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JP3304061B2 - Manufacturing method of printed wiring board - Google Patents

Manufacturing method of printed wiring board

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Publication number
JP3304061B2
JP3304061B2 JP35937097A JP35937097A JP3304061B2 JP 3304061 B2 JP3304061 B2 JP 3304061B2 JP 35937097 A JP35937097 A JP 35937097A JP 35937097 A JP35937097 A JP 35937097A JP 3304061 B2 JP3304061 B2 JP 3304061B2
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JP
Japan
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substrate
conductive film
wiring board
printed wiring
patterning
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幸宏 石丸
東作 西山
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Panasonic Holdings Corp
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Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4038Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
    • H05K3/4053Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
    • H05K3/4069Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques for via connections in organic insulating substrates

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Surface Heating Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板の
製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器は軽薄短小化が強く求め
られており、これらを構成する電子部品及び実装基板
も、より高密度なパッケージが要求されている。この要
求にこたえるために、実装技術そのものの開発が重要視
されてきている。実装技術の開発には、大きく分けて実
装部品の開発と、基板および実装方式の開発という2つ
の課題がある。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a strong demand for lighter, thinner and smaller electronic devices, and higher-density packages are also required for electronic components and mounting boards constituting these devices. In order to meet this demand, development of the packaging technology itself has been regarded as important. There are two main issues in the development of mounting technology: development of mounting components and development of a board and a mounting method.

【0003】実装部品については、半導体はその端子ピ
ッチが0.5mmから現在では0.3mmピッチまでの
狭ピッチ化が進み、またチップ部品は現在では1005
チップ(1.0×0.5mm)が普通に使用されるにいた
っており、実装方式の観点からこれ以上の小型化はかえ
って実装コストが高くなるという状況にある。
[0003] With respect to mounted components, the pitch of semiconductor terminals has been reduced from 0.5 mm to 0.3 mm pitch at present, and chip components are currently 1005 mm.
Chips (1.0 × 0.5 mm) have come to be commonly used, and from the viewpoint of the mounting method, further miniaturization results in higher mounting cost.

【0004】そのため、高密度実装を実現する上で、基
板および実装方式の開発が重要なポイントとなってい
る。現在、高密度実装基板として一般的なものにガラス
エポキシ基板がある。これは、ガラス織布に耐熱性のエ
ポキシ樹脂を含浸させたものを絶縁基板材料として用い
たものである。
Therefore, development of a substrate and a mounting method is an important point in realizing high-density mounting. At present, a glass epoxy substrate is a general high-density mounting substrate. In this case, a glass woven fabric impregnated with a heat-resistant epoxy resin is used as an insulating substrate material.

【0005】このようなガラスエポキシ基板による内層
および外層の電気的接続のために用いられるものとして
は、ドリルとCuメッキスルーホール(貫通スルー)が
ある。これは、長年の技術開発により確立されたもので
広く世の中で認められているものであるが、今後のさら
なる高密度化の要求に対して、十分であるとはいえな
い。その要因としては、通常のガラスエポキシ多層基板
において、高密度な配線を行う場合、貫通スルーホール
(貫通穴)であるために、貫通穴が配線スペースを阻害
し配線長が長くなることがあげられる。また、貫通穴が
あるために、配線スペースが少なくなり、CAD(compu
ter aided design) による自動配線が困難となることも
要因としてあげられる。さらに、今後の小径穴明けに対
しドリル加工が困難となり、今以上にドリル加工に要す
るコスト比率が高くなる、などの問題がある。
[0005] Drills and Cu plated through holes (through holes) are used for electrical connection between the inner and outer layers by such a glass epoxy substrate. Although this has been widely recognized in the world and has been established through technological development over many years, it cannot be said that it is sufficient for future demand for higher density. The reason for this is that when high-density wiring is performed on an ordinary glass-epoxy multilayer substrate, the through-holes disturb the wiring space and increase the wiring length because of the through-holes (through-holes). . In addition, since there is a through hole, wiring space is reduced, and CAD (compu
Another factor is the difficulty in automatic wiring by ter aided design). Further, there is a problem that it is difficult to perform drilling in the future drilling of small diameter holes, and the cost ratio required for drilling becomes higher than now.

【0006】このような課題に対し、多層基板業界では
種々の新しい多層基板が開発されている。まず、現状の
ドリルを用いたCuメッキスルー基板技術の延長上にあ
る技術として、SVH(Surface-Buried Via Hole)多層
基板がある。SVH基板は、貫通スルーホールだけでな
く、表層部だけのビア接続を行う方法で、貫通スルーホ
ール基板に比べ高密度な配線が可能となる。また表層部
のビア部を絶縁樹脂で充填し、さらにその上にCuメッ
キを形成して、ビア部分の上にも部品実装用パッドを形
成できるようにしたものである。この方法によれば、表
面には挿入部品用の貫通穴しか存在せず、高密度な部品
実装が可能となる。しかし、SVH基板はガラスエポキ
シ多層技術の改良であり、ドリル加工が困難であるとい
う問題が生じる点は変わらない。
[0006] In response to such problems, various new multilayer substrates have been developed in the multilayer substrate industry. First, there is an SVH (Surface-Buried Via Hole) multilayer substrate as an extension of the current Cu plating through substrate technology using a drill. In the SVH substrate, via connection is performed not only in the through-hole but also in the surface layer portion, so that a higher-density wiring is possible as compared with the through-hole substrate. Further, the via portion of the surface layer is filled with an insulating resin, and Cu plating is further formed thereon so that a component mounting pad can be formed on the via portion. According to this method, only through-holes for insertion components are present on the surface, and high-density component mounting is possible. However, the SVH substrate is an improvement of the glass epoxy multi-layer technology, and the problem that drilling is difficult still occurs.

【0007】一方新しい試みとして、完全なインナービ
アホール(IVH: inner Via Hole)構成を有する多層基板
が提案されている。代表的なものとしてALIVH基板
(Any Layer Inner Via Hole,松下電器産業(株)社登
録商標)やSLC基板(Surface Laminar Circuits, I
BM社登録商標)が上げられる。
On the other hand, as a new attempt, a multilayer substrate having a complete inner via hole (IVH) structure has been proposed. Representative examples include ALIVH substrates (Any Layer Inner Via Hole, registered trademark of Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) and SLC substrates (Surface Laminar Circuits, I
BM registered trademark).

【0008】これらの方法によれば非常に安価で、高密
度な配線が形成できるため、現在特に注目されている。
このような高密度基板ではIVH構成とするだけでな
く、内層及び表層の配線も高密度とするために、より微
細な配線加工技術が要求されている。このような微細の
配線加工の際には、その配線となる導体の表面粗化度合
いをどのようにするのかが、プリント配線板の製造方法
として大きなポイントとなる。因みに、従来の製造方法
においては、導体をパターニングする前に粗化処理を行
っている。
According to these methods, very inexpensive and high-density wirings can be formed.
In such a high-density substrate, a finer wiring processing technique is required in order not only to have the IVH structure but also to increase the wiring density of the inner layer and the surface layer. In such fine wiring processing, how to make the surface roughness of the conductor to be the wiring an important point is a method of manufacturing a printed wiring board. Incidentally, in the conventional manufacturing method, a roughening process is performed before patterning the conductor.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来のプリント基板の
製造方法では、エッチングレジストやソルダーレジスト
との密着性を上げるために、導体パターンをパターニン
グする前に化学エッチング法や機械研磨法により粗化処
理を行ってきた。しかし、プリント配線板に導体パター
ンの微細加工が要求されてくると、導体パターンをパタ
ーニングした後に粗化処理を行う方が好ましい場合もあ
る。しかし、従来の製造方法では導体パターンをパター
ニングした後に粗化処理を行うことは困難である。
In the conventional method of manufacturing a printed circuit board, a roughening treatment is performed by a chemical etching method or a mechanical polishing method before patterning a conductor pattern in order to increase the adhesion with an etching resist or a solder resist. I went. However, when fine processing of a conductor pattern is required for a printed wiring board, it may be preferable to perform a roughening process after patterning the conductor pattern. However, in the conventional manufacturing method, it is difficult to perform a roughening process after patterning the conductor pattern.

【0010】その理由は、従来のスルーホール等をメッ
キすることによって、各層間を電気的に接続するような
プリント配線板においては、プリント配線板の表面にス
ルーホール等の穴が存在する。そのためパターニング後
に粗化する工法の場合、エッチング法では、導体パター
ンだけでなくスルーホールに内もエッチングされ、ま
た、機械研磨法では、研磨材や研磨かすといった異物が
スルーホール内に残りやすい、といった不具合が生じる
からである。以上のことから導体パターンをパターニン
グ後に粗化することは困難である。
[0010] The reason is that in a conventional printed wiring board in which each layer is electrically connected by plating a through hole or the like, a hole such as a through hole exists on the surface of the printed wiring board. Therefore, in the case of the method of roughening after patterning, in the etching method, not only the conductor pattern but also the inside of the through hole is etched, and in the mechanical polishing method, foreign substances such as abrasives and polishing residues are likely to remain in the through hole. This is because a defect occurs. From the above, it is difficult to roughen the conductor pattern after patterning.

【0011】しかし近年、実装密度を高めるために層間
の電気的接続をスルーホールを用いず、配線板の表面に
スルーホールのような穴のないプリント配線板(特開H
06−268345、特開H08−111574)が使
用されるようになった。このようなプリント配線板では
表面にスルーホール等の穴がないため、前記のような不
具合が生じず、パターニング後に粗化することが可能で
ある。
However, in recent years, in order to increase the mounting density, printed wiring boards having no holes such as through holes on the surface of the wiring board without using through holes for electrical connection between layers (Japanese Unexamined Patent Publication H
06-268345, JP-A-08-111574) have come to be used. In such a printed wiring board, since there is no hole such as a through hole on the surface, the above-described problem does not occur, and the surface can be roughened after patterning.

【0012】このようなプリント配線板において、その
導体パターンのファイン化が求められ、より精度良くパ
ターンを形成することが要求されてきている。ファイン
な導体パターンをエッチング法により形成する場合、エ
ッチングレジスト形成時とパターン形成後の導体パター
ンの表面粗化状態として、異なる粗化度合いが好ましい
場合がある。エッチングレジスト形成時に、エッチング
レジストとして液状レジストなどの比較的ファイン化に
適しているといわれる、密着性の優れたエッチングレジ
ストが多く使用されることから、粗化が大きいとエッチ
ングレジストの剥離が困難になったり、剥離片が残って
しまったりする。またフォト法の場合、導体箔表面の乱
反射による露光時の悪影響を避ける観点からも、粗化度
合いとしてはあまり大きくない方が好ましい。しかしそ
の一方で、エッチング後のパターン形成後は、ソルダー
レジストとの密着性から粗化度合いが大きい方が好まし
い。特に最近用いられるような、層間接続を導電性ペー
スト等で行うプリント配線板の場合、層間接続の電気的
信頼性が導体パターンの表面粗化度合いに影響されるこ
とから、パターニング後の導体パターンの粗化が大きい
方が好ましい場合がある。
In such a printed wiring board, a finer conductor pattern is required, and a more accurate pattern is required. When a fine conductor pattern is formed by an etching method, a different degree of roughening may be preferable as the surface roughening state of the conductor pattern at the time of forming an etching resist and after forming the pattern. At the time of etching resist formation, since etching resists with excellent adhesion are said to be used as etching resists, which are said to be relatively suitable for finer refinement such as liquid resists, it is difficult to remove the etching resist if roughening is large. Or peeled pieces remain. In the case of the photo method, it is preferable that the degree of roughening is not so large from the viewpoint of avoiding adverse effects during exposure due to irregular reflection on the conductor foil surface. However, on the other hand, after the pattern is formed after the etching, it is preferable that the degree of roughening is large from the viewpoint of the adhesion to the solder resist. In particular, in the case of a printed wiring board in which interlayer connection is performed using a conductive paste or the like, which is used recently, since the electrical reliability of the interlayer connection is affected by the degree of surface roughness of the conductor pattern, the conductor pattern after patterning is used. It may be preferable that the roughening is large.

【0013】このように、エッチングレジスト形成時と
エッチング後のパターン形成後の導体パターンの表面粗
化状態として異なる粗化度合いが要求され、従来の導体
パターンをパターニングする前に粗化処理を行う製造方
法では、その要求が満たされず不具合が生じる場合があ
る。
As described above, a different degree of roughening is required as the surface roughening state of the conductor pattern after the formation of the etching resist and after the pattern formation after the etching, and the conventional manufacturing method of performing a roughening process before patterning the conductor pattern. The method may not satisfy the requirement and cause a problem.

【0014】本発明は、従来のプリント配線板の製造方
法のこの様な課題を考慮し、エッチングレジストの密着
性と剥離性、ソルダーレジストとの密着性を両立さすこ
とによって、信頼性の高いプリント配線板を製造できる
プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする
ものである。また、エッチングレジストの密着性と剥離
性、各層間の密着性と電気的接続性を両立さすことによ
って、信頼性の高い多層のプリント配線板を製造できる
プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする
ものである。
The present invention considers such problems of the conventional method for manufacturing a printed wiring board, and achieves a highly reliable print by satisfying both the adhesiveness of an etching resist, the peeling property, and the adhesiveness with a solder resist. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed wiring board that can manufacture a wiring board. Further, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a printed wiring board capable of manufacturing a highly reliable multilayer printed wiring board by satisfying both adhesion and peeling properties of an etching resist and adhesion and electrical connectivity between respective layers. It is the purpose.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1記載の本発明は、導電性ペーストが充填さ
れた貫通孔を有する基板の片面または両面に、光沢面が
表面となるように片面光沢銅箔からなる導電膜を形成す
る導電膜形成工程と、前記導電膜上にエッチングレジス
トを形成した後にパターニングして導電膜パターンを形
成する導電膜パターニング工程と、前記導電膜パターニ
ング工程の後、前記エッチングレジストを剥離し、その
後画像認識によりパターニング検査を行ない、その後に
前記導電膜パターンの表面を粗化処理する粗化処理工程
とを含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法で
ある。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention according to claim 1 has a glossy surface on one or both sides of a substrate having a through hole filled with a conductive paste. A conductive film formed of a single-sided glossy copper foil , a conductive film patterning process of forming an etching resist on the conductive film and then patterning to form a conductive film pattern, and a conductive film patterning process. Thereafter, the etching resist is removed, a patterning inspection is performed by image recognition, and then a roughening treatment step of roughening the surface of the conductive film pattern is performed. is there.

【0016】請求項2記載の本発明は、導電性ペースト
が充填された貫通孔を有する基板の片面または両面に、
表面が粗化処理された導電膜パターン有する第1の基板
を用意し、所望の貫通穴に導電性ペーストが充填された
第2の基板を、前記第2の基板の貫通穴に充填された導
電性ペーストの表面と前記第1の基板の導電膜パターン
表面の少なくとも一部とが相対するように前記第1の基
板と前記第2の基板とを貼り合わせ、前記第1の基板と
貼り合わせた前記第2の基板の反対側の面に光沢面が表
面となるように片面光沢銅箔別の導電膜を貼り合わせ
て、加熱加圧する積層導電膜形成工程と、前記別の導電
膜をパターニングして別の導電膜パターンを形成する積
層導電膜パターニング工程と、前記積層導電膜パターニ
ング工程の後、画像認識によりパターニング検査を行な
い、その後に前記別の導電膜パターンの表面を粗化処理
する積層導電膜粗化処理工程とを有する積層工程を含む
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法である。
According to a second aspect of the present invention, a substrate having a through hole filled with a conductive paste is provided on one or both sides of the substrate.
A first substrate having a conductive film pattern whose surface is roughened is prepared, and a second substrate in which a desired through-hole is filled with a conductive paste is replaced with a conductive film filled in the through-hole of the second substrate. The first substrate and the second substrate were bonded to each other such that the surface of the conductive paste and at least a part of the conductive film pattern surface of the first substrate faced each other, and were bonded to the first substrate. Laminating another conductive film of a single-sided glossy copper foil on the opposite surface of the second substrate so that the glossy surface becomes the surface, and heating and pressing the laminated conductive film forming step, and patterning the another conductive film Forming a different conductive film pattern, and performing a patterning inspection by image recognition after the stacked conductive film patterning step, and then performing a roughening process on the surface of the different conductive film pattern. conductive film roughness A method for manufacturing a printed wiring board which comprises a lamination step and a processing step.

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【0019】請求項記載の本発明は、さらに、前記別
の基板に対して、前記積層工程を、一回行うもしくは複
数回繰り返して行うことを特徴とする請求項に記載の
プリント配線板の製造方法である。
According to a third aspect of the present invention, in the printed wiring board according to the second aspect, the laminating step is performed once or repeatedly on the another substrate. It is a manufacturing method of.

【0020】請求項記載の本発明は、前記積層工程を
一回行ったもしくは複数回繰り返して行った後、露出し
ている前記別の導電膜パターンの表面にソルダーレジス
トを形成するソルダーレジスト形成工程を含むことを特
徴とする請求項2又は3に記載のプリント配線板の製造
方法である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for forming a solder resist on the exposed surface of another conductive film pattern after the laminating step is performed once or repeatedly. 4. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 2 , comprising a step.

【0021】請求項の本発明は、前記粗化処理工程お
よび/または前記積層導電膜粗化処理工程において、化
学エッチング法を用いることを特徴とする請求項1〜
のいずれかに記載のプリント配線板の製造方法である。
The invention of claim 5, in the roughening treatment process and / or the laminated conductive roughening treatment process according to claim 1-4, characterized by using a chemical etching method
A method for manufacturing a printed wiring board according to any one of the above.

【0022】請求項の本発明は、前記粗化処理工程お
よび/または前記積層導電膜粗化処理工程において、機
械研磨法を用いることを特徴とする請求項1〜のいず
れかに記載のプリント配線板の製造方法である。
[0022] The present invention of claim 6, in the roughening treatment step and / or the laminated conductive roughening treatment step, according to any one of claims 1 to 4, characterized in that using mechanical polishing method This is a method for manufacturing a printed wiring board.

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0026】(第1の実施の形態)まず、本発明の第1
の実施の形態を図面を参照して説明する。
(First Embodiment) First, the first embodiment of the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to the drawings.

【0027】図1は本発明の第1の実施の形態における
プリント配線板の製造方法を示す製造工程毎の断面図で
ある。まず、所望の位置に貫通穴が形成された、アラミ
ド製不織布と熱硬化エポキシ樹脂からなる基板102を
用意し、貫通穴へ導電性ペースト103を充填した後、
基板102の両面に銅箔101を張り合わせ加熱加圧す
る(本発明の導電膜形成工程に対応;図1(a))。次
に、液状レジストをロールコーターにより塗布して、エ
ッチングレジスト104とする(図1(b))、フォト
リソグラフィー法にて導体パターン106の形成を行う
(本発明の導電膜パターニング工程に対応;図1
(c)、(d)、(e))。導体パターン106を形成
した後、化学エッチング法または機械研磨法にて、導体
パターンの粗化処理を行う(本発明の粗化処理工程に対
応;図1(f))。粗化処理された銅箔107上にソル
ダーレジスト108をスクリーン印刷で塗布し、150
℃に昇温した熱風乾燥炉に入れ60分間ポストキュアを
行う(本発明のソルダーレジスト形成工程に対応;図1
(g))。以上により、本実施の形態におけるプリント
配線板が得られる。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment of the present invention, for each manufacturing step. First, a substrate 102 made of an aramid nonwoven fabric and a thermosetting epoxy resin having a through hole formed at a desired position is prepared, and after filling a conductive paste 103 into the through hole,
A copper foil 101 is adhered to both surfaces of the substrate 102 and heated and pressed (corresponding to the conductive film forming step of the present invention; FIG. 1A). Next, a liquid resist is applied by a roll coater to form an etching resist 104 (FIG. 1B), and a conductor pattern 106 is formed by photolithography (corresponding to the conductive film patterning step of the present invention; 1
(C), (d), (e)). After forming the conductor pattern 106, the conductor pattern is subjected to a roughening treatment by a chemical etching method or a mechanical polishing method (corresponding to the roughening treatment step of the present invention; FIG. 1 (f)). A solder resist 108 is applied on the roughened copper foil 107 by screen printing,
Post-curing is performed for 60 minutes in a hot-air drying furnace heated to a temperature of ° C. (corresponding to the solder resist forming step of the present invention;
(G)). As described above, the printed wiring board according to the present embodiment is obtained.

【0028】以上の工程において、エッチングレジスト
104として液状レジストを用いているので、液状レジ
スト塗布前の、銅箔101の表面の粗化度合いとして
は、十点平均粗さRzが0.1μm<Rz<3μmの範囲
にあるのが好ましい。粗化度合いが小さいと液状レジス
トとの密着性が悪く、また粗化度合いが大きすぎると剥
離が困難になるためである。なお、通常の光沢銅箔を用
いる場合は、未処理のままでも前記粗化度合いの範囲と
なっていることが確認されている。また、ソルダーレジ
スト塗布前の、銅箔101の表面の粗化度合いとして
は、十点平均粗さRzが3μm<Rzの範囲にあるのが
好ましい。粗化度合いが小さいと密着性が悪くなる場合
があるためである。
In the above steps, since a liquid resist is used as the etching resist 104, the ten-point average roughness Rz is 0.1 μm <Rz before the liquid resist is applied. It is preferably in the range <3 μm. This is because if the degree of roughening is small, adhesion to the liquid resist is poor, and if the degree of roughening is too large, peeling becomes difficult. In addition, when using a normal glossy copper foil, it has been confirmed that the roughness is within the range of the above-mentioned degree of roughening even when untreated. Further, as the degree of surface roughening of the copper foil 101 before the solder resist is applied, the ten-point average roughness Rz is preferably in the range of 3 μm <Rz. This is because if the degree of roughening is small, the adhesion may deteriorate.

【0029】また、機械研磨法としては、バフ研磨、ジ
ェトスクラブを用いるのが好ましい。
As the mechanical polishing method, it is preferable to use buff polishing or jet scrub.

【0030】以上により、本実施の形態におけるプリン
ト配線板の製造方法は、導電膜パターニング工程の後、
粗化処理工程を行うので、エッチングレジストの密着性
と剥離性、ソルダーレジストとの密着性を両立さすこと
ができる。
As described above, the method of manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment includes the steps of:
Since the roughening process is performed, it is possible to achieve both the adhesion and the peelability of the etching resist and the adhesion with the solder resist.

【0031】また、パターニングの後にAOI等の画像
認識による検査を行う場合は、粗化処理する前に検査を
行えるので、導体パターンと基板との反射率の差が大き
くでき、二値化が比較的容易にできることにより、画像
認識がしやすいという利点もある。
In the case where inspection by image recognition such as AOI is performed after patterning, the inspection can be performed before the roughening process, so that the difference in reflectance between the conductor pattern and the substrate can be increased, and the binarization can be compared. There is also an advantage that image recognition is easy because the target can be easily made.

【0032】なお、本発明のソルダーレジスト形成工程
は、本実施の形態におけるプリント配線板の製造方法に
含まれるとして説明したが、ソルダーレジストを形成し
ない場合は、本工程を含まない構成としてもよい。
Although the solder resist forming step of the present invention has been described as being included in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment, a structure not including this step may be adopted if no solder resist is formed. .

【0033】(第2の実施の形態)次に、本発明の第2
の実施の形態を図面を参照して説明する。本実施の形態
が上述した第1の実施の形態と異なる点は、製造するプ
リント配線板が、多層基板であることに関する点であ
る。したがって、本実施の形態において、第1の実施の
形態と同様の物については、同一符号を付与し、説明を
省略する。また、特に説明のないものについては、第1
の実施の形態と同じとする。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to the drawings. This embodiment is different from the above-described first embodiment in that the printed wiring board to be manufactured is a multilayer board. Therefore, in the present embodiment, the same reference numerals are given to the same components as those in the first embodiment, and the description will be omitted. In addition, for those not particularly described, the first
It is assumed to be the same as the embodiment.

【0034】図2は本発明の第2の実施の形態における
プリント配線板の製造方法を示す製造工程毎の断面図で
ある。まず、第1の実施の形態におけるプリント配線板
の製造方法と同様の製造方法にて、粗化処理工程まで終
了した両面プリント配線板(図1(f)の状態)を用意
する。前記両面プリント配線板を内層基板として、所望
の位置に貫通穴を形成し、貫通穴へ導電性ペーストを充
填した基板102を両面に積層し、その両面に銅箔を張
り合わせ加熱加圧する(本発明の積層導電膜形成工程に
対応;図2(a)、(b))。次に、基板102上に液
状レジストをロールコーターにより塗布して、エッチン
グレジストを形成して、フォトリソグラフィー法にて導
体パターンの形成を行った後、化学エッチング法または
機械研磨法にて、導体パターンの粗化処理を行う(本発
明の積層導電膜パターニング工程および積層粗化処理工
程に対応;図2(c))。この工程を繰り返すことで、
多層基板が得られる(図2(d))。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing a printed wiring board according to a second embodiment of the present invention for each manufacturing step. First, a double-sided printed wiring board (the state shown in FIG. 1F) that has been completed up to the roughening process is prepared by the same manufacturing method as that of the printed wiring board according to the first embodiment. Using the double-sided printed wiring board as an inner layer substrate, a through hole is formed at a desired position, a substrate 102 filled with a conductive paste in the through hole is laminated on both sides, and copper foil is laminated on both sides and heated and pressed (the present invention). 2 (a) and 2 (b)). Next, a liquid resist is applied on the substrate 102 by a roll coater to form an etching resist, and a conductive pattern is formed by photolithography. Then, the conductive pattern is formed by chemical etching or mechanical polishing. (Corresponding to the stacked conductive film patterning step and the stacked roughening processing step of the present invention; FIG. 2 (c)). By repeating this process,
A multilayer substrate is obtained (FIG. 2D).

【0035】以上により、本実施の形態におけるプリン
ト配線板の製造方法は、導電膜パターニング工程の後、
粗化処理工程を行うので、エッチングレジストの密着性
と剥離性、ソルダーレジストとの密着性、各層間の密着
性と電気的接続性を両立さすことができる。それによっ
て、多層基板とした時の電気的信頼性を高めることがで
きる。
As described above, the method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment includes the steps of:
Since the roughening process is performed, it is possible to achieve both the adhesion and peeling of the etching resist, the adhesion with the solder resist, and the adhesion and electrical connectivity between the respective layers. Thereby, the electrical reliability when a multilayer substrate is formed can be improved.

【0036】[0036]

【実施例】以下に、本発明のプリント配線板の製造方法
の実施例について説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described below.

【0037】(実施例1)まず、本発明の実施例1につ
いて説明する。本実施例は、本発明の第1の実施の形態
におけるプリント配線板の製造方法に対応する実施例で
ある。
Embodiment 1 First, Embodiment 1 of the present invention will be described. This example is an example corresponding to the method for manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【0038】以下に、本実施例を比較例と共に説明す
る。
Hereinafter, this embodiment will be described together with a comparative example.

【0039】エッチングレジストの剥離性を評価するた
めに、次のような実施例と比較例を用意した。この評価
結果は、後述する表1に示した。まず、基板としてアラ
ミド製不織布と熱硬化エポキシ樹脂からなる基板を24
0mm×240mmの大きさで厚み0.15mmのもの
を用意し、所望の位置に貫通穴を形成した。貫通穴へ導
電性ペーストを充填し、両面に片面光沢銅箔(古河サー
キットフォイル社、光沢面Rz=0.3μm)を張り合
わせ加熱加圧した(図1(a)に対応)。次に、これを
用いて、導体パターン形成前銅箔の前処理において、
実施例、及び比較例として、粗化を行わない未処理(光
沢面Rz=0.3μm、表1の実施例に対応)ジェ
ットスクラブ処理(Rz=2.9μm、3.8μm、前者
の値は表1の実施例に対応、後者の値は表1の比較例に
対応)と化学エッチング処理(Rz=2.8μm、
4.2μm、前者の値は表1の実施例に対応、後者の値
は表1の比較例に対応)とを用意した。化学エッチング
処理はマイクロエッチング剤(メック(株))を用い
た。次に、液状レジスト(日本ペイント社)をロールコ
ーターにより塗布し(図1(b)に対応)、フォトリソ
グラフィー法にて導体パターンの形成を行った(図1
(c)、(d)、(e)に対応)。次に、導体パターン
上に形成したソルダーレジストの剥離性を評価するため
に、表1に示した評価で、◯、又は△となったものを対
象にして、次のような実施例と比較例を用意した。この
評価結果は、後述する表2に示した。即ち、表2に示す
実施例として、導体パターンを形成した後、化学エッチ
ング法及び機械研磨法にて導体パターンの粗化処理を行
った(図1(f)に対応)。機械研磨法はバフ研磨とジ
ェットスクラブを用いてRz=4〜6μmとなるように
粗化処理を行った(表2の実施例に対応)。化学エッチ
ング処理はRz=4〜6μmとなるよう粗化処理を行っ
(表2の実施例に対応)又、表2に示す比較例とし
ては、導体パターンを形成した後、粗化処理を行わない
基板を用意した(表1での実施例に対応)以上の様に
して用意したそれぞれの基板にソルダーレジスト(太陽
インキ社)をスクリーン印刷で塗布し、150℃に昇温
した熱風乾燥炉に入れ60分間ポストキュアを行った
(図1(g)に対応)。
For evaluating the peelability of the etching resist,
For this purpose, the following examples and comparative examples were prepared. This rating
The results are shown in Table 1 below. First, a substrate made of aramid nonwoven fabric and a thermosetting epoxy resin was used as a substrate.
A sample having a size of 0 mm × 240 mm and a thickness of 0.15 mm was prepared, and a through hole was formed at a desired position. The through-hole was filled with a conductive paste, and a single-sided glossy copper foil (Furukawa Circuit Foil Co., Ltd., glossy surface Rz = 0.3 μm) was stuck on both sides and heated and pressed (corresponding to FIG. 1A). Then,
Using, in the pre-treatment of copper foil before forming the conductor pattern ,
Examples and Comparative Example, untreated (light is not performed roughening
Sawamen Rz = 0.3 [mu] m, and corresponds to the Examples in Table 1), jet scrub treatment (Rz = 2.9 .mu.m, 3.8 .mu.m, the former
Values correspond to the examples in Table 1, and the latter values correspond to the comparative examples in Table 1.
The corresponding), chemical etching (Rz = 2.8 .mu.m,
4.2 μm, the former value corresponds to the example of Table 1, the latter value
Corresponds to the comparative example in Table 1) . For the chemical etching treatment, a micro-etching agent (Mec Corporation) was used. Next, a liquid resist (Nippon Paint Co., Ltd.) was applied by a roll coater (corresponding to FIG. 1B), and a conductor pattern was formed by photolithography (FIG. 1).
(Corresponds to (c), (d) and (e)). Next, the conductor pattern
To evaluate the peelability of the solder resist formed on top
In the evaluation shown in Table 1,
As examples, the following examples and comparative examples were prepared. this
The evaluation results are shown in Table 2 below. That is, as shown in Table 2.
As an example, after forming a conductor pattern , the conductor pattern was roughened by a chemical etching method and a mechanical polishing method (corresponding to FIG. 1F). In the mechanical polishing method, a roughening treatment was performed using buff polishing and jet scrub so that Rz = 4 to 6 μm (corresponding to the examples in Table 2) . In the chemical etching treatment, a roughening treatment was performed so that Rz = 4 to 6 μm (corresponding to the examples in Table 2) . Also, as a comparative example shown in Table 2,
After the formation of the conductor pattern, a substrate not subjected to a roughening treatment was prepared (corresponding to the example in Table 1) . As above
A solder resist (Taiyo Ink Co., Ltd.) was applied to each of the prepared substrates by screen printing, placed in a hot-air drying furnace heated to 150 ° C., and post-cured for 60 minutes (corresponding to FIG. 1 (g)).

【0040】以上により、得られた実施例および比較例
について、液状レジストの剥離性、及びソルダーレジス
トの密着性を評価した。
As described above, the peelability of the liquid resist and the adhesion of the solder resist were evaluated for the obtained examples and comparative examples.

【0041】まず、エッチングレジストの剥離性を評価
するために、剥離後の基板表面を観察した結果を表1に
示す。
First, the results of observing the substrate surface after peeling to evaluate the peelability of the etching resist are shown in Table 1.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】表1により、通常の光沢銅箔を用いれば、
未処理のままのほうが、エッチングレジストの剥離性が
良好であることが確認された。
According to Table 1, if a normal bright copper foil is used,
It was confirmed that the stripping of the etching resist was better when it was left untreated.

【0044】次に、ソルダーレジストの密着性を評価す
るのに、JIS D−0202の試験法に従い、ソルダ
ーレジストに碁盤目状にクロスカットを入れ、セロハン
粘着テープによるピールテストを行い、レジスト層の剥
がれについて評価した結果を表2に示す。
Next, in order to evaluate the adhesion of the solder resist, a cross cut was made in a grid pattern on the solder resist in accordance with the test method of JIS D-0202, and a peel test was performed with a cellophane adhesive tape. Table 2 shows the results of evaluating the peeling.

【0045】[0045]

【表2】 [Table 2]

【0046】表2により、ソルダーレジスト塗布前に銅
箔の表面の粗化を行って、粗化度合いを、十点平均粗さ
Rzが3μm<Rzの範囲にすれば、ソルダーレジスト
の密着性が良好になることが確認された。
According to Table 2, if the surface of the copper foil is roughened before the solder resist is applied and the degree of roughening is set so that the ten-point average roughness Rz is in the range of 3 μm <Rz, the adhesion of the solder resist is improved. It was confirmed that it became good.

【0047】(実施例2)次に、本発明の実施例2につ
いて説明する。本実施例は、本発明の第2の実施の形態
におけるプリント配線板の製造方法に対応する実施例で
ある。
(Embodiment 2) Next, Embodiment 2 of the present invention will be described. This example is an example corresponding to the method for manufacturing a printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.

【0048】以下に、本実施例を比較例と共に説明す
る。
Hereinafter, this embodiment will be described together with a comparative example.

【0049】実施例1と同様の方法で両面プリント配線
板を製造する。前記両面プリント配線板を内層基板とし
て所望の位置に貫通穴を形成し、貫通穴へ導電性ペース
トを充填した基板を両面に積層し、その両面に片面光沢
銅箔(古河サーキットフォイル社)を張り合わせ加熱加
圧した(図2(a)、(b)に対応)。前記基板をフォ
トリソ法にて導体パターンを形成し、多層基板とした
(図2(c)に対応)。電気的接続信頼性を評価するた
めに、この工程を繰り返すことによって、6層板を作製
し、500穴の層間接続穴を導体パターンでチェーン状
につなぐパターンを形成した(図3)。粗化処理とし
て、機械研磨法はジェットスクラブを用いてRz=2〜
6μmとなるように粗化処理を行った。化学エッチング
処理はRz=2〜6μmとなるよう粗化処理を行った。
比較例として、未処理のものを用意した。
A double-sided printed wiring board is manufactured in the same manner as in Example 1. Using the double-sided printed wiring board as the inner layer substrate, forming a through hole at a desired position, laminating a substrate filled with a conductive paste in the through hole on both sides, and laminating a single-sided glossy copper foil (Furukawa Circuit Foil) on both sides. Heat and pressure were applied (corresponding to FIGS. 2A and 2B). A conductive pattern was formed on the substrate by a photolithography method to form a multilayer substrate (corresponding to FIG. 2C). In order to evaluate the electrical connection reliability, this process was repeated to form a six-layer plate, and a pattern in which 500 interlayer connection holes were connected in a chain with a conductor pattern was formed (FIG. 3). As a roughening treatment, the mechanical polishing method uses a jet scrub and Rz = 2 to 2
Roughening treatment was performed to 6 μm. In the chemical etching treatment, a roughening treatment was performed so that Rz = 2 to 6 μm.
An untreated product was prepared as a comparative example.

【0050】500穴の層間接続穴の抵抗値を、初期状
態と、はんだリフロー2回後(200℃以上1分、24
0℃以上10秒)の状態と、はんだリフロー2回行った
後に、PCT(プレッシャークッカーテスト)を8時間
(121℃ 飽和)実施した後、の状態とをそれぞれ測
定し、初期状態との抵抗値の変化率を評価した結果を表
3に示す。
The resistance value of the 500 interlayer connection holes was set to the initial state and after two solder reflows (200 ° C. or more for 1 minute, 24 minutes).
0 ° C. or more for 10 seconds) and the state after performing the solder reflow twice and then performing the PCT (pressure cooker test) for 8 hours (121 ° C. saturation), and the resistance value from the initial state was measured. Table 3 shows the results of evaluating the rate of change of.

【0051】[0051]

【表3】 [Table 3]

【0052】表3により、別の基板を積層する前に銅箔
の表面の粗化を行って、粗化度合いを、十点平均粗さR
zが3μm<Rzの範囲にすれば、多層基板とした時の
電気的信頼性を高められることが確認された。
According to Table 3, the surface of the copper foil is roughened before another substrate is laminated, and the degree of roughening is determined by the ten-point average roughness R.
It has been confirmed that when z is in the range of 3 μm <Rz, the electrical reliability of a multilayer substrate can be improved.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
請求項1の本発明は、エッチングレジストの密着性と剥
離性、ソルダーレジストとの密着性、各層間の密着性と
電気的接続性を両立さすことによって、信頼性の高いプ
リント配線板を製造できるプリント配線板の製造方法を
提供することができる。また、請求項4の本発明は、エ
ッチングレジストの密着性と剥離性、各層間の密着性を
両立さすことによって、信頼性の高い多層のプリント配
線板を製造できるプリント配線板の製造方法を提供する
ことができる。
As is apparent from the above description,
According to the first aspect of the present invention, a highly reliable printed wiring board can be manufactured by satisfying both the adhesiveness and peelability of an etching resist, the adhesiveness with a solder resist, and the adhesiveness and electrical connectivity between layers. A method for manufacturing a printed wiring board can be provided. The present invention according to claim 4 provides a method for manufacturing a printed wiring board capable of manufacturing a multilayer printed wiring board with high reliability by achieving both the adhesion and the peeling of the etching resist and the adhesion between the layers. can do.

【0054】すなわち、本発明によれば、導電性ペース
トを用いて電気的接続を行うプリント配線板のように、
表面に穴のない構成となるプリント配線板の導体パター
ンをパターニングした後に粗化することで、エッチング
レジストの密着性と剥離性、ソルダーレジストとの密着
性、多層基板とした時の電気的信頼性を両立できるプリ
ント配線板の製造方法であり、回路パターンのファイン
化に対応できる製造方法を実現できる。
That is, according to the present invention, like a printed wiring board for making an electrical connection using a conductive paste,
By patterning the conductor pattern of a printed wiring board with no holes on the surface and then roughening it, the adhesion and peelability of the etching resist, the adhesion with the solder resist, and the electrical reliability of a multilayer substrate This is a method of manufacturing a printed wiring board that can satisfy both requirements, and can realize a manufacturing method that can respond to finer circuit patterns.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態におけるプリント配
線板の製造方法を示す製造工程毎の断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention, for each manufacturing process.

【図2】本発明の第2の実施の形態におけるプリント配
線板の製造方法を示す製造工程毎の断面図。
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a printed wiring board according to a second embodiment of the present invention, for each manufacturing process.

【図3】本発明の実施例2によって形成された6層板を
示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a six-layer plate formed according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 銅箔 102 基板 103 導電性ペースト 104 エッチングレジスト 105 パターニングされたエッチングレジスト 106 パターニングされた銅箔 107 粗化処理された銅箔 108 ソルダーレジスト DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Copper foil 102 Substrate 103 Conductive paste 104 Etching resist 105 Patterned etching resist 106 Patterned copper foil 107 Roughened copper foil 108 Solder resist

フロントページの続き (72)発明者 坂本 和徳 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−262375(JP,A) 特開 平9−130051(JP,A) 特開 昭62−3942(JP,A) 特開 平3−3297(JP,A) 特開 平6−302956(JP,A) 特開 昭52−68971(JP,A) 特開 平3−288493(JP,A) 特開 平7−231152(JP,A) 特開 昭61−140194(JP,A) 特開 平7−323502(JP,A) 特開 平9−272994(JP,A) 特開 平8−220011(JP,A) 特開 平6−94437(JP,A) 特開 平8−139452(JP,A) 特開 平9−83108(JP,A) 特開 平9−312461(JP,A) 特開 平9−36551(JP,A) 特開 平7−263828(JP,A) 特開 昭61−173104(JP,A) 特開 平3−282302(JP,A) 特開 平5−37101(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/00 H05K 3/38 H05K 3/46 Continued on the front page (72) Inventor Kazunori Sakamoto 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-6-262375 (JP, A) JP-A-9-130051 (JP) JP-A-62-3942 (JP, A) JP-A-3-3297 (JP, A) JP-A-6-302956 (JP, A) JP-A-52-68971 (JP, A) 3-288493 (JP, A) JP-A-7-231152 (JP, A) JP-A-61-140194 (JP, A) JP-A-7-323502 (JP, A) JP-A-9-272994 (JP, A) A) JP-A-8-220011 (JP, A) JP-A-6-94437 (JP, A) JP-A-8-139452 (JP, A) JP-A-9-83108 (JP, A) JP-A-9 JP-A-312461 (JP, A) JP-A-9-36551 (JP, A) JP-A-7-263828 (JP, A) JP-A-61-173104 (JP, A) JP-A-3-282302 (JP, A) JP-A-5-37101 (JP, A) (58) Fields studied (Int. Cl. 7 , DB Name) H05K 3/00 H05K 3/38 H05K 3/46

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 導電性ペーストが充填された貫通孔を有
する基板の片面または両面に、光沢面が表面となるよう
に片面光沢銅箔からなる導電膜を形成する導電膜形成工
程と、 前記導電膜上にエッチングレジストを形成した後にパタ
ーニングして導電膜パターンを形成する導電膜パターニ
ング工程と、 前記導電膜パターニング工程の後、前記エッチングレジ
ストを剥離し、その後画像認識によりパターニング検査
を行ない、その後に前記導電膜パターンの表面を粗化処
理する粗化処理工程とを含むことを特徴とするプリント
配線板の製造方法。
1. A conductive film forming step of forming a conductive film made of a single-sided glossy copper foil on one or both sides of a substrate having a through hole filled with a conductive paste so that a glossy surface becomes a surface, A conductive film patterning step of forming a conductive film pattern by patterning after forming an etching resist on the film; and after the conductive film patterning step, the etching resist is peeled off, and then a patterning inspection is performed by image recognition. A roughening step of roughening the surface of the conductive film pattern.
【請求項2】 導電性ペーストが充填された貫通孔を有
する基板の片面または両面に、表面が粗化処理された導
電膜パターン有する第1の基板を用意し、 所望の貫通穴に導電性ペーストが充填された第2の基板
を、前記第2の基板の貫通穴に充填された導電性ペース
トの表面と前記第1の基板の導電膜パターン表面の少な
くとも一部とが相対するように前記第1の基板と前記第
2の基板とを貼り合わせ、前記第1の基板と貼り合わせ
た前記第2の基板の反対側の面に光沢面が表面となるよ
うに片面光沢銅箔別の導電膜を貼り合わせて、加熱加
圧する積層導電膜形成工程と、 前記別の導電膜をパターニングして別の導電膜パターン
を形成する積層導電膜パターニング工程と、 前記積層導電膜パターニング工程の後、画像認識により
パターニング検査を行ない、その後に前記別の導電膜パ
ターンの表面を粗化処理する積層導電膜粗化処理工程と
を有する積層工程を含むことを特徴とするプリント配線
板の製造方法。
2. A first substrate having a conductive film pattern whose surface is roughened is prepared on one or both sides of a substrate having a through hole filled with a conductive paste, and a conductive paste is provided in a desired through hole. Is filled with the second substrate so that the surface of the conductive paste filled in the through-hole of the second substrate and at least a part of the conductive film pattern surface of the first substrate face each other. The first substrate and the second substrate are bonded to each other, and another conductive surface of the single-sided glossy copper foil is formed so that the glossy surface becomes a surface on the opposite side of the second substrate bonded to the first substrate. A step of forming a laminated conductive film by bonding and heating and pressurizing the film; a step of patterning the another conductive film to form another conductive film pattern; and a step of patterning the laminated conductive film. Patterning by recognition Performs grayed inspection method for producing a printed wiring board characterized in that it comprises a subsequent lamination step and a laminating conductive film roughening treatment step of roughening the surface of the another conductive pattern.
【請求項3】 さらに、前記別の基板に対して、前記積
層工程を、一回行うもしくは複数回繰り返して行うこと
を特徴とする請求項2に記載のプリント配線板の製造方
法。
3. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 2 , wherein the laminating step is performed once or a plurality of times on the another substrate.
【請求項4】 前記積層工程を一回行ったもしくは複数
回繰り返して行った後、露出している前記別の導電膜パ
ターンの表面にソルダーレジストを形成するソルダーレ
ジスト形成工程を含むことを特徴とする請求項2又は3
記載のプリント配線板の製造方法。
4. A solder resist forming step of forming a solder resist on the exposed surface of the another conductive film pattern after performing the laminating step once or repeatedly a plurality of times. Claim 2 or 3
Method for manufacturing a printed wiring board according to.
【請求項5】 前記粗化処理工程および/または前記積
導電膜粗化処理工程において、化学エッチング法を用
いることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の
プリント配線板の製造方法。
5. The roughening treatment step and / or the laminated conductive roughening treatment step, a method for manufacturing a printed wiring board according to any one of claims 1-4, characterized by using a chemical etching method .
【請求項6】 前記粗化処理工程および/または前記積
導電膜粗化処理工程において、機械研磨法を用いるこ
とを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のプリン
ト配線板の製造方法。
6. The roughening treatment step and / or the laminated conductive roughening treatment step, a method for manufacturing a printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, characterized in that using mechanical polishing method .
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JP4592891B2 (en) * 1999-11-26 2010-12-08 イビデン株式会社 Multilayer circuit board and semiconductor device
JP6045872B2 (en) * 2012-10-04 2016-12-14 株式会社カネカ Flexible printed wiring board
CN106686778B (en) * 2017-01-13 2023-01-06 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 Method for improving and controlling resistance of patterned conductive film and electric heating film thereof

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