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JP3327234B2 - デバイス製造支援装置、デバイス製造システム、及びデバイス製造方法 - Google Patents

デバイス製造支援装置、デバイス製造システム、及びデバイス製造方法

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Publication number
JP3327234B2
JP3327234B2 JP35985398A JP35985398A JP3327234B2 JP 3327234 B2 JP3327234 B2 JP 3327234B2 JP 35985398 A JP35985398 A JP 35985398A JP 35985398 A JP35985398 A JP 35985398A JP 3327234 B2 JP3327234 B2 JP 3327234B2
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JP
Japan
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device manufacturing
information
support apparatus
stepper
host computer
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JP35985398A
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JPH11265841A (ja
Inventor
浩司 安川
薫 菊池
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数台の露光装置を使
ったリソグラフィ・システムにおける製造装置の各種制
御、及び各種情報の管理を生産管理用計算機(ホストコ
ンピュータ)を介して行なうシステムに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスや液晶デバイスの製造工
程には、通常リソグラフィと呼ばれる工程が含まれてい
る。多くの場合、このリソグラフィ工程とは、光学的な
ものを意味し、半導体ウェハやガラスプレート上に感光
済(フォトレジスト)を1μm程度の厚みで塗布するこ
とから始まり、そのレジスト層に対してマスクパターン
を露光した後に現像することで終了する。
【0003】現在、デバイスの製造現場では、レジスト
を基板に塗布する工程と、露光後の基板を現像する工程
とは、専らコータ・デベロッパーと呼ばれる装置で処理
され、露光装置は、レジストが塗布された基板にマスク
パターンを精密にアライメントして所定の解像力で転写
することに使われている。量産デバイスを扱う製造ライ
ンでは、コータ・デベロッパーと露光装置とがインライ
ン化されており、オペレータはコータ・デベロッパーに
複数枚の未処理基板が収納されたカセットをセットする
だけで、後は全て自動的に加工処理が行なわれている。
【0004】また、量産性を高めるために製造ラインで
は複数台の露光装置(及びコータ・デベロッパー)を並
行して使っている。この場合、各露光装置毎に稼動率を
高める必要があるため、ラインを組む複数台の露光装置
は、露光装置側のコンピュータに対して上位の関係にあ
るホストコンピュータによって統括(群)制御されてい
る。
【0005】図1は、従来の統括制御の一例を模式的に
示したブロック図である。図1中に示したブロックEX
P1 、EXP2 …EXPnは露光装置を表し、CD1 、
CD1 …CDnはコータ・デベロッパーを表す。各露光
装置EXPn内には当然のことながら本体制御用のコン
ピュータCMP・Enが設けられ、コータ・デベロッパ
ーCDn内にも本体制御用のコンピュータCMP・Cn
が設けられている。また各露光装置EXPn内には、予
め指定された複数枚のレチクル(マスク)を保管するレ
チクルライブラリーRL1 、RL2 …RLnが設けら
れ、コンピュータCMP・Enの指令によって必要なレ
チクルに自動的に変換される。さらに、コータ・デベロ
ッパーCDnには、予め指定されたウェハのロット(通
常25枚)をカセット単位で保管するライブラリーWC
L1 、WCL2 …WCLnが付属している。このウェハ
カセットライブラリーWCLnは、無人化された製造ラ
インにおいては、自動搬送ロボットが最も早く処理の終
るようなコータ・デベロッパーCDnを選んで所望のウ
ェハカセットを自動搬入するように構成されているた
め、必ずしもコータ・デベロッパーCDnとインライン
化されている必要はない。
【0006】さて、各露光装置EXPnのコンピュータ
CMP・Enと各コータ・デベロッパーCDnのコンピ
ュータCMP・Cnは、ともにRS232C回線のよう
な通信機能を備えており、この回線を利用して中位のコ
ンピュータであるパーソナルコンピュータ(パソコンと
する)PC1 、PC2 …PCnと結合されている。さら
にパソコンPC1 、PC2 …PCnは生産管理のための
上位ホストコンピュータH・COMと結合されている。
ホストコンピュータH・COMはそれぞれのパソコンP
C1 、PC2 …PCnに対して、所定のレチクルを使っ
た所定ウェハの露光処理の実行を指令したり、各パソコ
ンからの処理終了等の情報を受け取ってリソグラフィ工
程全体の管理(ウェハ物流管理、レチクル管理も含む)
を行なう。
【0007】またパソコンPC1 、PC2 …PCnは、
ホストコンピュータH・COMからの指令に従って、コ
ータ・デベロッパーCDnや露光装置EXPnの処理動
作を最適化するように管理するとともに、所定の処理が
終了したか否か、トラブルがなかったか否か等の情報を
ホストコンピュータH・COMへ送る。ホストコンピュ
ータH・COMは、ICデバイスの製造管理をトータル
に行なうために、処理すべき品種に応じたウェハ及びレ
チクルの供給管理(物流管理)、各露光装置EXPnで
の処理能力(スループット)の算出等を行なうととも
に、ラインを構成している各露光装置毎の稼動率を最も
高めるように、全体の運営を管理する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図1に示したリソグラ
フィ・ラインで使われる露光装置として、現在ではレチ
クルパターンを1/5(又は1/10)に縮小投影する
ステッパーが主流になっている。これらステッパーは、
製造メーカーが異なれば当然のことではあるが、ホスト
コンピュータH・COMからの共通の制御コマンドで全
く同一の動きをするとは限らない。また同じ製造メーカ
ーのステッパーであっても、コンピュータCMP・En
に搭載されているソフトウェア体系が異なることもあ
り、ホストコンピュータH・COMからの指令に対して
同じ動作が行なえないこともある。以上のことは、ホス
トコンピュータH・COMとコータ・デベロッパーCD
nとの間でも起り得る。
【0009】従って、図1のようなリソグラフィ・ライ
ンを組み、複数の露光装置EXPnを別の製造メーカの
もので混用している場合、あるいは同一メーカのステッ
パーでもソフトウェア体系が異なる場合等は、ホストコ
ンピュータH・COM側で各製造メーカ毎の通信規定に
準拠したプログラムを構築し、それをソースコードのレ
ベルで展開してパソコンPCnの夫々にコーディングし
ておく必要があった。
【0010】さらに、ステッパーの製造メーカー側から
みると、ユーザが使用しているホストコンピュータH・
COMが不特定多数であることから、あるユーザのホス
トコンピュータH・COMの通信規定に準拠して作成し
たステッパー側のオンライン制御用のプログラムが、別
のユーザのところでは全く使えず、作り直さなければな
らないといった問題が生じていた。
【0011】また将来、方式の異なる露光装置、例えば
光学式ステッパー、X線ステッパー(アライナー)、あ
るいはEB露光機を1種類のデバイス製造に混用するこ
とが予想されるが、その場合も、ホストコンピュータH
・COMがそれらを統括管理(制御)するとなると、露
光方式のちがう各装置毎にソースコードのレベルでプロ
グラムを作成しなければならないことになる。
【0012】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、あらゆるホストコンピュータ、及び製造装
置(ステッパー等)に容易に対応できるデバイス製造支
援装置(システム)、デバイス製造システム、及びデバ
イス製造方法を構築することを目的とする。
【0013】
【課題を解決する為の手段】 本発明は、デバイス製造
を統括管理するホストコンピューター(H・COM)の
もとでデバイス製造装置(EXPn、CDn)を運用す
るために、そのデバイス製造装置とそのホストコンピュ
ーターとの間の情報伝達を支援する装置であって、その
デバイス製造装置として少なくとも2種類の製造装置
(EXPn、CDn)に接続され、デバイス製造のため
の一連の作業情報をそのホストコンピューターから受信
し、定義ファイル内の定義内容に応じてその作業情報か
ら各製造装置の種類に応じた複数のコマンド集合情報
(CIF−C、CIF−E)を作成し、その複数のコマ
ンド集合情報をそれぞれ対応する製造装置に送信するシ
ーケンス制御手段(102)を有することを特徴とする
ものである。また、本発明は、そのようなデバイス製造
支援装置と、そのデバイス製造装置に対して他の種類の
製造装置とともに接続され、そのデバイス製造支援装置
からのそのコマンド集合情報に基づいてデバイス製造の
ための作業を実行するデバイス製造装置と、を有するこ
とを特徴とするデバイス製造システムである。さらに本
発明は、そのようなデバイス製造支援装置又はのデバイ
ス製造システムを用いてデバイスを製造することを特徴
とするデバイス製造方法である。 具体的には、ホスト計
算機(H・COM)と露光装置(EXPn)との間での
情報伝達を支援する装置であって、ホスト計算機(H・
COM)との間で規格化された方式の通信回路(例えば
RS232C等)を介して相互に情報伝達を行なうホス
ト通信手段(ユニット100A、100B、100C)
と、このホスト通信手段で受けた露光装置(EXPn)
の作業内容情報(例えば総合的な作業情報SIF)を解
析し、露光装置の動作条件、動作タイミング、及びパラ
メータ等を含むコマンドの集合情報(例えばコマンド群
CIF−E)を設定するシーケンス制御手段(ユニット
102)と、そのコマンド集合情報を露光装置側の規格
に変更して送信する装置通信手段(ユニット104A、
104B)との3つの大きなユニット(プログラム)で
構成される。
【0014】さらにホスト通信手段には、作業内容情報
をテキスト構造として扱うための第1のテキスト定義フ
ァイル(ファイル110B)が設けられ、装置通信手段
にはコマンド集合情報をテキスト構造として扱うための
第2のテキスト定義ファイル(ファイル114B)が設
けられる。そして、それら2つの定義ファイル中に規定
された定義内容の夫々を、ホスト計算機と露光装置の夫
々の規格に合わせて修正することによって、ホストや露
光装置の固有のプログラム体系に準拠してホスト通信手
段や装置通信手段の各プログラムを構築することなく、
各種情報の支援を可能とした。
【0015】
【作用】本発明では、ホスト計算機や露光装置毎に異な
るプログラム中の処理部分は、極力アスキー型式等のテ
キスト構造にして実行させ、そのテキスト構造について
の定義ファイルを予め用意しておく。そしてホスト計算
機と露光装置との組み合わせが決められたときに、その
定義ファイルに規定された内容のみを修正する方法を採
ることによって、様々なホスト計算機、様々の露光装置
との自在な組み合わせを可能とし、製造ラインの構築、
立ち上げを極めて迅速に行なうことができる。さらに一
度構築された製造ライン内の一部の露光装置を他のメー
カーのものに置換したりした場合においても、定義ファ
イルの修正によって、極めて短時間のうちに製造ライン
を立ち上げられるといった利点もある。
【0016】
【実施例】図2は、本発明の実施例が適用されるリソグ
ラフィシステムの全体の構成を表し、従来と同様に複数
台の露光装置としてウェハステッパーEXP1 、EXP
2…EXPnを用いるものとする。またホストコンピュ
ータH・COM、コータ・デベロッパーCD1 、CD2
…CDn等も従来のものと同じものとする。
【0017】図2に示すように、本実施例では各装置間
の通信のためにイーサネットLAN50を用いる。この
LAN(ローカル・エリア・ネットワーク)はリソグラ
フィ工程内にホストコンピュータH・COM用にすでに
敷設されたものを利用してもよいし、新たに敷設しても
よい。さらにホストコンピュータH・COMと露光ユニ
ット(ステッパーとコータ・デベロッパーの対)との間
には、本発明のデバイス製造装置として機能する専用の
マシン・コントローラ(MC)100を設ける。このマ
シンコントローラ100は、見かけ上のハードウェアは
従来のパソコンPC1 、PC2 …PCnと同じ機能を有
するが、さらにLAN50を使った通信機能と、ステッ
パーやコータ・デベロッパーの各装置情報の収集機能と
が加えられ、それらの処理がテキスト構造のソフトウェ
アで実行されるようにした点が異なる。このことについ
ては後で詳しく述べる。
【0018】さて、マスタ・データ・プロセッサ(MD
P)110は、MC100からの稼動状況報告の情報収
集と管理、MC100への各種情報の送信等を行なう。
集中情報サーバ(CIS)120は、ステッパーのプロ
セスプログラムの編集、配布、及び情報収集の機能を有
し、特にMDP110で収集された稼動情報等に基づい
て、MDP110がステッパーの性能に関するデータの
収集と分析を行なうとき、必要に応じてステッパーの動
作パラメータの修正、補正に必要な履歴データをMDP
110に送信する。この修正、補正に関する機能はMD
P110で実行される。一方、LAN50にはLANア
ダプタ130を介して各種計測器140、150等が接
続される。計測器140、150は、一例として株式会
社ニコンより販売されているLAMPAS、光波3I等
の自動線幅測定器やパターン座標測定器等が使われる。
これらの計測器は、露光され現像されたウェハ上のレジ
ストパターンの線幅や特定のレジストパターンの座標位
置等を計測するものであり、その計測データはLAN5
0、もしくは記録媒体を介してMDP110(又はCI
S120)へ送られる。
【0019】以上のようなハードウェア構成において、
CIS120はクリーンルーム外に設置することが可能
である。一般に計測器140、150は、ステッパーが
設置されるクリーンルーム内に配置されるため、MDP
110によってそれら計測器140、150をリモート
制御するとなると、MDP110もクリーンルーム内に
設置しておいた方がオペレーション上、都合がよい。
【0020】また図2のシステムでは、露光ユニットと
LAN50との通信は、MC100を介して行なうもの
としたが、各ステッパー内のコンピュータCMP・E1
〜CMP・EnにLANとの通信機能を持たせてもよ
い。この場合、ステッパー本体のコンピュータCMP・
Enは、一般的にはウェハプロセスに関する多くの情報
を保存していないため、プロセス進行と関連付けられた
ステッパーの動作パラメータに関するデータのやり取り
については、MD100を介して行なうのが好ましい。
【0021】ここでステッパーEXPnとコータ・デベ
ロッパーCDnとの代表的な構造を図3に従って説明す
る。図3において、WCLnは図1でも示した通りウェ
ハカセットライブラリーであり、処理すべきウェハはこ
こからコータ・デベロッパーCDn内の各セクション
(レジスト塗布、プリベーク等)を介してインライン化
対応のウェハローダ部WLに送られ、その後ステッパー
EXPnのウェハステージWSTへ搬送される。また、
ステッパーで露光の終ったウェハはウェハローダ部WL
を介してコータ・デベロッパーCDn内の各セクション
(ウェット現像、乾燥等)に通され、再びライブラリー
WCLnへ戻ってくる。
【0022】一方、ステッパーEXPnには、マスクと
してのレチクルRを照明する照明系ILS、レチクルス
テージRST、投影レンズPL、ウェハステージWS
T、レチクルアライメント用のセンサーRA、TTL方
式のウェハアライメント用のセンサーLA、及びオフア
クシス方式のウェハアライメントセンサーWA等が代表
的に設けられ、これらの制御はコンピュータCMP・E
nによって行なわれる。
【0023】以上、図3に示したシステムは、単なる一
例であって、全てのリソグラフィシステムを表すもので
はない。次に本発明の特徴であるMC100のソフトウ
ェア体系について、図4を参照して模式的に説明する。
MC100内には大別して3つのソフトウェアユニット
が存在する。この3つのソフトウェアユニットは図4に
示すように、ホストコンピュータH・COMとの間で、
作業内容の情報やステッパーEXPn、コータ・デベロ
ッパーCDnの稼動情報等を双方向に通信するためのホ
スト通信ユニット100A、100B、100Cと、各
ステッパーEXPn、コータ・デベロッパーCDnの動
作条件、動作タイミング、及び装置パラメータ等を含む
装置固有のコマンド情報を作成したり、ステッパー側か
らの各種データを統計演算したりするシーケンス制御ユ
ニット102と、ステッパーとコータ・デベロッパーと
の間で所定のフォーマットで通信を行なう装置通信ユニ
ット104A、104B、104Cとで構成される。ホ
ストコンピュータH・COMと直接通信するユニット1
00Aは、ホスト側の通信規約(プロトコル)に準拠し
た相互変換プログラムを有する。一般に通信規約に関し
ては、既存の規格化されたフォーマットがあるため、そ
れに準拠してホスト側の通信機能が構築されていれば、
その相互変換プログラムは特定の種類だけ用意しておけ
ばよいことになる。ところが、ホストコンピュータによ
って、又はユーザ側の仕様によって、例え規格化された
フォーマットであってもその種類は多岐に渡ることがあ
る。そのため、ユーザ側のホストコンピュータH・CO
Mでの通信プロトコルによって通信情報の定義が変わる
プログラム部分は、プロトコル定義ファイル110Aへ
テキスト構造の定義データとして記憶させておく。すな
わち、ユニット100Aは、通信制御用に記述されたプ
ログラムのうち、通信プロトコル制御パラメータを扱う
部分を定義ファイル化しておき、制御パラメータが必要
なときはファイル110Aから読み出すように動作す
る。従ってホスト側の機種が異なって通信プロトコルが
変わる場合には、定義ファイル110Aの定義内容(例
えばアスキーのテキスト形式での記述)を変更、又は修
正するだけで対応がとれる。
【0024】さて、ユニット100Aを介してホスト側
から送られてくる情報は、データ抽出用プログラムユニ
ット100Bによって解析され、送られてきた情報(メ
ッセージ)から必要なデータが抽出され、所定の内部表
現形式に変換されてシーケンス制御ユニット102へ送
られる。このユニット100Bについても、データの抽
出条件がホスト側のデータ仕様、ステッパー側の必要デ
ータの種類等で異なるので、抽出条件についての定義フ
ァイル110Bを用意しておく。
【0025】またユニット100Cはシーケンス制御ユ
ニット102から送られてきた内部表現形式の各種デー
タに基づいてホストに合わせたメッセージ(テキスト構
造)を構築するもので、そのメッセージはユニット10
0Aを介してホストコンピュータH・COMへ送られ
る。ここでもメッセージ構築にあたっては、ホスト側の
仕様に合ったフォーマットに変換する必要があるため、
メッセージ構築に必要なプログラムのうち、ホストコン
ピュータH・COM毎に変わり得る部分は全てテキスト
構造として扱うように記述され、そのテキストの内容を
定義したデータ(アスキーのテキスト形式)がメッセー
ジ構築定義ファイル110C内に用意される。
【0026】従ってホストコンピュータH・COMのハ
ードウェアやソフトウェア(OS)等が変更される場合
は、3つの定義ファイル110A、110B、110C
のいずれかに記述された定義内容を修正するだけで、ほ
とんどのホストコンピュータの仕様に対応することがで
きる。さて、内部表現形式でプログラム化されたシーケ
ンス制御ユニット102には、ホスト側からの情報に基
づいて、装置(ステッパー、コータ・デベロッパー)の
制御方法を決定した集合情報を内部表現形式で生成し、
送信用の装置通信ユニット104Bへ送り出すととも
に、受信用の装置通信ユニット104Cから送られてく
るステッパーやコータ・デベロッパーの各種状態報告
(内部表現形式)を受け取って、各種データの収集、統
計的演算等の加工を行なって、ホスト通信ユニット10
0Cへ内部表現形式で送り出す。装置制御方法の決定に
ついては、ステッパーやコータ・デベロッパーのハード
ウェアに依存して種々の場合があるので、定義ファイル
112Aに装置パラメータや仕様するハードウェアユニ
ット等の定義文を用意しておく。ただし、定義ファイル
112Aは、内部表現形式で記述されたプログラム内で
アクセスされるため、多くの場合はホスト側、あるいは
ステッパー側等のプログラム体系とは無関係に作成して
おくことができる。
【0027】同様に、ユニット102内のデータ収集や
統計演算等の情報加工を行なうプログラムに対しても定
義ファイル112Bを用意しておく。以上のようにし
て、シーケンス制御ユニット102で作成された内部表
現形式の集合情報は、装置通信ユニット104Bによっ
てフォーマット変換された後、ユニット104Aでステ
ッパー側、コータ・デベロッパー側の通信プロトコルに
準拠した通信データに直されて出力される。この場合
も、ステッパーやコータ・デベロッパーの通信プログラ
ム体系に準拠させるため、ユニット104Bにはテキス
ト形式の定義ファイル114Bが用意されている。さら
にユニット104Aには、ステッパーやコータ・デベロ
ッパーの通信プロトコルに準拠させるために、通信制御
パラメータ等をテキスト形式で記述した定義ファイル1
14Aが用意される。
【0028】またユニット104Cは先にも述べたよう
に、ステッパーやコータ・デベロッパーから送られてく
る各種状態報告を内部表現形式に変換してシーケンス制
御ユニット102へ送るものである。このユニット10
4Cに対しても、ステッパー側の状態を表わす各種情報
のフォーマットがステッパー毎に異なることに対応ささ
せるため、テキスト形式が記述した定義ファイル114
Cが用意されている。
【0029】以上、図4のプログラムユニットにおい
て、通信メッセージは、全てSEMIで規定しているS
ECSIIに準拠したものとする。すなわち、メッセージ
の送り手からの情報に応答して、受け手が返答を出すと
いう1往復の情報交換(トランザクション)が順次実行
されるものとする。次に、図4のマシン・コントローラ
(MC)100の働きを理解するために、ステッパー側
の代表的な動作例を、図5のフローチャートを参照して
説明する。図5は、あるウェハロットを露光処理する際
に次のロット処理のための先行準備動作を並行して行う
場合の流れを表わしたものである。ここで、はじめに開
始されるロット処理のことをフォア・グラウンド処理
(ステップA1〜A8)と呼び、はじめのロット処理の
間の先行準備動作のことをバック・グラウンド処理(ス
テップB1〜B5)と呼び、それぞれFG、BGとす
る。ここでFG処理、BG処理についてはステッパーの
コンピュータCMP・En内にそれぞれFGプログラム
(コマンド)、BGプログラム(コマンド)として並列
に用意されている。また図6は、図5のフローチャート
に従って、MC100とステッパー側のコンピュータC
MP・Enとの間で行なわれるトランザクションを示し
たものである。
【0030】まず、ホスト側からMC100のユニット
100A、100B、102、104B、104Aを介
して、カレント・プロセス・プログラムがステッパー側
へダウンロードされる(ステップA1)。このとき、ト
ランザクションは図6に示すように、4つのトランザク
ションA1・F1、A1・F2、A1・F3、A1・F
4がMC100とステッパーEXPnとの間で行なわれ
る。ここでF1、F2、F3、F4のファンクションの
うち奇数番号のものは情報の送り手を意味し、その奇数
よりも1つ大きな偶数番号のものは、送られた情報に対
する応答を意味する。
【0031】トランザクションA1・F1はMC100
がステッパーへカレント・プロセス・プログラムをダウ
ンロードしてよいか否かを問い合わせるものであり、ト
ランザクションA1・F2はそれに応答してステッパー
がMC100へ出力する許可である。そしてMC100
は、許可が得られた後、トランザクションA1・F3で
カレント・プロセス・プログラムをステッパーへ送信す
る。ステッパー側でプログラムの受信が完了すると、ト
ランザクションA1・F4でそれに対する確認をMC1
00へ送る。この一連のやり取りでステップA1が完了
する。
【0032】ここでカレント・プロセス・プログラムと
は、ステッパーの動作シーケンスやパラメータを設定し
たコマンド集合情報であり、使用するレチクルの名前、
処理するウェハのロット数やロット名、1ショット当り
の露光時間、フラッシュ露光の選択、フォーカスオフセ
ット、倍率オフセット、レベリングセット、アライメン
トモード等が指定される。カレント・プロセス・プログ
ラムは図4中のシーケンス制御ユニット102によって
組まれたものである。
【0033】次のステップA2では、リモートコマンド
(すなわち実行コマンド)が起動され、ダウンロードさ
れたカレント・プロセス・プログラムに従って各種パラ
メータが設定され、ステッパーのソフトウェア上のイニ
シャル動作が実行される。ここでも図6のように、トラ
ンザクションA2・F1、A2・F2が行なわれる。次
にステップA3でトランザクションA3・F1、A3・
F2によって、フォア・グラウンド・コマンドの実行が
開始される。このとき、MC100から確認のトランザ
クションA3・F2を受けたステッパーは、ステップA
4でレチクル交換処理を開始する。ステップA4の処理
は、ステッパー側のハードウェアが単独に一定時間をか
けて実行するため、ステップB1においてMC100は
BG処理のためのリザーブ・プロセス・プログラムをダ
ウンロードしてもよいか否かをトランザクションB1・
F1でステッパーへ問い合わせる。
【0034】そして、トランザクションB1・F2、B
1・F3、B1・F4によって、ステッパー側にリザー
ブ・プロセス・プログラムがダウンロードされる。この
プログラムは次に露光処理すべきウェハロットの処理手
続きであり、内容自体はカレント・プロセンス・プログ
ラムと同じである。さて、レチクル交換が終ってカレン
トプロセスで使用するレチクルがステッパーのレチクル
ステージRSTに載置され、レチクルアライメントが完
了すると、ステッパーはステップA5(トランザクショ
ンA5・F1、A5・F2)のようにレチクルアライメ
ントの結果をMC100へ報告する。その内容は、レチ
クルアライメントが正常に行なわれた否かの他に、例え
ば残留レチクルアライメント誤差や、ローテーション誤
差量等のデータも含まれる。
【0035】そしてトランザクションA5・F2で、レ
チクルアライメント結果に対する確認が行なわれると、
ステッパーはステップA6でウェハの露光処理を開始す
る。この露光処理にはウェハローディング、オリフラを
使ったウェハのプリアライメントと、ウェハの周辺露
光、ウェハのステージWSTへの受け渡し、Y−θアラ
イメント、EGA、スッテピング座標の演算、ステージ
WSTのステッピッグ、フォーカス合わせ、露光用シャ
ッターの開閉等の細分化されたステッパー内コマンド
が、所定のロット数分だけ自動的に繰り返すように組み
込まれている。
【0036】さて、ウェハの露光動作が開始された後、
MC100はBG処理としてステップB2でリザーブ・
プロセス・プログラムに対してリモートコマンド(B2
・F1、B2・F2)を出力する。これに応答して、ス
テッパーはステップB3でBG処理によるBGコマンド
の実行を開始する(B3・F1、B3・F2)。このと
きBG処理が可能な内容は、次に使用するレチクルを用
意して、レチクル上の異物を事前に検査しておくことで
ある。そこでステッパーはウェハ露光処理を実行しつ
つ、このステップB3で新しいレチクルの異物検査を実
行する。尚、異物検査ユニットについては図3のステッ
パー中には図示していないが、レチクルRをレチクルス
テージRSTへ搬送する経路中に、例えば特公平2−5
6626号公報等に開示されたレーザビーム走査型のも
のが設けられているものとする。
【0037】異物検査が終了すると、ステップB4でそ
の検査結果がMC100へ送られる(トランザクション
B4・F1、B4・F2)。この間、次の処理のための
レチクルRは、異物検査ユニット内、又は所定のスタン
バイ・ポジションで待機し、ステッパーはステップB5
(B5・F1、B5・F2)でBGコマンドの実行終了
をMC100へ報告する。
【0038】やがて、一連の露光処理が完了すると、ス
テッパーはステップA7でその露光処理中に生じた各種
の情報(エラー状況、アラーム、残留アライメント誤
差、ショット不良等)をMC100へ出力する(トラン
ザクションA7・F1、A7・F2)。この露光処理結
果の情報は、図4中のユニット104A、104Cを介
してシーケンス制御ユニット102へ送られ、所定の情
報加工(統計演算等)が必要なものは加工された後のデ
ータがユニット100Cを介してホストコンピュータH
・COMへ送られる。
【0039】次にステッパーはFGコマンドの実行終了
をステップA8(A8・F1、A8・F2)でMC10
0へ報告する。このステップA8でトランザクションA
8・F2を受けたステッパーは、図5ではステップA1
へ戻ってカレント・プロセス・プログラムのダウンロー
ドを行なうが、このとき、ステッパー内にはすでにリザ
ーブ・プロセス・プログラムがロードされているので、
カレント・プロセス・プログラムがロードされているの
で、カレント・プロセス・プログラムの記憶領域に、リ
ザーブ・プロセス・プログラムを転送し、次のカレント
処理(FG処理)として同様の実行を続けていく。
【0040】以上のように、MC100とステッパーと
はフォア・グラウンド処理のためのカレント・プロセス
・プログラムと、バック・グラウンド処理のためのリザ
ーブ・プロセス・プログラムとを順次実行し、多数のウ
ェハロットを露光処理する。また以上で説明した図6の
トランザクションはMC100とステッパーとの間に関
するものであるが、MC100とコータデベロッパーC
Dnとの間においても同様の考え方でトランザクション
が行なわれ、さらにホストコンピュータH・COMとM
C100との間においてもSECSに準拠したトランザ
クション形式で実行処理が行なわれる。
【0041】ここで、図4の装置通信ユニット104
B、104Cに対して用意されたメッセージ構築情報定
義ファイル114Bとデータ抽出条件定義ファイル11
4Cとの内容について図7を参照して説明する。図7は
それらの定義ファイル中に記憶されたいくつかのトラン
ザクションのフォーマットを記述した表である。
【0042】図7(A)の見出し(1)はMC100が
先行でステッパーEXPとやり取りすることを定義した
ものである。(2)のトランザクションA2・F1は図
6に示したようにリモートコマンドの指示であり、この
トランザクションのフォーマットは(3)の「I、A
S、2、*」で定義される。このうち「I」はアイテム
を意味し、次の(4)に<REMOTE>というアイテ
ム名称がくることを意味する。さらに「AS」は、その
アイテム名称で定義される内容がアスキー形式であるこ
とを表わし、次の「2、*」は可変長のNバイトを意味
する。
【0043】このトランザクションA2・F1への応答
は、ステッパーからMC100へ帰されるトランザクシ
ョンA2・F2(5)である。このトランザクションの
定義は(6)のように「I、I1、1、1」であり、
「I」は(7)のようにアイテム名<CMDA>が存在
することを意味し、「I1、1、1」はそのアイテム<
CMDA>で定義される内容が1バイト符号付整数であ
ることを意味する。
【0044】同様に図7(B)はMC100先行のトラ
ンザクションであり、ここでは一例としてダウンロード
問い合わせ時の細部トランザクションA1・F11
(8)、A1・F12(9)を示す。まずトランザクシ
ョンA1・F11はステッパー側のモデル名とソフトウ
ェアバージョンを開くためのもので、アイテム名はな
い。これに対してステッパーからのトランザクションA
1・F12は、(10)の「L、2」によってエレメン
ト数(アイテム数)2のリスト構造であることが定義さ
れる。
【0045】アイテム1は(11)の「I、AS、1、
6」で定義された<NAME>であり、これは<NAM
E>で定義されるモデル名がアスキー6バイトで表わさ
れることを意味する。さらにアイテム2は(13)の
「I、AS、1、6」で定義れた<SFVER>であ
り、これは<SFVER>で定義さるソフトウェア・バ
ージョンがアスキー6バイトで表わされることを意味す
る。
【0046】逆に、ステッパー先行のトランザクション
の一例を図7(C)に示す。ここでも全く同様の形式で
定義ファイルが記述される。図7(C)中の(15)の
「I、BI、1、1」は、そこに規定されたアイテム名
の内容がバイナリ・1バイトで表わされることを意味す
る。以上のように、図4に示した各種の定義ファイル1
10A、110B、110C、114A、114B、1
14C中には、このようなトランザクションの全てが図
7のようにアスキー形式で記述されている。
【0047】そのため、ステッパー側で各種アイテムの
内容を変える必要があるとき、例えばアイテム<NAM
E>で扱うデータ長を6バイトから12バイトにしたい
ときは、図7(B)の(11)で定義された「I、A
S、1、6」を「I、AS、1、12」と変換すればよ
い。図7に示されたトランザクションの定義は、ステッ
パー数百のコマンド数に応じて予め用意されている。
【0048】また図7中の各アイテム名で規定された内
容には、数値データが含まれることもある。その場合
は、そのアイテム名を引数としてデータ抽出条件定義フ
ァイル110C、114C中に数値データをアスキー形
式で登録しておく。そして、そのアイテム名に数値デー
タが含まれるときは、そのファイル114C中から読み
出して処理する。数値データの一例としては実露光時間
が考えられる。この場合、定義ファイル114Cにはカ
レント処理で扱われる通常の実露光時間をチェックする
ためのレンジチェック用のデータが記憶される。例えば
通常のプロセスでの実露光時間が200mSec〜250mS
ecであるとすると、定義ファイル114Cには、例えば
150mSec〜300mSecのレンジチェックデータが記憶
される。そしてMC100とステッパーとの間で、ステ
ップA7が実行されるときに、実露光時間の報告を含む
トランザクション中のアイテムの呼び出しに応じてレン
ジチェックを行ない、エラーかどうかを判断、もしくは
アラームを出すことができる。
【0049】次に、MC100がホストコンピュータH
・COMからの作業情報に基づいて、コータ・デベロッ
パーとステッパーとの夫々にコマンドを展開する様子
を、図8を参照して説明する。一般に、この種のリソグ
ラフィ工程では、ホストコンピュータH・COMが処理
すべきロット内のウェハに関する一連の処理命令をMC
100へ送出する。すなわち、ホスト側からは、処理す
べきロット名、そのロット内のウェハに設定されるレジ
スト厚tr、露光時間T秒、アライメントオフセットΔ
A、フォーカスオフセットΔZ、レチクル名等がMC1
00へ送られるだけである。
【0050】そこでMC100のシーケンス制御ユニッ
ト102はそれら一連の作業情報SIFを解析し、ステ
ッパーEXPn側に必要なコマンド集合情報CIF−E
と、コータ・デベロッパーCDn側に必要なコマンド集
合情報CIF−Cとを作り出す。作業情報SIF中には
コータ・デベロッパー側で処理すべき情報Aと、ステッ
パー側で処理すべき情報Bとが含まれている。総合的な
作業情報SIFには例えばウェハ上に形成されるパター
ン線幅を設計値に対して制御することも含まれる。通常
パターン線幅の制御は露光時間、現像時間を変えること
によって可能であり、シーケンス制御ユニット102は
ステッパー側、コータ・デベロッパー側のどちらか一
方、又は両方に対して最適なコマンドを展開する。
【0051】こうして展開されたコマンド集合情報CI
F−Cには、コータ・デベロッパーCDnの動作条件、
動作タイミイグや処理パラメータ等が含まれている。ス
テッパー側のコマンド集合情報CIF−Eとは、先の図
5で示したカレント・プロセス・プログラム、又はリザ
ーブ・プロセス・プログラムのことであり、同様に動作
条件、タイミング、パラメータ等が含まれている。
【0052】またシーケンス制御のユニット102は、
コータ・デベロッパーCDnの作業内容とステッパーE
XPnの作業内容との間で、タイミングを図らなければ
ならないときには、それに応じてコマンド実行中にタイ
ミング合わせを行なうようなシーケンスを組む。尚、コ
ータ・デベロッパーCDn側で必要なコマンド(条件)
としては、レジストの種類(ポジ、ネガ)、レジストの
滴下量、ウェハの回転数、プリベーク、アフターベーク
の有無とその温度、現像時間、現像液温度等の設定と、
ウェハのローディングの指定等がある。その他、現像工
程で使う各種処理液の管理、保守(濃度測定、寿命判
定、液交換等)についても必要に応じてMC100から
の制御、もしくはCDnのセルフチェック機能として実
行される。
【0053】
【発明の効果】以上、本発明によればホスト計算機と製
造装置(ステッパー、コータ・デベロッパー)との間
に、定義ファイルによって情報を相互変換する支援装置
(マシン・コントローラ)を設けたので、定義ファイル
を変更するだけで、ホスト計算機の種別や製造装置の種
別によらず、ほとんどの製造ラインに適用可能となる。
しかもホスト側、又は製造装置側の固有のプログラム体
系に準拠して支援ソフトウェアを構築する必要がなくな
るとともに、同種の製造ラインであれば、別のラインで
蓄積されたシーケンス制御ユニットの内部表現ソフトウ
ェアがそのまま流用できるといった利点もある。また本
発明は、半導体素子に限らず、いろいろな部品、製品の
製造ラインをホストコンピュータで管理する際にも全く
同様に適用できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の製造ラインの一例を示すブロック図であ
る。
【図2】本発明における支援装置(マシン・コントロー
ラ)が適用される製造ラインの一例を示すブロック図で
ある。
【図3】ステッパー、コータ・デベロッパー、及びマシ
ン・コントローラの接続を模式的に表わす斜視図であ
る。
【図4】マシン・コントローラ内のユニット構成を模式
的に示す図である。
【図5】ステッパーの代表的な露光処理動作の一例を示
すフローチャート図である。
【図6】ステッパーとマシン・コントローラとの間での
トランザクションの一例を示す図である。
【図7】トランザクションを定義したファイルの内容の
一例を示す図である。
【図8】ホストコンピュータからの作業情報を解析し
て、ステッパーとコータ・デベロッパーへ展開する流れ
を示す図である。
【主要部分の符号の説明】
H・COM ホスト・コンピュータ EXP1 、EXP2 …EXPn 露光装置(ステッパ
ー) CD1 、CD2 …CDn コータ・デベロッパー 100 マシン・コントローラ(MC) 100A、100B、100C ホスト通信ユニット 102 シーケンス制御ユニット 104A、104B、104C 装置通信ユニット 110A、114A 通信プロトコル定義ファイル 110B、114C データ抽出定義ファイル 110C、114B メッセージ構築情報定義ファイル SIF 総合的な作業情報 CIF−C、CIF−E コマンド集合情報
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 H01L 21/02

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 デバイス製造を統括管理するホストコン
    ピューターのもとでデバイス製造装置を運用するため
    に、前記デバイス製造装置と前記ホストコンピューター
    との間の情報伝達を支援する装置であって、前記デバイス製造装置として少なくとも2種類の製造装
    置に接続され、デバイス製造のための一連の作業情報を
    前記ホストコンピューターから受信し、定義ファイル内
    の定義内容に応じて前記作業情報から各製造装置の種類
    に応じた複数のコマンド集合情報を作成し、前記複数の
    コマンド集合情報をそれぞれ対応する製造装置に送信す
    るシーケンス制御手段を有することを特徴とするデバイ
    ス製造支援装置。
  2. 【請求項2】 前記定義ファイルは、前記ホストコンピ
    ュータ、及び前記デバイス製造装置の組み合わせに応じ
    て定義内容を変更可能であることを特徴とする請求項1
    に記載のデバイス製造支援装置。
  3. 【請求項3】 前記少なくとも2種類の製造装置はイン
    ライン化されていることを特徴とする請求項1又は2に
    記載のデバイス製造装置。
  4. 【請求項4】 前記定義ファイルは、テキスト形式であ
    ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載
    のデバイス製造支援装置。
  5. 【請求項5】 前記少なくとも2種類の製造装置は、露
    光装置とレジスト処理装置とを含むことを特徴とする請
    求項1〜4のいずれか一項に記載のデバイス製造支援装
    置。
  6. 【請求項6】 前記デバイス製造支援装置は、ネットワ
    ークを使った通信機能を有することを特徴する請求項1
    〜5のいずれかに記載のデバイス製造支援装置。
  7. 【請求項7】 前記デバイス製造支援装置は、前記デバ
    イス製造装置に関する情報の収集機能を有することを特
    徴する請求項1〜6のいずれかに記載のデバイス製造支
    援装置。
  8. 【請求項8】 前記デバイス製造支援装置は、前記デバ
    イス製造装置の情報を収集する前記ホストコンピュータ
    とは独立した情報収集手段と接続されており、前記収集
    したデバイス製造装置の情報を前記情報収集手段に送信
    することを特徴とする請求項7に記載のデバイス製造支
    援装置。
  9. 【請求項9】 前記デバイス製造支援装置は、ネットワ
    ークを使った通信機能を有し、前記情報収集手段と前記
    ネットワークによって接続されていることを特徴とする
    請求項8に記載のデバイス製造支援装置。
  10. 【請求項10】 前記ネットワークはローカルエリアネ
    ットワークであることを特徴とする請求項6又は9に記
    載のデバイス製造支援装置。
  11. 【請求項11】 前記ローカルエリアネットワークは、
    イーサネットであることを特徴とする請求項10に記載
    のデバイス製造支援装置。
  12. 【請求項12】 ホストコンピューターのもとでデバイ
    ス製造工程が統括管理されるデバイス製造システムであ
    って、 デバイス製造のための一連の作業情報を前記ホストコン
    ピュータから受信する請求項1〜11のいずれか一項に
    記載のデバイス製造支援装置と、 前記デバイス製造支援装置に対して他の種類の製造装置
    とともに接続され、前記デバイス製造支援装置からの前
    記コマンド集合情報に基づいてデバイス製造のための作
    業を実行するデバイス製造装置と、を有することを特徴
    とするデバイス製造システム。
  13. 【請求項13】 前記請求項1〜11のいずれか一項に
    記載のデバイス製造支援装置を用いてデバイスを製造す
    ることを特徴とするデバイス製造方法。
  14. 【請求項14】 前記請求項12に記載のデバイス製造
    システムを用いてデバイスを製造することを特徴とする
    デバイス製造方法。
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