for the microcomputer 1
1 to the outside.

【0030】次に、上記のように構成されるマイクロコ
ンピュータ11においてフラッシュEEPROM12を
テストする場合の動作を説明する。なお、このマイクロ
コンピュータ11が通常の動作を行う場合は、フラッシ
ュEEPROM12は、電気的に論理回路14に接続さ
れる。一方、例えば図示しない所定の信号線がアクティ
ブにすることによりマイクロコンピュータ11がテスト
モードに設定された場合は、図2に示すように、フラッ
シュEEPROM12は、電気的にセルフテスト回路1
3に接続される。
Next, the operation of testing the flash EEPROM 12 in the microcomputer 11 configured as described above will be described. When the microcomputer 11 operates normally, the flash EEPROM 12 is electrically connected to the logic circuit 14. On the other hand, when the microcomputer 11 is set to the test mode by activating a predetermined signal line (not shown), the flash EEPROM 12 is electrically connected to the self-test circuit 1 as shown in FIG.
3 is connected.

【0031】マイクロコンピュータ11がテストモード
に設定されると、セルフテスト回路13は、先ず通常の
動作時に使用される第1クロック信号CK1より十分低
い周波数の第2クロック信号CK2を用いてフラッシュ
EEPROM12からデータを読み出す。この読み出さ
れたデータは、このセルフテスト回路13に設けられた
図示しないRAM25(詳細後述)に記憶される。
When the microcomputer 11 is set to the test mode, the self-test circuit 13 first causes the flash EEPROM 12 to use the second clock signal CK2 having a frequency sufficiently lower than the first clock signal CK1 used in the normal operation. Read the data. The read data is stored in a RAM 25 (details described later) provided in the self-test circuit 13.

【0032】次いで、第1クロック信号CK1を用いて
フラッシュEEPROM12からデータが読み出され
る。そして、この読み出されたデータと先に読み出され
てRAM25に記憶されているデータとが比較され、こ
の比較結果が一致/不一致信号としてマイクロコンピュ
ータ11の外部に出力される。この一致/不一致信号が
一致を表している場合は、フラッシュEEPROM12
は正常であると判断される。一方、不一致を表している
場合は、読み出し速度の相違によってデータが異なるこ
とが認識され、このフラッシュEEPROM12は故障
と判断される。
Then, data is read from the flash EEPROM 12 using the first clock signal CK1. Then, the read data is compared with the data previously read and stored in the RAM 25, and the comparison result is output to the outside of the microcomputer 11 as a match / mismatch signal. If this match / mismatch signal indicates a match, the flash EEPROM 12
Is judged to be normal. On the other hand, if they do not match, it is recognized that the data differs due to the difference in read speed, and this flash EEPROM 12 is determined to be in failure.

【0033】次に、フラッシュEEPROM12とセル
フテスト回路13とで成るメモリセルフテスト装置の構
成を図1に示したブロック図を参照しながら説明する。
このメモリセルフテスト装置に含まれるセルフテスト回
路13は、分周回路20、マルチプレクサ21、読み出
し回路22、デマルチプレクサ23、書き込み回路2
4、RAM25、読み出し回路26及び比較回路27か
ら構成されている。
Next, the structure of the memory self-test device including the flash EEPROM 12 and the self-test circuit 13 will be described with reference to the block diagram shown in FIG.
The self-test circuit 13 included in this memory self-test device includes a frequency divider circuit 20, a multiplexer 21, a read circuit 22, a demultiplexer 23, and a write circuit 2.
4, a RAM 25, a read circuit 26, and a comparison circuit 27.

【0034】分周回路20は、外部から入力された周波
数fの第1クロック信号CK1をN分の1に分周し、周
波数f/Nの第2クロック信号CK2を生成する。この
分周回路20で生成された第2クロック信号CK2はマ
ルチプレクサ21に供給される。この周波数f/Nは、
周波数fと比較して十分小さい値になるように分周の段
数が決められる。
The frequency dividing circuit 20 divides the first clock signal CK1 having a frequency f input from the outside by a factor of N to generate a second clock signal CK2 having a frequency f / N. The second clock signal CK2 generated by the frequency dividing circuit 20 is supplied to the multiplexer 21. This frequency f / N is
The number of frequency division steps is determined so that the frequency is sufficiently smaller than the frequency f.

【0035】マルチプレクサ21は、図示しない制御回
路からの選択信号に応じて、外部からの第1クロック信
号CK1又は分周回路20からの第2クロック信号CK
2の何れかを通過させる。即ち、マルチプレクサ21
は、周波数fでフラッシュEEPROM12からデータ
を読み出す場合は外部からの第1クロック信号CK1を
通過させ、周波数f/NでフラッシュEEPROM12
からデータを読み出す場合は分周回路20からの第2ク
ロック信号CK2を通過させる。このマルチプレクサ2
1から出力されたクロック信号は、フラッシュEEPR
OM12及び読み出し回路22に供給される。
The multiplexer 21 receives a first clock signal CK1 from the outside or a second clock signal CK from the frequency dividing circuit 20 in response to a selection signal from a control circuit (not shown).
Pass either of the two. That is, the multiplexer 21
When the data is read from the flash EEPROM 12 at the frequency f, the first clock signal CK1 from the outside is passed, and the flash EEPROM 12 at the frequency f / N.
When the data is read from, the second clock signal CK2 from the frequency dividing circuit 20 is passed. This multiplexer 2
The clock signal output from 1 is the flash EEPR.
It is supplied to the OM 12 and the read circuit 22.

【0036】フラッシュEEPROM12は、周波数f
又はその分周された周波数f/Nのクロック信号で動作
する。なお、このフラッシュEEPROM12へのデー
タの書き込みについては説明を省略する。
The flash EEPROM 12 has a frequency f
Alternatively, it operates with a clock signal having a frequency f / N obtained by dividing the frequency. It should be noted that description of data writing to the flash EEPROM 12 is omitted.

【0037】読み出し回路22は、マルチプレクサ21
からのクロック信号を用いてフラッシュEEPROM1
2からのデータの読み出しを制御する。従って、この読
み出し回路22は、上記選択信号に応じて周波数fのク
ロック信号又は周波数f/Nのクロック信号の何れかを
用いてフラッシュEEPROM12からデータを読み出
す。この読み出し回路22で読み出されたデータは、デ
マルチプレクサ23に供給される。
The read circuit 22 includes a multiplexer 21.
Flash EEPROM 1 using the clock signal from
Controls the reading of data from 2. Therefore, the read circuit 22 reads data from the flash EEPROM 12 using either the clock signal of frequency f or the clock signal of frequency f / N according to the selection signal. The data read by the read circuit 22 is supplied to the demultiplexer 23.

【0038】デマルチプレクサ23は、上記選択信号に
応じて、読み出し回路22からのデータを書き込み回路
24又は比較回路27の何れか一方に供給する。即ち、
デマルチプレクサ23は、周波数f/NでフラッシュE
EPROM12からデータが読み出された場合は、該デ
ータを書き込み回路24に供給し、周波数fでフラッシ
ュEEPROM12からデータが読み出された場合は、
該データを比較回路27に供給する。
The demultiplexer 23 supplies the data from the read circuit 22 to either the write circuit 24 or the comparison circuit 27 according to the selection signal. That is,
The demultiplexer 23 uses the flash E at the frequency f / N.
When the data is read from the EPROM 12, the data is supplied to the writing circuit 24, and when the data is read from the flash EEPROM 12 at the frequency f,
The data is supplied to the comparison circuit 27.

【0039】書き込み回路24は、第1クロック信号C
K1に同期して、デマルチプレクサ23からのデータを
RAM25に書き込むための制御を行う。また、RAM
25は本発明の一時記憶手段に対応し、周波数f/Nの
クロック信号を用いてフラッシュEEPROM12から
読み出されたデータを一時的に記憶する。また、読み出
し回路26は、第1クロック信号CK1に同期して、R
AM25からデータを読み出すための制御を行う。
The write circuit 24 uses the first clock signal C
The control for writing the data from the demultiplexer 23 to the RAM 25 is performed in synchronization with K1. RAM
25 corresponds to the temporary storage means of the present invention, and temporarily stores the data read from the flash EEPROM 12 by using the clock signal of the frequency f / N. The read circuit 26 synchronizes with the first clock signal CK1 in synchronization with R
Control for reading data from the AM 25 is performed.

【0040】比較回路27は、デマルチプレクサ23か
らのデータとRAM25からのデータとを比較する。こ
の比較回路27による比較結果は、一致/不一致信号と
して外部に出力される。フラッシュEEPROM12の
セルトランジスタの閾値電圧変動により動作速度が低下
した場合、ここで不一致信号が出力される。
The comparison circuit 27 compares the data from the demultiplexer 23 with the data from the RAM 25. The comparison result by the comparison circuit 27 is output to the outside as a match / mismatch signal. When the operating speed is lowered due to the fluctuation of the threshold voltage of the cell transistor of the flash EEPROM 12, a mismatch signal is output here.

【0041】次に、上記の構成において、このメモリセ
ルフテスト装置が組み込まれた半導体集積回路の動作を
図3に示したフローチャートを参照しながら説明する。
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit having the above-described structure and incorporating the memory self-test device will be described with reference to the flow chart shown in FIG.

【0042】このメモリセルフテスト装置が組み込まれ
た半導体集積回路がテストモードに設定されると、図示
しない制御回路は選択信号をマルチプレクサ21及びデ
マルチプレクサ23に供給する。これにより、マルチプ
レクサ21が外部からの第1クロック信号CK1を通過
させ、デマルチプレクサ23が読み出し回路22からの
データを書き込み回路24に供給するように初期設定さ
れる。
When the semiconductor integrated circuit incorporating this memory self-test device is set to the test mode, the control circuit (not shown) supplies a selection signal to the multiplexer 21 and the demultiplexer 23. This causes the multiplexer 21 to pass the first clock signal CK1 from the outside, and the demultiplexer 23 is initialized to supply the data from the read circuit 22 to the write circuit 24.

【0043】この状態で、先ず、フラッシュEEPRO
M12に記憶されているデータが読み出される(ステッ
プS1)。従って、分周回路20からの周波数f/Nの
クロック信号を用いてフラッシュEEPROM12から
データが読み出されることになる。次いで、この読み出
されたデータがRAM25に書き込まれる(ステップS
2)。以上により、フラッシュEEPROM12の全デ
ータがRAM25に書き込まれる。その後、図示は省略
してあるが、制御回路(図示しない)は選択信号をマル
チプレクサ21及びデマルチプレクサ23に供給する。
これにより、マルチプレクサ21は分周回路20からの
第2クロック信号CK2を通過させ、デマルチプレクサ
23は読み出し回路22からのデータを比較回路27に
供給するように設定される。
In this state, first, the flash EEPRO
The data stored in M12 is read (step S1). Therefore, the data is read from the flash EEPROM 12 using the clock signal of the frequency f / N from the frequency dividing circuit 20. Next, the read data is written in the RAM 25 (step S
2). By the above, all the data in the flash EEPROM 12 is written in the RAM 25. Thereafter, although not shown, a control circuit (not shown) supplies a selection signal to the multiplexer 21 and the demultiplexer 23.
As a result, the multiplexer 21 passes the second clock signal CK2 from the frequency dividing circuit 20, and the demultiplexer 23 is set to supply the data from the reading circuit 22 to the comparison circuit 27.

【0044】この状態で、フラッシュEEPROM12
に記憶されているデータが順次読み出される(ステップ
S3)。従って、外部からの周波数fの第1クロック信
号CK1を用いてフラッシュEEPROM12からデー
タが読み出されることになる。次いで、このフラッシュ
EEPROM12から読み出されたデータと先にRAM
25に記憶されたデータとが一致するかどうかが順次調
べられる(ステップS4)。これは、読み出し回路22
によってフラッシュEEPROM12から読み出された
データと、読み出し回路26によってRAM25から読
み出されたデータとを順次比較回路27に供給すること
により行われる。
In this state, the flash EEPROM 12
The data stored in is sequentially read (step S3). Therefore, the data is read from the flash EEPROM 12 by using the first clock signal CK1 having the frequency f from the outside. Next, the data read from the flash EEPROM 12 and the RAM first
It is sequentially checked whether or not it matches the data stored in 25 (step S4). This is the read circuit 22
The data read from the flash EEPROM 12 and the data read from the RAM 25 by the read circuit 26 are sequentially supplied to the comparison circuit 27.

【0045】ここで、一致することが判断されると、フ
ラッシュEEPROM12は良品であると認識され(ス
テップS5)、不一致であることが判断されると、不良
品であると認識される(ステップS6)。
When it is determined that they match, the flash EEPROM 12 is recognized as a non-defective product (step S5), and when it is determined that they do not match, it is recognized as a defective product (step S6). ).

【0046】なお、フラッシュEEPROM12の容量
がRAM25の容量に比べて大きく、一度にフラッシュ
EEPROM12の全データをRAM25に書き込めな
い場合は、図4に示すように、複数回に分けて図3に示
した処理と同様の処理を実施するように構成すればよ
い。即ち、図3で示したステップに加えて、フラッシュ
EEPROM12の全領域のテストが完了したかを調べ
るステップ(ステップS7)を設け、未テスト領域が残
っている場合は順次テストを繰り返すように構成すれば
よい。
When the capacity of the flash EEPROM 12 is larger than that of the RAM 25 and all the data in the flash EEPROM 12 cannot be written in the RAM 25 at one time, it is divided into a plurality of times as shown in FIG. The processing may be the same as the processing. That is, in addition to the steps shown in FIG. 3, a step (step S7) for checking whether the test of the entire area of the flash EEPROM 12 is completed is provided, and if there is an untested area, the test may be sequentially repeated. Good.

【0047】以上のように構成されるメモリセルフテス
ト装置が組み込まれた半導体集積回路によれば、フラッ
シュEEPROM12のセルトランジスタの閾値電圧変
動によって起きる動作速度低下が発生しているかどうか
を、テスタ等の評価装置を用いないセルフテストで、容
易に判別できる。
According to the semiconductor integrated circuit in which the memory self-test device constructed as described above is incorporated, it is checked whether the operation speed is decreased due to the threshold voltage fluctuation of the cell transistor of the flash EEPROM 12 by a tester or the like. It can be easily identified by a self-test that does not use an evaluation device.

【0048】なお、マイクロコンピュータ11は、通
常、RAMを搭載している。この場合は、セルフテスト
回路13の内部にRAM25を設けることなく、マイク
ロコンピュータ11に備えられているRAMを使用して
上述したセルフテストを実施することができる。この場
合、セルフテスト回路13のRAM25は不要となるの
で、セルフテスト回路を備えたことによる面積のオーバ
ーヘッドを小さくできる。
The microcomputer 11 is usually equipped with a RAM. In this case, the self test described above can be performed using the RAM provided in the microcomputer 11 without providing the RAM 25 inside the self test circuit 13. In this case, the RAM 25 of the self-test circuit 13 is not necessary, so that the area overhead due to the provision of the self-test circuit can be reduced.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
従来のテスタ等の評価装置を用いたテストと比較して、
テストにかかる費用、時間、工数を削減できるメモリセ
ルフテスト装置及びこのメモリセルフテスト装置を内蔵
した半導体集積回路を提供できる。
As described in detail above, according to the present invention,
Compared with a test using a conventional tester or other evaluation device,
It is possible to provide a memory self-test device that can reduce the cost, time, and man-hours required for a test, and a semiconductor integrated circuit incorporating this memory self-test device.

【0050】即ち、第1に半導体集積回路内部にメモリ
内容をテストする機能を備えているのでテスタ等の評価
用装置が不必要であり、テストにかかる費用を削減でき
る。第2に同時に大量の半導体集積回路をテストするこ
とができるので全体のテスト時間を短縮できる。第3は
期待値データを別途用意する必要ながないのでテスト工
数を削減できる。
That is, first, since the semiconductor integrated circuit has the function of testing the memory contents, an evaluation device such as a tester is unnecessary, and the cost for the test can be reduced. Secondly, since a large number of semiconductor integrated circuits can be tested at the same time, the total test time can be shortened. Thirdly, it is not necessary to prepare the expected value data separately, so the test man-hour can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係るメモリセルフテスト
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a memory self-test device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態に係るメモリセルフテスト
装置が含まれる半導体集積回路としてのマイクロコンピ
ュータの構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a microcomputer as a semiconductor integrated circuit including a memory self-test device according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態に係るメモリセルフテスト
装置の動作例を示すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing an operation example of the memory self-test device according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態に係るメモリセルフテスト
装置の他の動作例を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing another operation example of the memory self-test device according to the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 マイクロコンピュータ 12 フラッシュEEPROM 13 セルフテスト回路 14 論理回路 20 分周回路 21 マルチプレクサ 22 読み出し回路 23 デマルチプレクサ 24 書き込み回路 25 RAM 26 読み出し回路 27 比較回路 11 Microcomputer 12 flash EEPROM 13 Self-test circuit 14 logic circuits 20 frequency divider 21 Multiplexer 22 Read circuit 23 Demultiplexer 24 Writing circuit 25 RAM 26 Read circuit 27 Comparison circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 29/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11C 29/00

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】セルトランジスタにより構成され、第1ク
ロック信号を用いることによってテストして良品判定さ
れたメモリと、 前記第1クロック信号を用いて前記メモリから読み出さ
れたデータと前記第1クロック信号より遅い第2クロッ
ク信号を用いて前記メモリから読み出されたデータとを
比較することによって、前記メモリのセルトランジスタ
の閾値電圧が変動したか否かを調べる再テストを行うメ
モリセルフテスト回路、 とを備えたメモリセルフテスト装置。
1. A memory comprising a cell transistor, which has been tested and judged to be non-defective by using a first clock signal, data read from the memory using the first clock signal, and the first clock. A memory self-test circuit that performs a retest to determine if the threshold voltage of a cell transistor of the memory has changed by comparing the data read from the memory with a second clock signal that is slower than the signal; And a memory self-test device having.
【請求項2】前記メモリセルフテスト回路は、 前記第1クロック信号又は前記第2クロック信号を用い
て前記メモリからデータを読み出す読み出し回路と、 前記読み出し回路で前記第2クロック信号を用いて読み
出されたデータを一時記憶する一時記憶手段と、 前記読み出し回路で前記第1クロック信号を用いて読み
出されたデータと前記一時記憶手段から読み出されたデ
ータとを比較して比較結果を表す信号を出力する比較回
路、 とを備えた請求項1に記載のメモリセルフテスト装置。
2. The memory self-test circuit includes a read circuit that reads data from the memory using the first clock signal or the second clock signal, and a read circuit that uses the second clock signal in the read circuit. Temporary storage means for temporarily storing the stored data, and a signal indicating a comparison result by comparing the data read by the read circuit using the first clock signal with the data read from the temporary storage means. The memory self-test device according to claim 1, further comprising:
【請求項3】前記メモリセルフテスト回路は、 第1クロック信号を分周することにより第2クロック信
号を生成する分周回路を備えた請求項1又は2に記載の
メモリセルフテスト装置。
3. The memory self-test device according to claim 1, wherein the memory self-test circuit includes a frequency divider circuit that generates a second clock signal by dividing the first clock signal.
【請求項4】前記メモリはフラッシュメモリである請求
項1乃至請求項3の何れか1項に記載のメモリセルフテ
スト装置。
4. The memory self-test device according to claim 1, wherein the memory is a flash memory.
【請求項5】複数のセルトランジスタにより構成され、
第1クロック信号を用いることによってテストして良品
判定されたメモリと、 前記メモリを再テストするメモリセルフテスト回路とを
具備し、 前記メモリと前記メモリセルフテスト回路とは1つの半
導体基板上に形成され、 前記メモリセルフテスト回路は、 第1クロック信号を用いて前記メモリから読み出された
データと前記第1クロック信号より遅い第2クロック信
号を用いて前記メモリから読み出されたデータとを比較
することによって、前記セルトランジスタの閾値電圧が
変動したか否かを調べることを特徴とする半導体集積回
路。
5. A structure comprising a plurality of cell transistors,
A memory that is non-defective judgment tested by using the first clock signal, comprising: a memory self-test circuit for retest the memory, formed in the memory and said memory self-test circuit one semiconductor substrate And the memory self-test circuit compares the data read from the memory with a first clock signal and the data read from the memory with a second clock signal slower than the first clock signal. The semiconductor integrated circuit is characterized by checking whether or not the threshold voltage of the cell transistor has changed.
【請求項6】前記メモリセルフテスト回路は、 前記第1クロック信号又は前記第2クロック信号を用い
て前記メモリからデータを読み出す読み出し回路と、 前記読み出し回路で前記第2クロック信号を用いて読み
出されたデータを一時記憶する一時記憶手段と、 前記読み出し回路で前記第1クロック信号を用いて読み
出されたデータと前記一時記憶手段から読み出されたデ
ータとを比較して比較結果を表す信号を外部に出力する
比較回路、 とを備えた請求項5に記載の半導体集積回路。
6. The memory self-test circuit comprises: a read circuit for reading data from the memory using the first clock signal or the second clock signal; and a read circuit for reading data using the second clock signal in the read circuit. Temporary storage means for temporarily storing the stored data, and a signal indicating a comparison result by comparing the data read by the read circuit using the first clock signal with the data read from the temporary storage means. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, further comprising:
【請求項7】前記メモリセルフテスト回路は、 前記第1クロック信号を分周することにより第2クロッ
ク信号を生成する分周回路を備えた請求項5又は6に記
載の半導体集積回路。
7. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein the memory self-test circuit includes a frequency dividing circuit that generates a second clock signal by dividing the first clock signal.
【請求項8】前記メモリはフラッシュメモリである請求
項5乃至請求項7の何れか1項に記載の半導体集積回
路。
8. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein the memory is a flash memory.
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