JP3228053B2 - 純水製造装置 - Google Patents
純水製造装置Info
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Description
に、被処理水タンク、逆浸透膜装置及びイオン交換装置
を有する純水製造部と、純水タンク及び膜分離装置を有
するサブシステム部とを備える純水製造装置において、
装置全体を効率的に殺菌するようにした純水製造装置に
関する。
水等の純水製造装置の構成を図2に示す。
RO膜装置(逆浸透膜分離装置)、3はイオン交換装置
(通常は、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂との混
床式純水装置(以下「DI装置」と称する場合があ
る。)、4は純水タンク、5は熱交換器、6はUV(紫
外線)殺菌灯、7はUF膜装置(限外濾過膜分離装置)
であり、被処理水タンク1、RO膜装置2及びイオン交
換装置3で純水製造部Iが、また、純水タンク4、熱交
換器5、UV殺菌灯6及びUF膜装置7でサブシステム
部IIが構成されている。P1 ,P2 はポンプ、11〜1
9(19A,19B,19C),20,21(21A,
21B)の各符号は配管を示す。
用水或いはこれらを脱塩処理して得られる脱塩水を、配
管11、被処理水タンク1、ポンプP1 を備える配管1
2を経てRO膜装置2に導入して膜分離処理し、透過水
を配管14よりイオン交換装置3で処理した後、処理水
(純水)を配管15を経て純水タンク4に貯留する。R
O膜装置2の濃縮水は配管13より抜き出し、一部を配
管13Aより系外へ排出し、残部を配管13Bより被処
理水タンク1に戻す。
える配管16、熱交換器5、配管17を経てUV殺菌灯
6で殺菌処理した後、配管18よりUF膜装置7に導入
して膜分離する。UF膜装置7の透過水(超純水ないし
精製水)を配管19より抜き出し、配管19A,19
B,19Cより各々コースポイントU1 ,U2 ,U3 に
送給する。UF膜装置7の濃縮水は配管21より抜き出
され、一部は配管21Aより系外へ排出され、残部は配
管21Bより純水タンク4に戻される。
により系内に菌が繁殖して、得られる精製水の生菌数が
増加するため、必要に応じて、系内の殺菌が行われる。
置のサブシステム部IIについてのみ行われている。具体
的には、純水タンク6内の純水を配管16より熱交換器
8に送給し、熱交換器8で80℃以上の熱水とし、この
熱水を配管17、UV殺菌灯6、配管18を経てUF膜
装置7に送り、UF膜装置7で透過処理する。透過熱水
は更に配管19,20を経て純水タンク4に戻す。濃縮
熱水は一部を配管21Aより系外へ排出し、残部を配管
21Bより純水タンク4に戻す。このように、従来にお
いて、純水の殺菌はサブシステム部熱水通水方式で行わ
れている。
製水供給配管19A〜19Cでは蒸気滅菌が行われてい
る。
は、ユースポイント側のサブシステム部IIの系内のみを
殺菌すれば、生菌を含まない精製水を得ることができる
ようになることから、殺菌処理として十分であるとさ
れ、サブシステム部IIより前段のRO膜装置2やイオン
交換装置3等の純水製造部Iの殺菌については全く考慮
されていなかった。
は、ユースポイント配管19A〜19Cを含むサブシス
テム部IIの殺菌は行われるが、被処理水タンク1からイ
オン交換装置3に到る純水製造部Iの殺菌は行われな
い。このため、殺菌処理後においても、純水製造部Iで
得られる純水(イオン交換処理水)中には1×103 〜
1×104 個/mlの生菌が存在することから、サブシ
ステム部IIを殺菌しても、短時間でサブシステム部II内
が純水製造部Iからの生菌で汚染されることとなる。従
って、従来においては、殺菌を頻繁に行う必要があると
いう問題があった。
製造装置の効率的な殺菌を行って、殺菌頻度を低減する
ことができる純水製造装置を提供することを目的とす
る。
は、被処理水タンク、逆浸透膜装置及びイオン交換装置
を有する純水製造部と、純水製造部で製造された純水が
導入される純水タンク及び該純水タンクから純水が供給
される膜分離装置を有するサブシステム部とを備える純
水製造装置において、前記膜分離装置と被処理水タンク
とを連結する循環ラインを設けると共に、純水製造部、
サブシステム部及び循環ラインで形成される循環ループ
を流れる水の加熱手段を設けたことを特徴とする。
水製造装置において、前記逆浸透膜装置の加熱水の供給
圧力が、被処理水の供給圧力より低い圧力であることを
特徴とする。
頻度を低減するべく検討を重ねた結果、サブシステム部
より前段の純水製造部にも生菌による汚染原因があり、
純水製造部についても熱水殺菌を行う必要があることを
知見し、本発明を完成させた。
部、サブシステム部及び循環ラインで形成される循環ル
ープに加熱水を流通させて、純水製造装置の系内全体を
熱水殺菌することができる。
数も低減され、サブシステム部の生菌負荷が軽減される
ため、少ない殺菌頻度にて、長期間安定に高純度な精製
水を得ることが可能となる。
われることから、従来の純水製造装置においてサブシス
テム部に設置されていたUV殺菌灯を不要とすることが
できる。
けるスライム発生を抑制することもできるため、スライ
ムコントロール剤も不要となる。
即ち、殺菌処理時においては、加熱水を通水するため、
RO膜装置の通水圧力は通常運転時、即ち、被処理水の
通水処理時の圧力(例えば15〜20kgf/cm2 )
より低い圧力(10kgf/cm2 以下、好ましくは2
〜6kgf/cm2 )で、十分な透過水量を確保して通
水することができ、後工程へ円滑に透過熱水を供給でき
る。このRO膜装置の通水圧力が通常運転時の圧力(例
えば、15kgf/cm2 )では、次第にRO膜が圧密
化して、熱水が透過し難くなる。
て詳細に説明する。
示す系統図である。本実施例の純水製造装置は、配管2
0に、更に、被処理水タンク1に連結する配管22が設
けられ、UV殺菌灯6が設けられていない点が図2に示
す従来の純水製造装置と異なり、図1において、図2に
示す部材と同一機能を奏す部材には同一符号を付してあ
る。
水を処理して精製水を製造する通常運転を行う場合に
は、図2に示す従来の純水製造装置と同様に運転を行う
ことができる。ただし、本実施例の純水製造装置ではU
V殺菌灯を設けていないため、熱交換器5の流出水は、
直接、UF膜装置7に導入される。
の生菌数の増加が認められた場合には、次のような操作
で熱水による殺菌を行う。
に送って90℃以上の高温に加熱した後、配管17より
UF膜装置7に導入する。そして、透過熱水を配管1
9,20,22を経て被処理水タンク1に戻し、更に、
配管12、RO膜装置2、配管14、イオン交換装置
(DI装置)3、配管15及び純水タンク4に順次通水
して循環熱水殺菌を行う。なお、UF膜装置7の濃縮熱
水の一部は配管21Bより純水タンク4に戻し、残部は
配管21Aより系外へ排出する。また、RO膜装置2の
濃縮熱水の一部は、配管13Bより被処理水タンク1に
戻し、残部は配管13Aより系外へ排出する。
内の水温を高め、所定の殺菌温度になった時点で所定時
間、その殺菌温度に保持して系内全体を殺菌する。
し、系内の水温を下げ、通常運転温度に降温した時点
で、通常運転を再開する。
は純水タンク4内又はイオン交換装置3の出口部におけ
る水温が60℃以上、特に70〜90℃まで昇温するの
が好ましく、このような熱水による殺菌時間(上記殺菌
温度における保持時間)は30分以上とするのが好まし
い。この水温が60℃未満では熱水殺菌が不十分で生菌
が残存する。
ン交換装置3の流出配管15等に測温器を設け、水温を
測定して設定温度への昇温を監視するのが好ましい。
間は15分以上、特に30分以上とするのが好ましい。
ついては、熱水の通水圧力を、通常運転時の通水圧力
(一般には15〜20kgf/cm2 )より低い通水圧
力、例えば10kgf/cm2 以下、好ましくは2〜6
kgf/cm2 、より好ましくは2〜5kgf/cm2
とするのが望ましい。即ち、熱水殺菌時においては、加
熱された水を通水するため、常温の水を通水する場合に
比べて、低い通水圧力で透過水量を保持することがで
き、透過熱水を後段のイオン交換装置に安定に送給する
ことができる。この熱水の通水圧力が通常運転時の通水
圧力と同程度であると、次第に膜が圧密化して熱水の透
過が困難となる。
オン交換装置3の出口温度70℃以上で30分以上の殺
菌を行うことにより、イオン交換装置3の出口水の生菌
数を1個/100ml以下にまで低減することができ、
その後の通常運転再開後における生菌の増殖を効果的に
防止することができる。
なく、純水製造装置の系内の生菌の増殖速度は、被処理
水の水質や運転条件等により異なるため、被処理水の水
質、運転条件等に応じて適宜決定される。
造装置の一実施例であって、本発明はその要旨を超えな
い限り、何ら図示の装置に限定されるものではない。
ても良く、更に、紫外線照射酸化装置を設けても良い。
また、熱交換器の位置についても任意であり、他の箇所
に設けても良い。
装置のサブシステム部に設置されているUV殺菌灯は不
要である。
は、熱水殺菌を行うことから、系内のタンクや配管類
は、耐熱材料、例えば、ステンレススチール、チタン等
の金属、又は、耐熱塩化ビニル、ポリスルホン、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリフッ化ビニリデン等の耐熱
プラスチックで形成した耐熱仕様とする必要がある。
処理水は、市水、地下水、工水、或いは、これらを脱塩
処理して得られる脱塩水である。被処理水としての脱塩
水は、市水、地下水、工水等を、凝集、沈殿、加圧浮
上、濾過、膜濾過、吸着などの適宜の手段を単独又は組
み合せてなる前処理手段で前処理し、或いは全く前処理
することなく(市水の場合)、イオン交換による脱塩装
置(例えば2床3塔式、4床5塔式純水製造装置)で処
理することにより製造される。
り詳細に説明する。
処理を行った。
(日中運転、夜間停止)を行った後、RO膜装置,イオ
ン交換装置(DI装置)及びUF膜装置の各出口水の生
菌数を測定した。
て、下記殺菌条件で熱水殺菌を行い、殺菌後のRO膜装
置、DI装置及びUF膜装置の各出口水生菌数を測定し
た。
7日間連続運転(昼夜運転)を行い、RO膜装置,イオ
ン交換装置(DI装置)及びUF膜装置の各出口水の生
菌数を測定した。
す。
32℃,3日間)で測定した。
行うことにより、UF膜装置のみならず、RO膜装置及
びDI装置も殺菌され、UF膜装置の生菌負荷が著しく
軽減されるため、殺菌後、通常運転を再開しても、生菌
が増殖する傾向は認められないことが明らかである。
置によれば、被処理水タンク、逆浸透膜装置及びイオン
交換装置を有する純水製造部と、純水製造部で製造され
た純水が導入される純水タンク及び該純水タンクから純
水が供給される膜分離装置を有するサブシステム部とを
備える純水製造装置の殺菌を効率的に行って殺菌頻度を
軽減することができ、長期間安定して高純度の純水を製
造することができる。また、従来の純水製造装置で用い
られていたUV殺菌灯やスライムコントロール剤を不要
とすることができる。
理を円滑に行える。
である。
Claims (2)
- 【請求項1】 被処理水タンク、逆浸透膜装置及びイオ
ン交換装置を有する純水製造部と、純水製造部で製造さ
れた純水が導入される純水タンク及び該純水タンクから
純水が供給される膜分離装置を有するサブシステム部と
を備える純水製造装置において、 前記膜分離装置と被処理水タンクとを連結する循環ライ
ンを設けると共に、 純水製造部、サブシステム部及び循環ラインで形成され
る循環ループを流れる水の加熱手段を設けたことを特徴
とする純水製造装置。 - 【請求項2】 請求項1の純水製造装置において、前記
逆浸透膜装置の加熱水の供給圧力が、被処理水の供給圧
力より低い圧力であることを特徴とする純水製造装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP06072195A JP3228053B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 純水製造装置 |
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JP06072195A JP3228053B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 純水製造装置 |
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JPH08252600A JPH08252600A (ja) | 1996-10-01 |
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---|---|---|---|
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JP2005288335A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置の殺菌方法および純水製造装置 |
JP2005288336A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置の組立方法 |
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1995
- 1995-03-20 JP JP06072195A patent/JP3228053B2/ja not_active Expired - Fee Related
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