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JP3507962B2 - N,n−ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法 - Google Patents

N,n−ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法

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JP3507962B2
JP3507962B2 JP29394894A JP29394894A JP3507962B2 JP 3507962 B2 JP3507962 B2 JP 3507962B2 JP 29394894 A JP29394894 A JP 29394894A JP 29394894 A JP29394894 A JP 29394894A JP 3507962 B2 JP3507962 B2 JP 3507962B2
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Japan
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trimethylsilyl
bis
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amine
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洋子 小関
均 小池
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Yuki Gosei Kogyo Co Ltd
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Yuki Gosei Kogyo Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、アミノ基を有する化合
物のグリニヤール反応などの有機金属試薬を用いた反応
において、活性基となるアミノ基を保護する方法として
有用であるN,N−ビス(トリメチルシリル)アミンの
製造方法に関する。 【0002】 【従来の技術】アミノ化合物のN,N−ビストリメチル
シリル化反応としては、トリエチルアミンの存在下、触
媒量の四塩化チタン、ヨウ化ナトリウムなどを用いて、
アミノ化合物とトリメチルクロロシランとを反応させる
方法[Phosphorus Sulfur and
Silicon、68巻、25−35頁、1992年]
が知られている。 【0003】しかしながら、この方法は、沸点の低い塩
化メチレンや取扱いにくいアセトニトリルを溶媒として
使用し、毒性の高い四塩化チタンや高価なヨウ化ナトリ
ウムを触媒として使用するものであり、工業的にN,N
−ビス(トリメチルシリル)アミンを製造する方法であ
るとは言いがたい。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、取扱いが容
易で安全な材料を用いて工業的にN,N−ビス(トリメ
チルシリル)アミンを製造する新規な方法を提供する点
にある。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明者らは前述の課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アミノ化合物とト
リメチルクロロシランとを第三級アミンの存在下、塩化
アルミニウム触媒を用いて反応することにより、N,N
−ビス(トリメチルシリル)アミンを製造する方法を見
いだし、本発明を完成したものである。 【0006】すなわち、本発明は、一般式(I) 【化3】 (式中、Rは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、又はピリジルアルキル基を表し、こ
れらはいずれも置換基を有することもある。)で示され
るアミノ化合物[以下、アミノ化合物(I)と称す]と
トリメチルクロロシランとを第三級アミンの存在下、
化アルミニウム触媒を用いて反応させることを特徴とす
る一般式(II) 【化4】 (式中、Rは前記と同一を表す。)で示されるN,N−
ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法である。 【0007】本発明において、アルキル基とは、メチル
基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシ
ル基、ノニル基、オクタデシル基などを、アルケニル基
とは、アリル基、イソプロペニル基、2−ブテニル基な
どを、アルキニル基とは、プロパギル基、2−ブチニル
基などを、アラルキル基とは、ベンジル基、フェネチル
基などのアリールアルキル基、また、低級アルキル基で
置換されたアリールアルキル基を、ピリジルアルキル基
とは、2−ピリジルメチル基、2−ピリジルエチル基、
3−ピリジルメチル基、4−ピリジルメチル基、4−ピ
リジルエチル基などを意味する。 【0008】また、置換基とは、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、エステル基、又は保護基を有することも
あるヒドロキシ基を意味する。なお、エステル基とは、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのア
ルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などの
アリールオキシカルボニル基が、保護基を有するヒドロ
キシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、ベンジル基など
のエーテル系保護基を有するヒドロキシ基、トリメチル
シロキシ基、トリエチルシロキシ基、t−ブチルジメチ
ルシロキシ基、t−ブチルジフェニルシロキシ基などの
シリル系保護基を有するヒドロキシ基が例示される。 【0009】本発明では、アミノ化合物(I)とトリメ
チルクロロシランとを第三級アミンの存在下、塩化アル
ミニウム触媒を用いて反応させることにより目的物の
N,N−ビス(トリメチルシリル)アミンを得るもので
あるが、この場合のアミノ化合物(I)とトリメチルク
ロロシランの使用割合は、アミノ化合物(I)に対して
トリメチルクロロシランが2倍モルと化学量論的に使用
することが経済上好ましい。 【0010】第三級アミンとしては、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジメチルアニリン、ピリジン、N−メチルピペリジンな
どが挙げられるが、好ましくはトリエチルアミン、ピリ
ジンである。 【0011】第三級アミンの使用量は、アミノ化合物
(I)に対して2倍モル以上あればよいが、好ましくは
2〜3倍モルである。 【0012】触媒として使用する化合物は塩化アルミニ
ウムである。塩化アルミニウム触媒の使用量は特に限定
されないが、アミノ化合物(I)100重量部に対して
1〜25重量部の範囲が好ましい。 【0013】無溶媒でも本発明の反応は進行するが、溶
媒を使用する際は、非プロトン性溶媒を使用する。例え
ば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキ
サン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサ
ンなどの脂環式炭化水素類などが挙げられるが、好まし
くはトルエン、キシレンである。 【0014】反応温度は特に限定されないが、通常は2
0〜110℃の範囲で行われる。反応は室温下で十分に
進行し、通常20時間以内に終了する。 【0015】 【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 【0016】実施例1 撹拌機、冷却管、温度計、滴下ロートを備えた50ml
の四つ口反応フラスコに、トルエン5ml、ルイス酸触
媒としての塩化アルミニウム0.06g(0.5ミリモ
ル)、第三級アミンとしてのトリエチルアミン2.4g
(24.2ミリモル)、トリメチルクロロシラン2.4
g(22ミリモル)を仕込んだ。室温下、アミノ化合物
としてのアリルアミン0.6g(10ミリモル)を滴下
した後、終夜撹拌した。反応混合物に10%水酸化ナト
リウム水溶液を滴下した後、活性白土0.1gを混合物
中に加えてろ過した。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、ろ過し、減圧濃縮した。残渣を質量分析計
により分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシリ
ル)アリルアミン(本化合物の構造式は下記に示すとお
りである)であることを確認した。マススペクトル m
/e:201(M),186,174,114,73
(base) 【0017】実施例2 アリルアミンの代わりにプロパギルアミン10ミリモル
を使用して実施例1と同様の操作を行い、質量分析計に
より分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシリル)
プロパギルアミン(本化合物の構造式は下記に示すとお
りである)であることを確認した。マススペクトル m
/e:199(M),184,86,73(bas
e) 【0018】実施例3 アリルアミンの代わりに2−クロロエチルアミン10ミ
リモルを使用して実施例1と同様の操作を行い、質量分
析計により分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシ
リル)−2−クロロエチルアミン(本化合物の構造式は
下記に示すとおりである)であることを確認した。マス
スペクトル m/e:223(M),174,10
0,86,73(base) 【0019】実施例4 アリルアミンの代わりに3−クロロプロピルアミン10
ミリモルを使用して実施例1と同様の操作を行い、質量
分析計により分析した結果、N,N−ビス(トリメチル
シリル)−3−クロロプロピルアミン(本化合物の構造
式は下記に示すとおりである)であることを確認した。
マススペクトル m/e:237(M),194,1
74,86,73(base) 【0020】実施例5 アリルアミンの代わりに2−(トリメチルシロキシ)エ
チルアミン10ミリモルを使用して実施例1と同様の操
作を行い、質量分析計により分析した結果、N,N−ビ
ス(トリメチルシリル)−2−(トリメチルシロキシ)
エチルアミン(本化合物の構造式は下記に示すとおりで
ある)であることを確認した。マススペクトル m/
e:277(M),262,174,86,73(b
ase) 【0021】実施例6 アリルアミンの代わりに1−ヘキシルアミン10ミリモ
ルを使用して実施例1と同様の操作を行い、質量分析計
により分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシリ
ル)−1−ヘキシルアミン(本化合物の構造式は下記に
示すとおりである)であることを確認した。マススペク
トル m/e:245(M),230,174(ba
se),73 【0022】実施例7 アリルアミンの代わりに1−ノニルアミン10ミリモル
を使用して実施例1と同様の操作を行い、質量分析計に
より分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシリル)
−1−ノニルアミン(本化合物の構造式は下記に示すと
おりである)であることを確認した。マススペクトル
m/e:287(M),272,198,174(b
ase),73 【0023】実施例8 アリルアミンの代わりに1−オクタデシルアミン10ミ
リモルを使用して実施例1と同様の操作を行い、質量分
析計により分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシ
リル)−1−オクタデシルアミン(本化合物の構造式は
下記に示すとおりである)であることを確認した。マス
スペクトル m/e:413(M),398,174
(base),73 【0024】実施例9 アリルアミンの代わりにグリシンエチルエステル10ミ
リモルを使用して実施例1と同様の操作を行い、質量分
析計により分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシ
リル)グリシンエチルエステル(本化合物の構造式は下
記に示すとおりである)であることを確認した。マスス
ペクトル m/e:247(M),232,174,
147,73(base) 【0025】実施例10 アリルアミンの代わりにβ−アラニンエチルエステル1
0ミリモルを使用して実施例1と同様の操作を行い、質
量分析計により分析した結果、N,N−ビス(トリメチ
ルシリル)−β−アラニンエチルエステル(本化合物の
構造式は下記に示すとおりである)であることを確認し
た。マススペクトル m/e:261(M),24
6,174,147,73(base) 【0026】実施例11 アリルアミンの代わりにアミノアセトニトリル10ミリ
モルを使用して実施例1と同様の操作を行い、質量分析
計により分析した結果、N,N−ビス(トリメチルシリ
ル)アミノアセトニトリル(本化合物の構造式は下記に
示すとおりである)であることを確認した。マススペク
トル m/e:200(M),185,86(bas
e),73 【0027】実施例12 アリルアミンの代わりに2−[4−(トリメチルシロキ
シ)フェニル]エチルアミン10ミリモルを使用して実
施例1と同様の操作を行い、質量分析計により分析した
結果、N,N−ビス(トリメチルシリル)−2−[4−
(トリメチルシロキシ)フェニル]エチルアミン(本化
合物の構造式は下記に示すとおりである)であることを
確認した。マススペクトル m/e:353(M),
338,174,86,73(base) 【0028】実施例13 アリルアミンの代わりに2−(4−クロロフェニル)エ
チルアミン10ミリモルを使用して実施例1と同様の操
作を行い、質量分析計により分析した結果、N,N−ビ
ス(トリメチルシリル)−2−(4−クロロフェニル)
エチルアミン(本化合物の構造式は下記に示すとおりで
ある)であることを確認した。マススペクトル m/
e:299(M),284,174,86,73(b
ase) 【0029】実施例14 アリルアミンの代わりに2−(3,4−ジメトキシフェ
ニル)エチルアミン10ミリモルを使用して実施例1と
同様の操作を行い、質量分析計により分析した結果、
N,N−ビス(トリメチルシリル)−2−(3,4−ジ
メトキシフェニル)エチルアミン(本化合物の構造式は
下記に示すとおりである)であることを確認した。マス
スペクトル m/e:325(M),174(bas
e),151,86,73 【0030】実施例15 アリルアミンの代わりに3−(アミノメチル)ピリジン
10ミリモルを使用して実施例1と同様の操作を行い、
質量分析計により分析した結果、N,N−ビス(トリメ
チルシリル)−3−(アミノメチル)ピリジン(本化合
物の構造式は下記に示すとおりである)であることを確
認した。マススペクトル m/e:252(M),2
37,163,136,73(base) 【0031】実施例16 アリルアミンの代わりに2−(2−アミノエチル)ピリ
ジン10ミリモルを使用して実施例1と同様の操作を行
い、質量分析計により分析した結果、N,N−ビス(ト
リメチルシリル)−2−(2−アミノエチル)ピリジン
(本化合物の構造式は下記に示すとおりである)である
ことを確認した。マススペクトル m/e:266(M
),251,174(base),86,73 【化5】 【化6】【化7】【0032】以下に本発明の実施態様を列挙する。 1. 一般式(I) 【化8】 (式中、Rは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基、又はピリジルアルキル基を表し、こ
れらはいずれも置換基を有することもある。)で示され
るアミノ化合物とトリメチルクロロシランとを第三級ア
ミンの存在下、塩化アルミニウム触媒を用いて反応させ
ることを特徴とする一般式(II) 【化9】 (式中、Rは前記と同一を表す。)で示されるN,N−
ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法。 2.前記第三級アミンをアミノ化合物(I)に対して2
倍モル以上使用する前項1記載のN,N−ビス(トリメ
チルシリル)アミンの製造方法。 3.前記塩化アルミニウム触媒をアミノ化合物(I)1
00重量部当り1〜25重量部使用する前項1または2
記載のN,N−ビス(トリメチルシリル)アミンの製造
方法。 【0033】 【発明の効果】本発明によれば、アミノ基を有する化合
物のグリニヤール反応などの有機金属試薬を用いた反応
において活性基となるアミノ基を保護した化合物として
有用なN,N−ビス(トリメチルシリル)アミンを、取
扱いが容易で、安全な材料を用いて工業的に製造するこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−310751(JP,A) Phosphorus. Sulfe r. and Silicon., V ol.68 (1992) p.25−p.35 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07F 7/10

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、Rは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
    基、アラルキル基、又はピリジルアルキル基を表し、こ
    れらはいずれも置換基を有することもある。)で示され
    るアミノ化合物とトリメチルクロロシランとを第三級ア
    ミンの存在下、塩化アルミニウム触媒を用いて反応させ
    ることを特徴とする一般式(II) 【化2】 (式中、Rは前記と同一を表す。)で示されるN,N−
    ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3412700A1 (en) * 2014-12-04 2018-12-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Compounds
US10377775B2 (en) 2014-12-04 2019-08-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for producing polyalkylene glycol derivative having amino group at end
US10472377B2 (en) 2014-12-04 2019-11-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for producing polyalkylene glycol derivative having amino group at end, polymerization initiator for use in the same, and alcohol compound as raw material for the polymerization initiator

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4993116B2 (ja) * 2007-12-05 2012-08-08 信越化学工業株式会社 アミノ基のシリル化方法
US20110077325A1 (en) * 2009-09-30 2011-03-31 Bridgestone Corporation Functionalized polymers and methods for their manufacture
JP6463229B2 (ja) * 2014-12-04 2019-01-30 信越化学工業株式会社 末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法、並びにこれに用いる重合開始剤及びその原料となるアルコール化合物
CN106749377A (zh) * 2016-12-23 2017-05-31 湖北新蓝天新材料股份有限公司 一种n,n‑双(三甲基甲硅烷基)烯丙基胺及其制备方法
CN110099911B (zh) * 2016-12-27 2021-11-23 南大光电半导体材料有限公司 胺与硅烷之间的脱氢偶联反应的催化
JP6812855B2 (ja) 2017-03-10 2021-01-13 Jnc株式会社 ジアルキルアミノシランの製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Phosphorus. Sulfer. and Silicon., Vol.68 (1992) p.25−p.35

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3412700A1 (en) * 2014-12-04 2018-12-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Compounds
US10377775B2 (en) 2014-12-04 2019-08-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for producing polyalkylene glycol derivative having amino group at end
US10472377B2 (en) 2014-12-04 2019-11-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for producing polyalkylene glycol derivative having amino group at end, polymerization initiator for use in the same, and alcohol compound as raw material for the polymerization initiator
US10550136B2 (en) 2014-12-04 2020-02-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for producing polyalkylene glycol derivative having amino group at end
US11066430B2 (en) 2014-12-04 2021-07-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for producing polyalkylene glycol derivative having amino group at end

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