JP3495072B2 - １，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法 - Google Patents
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法Info
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- JP3495072B2 JP3495072B2 JP35093293A JP35093293A JP3495072B2 JP 3495072 B2 JP3495072 B2 JP 3495072B2 JP 35093293 A JP35093293 A JP 35093293A JP 35093293 A JP35093293 A JP 35093293A JP 3495072 B2 JP3495072 B2 JP 3495072B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２−（アルキルチオ）
ベンズアミド類を原料とする１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オン類の製造方法に関する。１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オン類は抗菌剤、抗かび剤として
有用な化合物である。
ベンズアミド類を原料とする１，２−ベンズイソチアゾ
ール−３−オン類の製造方法に関する。１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オン類は抗菌剤、抗かび剤として
有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】従来、１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン類の製造方法としては、下記の方法などが知ら
れている。
３−オン類の製造方法としては、下記の方法などが知ら
れている。
【０００３】
（Ａ）Bull. Chem. Soc. Jpn., 55, 1183-7(1982)
【０００４】
【化４】
【０００５】この方法は、２−（メチルチオ）ベンズク
ロライドから２−（メチルチオ）ベンズアミドを製造
し、このものを過ヨウ素酸を用いて酸化させて２−（メ
チルスルフィニル）ベンズアミドを製造し、さらにこれ
を塩化チオニルによって環化させて、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
ロライドから２−（メチルチオ）ベンズアミドを製造
し、このものを過ヨウ素酸を用いて酸化させて２−（メ
チルスルフィニル）ベンズアミドを製造し、さらにこれ
を塩化チオニルによって環化させて、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
【０００６】（Ｂ）Ger. Offen. 3500577, (1986)
【０００７】
【化５】
【０００８】この方法は、チオサリチル酸を出発原料と
し、最後は苛性ソーダを用いて環化させ、目的とする
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法と
考えられる。
し、最後は苛性ソーダを用いて環化させ、目的とする
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法と
考えられる。
【０００９】
（Ｃ）J. Org. Chem. 40(14), 2029-32(1975)
【００１０】
【化６】
【００１１】この方法は、チオサリチル酸を出発原料と
し、最後は強塩基を用いて環化させ、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
し、最後は強塩基を用いて環化させ、目的とする１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オンを得る方法である。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの公知
の方法には次のような欠点がある。（Ａ）の方法は、目
的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得
るためには、２−（メチルチオ）ベンズアミドを酸化さ
せ、それによって得られる２−（メチルスルフィニル）
ベンズアミドを塩化チオニルによって環化させるという
２段階の反応工程を要する。またこの方法は、取扱い上
危険性が高く、かつ高価な過ヨウ素酸を用いる必要があ
る。（Ｂ）の方法は、高価なチオサリチル酸を用い、し
かも反応工程数が多いと考えられ、また環化には強塩基
を必要とするため、工業的に満足できる方法ではない。
（Ｃ）の方法もまた、高価なチオサリチル酸を原料とし
て用いており、しかも反応工程数が多く、また環化には
強塩基を必要とするため、工業的に満足できる方法では
ない。このように、公知のいずれの方法によっても２−
（アルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン類を製造するには複数の反応工
程を要し、工業的に満足できる製造方法はなかった。
の方法には次のような欠点がある。（Ａ）の方法は、目
的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンを得
るためには、２−（メチルチオ）ベンズアミドを酸化さ
せ、それによって得られる２−（メチルスルフィニル）
ベンズアミドを塩化チオニルによって環化させるという
２段階の反応工程を要する。またこの方法は、取扱い上
危険性が高く、かつ高価な過ヨウ素酸を用いる必要があ
る。（Ｂ）の方法は、高価なチオサリチル酸を用い、し
かも反応工程数が多いと考えられ、また環化には強塩基
を必要とするため、工業的に満足できる方法ではない。
（Ｃ）の方法もまた、高価なチオサリチル酸を原料とし
て用いており、しかも反応工程数が多く、また環化には
強塩基を必要とするため、工業的に満足できる方法では
ない。このように、公知のいずれの方法によっても２−
（アルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン類を製造するには複数の反応工
程を要し、工業的に満足できる製造方法はなかった。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、２−（ア
ルキルチオ）ベンズアミド類から工業的に有利に１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造する方法を
提供すべく鋭意検討した。その結果、一般式（Ｉ）で表
される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類とハロゲン
化剤とを反応させることにより、意外なことに従来法の
ようにアルキルスルフィニルベンズアミドを経由するこ
となく、１つの反応工程で環化させることができ、一般
式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン類が直接に得られることを見出し、本発明に至っ
た。
ルキルチオ）ベンズアミド類から工業的に有利に１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造する方法を
提供すべく鋭意検討した。その結果、一般式（Ｉ）で表
される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類とハロゲン
化剤とを反応させることにより、意外なことに従来法の
ようにアルキルスルフィニルベンズアミドを経由するこ
となく、１つの反応工程で環化させることができ、一般
式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン類が直接に得られることを見出し、本発明に至っ
た。
【００１４】
【化７】
【００１５】（式中、ＸはＣ１又はＢｒを表し、Ｒ1 は
水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
表し、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ3 は
水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４の
アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基もしくはその
エステル又はハロゲン原子を表す。）
水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
表し、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ3 は
水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４の
アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基もしくはその
エステル又はハロゲン原子を表す。）
【００１６】 すなわち、本発明の要旨は、一般式
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類
と、五塩化リン、三塩化リン又は一般式 (III): ＳＯ 2 Ｘ 2 (III) （式中、ＸはＣ１又はＢｒを表す。）で表されるハロゲ
ン化スルフリル とを反応させることを特徴とする一般式
（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類の製造方法である。
（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンズアミド類
と、五塩化リン、三塩化リン又は一般式 (III): ＳＯ 2 Ｘ 2 (III) （式中、ＸはＣ１又はＢｒを表す。）で表されるハロゲ
ン化スルフリル とを反応させることを特徴とする一般式
（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類の製造方法である。
【００１７】
【化８】
【００１８】（式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜１２
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。）
の直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2 は炭素数１〜４の
アルキル基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を
表す。）
【００１９】
【化９】
【００２０】（式中、Ｒ1 およびＲ3 は一般式（Ｉ）に
おけるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。）
おけるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。）
【００２１】本発明の製造方法の特徴は、工業的に容易
に入手できる２−（アルキルチオ）ベンズアミド類を原
料として用い、従来はアルキルスルフィニルベンズアミ
ドを経由して２つの反応工程を要していたところを、１
つの反応工程だけで環化させ、１，２−ベンズイソチア
ゾール−３−オン類を直接に製造できるところにある。
さらにもう１つの特徴は、取扱い上危険性が高く、かつ
高価な物質を使用することなく、比較的温和な条件で安
全に１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造
できるところにある。
に入手できる２−（アルキルチオ）ベンズアミド類を原
料として用い、従来はアルキルスルフィニルベンズアミ
ドを経由して２つの反応工程を要していたところを、１
つの反応工程だけで環化させ、１，２−ベンズイソチア
ゾール−３−オン類を直接に製造できるところにある。
さらにもう１つの特徴は、取扱い上危険性が高く、かつ
高価な物質を使用することなく、比較的温和な条件で安
全に１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を製造
できるところにある。
【００２２】上記一般式（Ｉ）および(II)において、Ｒ
1 およびＲ3 はそれぞれ同意義を表し、Ｒ1 は具体的に
は、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基
を表す。Ｒ1 で表されるアルキル基を例示すると、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル等を挙げることができ
る。Ｒ1 で表されるシクロアルキル基としては、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。Ｒ
1 で表されるアリール基を例示すると、フェニル、４−
トルイル、４−メトキシフェニル、４−クロロフェニ
ル、１−ナフチル等を挙げることができる。Ｒ1 で表さ
れるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェネチル
等を挙げることができる。
1 およびＲ3 はそれぞれ同意義を表し、Ｒ1 は具体的に
は、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基
を表す。Ｒ1 で表されるアルキル基を例示すると、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル等を挙げることができ
る。Ｒ1 で表されるシクロアルキル基としては、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。Ｒ
1 で表されるアリール基を例示すると、フェニル、４−
トルイル、４−メトキシフェニル、４−クロロフェニ
ル、１−ナフチル等を挙げることができる。Ｒ1 で表さ
れるアラルキル基を例示すると、ベンジル、フェネチル
等を挙げることができる。
【００２３】また、一般式（Ｉ）におけるＲ2 は炭素数
１〜４のアルキル基を表す。Ｒ2 で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチルを挙げることができる。
１〜４のアルキル基を表す。Ｒ2 で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチルを挙げることができる。
【００２４】また、一般式（Ｉ）、（II）におけるＲ3
は、具体的には、水素原子、炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキ
シル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。
Ｒ3 で表されるアルキル基を例示すると、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等を挙げるこ
とができる。Ｒ3 で表されるアルコキシ基を例示する
と、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等を挙
げることができる。Ｒ3 で表されるカルボキシル基のエ
ステルを例示すると、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
等を挙げることができる。Ｒ3 で表されるハロゲン原子
としては、Ｃ１、Ｂｒ等を挙げることができる。
は、具体的には、水素原子、炭素数１〜４のアルキル
基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキ
シル基もしくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。
Ｒ3 で表されるアルキル基を例示すると、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等を挙げるこ
とができる。Ｒ3 で表されるアルコキシ基を例示する
と、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等を挙
げることができる。Ｒ3 で表されるカルボキシル基のエ
ステルを例示すると、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
等を挙げることができる。Ｒ3 で表されるハロゲン原子
としては、Ｃ１、Ｂｒ等を挙げることができる。
【００２５】本発明の一般式（Ｉ）で表される、原料の
２−（アルキルチオ）ベンズアミド類としては、特に限
定されるものではなく、例えば次のものを例示すること
ができる。２−（メチルチオ）ベンズアミド、２−（エ
チルチオ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（エチルチオ）ベ
ンズアミド、Ｎ−イソプロピル−２−（メチルチオ）ベ
ンズアミド、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−（メチル
チオ）ベンズアミド、Ｎ−ヘキシル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−オクチル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド、Ｎ−デシル−２−（メチルチオ）ベンズ
アミド、Ｎ−ドデシル−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシル−２−（メチルチオ）ベンズア
ミド、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、Ｎ−（４−トルイル）−２−（メチルチオ）ベンズ
アミド、Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２−（メチル
チオ）ベンズアミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（１−ナフチル）
−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２−
（プロピルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２−
（ブチルチオ）ベンズアミド。Ｎ−フェニル−３−メチ
ル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−メチル−５
−ブチル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ブチ
ル−４−メトキシ−２−（メチルチオ）ベンズアミド、
Ｎ−フェニル−２−メチルチオ−３−ニトロベンズアミ
ド、４−クロロ−２−（メチルチオ）ベンズアミド、４
−カルボキシ−２−（メチルチオ）ベンズアミド、４−
メトキシカルボニル−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド。
２−（アルキルチオ）ベンズアミド類としては、特に限
定されるものではなく、例えば次のものを例示すること
ができる。２−（メチルチオ）ベンズアミド、２−（エ
チルチオ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（エチルチオ）ベ
ンズアミド、Ｎ−イソプロピル−２−（メチルチオ）ベ
ンズアミド、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−２−（メチル
チオ）ベンズアミド、Ｎ−ヘキシル−２−（メチルチ
オ）ベンズアミド、Ｎ−オクチル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド、Ｎ−デシル−２−（メチルチオ）ベンズ
アミド、Ｎ−ドデシル−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシル−２−（メチルチオ）ベンズア
ミド、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド、Ｎ−（４−トルイル）−２−（メチルチオ）ベンズ
アミド、Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２−（メチル
チオ）ベンズアミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−（１−ナフチル）
−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２
−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２−
（プロピルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２−
（ブチルチオ）ベンズアミド。Ｎ−フェニル−３−メチ
ル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−メチル−５
−ブチル−２−（メチルチオ）ベンズアミド、Ｎ−ブチ
ル−４−メトキシ−２−（メチルチオ）ベンズアミド、
Ｎ−フェニル−２−メチルチオ−３−ニトロベンズアミ
ド、４−クロロ−２−（メチルチオ）ベンズアミド、４
−カルボキシ−２−（メチルチオ）ベンズアミド、４−
メトキシカルボニル−２−（メチルチオ）ベンズアミ
ド。
【００２６】なお、一般式（Ｉ）で表される２−（アル
キルチオ）ベンズアミド類は、いかなる方法によって得
られたものを用いてもよいが、中でも本発明者等が先に
出願した「アルキルスルフィニルベンズアミド類の製造
方法」明細書に開示された方法によると、より有利に得
ることができる。即ち、その方法とは、一般式（IV)で
表されるハロベンズアミド類と一般式（Ｖ）で表される
アルカンチオールとを、塩基の存在下に不均一溶媒系で
反応させることにより、一般式（Ｉ）で表される化合物
を製造する方法である。一般式（IV) において、ＸはＣ
ｌ又はＢｒを表し、Ｒ1 およびＲ3 は一般式（Ｉ）にお
けるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。
キルチオ）ベンズアミド類は、いかなる方法によって得
られたものを用いてもよいが、中でも本発明者等が先に
出願した「アルキルスルフィニルベンズアミド類の製造
方法」明細書に開示された方法によると、より有利に得
ることができる。即ち、その方法とは、一般式（IV)で
表されるハロベンズアミド類と一般式（Ｖ）で表される
アルカンチオールとを、塩基の存在下に不均一溶媒系で
反応させることにより、一般式（Ｉ）で表される化合物
を製造する方法である。一般式（IV) において、ＸはＣ
ｌ又はＢｒを表し、Ｒ1 およびＲ3 は一般式（Ｉ）にお
けるＲ1 およびＲ3 とそれぞれ同意義を表す。
【００２７】一般式（IV) で表されるこのようなハロベ
ンズアミド類を具体的に例示すると、２−クロロベンズ
アミド、Ｎ−エチル−２−クロロベンズアミド、Ｎ−フ
ェニル−２−クロロベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−
２−クロロベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２−クロロベ
ンズアミド、２−ブロモベンズアミド、Ｎ−エチル−２
−ブロモベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−クロロベン
ズアミド、Ｎ−フェニル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ
−４−トルイル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ−ベンジ
ル−２−ブロモベンズアミド等を挙げることができる。
ンズアミド類を具体的に例示すると、２−クロロベンズ
アミド、Ｎ−エチル−２−クロロベンズアミド、Ｎ−フ
ェニル−２−クロロベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−
２−クロロベンズアミド、Ｎ−ベンジル−２−クロロベ
ンズアミド、２−ブロモベンズアミド、Ｎ−エチル−２
−ブロモベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−クロロベン
ズアミド、Ｎ−フェニル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ
−４−トルイル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ−ベンジ
ル−２−ブロモベンズアミド等を挙げることができる。
【００２８】一般式（Ｖ）で表されるアルカンチオール
としては、メタンチオール、エタンチオール、１−プロ
パンチオール、１−ブタンチオール、２−ブタンチオー
ル等が使用可能であり、その使用量は、ハロベンズアミ
ド類に対して、通常０．８〜３．０倍モル、好ましくは
１．０〜２．０倍モルの範囲である。アルカンチオール
の使用量がこの範囲未満の場合には、未反応のハロベン
ズアミド類が多くなり、一方、この範囲を超えて用いて
も、それに見合う効果が得られず経済的に不利である。
としては、メタンチオール、エタンチオール、１−プロ
パンチオール、１−ブタンチオール、２−ブタンチオー
ル等が使用可能であり、その使用量は、ハロベンズアミ
ド類に対して、通常０．８〜３．０倍モル、好ましくは
１．０〜２．０倍モルの範囲である。アルカンチオール
の使用量がこの範囲未満の場合には、未反応のハロベン
ズアミド類が多くなり、一方、この範囲を超えて用いて
も、それに見合う効果が得られず経済的に不利である。
【００２９】ハロベンズアミド類とアルカンチオールと
の反応で使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
等が挙げられる。中でも、経済的見地から水酸化ナトリ
ウムが好ましく用いられる。また、塩基の使用量は、ハ
ロベンズアミド類に対し、通常０．８〜３．５倍モル、
好ましくは１．０〜２．５倍モルの範囲である。塩基の
使用量がこの範囲未満の場合には、未反応のハロベンズ
アミド類が多くなり、一方、この範囲を超えて用いて
も、それに見合う効果が得られず経済的に不利である。
の反応で使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
等が挙げられる。中でも、経済的見地から水酸化ナトリ
ウムが好ましく用いられる。また、塩基の使用量は、ハ
ロベンズアミド類に対し、通常０．８〜３．５倍モル、
好ましくは１．０〜２．５倍モルの範囲である。塩基の
使用量がこの範囲未満の場合には、未反応のハロベンズ
アミド類が多くなり、一方、この範囲を超えて用いて
も、それに見合う効果が得られず経済的に不利である。
【００３０】ハロベンズアミド類とアルカンチオールと
の反応は、ハロベンズアミド類が水不溶性であるため二
相系での反応となる。この場合、相間移動触媒を添加す
ると反応が円滑に進行することが多く、好適である。こ
こで使用する相間移動触媒としては、ベンジルトリエチ
ルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウ
ムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、オクチルトリエチルアンモニウムブロマイド、テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニ
ウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロ
ライド等の４級アンモニウム塩、ヘキサデシルトリエチ
ルホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホ
スホニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウ
ムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロラ
イド、トリオクチルエチルホスホニウムブロマイド、テ
トラフェニルホスホニウムブロマイド等の４級ホスホニ
ウム塩、１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウ
ン−６、ジシクロヘキシル−１８−クラウン−６等のク
ラウンエーテル等が挙げられる。中でも、経済的見地か
らテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニ
ウム塩が好ましく用いられる。
の反応は、ハロベンズアミド類が水不溶性であるため二
相系での反応となる。この場合、相間移動触媒を添加す
ると反応が円滑に進行することが多く、好適である。こ
こで使用する相間移動触媒としては、ベンジルトリエチ
ルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウ
ムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、オクチルトリエチルアンモニウムブロマイド、テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニ
ウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロ
ライド等の４級アンモニウム塩、ヘキサデシルトリエチ
ルホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホ
スホニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウ
ムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロラ
イド、トリオクチルエチルホスホニウムブロマイド、テ
トラフェニルホスホニウムブロマイド等の４級ホスホニ
ウム塩、１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウ
ン−６、ジシクロヘキシル−１８−クラウン−６等のク
ラウンエーテル等が挙げられる。中でも、経済的見地か
らテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニ
ウム塩が好ましく用いられる。
【００３１】また、相間移動触媒を使用する場合の使用
量は、ハロベンズアミド類の重量に対し、通常０．００
５〜０．５倍重量、好ましくは、０．０１〜０．２倍重
量の範囲である。相間移動触媒の使用量がこの範囲未満
の場合には、触媒効果が十分表れず、一方、この範囲を
超えて用いても、それに見合う効果が得られず経済的に
不利である。
量は、ハロベンズアミド類の重量に対し、通常０．００
５〜０．５倍重量、好ましくは、０．０１〜０．２倍重
量の範囲である。相間移動触媒の使用量がこの範囲未満
の場合には、触媒効果が十分表れず、一方、この範囲を
超えて用いても、それに見合う効果が得られず経済的に
不利である。
【００３２】この方法で用いる反応溶媒としては、反応
を容易にするため、および反応後の生成物の分液を容易
にするため、通常、水１重量部に対して非水溶性有機溶
媒１〜１０重量部からなる不均一溶媒を用いる。非水溶
性有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、ｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化
水素類、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることがで
きる。不均一溶媒の使用量は、ハロベンズアミド類に対
して、通常１〜３０倍重量である。
を容易にするため、および反応後の生成物の分液を容易
にするため、通常、水１重量部に対して非水溶性有機溶
媒１〜１０重量部からなる不均一溶媒を用いる。非水溶
性有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、ｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化
水素類、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることがで
きる。不均一溶媒の使用量は、ハロベンズアミド類に対
して、通常１〜３０倍重量である。
【００３３】反応温度は、通常０〜１５０℃、好ましく
は２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が、１５０℃
を越えると副反応が起こり、他方、０℃未満だと反応速
度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間は、反
応温度、相間移動触媒種および反応溶媒種により異な
り、一概には言えないが、通常１〜４０時間の範囲であ
る。
は２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が、１５０℃
を越えると副反応が起こり、他方、０℃未満だと反応速
度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間は、反
応温度、相間移動触媒種および反応溶媒種により異な
り、一概には言えないが、通常１〜４０時間の範囲であ
る。
【００３４】反応終了後、分液された２−（アルキルチ
オ）ベンズアミド類は、有機溶媒層より晶析等の通常の
処理で、単離精製することができる。あるいは、有機溶
媒層を引き続きハロゲン化剤と反応させれば、本発明の
目的とする１，２−ベンゾイソチアゾール−３−オン類
をワンポットで製造することができる。また、水層は相
間移動触媒を含んだまま分液されるため、反復使用する
ことが可能である。
オ）ベンズアミド類は、有機溶媒層より晶析等の通常の
処理で、単離精製することができる。あるいは、有機溶
媒層を引き続きハロゲン化剤と反応させれば、本発明の
目的とする１，２−ベンゾイソチアゾール−３−オン類
をワンポットで製造することができる。また、水層は相
間移動触媒を含んだまま分液されるため、反復使用する
ことが可能である。
【００３５】本発明の一般式（Ｉ) で表される２−（ア
ルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類を得る工程に用いられるハロゲン
化剤とは、スルフィドと反応してスルフォニウムハライ
ドを生成し得る試剤をいい、具体的に例示すると、塩化
スルフリル、臭化スルフリル等のハロゲン化スルフリ
ル、五塩化リン、三塩化リン等の塩化リン等を挙げるこ
とができる。なかでも、塩化スルフリル、五塩化リン、
三塩化リンが好ましく用いられる。ハロゲン化剤の使用
量は、２−（アルキルチオ）ベンズアミド類に対して通
常０．８〜３．０倍モルの範囲、好ましくは１．０〜
２．０倍モルの範囲である。ハロゲン化剤を０．８倍モ
ル未満で用いると、未反応の２−（アルキルチオ）ベン
ズアミド類が多くなり、一方、３．０倍モルを超えて用
いると副反応が起こり収率が低下するためそれぞれ好ま
しくない。
ルキルチオ）ベンズアミド類から１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類を得る工程に用いられるハロゲン
化剤とは、スルフィドと反応してスルフォニウムハライ
ドを生成し得る試剤をいい、具体的に例示すると、塩化
スルフリル、臭化スルフリル等のハロゲン化スルフリ
ル、五塩化リン、三塩化リン等の塩化リン等を挙げるこ
とができる。なかでも、塩化スルフリル、五塩化リン、
三塩化リンが好ましく用いられる。ハロゲン化剤の使用
量は、２−（アルキルチオ）ベンズアミド類に対して通
常０．８〜３．０倍モルの範囲、好ましくは１．０〜
２．０倍モルの範囲である。ハロゲン化剤を０．８倍モ
ル未満で用いると、未反応の２−（アルキルチオ）ベン
ズアミド類が多くなり、一方、３．０倍モルを超えて用
いると副反応が起こり収率が低下するためそれぞれ好ま
しくない。
【００３６】ハロゲン化剤を反応させて１，２−ベンズ
イソチアゾール−３−オン類を得る工程に用いる反応溶
媒としては、反応に対し不活性な溶媒であれば特に限定
されるものではなく、具体的に例示すると、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、
塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類等を挙げることができる。上記の反応溶媒のなかで
も、トルエン、キシレン等を用いると、一般式（IV)で
表されるハロベンズアミド類と一般式（Ｖ) で表される
アルカンチオールとの反応により、一般式（Ｉ) で表さ
れる２−（アルキルチオ）ベンズアミド類を得、さらに
この２−（アルキルチオ）ベンズアミド類にハロゲン化
剤を反応させて、１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類を得るまでの工程を、全てワンポットで行うこと
ができ、極めて効率的である。溶媒の使用量は、２−
（アルキルチオ）ベンズアミド類に対して、通常１〜３
０重量倍である。
イソチアゾール−３−オン類を得る工程に用いる反応溶
媒としては、反応に対し不活性な溶媒であれば特に限定
されるものではなく、具体的に例示すると、ｎ−ヘキサ
ン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、
塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素類等を挙げることができる。上記の反応溶媒のなかで
も、トルエン、キシレン等を用いると、一般式（IV)で
表されるハロベンズアミド類と一般式（Ｖ) で表される
アルカンチオールとの反応により、一般式（Ｉ) で表さ
れる２−（アルキルチオ）ベンズアミド類を得、さらに
この２−（アルキルチオ）ベンズアミド類にハロゲン化
剤を反応させて、１，２−ベンズイソチアゾール−３−
オン類を得るまでの工程を、全てワンポットで行うこと
ができ、極めて効率的である。溶媒の使用量は、２−
（アルキルチオ）ベンズアミド類に対して、通常１〜３
０重量倍である。
【００３７】反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲、好
ましくは２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が１５
０℃を超えると副反応が問題となり、一方０℃未満だと
反応速度が実用上遅すぎるのでそれぞれ好ましくない。
反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異なるため一
概にはいえないが、通常１〜４０時間の範囲である。
ましくは２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が１５
０℃を超えると副反応が問題となり、一方０℃未満だと
反応速度が実用上遅すぎるのでそれぞれ好ましくない。
反応時間は、反応温度、反応溶媒種により異なるため一
概にはいえないが、通常１〜４０時間の範囲である。
【００３８】このようにして得られる反応混合物から、
目的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類
を単離精製する方法としては、常法通り、該１，２−ベ
ンズイソチアゾール−３−オン類が液体の場合は減圧蒸
留により、固体の場合は、そのまま晶析させるか、また
は抽出して再結晶させる等により行うことができるが、
これらに限定されるものではない。
目的とする１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類
を単離精製する方法としては、常法通り、該１，２−ベ
ンズイソチアゾール−３−オン類が液体の場合は減圧蒸
留により、固体の場合は、そのまま晶析させるか、また
は抽出して再結晶させる等により行うことができるが、
これらに限定されるものではない。
【００３９】このようにして得られる目的の化合物であ
る一般式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類の具体例としては、次のようなものが例
示される。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、
２−エチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−イソプロピル−１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１，２−ベン
ズイソチアゾール−３−オン、２−ヘキシル−１，２−
ベンズイソチアゾール−３−オン、２−オクチル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−デシル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−ドデシ
ル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−シ
クロヘキシル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（４−トルイル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−（４−メトキシフェニル）−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−（４−
クロロフェニル）−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（１−ナフチル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−ベンジル−１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン、７−メチル−２−フェニル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、５−ブチル
−２−メチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−ブチル−６−メトキシ−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、７−ニトロ−２−フェニル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−クロロ−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−カルボ
キシ−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−
メトキシカルボニル−１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン。
る一般式（II）で表される１，２−ベンズイソチアゾー
ル−３−オン類の具体例としては、次のようなものが例
示される。１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、
２−エチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−イソプロピル−１，２−ベンズイソチアゾール
−３−オン、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１，２−ベン
ズイソチアゾール−３−オン、２−ヘキシル−１，２−
ベンズイソチアゾール−３−オン、２−オクチル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−デシル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−ドデシ
ル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−シ
クロヘキシル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（４−トルイル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−（４−メトキシフェニル）−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、２−（４−
クロロフェニル）−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オン、２−（１−ナフチル）−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、２−ベンジル−１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン、７−メチル−２−フェニル−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、５−ブチル
−２−メチル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ン、２−ブチル−６−メトキシ−１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン、７−ニトロ−２−フェニル−１，
２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−クロロ−
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−カルボ
キシ−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン、６−
メトキシカルボニル−１，２−ベンズイソチアゾール−
３−オン。
【００４０】
【実施例】以下に、製造例および実施例により本発明を
具体的に説明するが、本発明はこれらによりなんら限定
されるものではない。
具体的に説明するが、本発明はこれらによりなんら限定
されるものではない。
【００４１】製造例１
Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズアミドの合成
攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、Ｎ−フェニル−２−
クロロベンズアミド４６．３ｇ（０．２モル）、トルエ
ン１００ｇ、５０重量％テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムブロマイド水溶液５．５ｇを仕込んだ後、８０℃まで
加熱した。一方、別途、水酸化ナトリウム９．６ｇ
（０．２４モル）と水３５．０ｇを窒素雰囲気下で別の
容器に仕込み、撹拌下でメタンチオール１１．５ｇ
（０．２４モル）を室温にて約１時間かけて仕込んだ。
こうして得た３０重量％メチルメルカプタン・ナトリウ
ム塩水溶液５６．１ｇ（０．２４モル）を、攪拌下で上
記四つ口フラスコに添加し、還流させながら４時間反応
させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、析出し
た白色結晶を水洗後、乾燥させるとＮ−フェニル−２−
（メチルチオ）ベンズアミド４６．２ｇ（融点１４８〜
１４９℃）を得た。原料としたＮ−フェニル−２−クロ
ロベンズアミドに対する収率は９５％であった。
つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、Ｎ−フェニル−２−
クロロベンズアミド４６．３ｇ（０．２モル）、トルエ
ン１００ｇ、５０重量％テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムブロマイド水溶液５．５ｇを仕込んだ後、８０℃まで
加熱した。一方、別途、水酸化ナトリウム９．６ｇ
（０．２４モル）と水３５．０ｇを窒素雰囲気下で別の
容器に仕込み、撹拌下でメタンチオール１１．５ｇ
（０．２４モル）を室温にて約１時間かけて仕込んだ。
こうして得た３０重量％メチルメルカプタン・ナトリウ
ム塩水溶液５６．１ｇ（０．２４モル）を、攪拌下で上
記四つ口フラスコに添加し、還流させながら４時間反応
させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、析出し
た白色結晶を水洗後、乾燥させるとＮ−フェニル−２−
（メチルチオ）ベンズアミド４６．２ｇ（融点１４８〜
１４９℃）を得た。原料としたＮ−フェニル−２−クロ
ロベンズアミドに対する収率は９５％であった。
【００４２】実施例１
２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ンの合成 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベ
ンズアミド４８．６ｇ（０．２モル）、トルエン１００
ｇを仕込み、攪拌しながら塩化スルフリル２９．７ｇ
（０．２２モル）を２０〜３０℃で添加したのち、７０
〜８０℃に加熱し、１時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、析出した白色結晶をトルエンで
洗浄後、乾燥させると２−フェニル−１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン４４．０ｇ（融点１４０〜１４
１℃）を得た。原料としたＮ−フェニル−２−（メチル
チオ）ベンズアミドに対する収率は９７％であった。
ンの合成 攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベ
ンズアミド４８．６ｇ（０．２モル）、トルエン１００
ｇを仕込み、攪拌しながら塩化スルフリル２９．７ｇ
（０．２２モル）を２０〜３０℃で添加したのち、７０
〜８０℃に加熱し、１時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、析出した白色結晶をトルエンで
洗浄後、乾燥させると２−フェニル−１，２−ベンズイ
ソチアゾール−３−オン４４．０ｇ（融点１４０〜１４
１℃）を得た。原料としたＮ−フェニル−２−（メチル
チオ）ベンズアミドに対する収率は９７％であった。
【００４３】実施例２
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オンの合成
攪拌機、温度計、及び冷却器を備え付けた５００ｍｌ四
つ口フラスコに、２−（メチルチオ）ベンズアミド３
３．４ｇ（０．２モル）、トルエン１５０ｇを仕込み、
攪拌しながら塩化スルフリル２８．３ｇ（０．２１モ
ル）を２０〜３０℃で添加したのち、７０〜８０℃に加
熱し、１時間反応させた。反応終了後、反応液を室温ま
で冷却し、析出した白色結晶をトルエンで洗浄後乾燥さ
せ、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン２９．０
ｇ（融点１５７〜１５８℃）を得た。原料とした２−
（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は９６％であ
った。
つ口フラスコに、２−（メチルチオ）ベンズアミド３
３．４ｇ（０．２モル）、トルエン１５０ｇを仕込み、
攪拌しながら塩化スルフリル２８．３ｇ（０．２１モ
ル）を２０〜３０℃で添加したのち、７０〜８０℃に加
熱し、１時間反応させた。反応終了後、反応液を室温ま
で冷却し、析出した白色結晶をトルエンで洗浄後乾燥さ
せ、１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン２９．０
ｇ（融点１５７〜１５８℃）を得た。原料とした２−
（メチルチオ）ベンズアミドに対する収率は９６％であ
った。
【００４４】実施例３〜１５
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類の合成
原料を、表１〜３に示す２−（アルキルチオ）ベンズア
ミド類に変える以外は実施例１と同様にして、相当する
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を得た。相
当する１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類が液
体の場合は減圧蒸留により取得した。
ミド類に変える以外は実施例１と同様にして、相当する
１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類を得た。相
当する１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン類が液
体の場合は減圧蒸留により取得した。
【００４５】実施例１６
２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３−オ
ンの合成 実施例１における塩化スルフリルを五塩化リン８３．４
ｇ（０．４モル）に変える以外は実施例１と同様にし
て、２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オンを３６．７ｇ得た。Ｎ−フェニル−２−（メチル
チオ）ベンズアミドに対する収率は８１％であった。全
実施例の結果を一括して表１〜３に示す。
ンの合成 実施例１における塩化スルフリルを五塩化リン８３．４
ｇ（０．４モル）に変える以外は実施例１と同様にし
て、２−フェニル−１，２−ベンズイソチアゾール−３
−オンを３６．７ｇ得た。Ｎ−フェニル−２−（メチル
チオ）ベンズアミドに対する収率は８１％であった。全
実施例の結果を一括して表１〜３に示す。
【００４６】
【表１】
【００４７】
【表２】
【００４８】
【表３】
【００４９】
【発明の効果】本発明の製造方法により、抗菌剤、抗か
び剤等として重要な２−フェニル−１，２−ベンズイソ
チアゾール−３−オンあるいは１，２−ベンズイソチア
ゾール−３−オン等に例示される１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類が、従来よりも短い工程で、しか
も高価で取扱い上危険性の高い物質を使用することなく
安全なプロセスにより、高い収率で得られる。
び剤等として重要な２−フェニル−１，２−ベンズイソ
チアゾール−３−オンあるいは１，２−ベンズイソチア
ゾール−３−オン等に例示される１，２−ベンズイソチ
アゾール−３−オン類が、従来よりも短い工程で、しか
も高価で取扱い上危険性の高い物質を使用することなく
安全なプロセスにより、高い収率で得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 五田 博
兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１
住友精化株式会社第１研究所内
(56)参考文献 特開 平３−130258（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−248660（ＪＰ，Ａ)
特開 昭56−26869（ＪＰ，Ａ)
国際公開92／000014（ＷＯ，Ａ１)
Ｙｕｚｕｒｕ， Ｕｃｈｉｄａ，Ｂｕ
ｌｌ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｊｐ
ｎ，1982年，Ｖｏｌ．55，ｐｐ．1183−
1187
小竹無二雄監修，大有機化学第１巻総
論，株式会社朝倉書店，1968年，第９版
発行，第345頁
Ｒｅｎｅ Ｂｅｕｇｅｌｍａｎｓ，Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，1983年，Ｖｏ
ｌ．39，Ｎｏ．24，ｐｐ．4153−4161
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07D 275/00
C07C 323/00
A01N 43/80
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
ＣＡＳＲＥＡＣＴ（ＳＴＮ)
Claims (10)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ 1 は水素、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐の
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラル
キル基を表し、Ｒ 2 は炭素数１〜４のアルキル基を表
し、Ｒ 3 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素
数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基も
しくはそのエステル又はハロゲン原子を表す。）で表さ
れる２−（アルキルチオ）ベンズアミド類と、五塩化リ
ン、三塩化リン又は一般式 (III): ＳＯ 2 Ｘ 2 (III) （式中、ＸはＣ１又はＢｒを表す。）で表されるハロゲ
ン化スルフリル とを反応させることを特徴とする一般式
（II）: 【化２】 （式中、Ｒ 1 およびＲ 3 は一般式（Ｉ）におけるＲ 1 お
よびＲ 3 とそれぞれ同意義を表す。）で表される１，２
−ベンズイソチアゾール−３−オン類の製造方法。 - 【請求項２】 ハロゲン化スルフリルが塩化スルフリル
である請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 一般式（Ｉ）の化合物が２−（メチルチ
オ）ベンズアミドである請求項１または２記載の製造方
法。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）の化合物がＮ−アリール−
２−（メチルチオ）ベンズアミドである請求項１または
２記載の製造方法。 - 【請求項５】 一般式（Ｉ）の化合物がＮ−フェニル−
２−（メチルチオ）ベンズアミドである請求項４記載の
製造方法。 - 【請求項６】 一般式（Ｉ）で表される２−（アルキル
チオ）ベンズアミド類が、一般式(IV): 【化３】 （式中、ＸはＣ１又はＢｒを表し、Ｒ 1 およびＲ 3 は一
般式（Ｉ）におけるＲ 1 およびＲ 3 とそれぞれ同意義を
表す。）で表されるハロベンズアミド類と一般式
（Ｖ）：Ｒ 2 ＳＨ （Ｖ） （式中、Ｒ 2 は炭素数１〜４のアルキル基を表す。） で
表されるアルカンチオールとを、塩基の存在下にトルエ
ンと水との不均一溶媒系で反応させることによって得ら
れたものである請求項１記載の製造方法。 - 【請求項７】 相間移動触媒の存在下で反応を行うこと
を特徴とする請求項６記載の製造方法。 - 【請求項８】 相間移動触媒が４級アンモニウム塩又は
４級ホスホニウム塩である請求項７記載の製造方法。 - 【請求項９】 塩基が水酸化アルカリ金属である請求項
６記載の製造方法。 - 【請求項１０】 トルエンと水との不均一溶媒系におい
て、一般式 (IV) で表されるハロベンズアミド類と一般式
（Ｖ）で表されるアルカンチオールとの反応により、一
般式（Ｉ）で表される２−（アルキルチオ）ベンズアミ
ド類を得、さらにこの２−（アルキルチオ）ベンズアミ
ド類と、五塩化リン、三塩化リン又は一般式 (III) で表
されるハロゲン化スルフリルとを反応させて、一般式 (I
I) で表される１，２−ベンズイソチアゾール−３−オン
類を得るまでの工程をワンポットで行う請求項６記載の
製造方法。
Priority Applications (15)
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-
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- 1993-12-29 JP JP35093293A patent/JP3495072B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|
| Ｒｅｎｅ Ｂｅｕｇｅｌｍａｎｓ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９８３年，Ｖｏｌ．３９，Ｎｏ．２４，ｐｐ．４１５３−４１６１ |
| Ｙｕｚｕｒｕ， Ｕｃｈｉｄａ，Ｂｕｌｌ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｊｐｎ，１９８２年，Ｖｏｌ．５５，ｐｐ．１１８３−１１８７ |
| 小竹無二雄監修，大有機化学第１巻総論，株式会社朝倉書店，１９６８年，第９版発行，第３４５頁 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07196638A (ja) | 1995-08-01 |
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