JP3228339B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
の製造方法に関する。
ついて以下に説明する。図示しない導通パターンが形成
されている基板31上に半導体チップ32がフリップチ
ップ接続されて、共晶ハンダ33により導通パターンと
電気的に接続されている。半導体チップ32の近傍に
は、チップ状電気部品34が共晶ハンダ35により取り
付けられ、基板31上の図示しない導通パターンと電気
的に接続されている。そして、半導体チップ32の一方
の面(図面下方のデバイス形成面)と基板31との間に
絶縁性のアンダーフィル樹脂36が注入され、共晶ハン
ダ33の存在しない部分に充填された後で固化されて、
半導体チップ32と基板31とが強固に固定されてい
る。
バンプが設けられ、高温ハンダより低温で溶融する共晶
ハンダが、半導体チップのバンプに対応して基板に設け
られており、高温ハンダの溶融しない低温で共晶ハンダ
のみを溶融させ、バンプを包み込むようにして固化させ
ている。また、基板31の、半導体チップ32およびチ
ップ状電気部品34が接続されている面と反対側の面に
は、複数のハンダボール(共晶ハンダ)37が設けられ
てBGA(Ball Grid Array)パッケージ構造となって
いる。したがって、この半導体装置の完成後に他の基板
等に接続する場合、複数のハンダボール37を一旦溶融
させその後固化することにより接続および固着を行なう
が、このとき、基板31を介して伝わる熱により、基板
31と半導体チップ32とを接続している共晶ハンダ3
3がハンダボール37と同様に一旦溶融し、それにより
基板31と半導体チップ32との相対位置関係がずれる
などして接続が不安定になるおそれがある。このよう
に、基板31と半導体チップ32とを共晶ハンダ33の
みで固定すると信頼性が低いので、基板31と半導体チ
ップ32との間にアンダーフィル樹脂36を注入して固
化し、このアンダーフィル樹脂36により基板31と半
導体チップ32とを固定する構成としている。こうする
と、共晶ハンダからなるハンダボール37を溶融するた
めの加熱温度を、アンダーフィル樹脂36が劣化しない
程度に低く設定することにより、基板31と半導体チッ
プ32との接続の信頼性が高くなる。
いて上方に位置する面)には導電性の接着樹脂38が塗
布され、この接着樹脂により金属製(導電性で熱伝達効
率がよい)の蓋部材39が取り付けられている。この蓋
部材39は、半導体チップ32の発熱に伴う熱を逃す放
熱効果を有するとともに、半導体チップ32からグラン
ド電位に接地する作用がある。さらに、半導体チップ3
2やチップ状電気部品34が取り付けられている空間の
周囲を取り囲むように導電性の補強板40が設けられて
いる。この補強板40も導電性接着樹脂41で接着され
ているため、半導体チップ32やチップ状電気部品34
が取り付けられている空間42が、蓋部材39および補
強板40により電磁的にシールドされる。
て、半導体チップ32の他方の面に塗布される蓋部材接
着用の導電性接着樹脂38の塗布量が多すぎると、図1
7に示すようにチップ状電気部品34にまで接着樹脂3
8が接触するおそれがある。その場合、半導体チップ3
2とチップ状電気部品34との間、また複数のチップ状
電気部品34同士の間で、導電性接着樹脂38を介して
電気的に短絡してしまい、半導体装置としての機能を果
たせない。もちろん、接着樹脂38の塗布量が少なすぎ
ると、蓋部材39の固定が不十分で不安定になってしま
う。従って、接着樹脂38の塗布には極めて精緻な作業
が必要とされている。
35のみにより基板31に固定されているので、固定強
度が低く脱落してしまうおそれがある。特に、基板31
の、半導体チップ32およびチップ状電気部品34が接
続されている面と反対側の面に設けられたハンダボール
37を用いて他部品に固着される工程において、ハンダ
リフロー時の加熱によりチップ状電気部品34を基板3
1に固定している共晶ハンダ35も溶融し、チップ状電
気部品34が脱落しやすくなる。チップ状電気部品34
を固定するハンダ35と、同じく共晶ハンダからなるハ
ンダボール37とは、ほぼ同時に溶融するので、ハンダ
ボール37の溶融時にチップ状電気部品34を固定しき
れなくなる可能性が高い。
ップ状電気部品の電気的短絡を防ぎ、チップ状電気部品
を脱落しにくくする半導体装置およびその製造方法を提
供することにある。
一方の面が基板上にフリップチップ接続されている半導
体チップと、前記基板上であって前記半導体チップの近
傍に取り付けられているチップ状電気部品と、前記チッ
プ状電気部品の全体を覆うとともに前記半導体チップの
前記一方の面と前記基板との間を埋めている絶縁性のア
ンダーフィル樹脂と、前記半導体チップの他方の面に、
導電性接着樹脂を介して固着されている蓋部材とを有す
る。
プ状電気部品と前記基板とは、ハンダを介して電気的接
続がとられた上で、前記ハンダによる接続部以外の部分
に充填された前記アンダーフィル樹脂により互いに固着
されていてもよい。
を有することが好ましい。
強板を有することが好ましい。
体チップおよび前記チップ状電気部品が設けられている
空間の周囲を取り囲むように設けられていることが好ま
しい。
電性を有するとともに導電性接着樹脂にて接着されてお
り、前記半導体チップを電磁的にシールドすることがよ
り好ましい。
チップ状電気部品が接続されている面と反対側の面に、
複数のハンダボールが設けられて、BGA(Ball Grid
Array)パッケージ構造となっていてもよい。
板と前記半導体チップと前記チップ状電気部品とアンダ
ーフィル樹脂とをモールドするモールド樹脂と、前記基
板に接続され前記モールド樹脂の外部へ突出するリード
フレームを有する構成であってもよい。
チップが搭載された基板と、前記基板に取り付けられて
いる、前記半導体チップを取り囲む枠状の導電性の補強
板と、前記補強板上に取り付けられ前記半導体チップか
ら発生する熱を外に排出する放熱板である導電性の蓋部
材とを有し、前記補強板には板厚方向に貫通する孔部が
設けられており、該孔部に充填されている導電性接着樹
脂により、前記基板と前記補強板と前記蓋部材とが導通
しているところにある。
構成に加えて、半導体チップが搭載された基板と、前記
基板上であって前記半導体チップの近傍に取り付けられ
ているチップ状電気部品と、前記基板に取り付けられて
いる補強板と、前記補強板上に取り付けられ前記半導体
チップから発生する熱を外に排出する放熱板である蓋部
材とを有し、前記補強板が、前記半導体チップおよび前
記チップ状部品が設けられた領域の外形に沿って前記半
導体チップおよび前記チップ状部品を取り囲む枠状に形
成されているところにある。
プチップ接続により半導体チップの一方の面を基板上に
取り付ける工程と、前記基板上であって前記半導体チッ
プの近傍にチップ状電気部品を取り付ける工程と、前記
チップ状電気部品の全体を覆うとともに前記半導体チッ
プの前記一方の面と前記基板との間を埋めるように絶縁
性のアンダーフィル樹脂を注入し固化する工程と、前記
半導体チップの他方の面に導電性接着樹脂を塗布する工
程と、前記導電性接着樹脂を介して前記半導体チップの
前記他方の面に蓋部材を固着する工程とを含む。
にて、前記半導体チップの前記一方の面と前記基板とを
ハンダにより電気的に接続し、前記チップ状電気部品の
取り付け工程にて、前記チップ状電気部品と前記基板と
をハンダにより電気的に接続してもよい。
り、該補強板の上面に接着樹脂を塗布する工程を含み、
前記蓋部材の固着工程にて、前記接着樹脂を介して蓋部
材と前記補強板とを固着させてもよい。
チップ状電気部品が接続されている面と反対側の面に、
複数のハンダボールを設ける工程を含んでもよい。
る工程と、前記蓋部材の一部と前記リードフレームの一
部とを除いて、前記基板と前記半導体チップと前記チッ
プ状電気部品とアンダーフィル樹脂とをモールド樹脂に
よりモールドする工程とを含んでもよい。
部品が全体的に絶縁性のアンダーフィル樹脂に覆われて
いるので、チップ状電気部品同士またはチップ状電気部
品と半導体チップとの間で導電性接着樹脂を介して電気
的短絡を生じることが防げる。しかも、チップ状電気部
品がアンダーフィル樹脂により基板に強固に固定され、
リフロー時等に脱落するおそれがない。
は、半導体チップを基板上に取り付ける工程と、前記半
導体チップを取り囲む枠状の導電性の補強板に設けられ
ている、板厚方向に貫通する孔部内に、導電性接着樹脂
を充填させる工程と、絶縁性接着樹脂により、前記補強
板と前記基板とを接合し、絶縁性接着樹脂により、前記
補強板と、前記半導体チップから発生する熱を外に排出
する放熱板である導電性の蓋部材とを接合する工程とを
含み、前記孔部内に充填された導電性接着樹脂により、
前記蓋部材と前記補強板と前記基板とを導通させるとこ
ろにある。
用いる構成であると、半導体チップおよびチップ状電気
部品を電磁的にシールドして、電磁波により外部への影
響を抑えることができる。
図面を参照して説明する。
導体装置が示されている。まず、その構成について説明
する。基板1に図示しない導通パターンが形成してあ
り、この基板上にLSI等の半導体チップ2の一方の面
(図1において下方に位置する面)がフリップチップ実
装されている。具体的には、図2に拡大して示すよう
に、半導体チップ2に接続端子となる金属パッド3が設
けられ、さらにその上に高温ハンダ(約340度で溶
融)からなるハンダバンプ4が形成されている。一方、
このハンダバンプ4と対向する位置に、金属パッド5が
設けられ、その上に共晶ハンダ6(約220度で溶融)
が形成されている。この共晶ハンダ6がハンダバンプ4
を包み込むようにして固定している。また、この基板1
には、半導体チップ2の近傍に位置するように、チップ
抵抗やチップコンデンサー等のチップ状電気部品7が、
共晶ハンダ6で固定されている。
はエポキシ樹脂等の絶縁性のアンダーフィル樹脂8が注
入され、ハンダによる接続部以外の部分に充填されて固
化されている。このアンダーフィル樹脂8は、基板1と
半導体チップ2との間のみならず、チップ状電気部品7
全体を覆って基板1に固定するように設けられている。
すなわち、半導体チップ2の他方の面(図1において上
方に位置する面)を除く部分と、チップ状電気部品7の
全体が、アンダーフィル樹脂8に覆われている。
電気部品7が実装されている空間9を取り囲むように、
金属(銅など)からなる補強板10が導電性接着樹脂1
1により取り付けられている。
上方に位置する面)には、銀ペーストなどの導電性接着
樹脂12を介して銅板等からなる導電性の蓋部材13が
固着されている。そして、補強板10の上面も同様な導
電性接着樹脂14により蓋部材と接着されている。
電気部品7が形成されている面の反対側の面(図1にお
いて下方に位置する面)には、共晶ハンダからなるハン
ダボール15が多数設けられている。図示しないが、こ
のハンダボール15は、基板1の導通パターンからスル
ーホールや接続パターンを介して接続されており、他部
品との接続端子となるものである。
2は一辺13mmの正方形であり、基板1と半導体チッ
プ2との間隔は約150μm、ハンダバンプ4のピッチ
は240μmであり、1個の半導体チップ2に設けられ
たハンダバンプ4の数は3000個である。
プ状電気部品7が全体的に絶縁性のアンダーフィル樹脂
8に覆われているので、当然その電極が導電性接着樹脂
12と接触することはない。従って、チップ状電気部品
7同士、またチップ状電気部品7と半導体チップ2との
間で、導電性接着樹脂12を介して電気的短絡を生じる
ことはなく、半導体装置の動作に支障をきたすことはな
い。しかも、チップ状電気部品7および半導体チップ2
は、共晶ハンダ6により基板1と接続されるのみなら
ず、アンダーフィル樹脂8により基板に固定される構成
であるので、リフロー時等にチップ状電気部品7が脱落
したり位置が狂ったりすることなく、固定の信頼性が高
い。
上方に位置する面)では、酸化膜が剥離されシリコンが
露出されたり、金属膜(バックメタル)が形成されるな
どして、少なくとも一部が導電性となっている。そし
て、この面が導電性接着樹脂12を介して導電性の蓋部
材13と接続されており、この蓋部材13がグランド電
位の接地端子として機能している。
強板10および蓋部材13により半導体チップ2および
チップ状電気部品7の存在する空間9が囲まれて電磁的
にシールドされた状態となるので、半導体チップ2の動
作時に発生する電磁波が、外部部品等に影響を及ぼすこ
とがない。
簡単に説明する。
矩形状の補強板10が導電性接着樹脂11により取り付
けられた基板1を用意する。そして、図5に示すよう
に、この補強板に囲まれた空間9内に半導体チップ2を
フリップチップ実装するとともに、この空間9内にチッ
プ状電気部品7を取り付ける。
体チップ2との間に充填するように、かつチップ状電気
部品7の全体を覆うように、アンダーフィル樹脂8を注
入し固化する。
プ2上に導電性接着樹脂12を、補強板10上に導電性
接着樹脂14をそれぞれ塗布し、この導電性接着樹脂1
2,14により蓋部材13を固着する。
チップ状電気部品7が形成されている面の反対側の面
に、共晶ハンダからなる多数のハンダボール15を設け
て、図1に示すBGA(Ball Grid Array)パッケージ
構造の半導体装置を完成させる。なお、この半導体装置
を外部基板等に取り付ける場合は、ハンダボール15を
用いて電気的接続と機械的固定とを同時に行なう。
置について図8を参照して説明する。なお、第1の実施
形態と同じ構成の部分については同一の符号を付与し、
説明を省略する。
(MCM)型の半導体装置であり、空間9内に複数の半
導体チップ2が実装されており、それぞれに対応して、
チップ状電気部品7が取り付けられている。それ以外の
構成は、第1の実施形態と同様である。
置について図9を参照して説明する。なお、第1の実施
形態と同じ構成の部分については同一の符号を付与し、
説明を省略する。
GAパッケージ構造ではなく、モールドタイプの半導体
装置である。基板1上に半導体チップ2がフリップチッ
プ実装され、その近傍にチップ状電気部品7が取り付け
られ、アンダーフィル樹脂8により覆われている。半導
体チップ2には、導電性接着樹脂12を介して蓋部材1
3が固着されている。基板1の、半導体チップ2および
チップ状電気部品7が形成されている面の反対側の面
に、金属製リードフレーム16が取り付けられ、ワイヤ
ーボンディングにより基板1の図示しない導通パターン
と接続されている。それから、基板1、半導体チップ
2、チップ状電気部品7、アンダーフィル樹脂8を全体
的に覆うように、モールド樹脂17によりモールドされ
ている。この時、蓋部材13の上面とリードフレーム1
6の一部のみは外部に露出している。本実施形態では、
第1の実施形態のような補強板10およびハンダボール
15は設けられていない。
り付ける場合は、リードフレーム16の、モールド樹脂
17の外部に突出している部分を外部基板等に接続する
ことにより、電気的接続と機械的固定とを行なう。
置について図10を参照して説明する。なお、第1の実
施形態と同じ構成の部分については同一の符号を付与
し、説明を省略する。
GAパッケージ構造ではなく、LGA(Land Grid Arra
y)パッケージ構造の半導体装置である。本実施形態で
は、第1の実施形態におけるハンダボール15が設けら
れていない。本実施形態の半導体装置を外部基板18に
取り付ける場合は、外部基板18にソケット19を設け
ておき、基板1に設けられているパッド状の端子20と
ソケット19内に設けられている端子21とを接触させ
た状態で、加圧部材21により両端子20,21を圧接
させ、基板1と外部基板18とを互いに固定させてい
る。
置について図11を参照して説明する。なお、第1の実
施形態と同じ構成の部分については同一の符号を付与
し、説明を省略する。
接着樹脂12を介して、蓋部材としてフィン付蓋部材2
2を固着させている。これにより放熱効果を高めてい
る。なお、第2〜4の実施形態と同様な構成において
も、蓋部材としてフィン付蓋部材22を用いることによ
り放熱効果を高めることができる。
置について図12〜14を参照して説明する。
ンが形成された基板1上に半導体チップ2が実装され、
その周囲にチップ状電気部品7が実装されている。この
基板1上に、半導体チップ2およびチップ状電気部品7
を取り囲む枠状の補強板44が絶縁性接着樹脂47によ
り接合されている。補強板44には、板厚方向に貫通す
る孔部45が設けられている。この孔部45内に、導電
性接着樹脂46が充填されている。導電性接着樹脂46
は、孔部45から溢れる程度に注入され、上部にはみ出
した状態にある。それから、図14に示すように、半導
体チップ2から発生する熱を外に排出する放熱板である
蓋部材13が、補強板44の上に絶縁性接着樹脂47に
より接合されている。
料からなる。孔部45は、基板1に設けられた配線パタ
ーンのうちのグランド電位のコンタクト電極48に対向
する位置に設けられている。従って、基板1のコンタク
ト電極48、導電性接着樹脂46、蓋部材13の間で電
気的導通がとられ、半導体チップ2およびチップ状電気
部品7は電磁的にシールドされる。
枠状の補強板44の形状に合わせて形成しておくことが
望ましい。そして、絶縁性接着樹脂47は、基板に形成
された配線パターンのグランド電位のコンタクト電極4
8を覆わないように、かつ孔部45を塞がないように形
成されている。導電性接着樹脂46は、図13に示すよ
うに、補強板44上端面に、孔部45を通る直線状に塗
布されることが好ましいが、必ずしもこの塗布方法に限
定されるものではない。
よびチップ状電気部品7の基板1への実装方法や、アン
ダーフィル樹脂8を用いた固定方法等については、第1
〜4の実施形態のいずれかと同様な方法で同様な構成と
してもよい。
強板と接着し、その後補強板と蓋部材とを接着してい
た。しかし、導電性接着樹脂の接着強度は10〜20k
gf/cm2程度なので、導電性接着樹脂のみでは接着
の信頼性が乏しい。そこで、ある程度高い接着強度を必
要とする場合には、100kgf/cm2以上の接着強
度を有する絶縁性接着樹脂で数ヶ所を固定し、その後導
電性接着樹脂で導通をとる構成とする。この場合、基板
と補強板との間の導通をとる工程と、補強板と蓋部材と
の間の導通をとる工程との2つの工程を必要とし、さら
に導電性接着樹脂の流れ出しにより実装された素子(半
導体チップやチップ状電気部品)間および電極間でショ
ートする可能性がある。
孔部に導電性接着樹脂を充填することにより、基板−補
強板−蓋部材の三者の導通をとることができるため、工
程数が削減でき、かつ導電性接着樹脂の流れ出しによる
素子間および電極間でのショートを容易に防ぐことが出
来る。
置について図15を参照して説明する。なお、前記の各
実施形態との相違点のみについて説明し、それ以外の部
分の構成についての説明は省略する。
びチップ状電気部品7が実装された基板1上に、補強板
50が接合されている。この補強板50は、半導体チッ
プ2およびチップ状電気部品7を取り囲む枠状をなして
おり、半導体チップ2およびチップ状電気部品7が配設
された領域の全体の外形に沿うような、細かい凹凸を有
する形状をしている。
よびチップ状電気部品7の基板1への実装方法や、アン
ダーフィル樹脂8を用いた固定方法等については、第1
〜4の実施形態のいずれかと同じ方法で同じ構成として
もよい。また、半導体チップ2およびチップ状電気部品
7を電磁的にシールドするために、第5の実施形態と同
様な孔部45および導電性接着樹脂46を有する構成と
してもよい。
が、半導体チップ2およびチップ状電気部品7が搭載さ
れている領域にそった形状となるように形成することに
より、半導体パッケージの反りを矯正できる。特に、半
導体チップ2またはチップ状電気部品7と補強板50と
の間の隙間が5mm以上開くことがないように設計する
ことが好ましい。
部品)実装時と常温時では、その熱膨張係数の違いから
半導体パッケージ自体が反ってしまう。特に厚さ0.6
mm以下の薄い多層配線基板は、外部からの曲げの力に
弱く、厚さ0.6mmより厚い(例えば1.2mm)の
基板に比べより大きく曲がるので、補強板でその形状を
維持する必要がある。しかしながら、実装されている半
導体チップおよびチップ状電気部品と補強板の間の平面
的な間隔が5mm以上になると、その効果が薄れてしま
い、補強板をもたない場合と同程度の反りを生じてしま
う。そこで間隔が5mm以上あくような場合、補強板の
内側を半導体チップおよびチップ状電気部品が搭載され
ている領域の外形に沿った形状に形成し、この補強板を
貼り付けることにより、半導体パッケージの反りを抑え
ることができる。また、半導体パッケージに占める補強
板の面積が増えるため半導体パッケージ自体の強度が向
上する。
体的に絶縁性のアンダーフィル樹脂に覆われているの
で、チップ状電気部品同士またはチップ状電気部品と半
導体チップとの間で、導電性接着樹脂を介して電気的短
絡を生じることはなく、半導体装置の動作に支障をきた
すことはない。しかも、チップ状電気部品および半導体
チップは、アンダーフィル樹脂により基板に強固に固定
され、リフロー時等にチップ状電気部品が脱落するおそ
れがない。
ともに、導電性の蓋部材および補強板を用いる場合、半
導体チップおよびチップ状電気部品が電磁的にシールド
された状態となるので、半導体チップの動作時に発生す
る電磁波が、外部部品等に影響を及ぼすことがない。
充填する構成とすると、基板と補強板と蓋部材とを容易
に導通させることができる。
状電気部品が搭載されている領域の外形に沿った形状に
形成すると、半導体装置の強度が向上する。
である。
着樹脂およびアンダーフィル樹脂を一部切り欠いた平面
図である。
板の断面図である。
プおよびチップ状部品の取付工程を示す断面図である。
ィル樹脂注入工程を示す断面図である。
樹脂塗布工程を示す断面図である。
である。
である。
図である。
図である。
材接合前の要部分解斜視図である。
材接合前の要部断面図である。
材接合後の要部断面図である。
材接合前の平面図である。
面図である。
Claims (19)
- 【請求項1】 一方の面が基板上にフリップチップ接続
されている半導体チップと、 前記基板上であって前記半導体チップの近傍に取り付け
られているチップ状電気部品と、 前記チップ状電気部品の全体を覆うとともに前記半導体
チップの前記一方の面と前記基板との間を埋めている絶
縁性のアンダーフィル樹脂と、 前記半導体チップの他方の面に、導電性接着樹脂を介し
て固着されている蓋部材とを有する半導体装置。 - 【請求項2】 前記半導体チップおよび前記チップ状電
気部品と前記基板とは、ハンダを介して電気的接続がと
られた上で、前記ハンダによる接続部以外の部分に充填
された前記アンダーフィル樹脂により互いに固着されて
いる請求項1に記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記半導体チップの前記他方の面が導電
性を有する請求項1または2に記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記蓋部材と前記基板との間に介在する
補強板を有する請求項1または2に記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記補強板が、前記半導体チップおよび
前記チップ状電気部品が設けられている空間の周囲を取
り囲むように設けられている請求項4に記載の半導体装
置。 - 【請求項6】 前記蓋部材と前記補強板とが、導電性を
有するとともに導電性接着樹脂にて接着されており、前
記半導体チップを電磁的にシールドする請求項5に記載
の半導体装置。 - 【請求項7】 前記基板の、前記半導体チップおよび前
記チップ状電気部品が接続されている面と反対側の面
に、複数のハンダボールが設けられて、BGA(Ball G
rid Array)パッケージ構造となっている請求項1〜6
のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 【請求項8】 前記蓋部材の一部を除いて、前記基板と
前記半導体チップと前記チップ状電気部品とアンダーフ
ィル樹脂とをモールドするモールド樹脂と、前記基板に
接続され前記モールド樹脂の外部へ突出するリードフレ
ームを有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導
体装置。 - 【請求項9】 半導体チップが搭載された基板と、前記
基板に取り付けられている、前記半導体チップを取り囲
む枠状の導電性の補強板と、前記補強板上に取り付けら
れ前記半導体チップから発生する熱を外に排出する放熱
板である導電性の蓋部材とを有し、 前記補強板には板厚方向に貫通する孔部が設けられてお
り、該孔部に充填されている導電性接着樹脂により、前
記基板と前記補強板と前記蓋部材とが導通している半導
体装置。 - 【請求項10】 前記基板に取り付けられている、前記
半導体チップを取り囲む枠状の導電性の補強板と、前記
補強板上に取り付けられ前記半導体チップから発生する
熱を外に排出する放熱板である導電性の蓋部材とを有
し、 前記補強板には板厚方向に貫通する孔部が設けられてお
り、該孔部に充填されている導電性接着樹脂により、前
記基板と前記補強板と前記蓋部材とが導通している請求
項1〜8のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 【請求項11】 半導体チップが搭載された基板と、前
記基板上であって前記半導体チップの近傍に取り付けら
れているチップ状電気部品と、前記基板に取り付けられ
ている補強板と、前記補強板上に取り付けられ前記半導
体チップから発生する熱を外に排出する放熱板である蓋
部材とを有し、 前記補強板が、前記半導体チップおよび前記チップ状部
品が設けられた領域の外形に沿って前記半導体チップお
よび前記チップ状部品を取り囲む枠状に形成されている
請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 【請求項12】 フリップチップ接続により半導体チッ
プの一方の面を基板上に取り付ける工程と、 前記基板上であって前記半導体チップの近傍にチップ状
電気部品を取り付ける工程と、 前記チップ状電気部品の全体を覆うとともに前記半導体
チップの前記一方の面と前記基板との間を埋めるように
絶縁性のアンダーフィル樹脂を注入し固化する工程と、 前記半導体チップの他方の面に導電性接着樹脂を塗布す
る工程と、 前記導電性接着樹脂を介して前記半導体チップの前記他
方の面に蓋部材を固着する工程とを含む半導体装置の製
造方法。 - 【請求項13】 前記半導体チップの取り付け工程に
て、前記半導体チップの前記一方の面と前記基板とをハ
ンダにより電気的に接続し、前記チップ状電気部品の取
り付け工程にて、前記チップ状電気部品と前記基板とを
ハンダにより電気的に接続する請求項12に記載の半導
体装置の製造方法。 - 【請求項14】 前記基板上には補強板が取り付けられ
ており、該補強板の上面に接着樹脂を塗布する工程を含
み、 前記蓋部材の固着工程にて、前記接着樹脂を介して蓋部
材と前記補強板とを固着させる請求項12または13に
記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項15】 前記基板の、前記半導体チップおよび
前記チップ状電気部品が接続されている面と反対側の面
に、複数のハンダボールを設ける工程を含む請求項12
〜14のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項16】 前記基板にリードフレームを接続する
工程と、 前記蓋部材の一部と前記リードフレームの一部とを除い
て、前記基板と前記半導体チップと前記チップ状電気部
品とアンダーフィル樹脂とをモールド樹脂によりモール
ドする工程とを含む請求項12〜15のいずれか1項に
記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項17】 半導体チップを基板上に取り付ける工
程と、前記半導体チップを取り囲む枠状の導電性の補強
板に設けられている、板厚方向に貫通する孔部内に、導
電性接着樹脂を充填させる工程と、絶縁性接着樹脂によ
り、前記補強板と前記基板とを接合し、絶縁性接着樹脂
により、前記補強板と、前記半導体チップから発生する
熱を外に排出する放熱板である導電性の蓋部材とを接合
する工程とを含み、 前記孔部内に充填された導電性接着樹脂により、前記蓋
部材と前記補強板と前記基板とを導通させる半導体装置
の製造方法。 - 【請求項18】 前記半導体チップを取り囲む枠状の導
電性の補強板に設けられている、板厚方向に貫通する孔
部内に、導電性接着樹脂を充填させる工程を含み、 前記孔部内に充填された導電性接着樹脂により、導電性
の前記蓋部材と前記補強板と前記基板とを導通させる請
求項12〜16のいずれか1項に記載の半導体装置の製
造方法。 - 【請求項19】 前記基板と前記蓋部材との間に、前記
半導体チップおよび前記チップ状部品が設けられた領域
の外形に沿って前記半導体チップおよび前記チップ状部
品を取り囲む枠状に形成されている補強板を配設する請
求項12〜18のいずれか1項に記載の半導体装置の製
造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8008133B2 (en) | 2008-02-11 | 2011-08-30 | Globalfoundries Inc. | Chip package with channel stiffener frame |
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-
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8008133B2 (en) | 2008-02-11 | 2011-08-30 | Globalfoundries Inc. | Chip package with channel stiffener frame |
US8405187B2 (en) | 2008-02-11 | 2013-03-26 | Globalfoundries Inc. | Chip package with channel stiffener frame |
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US7923850B2 (en) | 2008-08-26 | 2011-04-12 | Advanced Micro Devices, Inc. | Semiconductor chip with solder joint protection ring |
US8216887B2 (en) | 2009-05-04 | 2012-07-10 | Advanced Micro Devices, Inc. | Semiconductor chip package with stiffener frame and configured lid |
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