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JP2003059299A - Semiconductor memory and its test method - Google Patents

Semiconductor memory and its test method

Info

Publication number
JP2003059299A
JP2003059299A JP2001250447A JP2001250447A JP2003059299A JP 2003059299 A JP2003059299 A JP 2003059299A JP 2001250447 A JP2001250447 A JP 2001250447A JP 2001250447 A JP2001250447 A JP 2001250447A JP 2003059299 A JP2003059299 A JP 2003059299A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dummy cell
cell
threshold value
word line
dummy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001250447A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuhiro Fujita
充宏 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Micro Systems Co Ltd
Original Assignee
Renesas Micro Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Micro Systems Co Ltd filed Critical Renesas Micro Systems Co Ltd
Priority to JP2001250447A priority Critical patent/JP2003059299A/en
Publication of JP2003059299A publication Critical patent/JP2003059299A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small scale potential measuring method which can easily measure a potential of a word line. SOLUTION: A dummy cell of which a threshold value is made fixed is arranged on a digit line which can be selected by a Y decoder in the same way as a normal cell, a dummy cell having the same constitution as a normal cell and of which a threshold value is fixed is arranged for constitution of a memory cell group arranged at intersection parts of a plurality of word lines and bit lines, a digit line on which dummy cells are arranged in the same way as a normal cell is selected by the Y decoder, and data is outputted through a sense amplifier.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置のテ
スト方法に関し、特に半導体フラッシュメモリーのワー
ド線の電位測定に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for testing a semiconductor memory device, and more particularly to measuring the potential of a word line of a semiconductor flash memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明が関するテスト回路は、特に各測
定モード時に、それぞれのワード線に正常に測定電圧が
印加されていることを確認し、ワード線の電位生成回路
に異常がないことを確認するために構成されている。
2. Description of the Related Art A test circuit according to the present invention confirms that a measurement voltage is normally applied to each word line in each measurement mode, and confirms that there is no abnormality in the potential generation circuit of the word line. Configured to check.

【0003】このような、電位測定回路は、一般的にワ
ード線の電位を生成する電位生成回路から直接電圧を測
定することで確認をしているが、電位生成回路からワー
ド線までの回路にショートなどの不備があり選択された
ワード線の電位が上昇せず、実際には電位生成回路とワ
ード線の電位が異なることがあるために、ワード線にか
かる電位を直接測定することが要求されている。
Such a potential measuring circuit is generally confirmed by directly measuring the voltage from a potential generating circuit which generates the potential of the word line. However, in the circuit from the potential generating circuit to the word line. Since the potential of the selected word line does not rise due to imperfections such as a short circuit, and the potential of the potential generation circuit and the potential of the word line may actually differ, it is necessary to directly measure the potential applied to the word line. ing.

【0004】この要請に応えるために、例えば、特開平
8−17199に開示されているように、各ワード線に
コンパレータなどを用いた電位比較回路を取り付け、そ
の比較結果を測定して期待する電位がワード線にかかっ
ていることを確認することが提案されている。
In order to meet this demand, for example, as disclosed in JP-A-8-17199, a potential comparison circuit using a comparator or the like is attached to each word line, and the comparison result is measured to obtain an expected potential. It has been proposed to make sure that is on the word line.

【0005】この先行技術文献に開示された手法を、図
5に示す、図において、501はメモリセルアレイ、5
02はメモリセル、503はビット線、504はワード
線、505は第1の電位供給源、506は第2の電位供
給源、507はNchTrであり、516は各ビット線
3に対応して用意されたコンパレータで、そのアナログ
入力に対応するビット線503の値を入力し、電位判定
回路508はこのコンパレータ516にて形成されてい
る、また517はこれら各コンパレータ516の出力す
べての論理積を演算して外部出力端子510に出力する
NAND回路である。この構成においては、全てのワー
ド線に正常レベルが印加されているか否かが測定可能で
あるが、選択されたワード線のみの電位を測定する事は
できない。
The technique disclosed in this prior art document is shown in FIG. 5, in which 501 represents a memory cell array and 5
02 is a memory cell, 503 is a bit line, 504 is a word line, 505 is a first potential supply source, 506 is a second potential supply source, 507 is an NchTr, and 516 is prepared corresponding to each bit line 3. The value of the bit line 503 corresponding to the analog input is input to the comparator, and the potential determination circuit 508 is formed by the comparator 516, and 517 calculates the logical product of all the outputs of these comparators 516. It is a NAND circuit that outputs to the external output terminal 510. With this configuration, it is possible to measure whether or not the normal level is applied to all word lines, but it is not possible to measure the potential of only the selected word line.

【0006】このため、電位生成回路のショートなどで
特定のワード線を選択した場合のみに電圧の異常が発生
する故障を発見できないため、測定回路がない場合と同
様に書込みや消去によって通常セルの閾値を変化させ、
書込み、消去一回ごとに各測定モードにて読み出しをお
こない電位を測定する必要がある。その結果、書込みも
しくは消去回数に各モードのテスト時間の総和を掛けた
時間のテスト時間を必要とするためにテスト時間の増大
を招くという欠点がある。さらには、メモリセルアレイ
の外側に専用の電位測定回路を付加するという構成とな
っているため、回路規模が大きくなりチップ製造コスト
に負担をかけるという問題もある。
For this reason, it is not possible to find a failure in which a voltage abnormality occurs only when a specific word line is selected due to a short-circuit of the potential generation circuit, etc. Therefore, as in the case where there is no measurement circuit, writing or erasing of a normal cell is performed. Change the threshold,
It is necessary to read the data in each measurement mode for each writing and erasing to measure the potential. As a result, there is a drawback in that the test time is increased because a test time of a time obtained by multiplying the number of times of writing or erasing by the total test time of each mode is required. Furthermore, since the dedicated potential measuring circuit is added to the outside of the memory cell array, there is a problem that the circuit scale becomes large and the chip manufacturing cost is burdened.

【0007】また、ダミーセルを使い電位を測定すると
いう同様の構成を持った先願例として図6に示すような
特開昭61−117796がある。図において、601
aは第1の基準レベル発生するダミーセル、601bは
第2の基準レベルを発生するダミーセル、上記ダミーセ
ル601a,601bはメモリセル601と同一構造を
とり、所望の基準レベルをデータ線602上に発生する
ように設定する。この先願例の行選択回路604は、特
定のワード線1本の他にダミーセルを選択状態にするワ
ード線603も同時に駆動する。列選択回路605は、
選択状態にあるメモリセルが接続されている特定のデー
タ線を比較回路606の信号入力端子S1,S2に接続
するよう制御するとともに、ダミーセル601a,60
1bの接続されている2本のデータ線602を各々比較
回路606、基準入力端子R1、R2に接続するように
制御している。この構成においては通常セルと通常セル
に対応したダミーセルから同時にデータを読み出し、ダ
ミーセルと通常セルの出力を比較している。
Further, there is Japanese Patent Laid-Open No. 61-17796 as shown in FIG. 6 as an example of a prior application having a similar structure in which a dummy cell is used to measure a potential. In the figure, 601
a is a dummy cell that generates a first reference level, 601b is a dummy cell that generates a second reference level, and the dummy cells 601a and 601b have the same structure as the memory cell 601 and generate a desired reference level on the data line 602. To set. The row selection circuit 604 of this prior application simultaneously drives not only one specific word line, but also a word line 603 which brings a dummy cell into a selected state. The column selection circuit 605 is
Control is performed so as to connect a specific data line to which the memory cell in the selected state is connected to the signal input terminals S1 and S2 of the comparison circuit 606, and dummy cells 601a and 60
The two data lines 602 connected to 1b are controlled to be connected to the comparison circuit 606 and the reference input terminals R1 and R2, respectively. In this configuration, data is simultaneously read from the normal cell and the dummy cell corresponding to the normal cell, and the outputs of the dummy cell and the normal cell are compared.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述した先願例におい
ては、本発明で実現しようとしているワード線の電圧の
測定を行うためには従来の方法と同様にメモリセルの閾
値を変化させ測定を行う必要がある。また通常セルと同
時にデータを読み出すため、ダミーセル用のワード線と
選択回路を用意する必要があり、回路規模にも影響があ
るという欠点がある。
In the above-mentioned prior application example, in order to measure the voltage of the word line, which is to be realized by the present invention, the threshold value of the memory cell is changed in the same manner as in the conventional method. There is a need to do. Further, since data is read simultaneously with the normal cell, it is necessary to prepare a word line and a selection circuit for the dummy cell, which has a drawback that the circuit scale is also affected.

【0009】したがって、本発明の主な目的は容易に各
ワード線の電位を測定することができることを目的とし
た規模の小さい電位測定方法を提供することにある。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a small-scale potential measuring method for the purpose of easily measuring the potential of each word line.

【0010】半導体フラッシュメモリーにおけるYデコ
ーダにて選択可能なデジット線上に閾値を一定としたセ
ルを通常のセルと同じように配置し、複数のワード線、
デジット線の交差部分に配置されたメモリセル群という
構成に対して、通常セルと同等の構成でデジット線上に
ダミーセルを配置し、Yデコーダで通常セルと同様にダ
ミーセルが配置されたデジット線を選択し、センスアン
プを介してデータを出力できる手段を設け、このダミー
セル群は、閾値が固定されているため通常セルとは違い
ワード線の電圧のみに影響を受けてON,OFFする
が、通常のデータセルと同様にセンスアンプを介してデ
ータ出力をする、従って、電圧比較回路などを有した電
圧測定回路を準備することなく各ワード線の電位が一定
の値以上もしくは以下になっていることをデータ出力に
よって確認することである。
A cell having a constant threshold value is arranged on a digit line selectable by a Y decoder in a semiconductor flash memory in the same manner as a normal cell, and a plurality of word lines are provided.
For the memory cell group arranged at the intersections of the digit lines, dummy cells are arranged on the digit lines in the same structure as the normal cells, and the Y decoder selects the digit line in which the dummy cells are arranged in the same manner as the normal cells. However, a means for outputting data via a sense amplifier is provided, and this dummy cell group is turned on and off by being influenced only by the voltage of the word line unlike a normal cell because the threshold value is fixed. Data is output via the sense amplifier as well as the data cell. Therefore, it is necessary to confirm that the potential of each word line is above or below a certain value without preparing a voltage measurement circuit having a voltage comparison circuit. It is to confirm by data output.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
および半導体記憶装置の測定方法は、書込みや消去動作
を行うことで閾値を変化させる通常メモリセルと、閾値
を固定したダミーセルを同一のセンスアンプに接続でき
るようYセレクタを構成し、ワード線の電圧の測定を行
うことを特徴とする。また、ダミーセルのソース側に抵
抗をつけることでダミーセルの閾値を変化させ、テスト
用として決められたデータアドレス、もしくはテストモ
ード信号をアドレス入力からYデコーダに入力してダミ
ーセルが配置されたデジット線をYデコーダで選択し、
アドレスに対応した一本のワード線に、読出しモードに
従った電圧を印加して、選択されたワード線、及びデジ
ット線の交点に存在するダミーセルは、ワード線の電位
がダミーセルの固定された閾値を越えている場合ONと
なり、デジット線からGNDへ電流が流れることを特徴
とする。また、測定モードによって抵抗値を変えられる
ようにセレクタを用いて構成した抵抗回路をダミーセル
のソース側に接続し、モードによりダミーセルの閾値を
変更することを特徴とする。また、データ読み出し用の
複数のセンスアンプが分担するメモリセル群に一つずつ
ダミーセルを設け、複数のダミーセル群を同時に選択で
きることを特徴とする。また、本発明の半導体記憶装置
の測定方法は、通常セルと通常セルとそれに対応したダ
ミーセルから同時にデータを読み出し、ダミーセルと通
常セルの出力を比較し読み出すことを特徴とする。
According to a semiconductor memory device and a method of measuring a semiconductor memory device of the present invention, a normal memory cell whose threshold value is changed by performing a write or erase operation and a dummy cell whose threshold value is fixed are sensed by the same sense. It is characterized in that a Y selector is configured so that it can be connected to an amplifier and the voltage of the word line is measured. Also, by adding a resistor to the source side of the dummy cell, the threshold value of the dummy cell is changed, and a data address determined for testing or a test mode signal is input from the address input to the Y decoder and the digit line in which the dummy cell is arranged is connected. Select with Y decoder,
By applying a voltage according to the read mode to one word line corresponding to the address, the dummy cell existing at the intersection of the selected word line and digit line has a fixed threshold voltage of the dummy cell. It is characterized in that it is turned on when the value exceeds, and current flows from the digit line to GND. In addition, a resistance circuit configured by using a selector so that the resistance value can be changed depending on the measurement mode is connected to the source side of the dummy cell, and the threshold value of the dummy cell is changed depending on the mode. Further, it is characterized in that one dummy cell is provided in each of the memory cell groups shared by a plurality of sense amplifiers for reading data, and a plurality of dummy cell groups can be selected simultaneously. Further, the semiconductor memory device measuring method of the present invention is characterized in that data is simultaneously read from a normal cell, a normal cell and a dummy cell corresponding thereto, and the outputs of the dummy cell and the normal cell are compared and read.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。図1は本発明の第1の実施形態の構成を
示す回路図である。図面を参照すると、本発明の一実形
態としてのメモリが示されている。本半導体メモリは、
複数のワード線W1〜W4、デジット線及D1〜D4お
よびその交点に配置されたメモリセルMC、データ読出
し対象のワード線を選択するXデコーダXD及び複数の
デジット線からYデコーダYDを介して選択したデジッ
ト線を接続されるセンスアンプSAを有し、閾値を固定
したダミーセルDCを有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of the first embodiment of the present invention. Referring to the drawings, there is shown a memory as one embodiment of the present invention. This semiconductor memory is
A plurality of word lines W1 to W4, digit lines D1 to D4 and memory cells MC arranged at their intersections, an X decoder XD for selecting a word line to be read from data, and a plurality of digit lines selected via a Y decoder YD. And a dummy cell DC having a fixed threshold value.

【0013】通常のフラッシュメモリセルは書込み、も
しくは消去動作を行うことにより閾値を変化させること
ができ、ワード線W1〜W4に読み出しモードに応じた
電位をかけることによりONもしくはOFF状態にな
り、デジット線D1〜D4の電位を変化させる、その出
力はセンスアンプSAで処理され、各測定電位に応じた
ワード線の電圧とメモリセルの閾値によって変化する出
力をメモリの出力データDoutとして処理する。
In a normal flash memory cell, the threshold value can be changed by performing a writing or erasing operation, and it is turned on or off by applying a potential according to the read mode to the word lines W1 to W4, and a digit is displayed. The output that changes the potentials of the lines D1 to D4 is processed by the sense amplifier SA, and the output that changes depending on the voltage of the word line and the threshold value of the memory cell according to each measured potential is processed as the output data Dout of the memory.

【0014】この処理データに対し、本発明に従って設
けられた通常セルとセンスアンプを共有しYセレクタに
よって選択されるダミーセルDCは、閾値を固定させて
いるため、ワード線の電圧が一定値を超えることでのみ
ON,OFFの状態遷移が行われる。
With respect to this processed data, the dummy cell DC sharing the sense amplifier with the normal cell provided according to the present invention and selected by the Y selector has a fixed threshold value, so the voltage of the word line exceeds a certain value. Only then, the ON / OFF state transition is performed.

【0015】こうして得られたデータはセンスアンプS
Aに供給され、読み出しデータとして出力される。読み
出しデータとあらかじめ用意しておいた期待値を比較
し、期待値通りダミーセルDCがONもしくはOFF状
態になっていることを確認する。以上の動作により、ワ
ード線W1〜W4の電位を専用の電圧測定回路を付加す
ることなくテストすることが可能になる。
The data thus obtained is the sense amplifier S
It is supplied to A and output as read data. The read data is compared with the expected value prepared in advance, and it is confirmed that the dummy cell DC is in the ON or OFF state according to the expected value. By the above operation, the potentials of the word lines W1 to W4 can be tested without adding a dedicated voltage measuring circuit.

【0016】図1を参照すると、図1のダミーセルは以
下のように構成されている。すなわち、本来書込みや消
去動作を行うことで閾値を変化させる通常メモリセルM
Cと、閾値を固定したダミーセルDCを同一のセンスア
ンプに接続できるようYセレクタYDを構築する。通常
メモリセルMCとダミーセルDCで同一のセンスアンプ
SAを使用することで、回路規模の大幅な増大を招くこ
となくワード線W1〜W4の電圧の測定が可能になる。
Referring to FIG. 1, the dummy cell of FIG. 1 is constructed as follows. That is, the normal memory cell M that originally changes the threshold value by performing the write or erase operation.
The Y selector YD is constructed so that C and the dummy cell DC having a fixed threshold value can be connected to the same sense amplifier. By using the same sense amplifier SA for the normal memory cell MC and the dummy cell DC, the voltages of the word lines W1 to W4 can be measured without causing a large increase in the circuit scale.

【0017】図1において、ダミーセルDCのソース側
に抵抗RをつけることでダミーセルDCの閾値を変化さ
せる。センスアンプ、X,Yデコーダの詳細は、当業者
にとってよく知られており、また本発明とは直接関係し
ないので、その詳細な構成は省略する。
In FIG. 1, a resistance R is provided on the source side of the dummy cell DC to change the threshold value of the dummy cell DC. Details of the sense amplifier and the X, Y decoder are well known to those skilled in the art, and since they are not directly related to the present invention, their detailed configurations are omitted.

【0018】以下、本実施形態の動作について説明す
る。まず、テスト用として決められたデータアドレス、
もしくはテストモード信号をアドレス入力ADinから
YデコーダYDに入力してダミーセルが配置されたデジ
ット線D5をYデコーダYDにて選択するようにする。
そして通常セルのデータを読み出すのと同様にアドレス
に対応した一本のワード線に読みだしモードに従った電
圧を印加する。
The operation of this embodiment will be described below. First, the data address decided for testing,
Alternatively, the test mode signal is input from the address input ADin to the Y decoder YD so that the digit line D5 in which the dummy cells are arranged is selected by the Y decoder YD.
Then, similarly to reading the data of the normal cell, a voltage according to the read mode is applied to one word line corresponding to the address.

【0019】選択されたワード線、及びデジット線の交
点に存在するダミーセルは、ワード線の電位がダミーセ
ルの固定された閾値を越えている場合ONとなり、デジ
ット線からGNDへ電流が流れる。その状態をYデコー
ダを介してデジット線に接続されたセンスアンプにて検
出し、「0」、もしくは「1」にデータ化され出力され
る。図2にメモリセルの閾値とワード線の電位の比較図
を示す。メモリセルの閾値よりワード線の電位の方が高
い場合にメモリセルはON状態となる。ここで通常のメ
モリセルは書込み、もしくは消去を行うことで閾値を変
動させることができるため、出力されるデータはメモリ
セルの閾値とワード線の電圧の2種類の要素によって変
化する。しかし、閾値を固定したダミーセルを用いるこ
とにより、ONからOFF、もしくはOFFからONへ
状態遷移する要因がワード線の電圧のみになる。各ワー
ド線に対し正常な電圧が印加されている場合、選択され
たデジット線上のすべてのダミーセルがONもしくはO
FFとなるため、センスアンプを介して出力されるデー
タはすべて「0」もしくは「1」となる。出力されたデ
ータがすべて「0」、もしくは「1」であることをテス
タ等で測定することで、各ワード線にかかる電圧が一定
値以上にあることを確認することができる。
The dummy cell existing at the intersection of the selected word line and digit line is turned on when the potential of the word line exceeds the fixed threshold of the dummy cell, and a current flows from the digit line to GND. The state is detected by the sense amplifier connected to the digit line through the Y decoder, converted to "0" or "1", and output. FIG. 2 shows a comparison diagram of the threshold voltage of the memory cell and the potential of the word line. When the potential of the word line is higher than the threshold value of the memory cell, the memory cell is turned on. Here, since the threshold value of a normal memory cell can be changed by writing or erasing, the output data changes depending on two types of elements, the threshold value of the memory cell and the voltage of the word line. However, by using a dummy cell with a fixed threshold value, the only factor that causes the state transition from ON to OFF or from OFF to ON is the voltage of the word line. When a normal voltage is applied to each word line, all dummy cells on the selected digit line are turned on or turned on.
Since it is an FF, all data output via the sense amplifier is "0" or "1". By measuring that all the output data is “0” or “1” with a tester or the like, it can be confirmed that the voltage applied to each word line is a certain value or more.

【0020】これとは逆に、一度選択したダミーセルよ
りさらに閾値を上昇させたダミーセルが接続されたデジ
ット線を選択し、ワード線にかかる電位がそれらのダミ
ーセルの閾値以下であることを確認することで、ワード
線の電位が一定の範囲に入っていることを確認すること
ができる。
On the contrary, select a digit line connected to a dummy cell whose threshold value has been raised more than the once selected dummy cell, and confirm that the potential applied to the word line is below the threshold value of those dummy cells. Then, it can be confirmed that the potential of the word line is within a certain range.

【0021】たとえば、読み出しモードが書込み確認、
データ読出し、消去確認用の3種類ある場合、図2に示
すように書込み確認とデータ読み出し、データ読出しと
消去確認の間及び書込み確認より上、消去確認より下の
閾値を持った4種類のダミーセルDC1,DC2,DC
3,DC4を準備する。その後各モードでデータ読み出
しを行うと、表1に示すように各ダミーセルの状態が決
まる。ここでダミーセルの閾値よりワード線の電位が高
くダミーセルがON状態のときに出力されるデータを
0、逆の場合を1とし、ダミーセルDC1,DC2,D
C3,DC4の出力をそれぞれビット「3」,「2」,
「1」,「0」とした場合、モードにより読み出しデー
タは「0111」、「0011」、「0001」、とな
る。すべてのワード線で同じデータが読み出された場
合、3つの読み出しモードでワード線にかかる電圧がモ
ードによってすべてのワード線に正常に印加されている
ことが確認できる。
For example, the read mode is write confirmation,
When there are three types for data read and erase confirmation, as shown in FIG. 2, four types of dummy cells having thresholds between write confirmation and data read, data read and erase confirmation, and above write confirmation and below erase confirmation. DC1, DC2, DC
3, DC4 is prepared. After that, when data is read in each mode, the state of each dummy cell is determined as shown in Table 1. Here, the data output when the potential of the word line is higher than the threshold value of the dummy cell and the dummy cell is in the ON state is 0, and in the opposite case is 1, the dummy cells DC1, DC2, D
The outputs of C3 and DC4 are the bits "3", "2",
When set to "1" and "0", the read data is "0111", "0011", "0001" depending on the mode. When the same data is read from all the word lines, it can be confirmed that the voltage applied to the word lines in the three read modes is normally applied to all the word lines depending on the mode.

【0022】本発明の他の実施形態として、その基本的
構成は上記の通りであるが、ダミーセルの構成について
さらに工夫している。その構成を図3に示す。本図にお
いて、ダミーセルのソース側に測定モードにより抵抗値
を変化させることが可能な構成にする。従って、測定モ
ードによって抵抗値を変えられるようにセレクタSEL
を用いて構成した抵抗回路RCをダミーセルのソース側
に接続し、モードによりダミーセルの閾値を変更できる
構成にする。
As another embodiment of the present invention, the basic structure is as described above, but the structure of the dummy cell is further devised. The structure is shown in FIG. In this figure, the source side of the dummy cell has a configuration capable of changing the resistance value depending on the measurement mode. Therefore, the selector SEL can change the resistance value depending on the measurement mode.
Is connected to the source side of the dummy cell so that the threshold value of the dummy cell can be changed depending on the mode.

【0023】このように、本実施形態では、さらに、一
組のダミーセルで複数の電圧レベルの測定を可能とする
という効果が得られる。
As described above, the present embodiment has the further advantage that it is possible to measure a plurality of voltage levels with a set of dummy cells.

【0024】上記各実施形態では、各モードにおけるワ
ード線の複数の電圧を測定することが可能という効果を
ダミーセルのソースに付加する抵抗の抵抗値を可変とす
る構成を用いるが、複数のダミーセル群を用意して同時
に読み出すため、第3の実施形態として図4に示す。本
実施形態では、データ読み出し用の複数のセンスアンプ
SA1〜4が担当するメモリセル群MC1〜4に一つず
つダミーセル群DC1〜4を設け、読み出しデータ幅を
最大とする複数のダミーセル群を同時に選択できる構成
としている。
In each of the above-mentioned embodiments, the effect of being able to measure a plurality of voltages of the word line in each mode is such that the resistance value of the resistor added to the source of the dummy cell is variable, but a plurality of dummy cell groups are used. Is prepared and read simultaneously, a third embodiment is shown in FIG. In the present embodiment, the dummy cell groups DC1 to DC4 are provided one by one in the memory cell groups MC1 to MC4 to which the plurality of sense amplifiers SA1 to SA4 for reading data are provided, and a plurality of dummy cell groups having the maximum read data width are simultaneously provided. The configuration is selectable.

【0025】従って、これらの複数のダミーセル群を選
択しデータ読み出しを行うことで、ダミーセルの閾値を
細かく設定することが可能となり、一回の読み出し動作
でワード線の電位についてより詳細な値を得ることがで
きる。
Therefore, it is possible to finely set the threshold value of the dummy cell by selecting these plural dummy cell groups and reading the data, and to obtain a more detailed value of the potential of the word line by one read operation. be able to.

【0026】しかも、本実施形態では、複数段階の電位
を測定することが可能な構成としているので、モードに
よって電位が逆転している不具合を一回の読み出しで容
易に発見することが可能である。
Moreover, in the present embodiment, since the potential can be measured in a plurality of steps, it is possible to easily find the defect that the potential is reversed depending on the mode by one reading. .

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、ダミー
セルを用いることによって各ワード線に正常な電圧が印
加されていることをデータ出力で判断することができ
る。この回路が存在していない場合、本発明と同様にデ
ータ出力を用いてワード線の電位を測定しようとした場
合は、通常セルの閾値を多段階消去などで徐々に遷移さ
せ、消去一回ごとに各測定モードにてデータ読み出しを
行う必要がある。
As described above, according to the present invention, it is possible to judge from the data output that the normal voltage is applied to each word line by using the dummy cell. If this circuit is not present and the potential of the word line is to be measured using the data output as in the present invention, the threshold value of the normal cell is gradually changed by multi-step erasing, etc. It is necessary to read data in each measurement mode.

【0028】消去を1回行うのにかかる時間を1秒、一
つの測定モードに対してデータ読み出しに1秒かかると
し、測定モードが4種類あるメモリセルで上記方法によ
りレベル測定を行うと、消去回数×5秒のテストタイム
が必要となる。書込み状態から消去状態になるまでの消
去回数を10回とした場合、50秒のテスト時間が必要
となる、しかし本発明の場合ダミーセルを使いセルの閾
値を固定しているので、消去などでメモリセルの閾値を
変化させる必要がなく、各測定モードでデータ読み出し
を行うだけで測定が可能となる。
Assume that it takes 1 second to erase once, and 1 second to read data for one measurement mode. When the level measurement is performed by the above method in a memory cell having four kinds of measurement modes, the erase operation is performed. The number of times x 5 seconds of test time is required. If the number of erases from the written state to the erased state is 10, the test time of 50 seconds is required. However, in the case of the present invention, the dummy cell is used to fix the threshold value of the cell. It is not necessary to change the cell threshold value, and the measurement can be performed only by reading the data in each measurement mode.

【0029】従って、(消去回数×測定モード数×読み
出し時間)分のテスト時間を節約することができる。従
来の方法で説明した条件の場合、50秒のテスト時間が
節約できる。
Therefore, it is possible to save a test time of (erasure count × measurement mode count × readout time). With the conditions described in the conventional method, a test time of 50 seconds can be saved.

【0030】さらには、第3の実施形態では、ダミーセ
ルを同時に複数のセンスアンプに接続可能な構成となっ
ているので、閾値の違うダミーセルを同時に読み出し、
一回のデータ読み出しで最大データ読み出し幅分の電圧
レベルの測定もできる。
Furthermore, in the third embodiment, since the dummy cells can be connected to a plurality of sense amplifiers at the same time, dummy cells having different thresholds are read out at the same time.
It is also possible to measure the voltage level for the maximum data read width with one data read.

【0031】しかも、基準電圧などは必要とせず、電位
生成回路とは全く関係ない方法で電位を測定できる構造
となっているので、各測定モードで基準電圧も含めてワ
ード線の電圧レベルが異常になっていないことを確認す
ることができるという効果もある。
Moreover, since the reference voltage is not required and the potential can be measured by a method that is completely unrelated to the potential generation circuit, the voltage level of the word line including the reference voltage is abnormal in each measurement mode. There is also an effect that it can be confirmed that it is not.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a first exemplary embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態の内部電位を示す図で
ある。
FIG. 2 is a diagram showing an internal potential according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施形態の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施形態の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a third exemplary embodiment of the present invention.

【図5】第1の従来例における回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram in a first conventional example.

【図6】第2の従来例における回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram in a second conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

D1〜D4 デジット線 DC、DC1〜DC4 ダミーセル SA、SA1〜SA4 センスアンプ MC1〜MC4 メモリセル群 SEL セレクタ R 抵抗 RC 抵抗回路 W1〜W4 ワード線 YD Yデコーダ XD Xデコーダ 501 メモリセルアレイ 502 メモリセル 503 ビット線 504 ワード線 505 第1の電位供給源 506 第2の電位供給源 507 NchTr 516 コンパレータ 508 電位判定回路 517 NAND回路 510 外部出力端子 601a 第1の基準レベルを発生するダミーセル 601b 第2の基準レベルを発生するダミーセル 602 データ線 603 ワード線 604 行選択回路 605 列選択回路 606 比較回路 S1、S2 信号入力端子 R1、R2 基準入力端子 D1、D2 識別出力端子 D1 to D4 digit lines DC, DC1-DC4 dummy cells SA, SA1-SA4 sense amplifier MC1 to MC4 memory cell group SEL selector R resistance RC resistance circuit W1-W4 word lines YD Y decoder XD X decoder 501 memory cell array 502 memory cell 503 bit line 504 word line 505 First potential supply source 506 Second potential supply source 507 NchTr 516 Comparator 508 potential determination circuit 517 NAND circuit 510 External output terminal 601a Dummy cell for generating first reference level 601b Dummy cell for generating second reference level 602 data line 603 word line 604 row selection circuit 605 column selection circuit 606 Comparison circuit S1 and S2 signal input terminals R1 and R2 reference input terminals D1, D2 identification output terminal

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 書込みや消去動作を行うことで閾値を変
化させる通常メモリセルと、閾値を固定したダミーセル
を同一のセンスアンプに接続できるようYセレクタを構
成し、ワード線の電圧の測定を行うことを特徴とする半
導体記憶装置。
1. A Y selector is configured so that a normal memory cell whose threshold value is changed by performing a write or erase operation and a dummy cell whose threshold value is fixed can be connected to the same sense amplifier, and the voltage of a word line is measured. A semiconductor memory device characterized by the above.
【請求項2】 ダミーセルのソース側に抵抗をつけるこ
とで、このダミーセルの閾値を変化させ、テスト用とし
て決められたデータアドレス、もしくはテストモード信
号をアドレス入力からYデコーダに入力してダミーセル
が配置されたデジット線を前記Yデコーダで選択し、ア
ドレスに対応した一本の前記ワード線に、読出しモード
に従った電圧を印加して、選択された前記ワード線、及
び前記デジット線の交点に存在する前記ダミーセルは、
前記ワード線の電位が前記ダミーセルの固定された閾値
を越えている場合ONとなり、前記デジット線からGN
Dへ電流が流れることを特徴とする半導体記憶装置。
2. A dummy cell is arranged by changing the threshold value of the dummy cell by providing a resistance on the source side of the dummy cell and inputting a data address or test mode signal determined for testing from the address input to the Y decoder. The selected digit line is selected by the Y decoder, and a voltage according to the read mode is applied to one of the word lines corresponding to the address so that the selected digit line exists at the intersection of the selected word line and the digit line. The dummy cell
When the potential of the word line exceeds the fixed threshold value of the dummy cell, it is turned on, and the digit line to GN
A semiconductor memory device characterized in that a current flows to D.
【請求項3】 測定モードによって抵抗値を変えられる
ようにセレクタを用いて構成した抵抗回路を前記ダミー
セルのソース側に接続し、モードにより前記ダミーセル
の閾値を変更することを特徴とする半導体記憶装置。
3. A semiconductor memory device characterized in that a resistance circuit configured by using a selector so that a resistance value can be changed depending on a measurement mode is connected to a source side of the dummy cell, and a threshold value of the dummy cell is changed according to a mode. .
【請求項4】 データ読み出し用の複数のセンスアンプ
が分担するメモリセル群に一つずつダミーセルを設け、
この複数のダミーセル群を同時に選択できることを特徴
とする半導体記憶装置。
4. A dummy cell is provided for each of the memory cell groups shared by a plurality of sense amplifiers for reading data.
A semiconductor memory device characterized in that a plurality of dummy cell groups can be selected simultaneously.
【請求項5】 通常セルと通常セルとそれに対応した前
記ダミーセルから同時にデータを読み出し、前記ダミー
セルと通常セルの出力を比較し読み出すことを特徴とす
る半導体記憶装置の測定方法。
5. A method of measuring a semiconductor memory device, comprising: simultaneously reading data from a normal cell, a normal cell, and the dummy cell corresponding thereto, and comparing and reading outputs of the dummy cell and the normal cell.
【請求項6】 テスト用として決められたデータアドレ
ス、もしくは前記テストモード信号をアドレス入力から
前記Yデコーダに入力して前記ダミーセルが配置された
前記デジット線を前記Yデコーダにて選択し、アドレス
に対応した一本の前記ワード線に読みだしモードに従っ
た電圧を印加し、選択された前記ワード線、及び前記デ
ジット線の交点に存在する前記ダミーセルを、前記ワー
ド線の電位が前記ダミーセルの固定された閾値を越えて
いる場合ONし、前記デジット線からGNDへ電流を流
し、その状態を前記Yデコーダを介して前記デジット線
に接続されたセンスアンプにて検出し、「0」、もしく
は「1」にデータ化し出力させる、前記メモリセルの閾
値より前記ワード線の電位の方が高い場合に前記メモリ
セルはON状態となり、前記各ワード線に対し正常な電
圧が印加されている場合、選択された前記デジット線上
のすべての前記ダミーセルがONもしくはOFFとし、
前記センスアンプを介して出力されるデータはすべて
「0」もしくは「1」となる、出力されたデータがすべ
て「0」、もしくは「1」であることをテスタ等で測定
することで前記各ワード線にかかる電圧が一定値以上に
あることを確認することを特徴とする半導体記憶装置の
測定方法。
6. A data address determined for testing, or the test mode signal is input from an address input to the Y decoder, and the digit line in which the dummy cell is arranged is selected by the Y decoder. A voltage according to the read mode is applied to the corresponding one of the word lines, and the dummy cell existing at the intersection of the selected word line and the digit line is fixed to the dummy cell with the potential of the word line. If it exceeds the threshold value, it is turned on, a current is passed from the digit line to GND, and the state is detected by a sense amplifier connected to the digit line via the Y decoder, and "0" or " When the potential of the word line is higher than the threshold value of the memory cell and is output as data, the memory cell is turned on. When a normal voltage is applied to each word line, all the dummy cells on the selected digit line are turned on or off,
The data output via the sense amplifier is all "0" or "1". Each word is measured by measuring with a tester that the output data is all "0" or "1". A method for measuring a semiconductor memory device, which comprises confirming that a voltage applied to a line is a certain value or more.
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