JP3215266B2 - 写像性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法 - Google Patents
写像性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は優れた表面品質を有する
オーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法に関するも
のである。
オーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】オーステナイト系ステンレス鋼板におい
て、例えばアンモニア分解ガスと呼ばれる水素：窒素＝
３：１の割合の混合ガス中で焼鈍された、光輝焼鈍（Ｂ
Ａ）仕上げ材は内外装用建築材料や厨房材料に用いられ
る。表面品質として良好な鮮映性（写像特性）が必要と
される。直近では、写像特性としてＪＩＳ Ｈ ８６８
６に規定された指数において８５％以上の値を有するス
テンレス鋼板が要求されることが多い。製品表面に細か
な凹凸、皺状のうねりが多数存在すると写像性が劣り製
品の表面品質を著しく阻害することが知られており、そ
のため、前記凹凸うねりの防止・除去方法の研究が盛ん
に行われている。
て、例えばアンモニア分解ガスと呼ばれる水素：窒素＝
３：１の割合の混合ガス中で焼鈍された、光輝焼鈍（Ｂ
Ａ）仕上げ材は内外装用建築材料や厨房材料に用いられ
る。表面品質として良好な鮮映性（写像特性）が必要と
される。直近では、写像特性としてＪＩＳ Ｈ ８６８
６に規定された指数において８５％以上の値を有するス
テンレス鋼板が要求されることが多い。製品表面に細か
な凹凸、皺状のうねりが多数存在すると写像性が劣り製
品の表面品質を著しく阻害することが知られており、そ
のため、前記凹凸うねりの防止・除去方法の研究が盛ん
に行われている。
【０００３】ＳＵＳ３０４を代表とするオーステナイト
系ステンレス鋼板のＢＡ仕上においてはフェライト系ス
テンレス鋼の場合と異なり、光輝焼鈍での再結晶によっ
て表面に細かな凹凸が生じる。この凹凸を平坦にするた
めに表面粗さが中心線平均粗さ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１
に規定されたＲａ、以後Ｒａと称す）で０．０１μｍ以
上０．０６μｍ以下程度の平滑なロールで軽い冷間圧延
を行って表面の写像性を向上させる調質圧延が施される
が、フェライト系ステンレス鋼板に比べると写像性が劣
ることが知られていた。
系ステンレス鋼板のＢＡ仕上においてはフェライト系ス
テンレス鋼の場合と異なり、光輝焼鈍での再結晶によっ
て表面に細かな凹凸が生じる。この凹凸を平坦にするた
めに表面粗さが中心線平均粗さ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１
に規定されたＲａ、以後Ｒａと称す）で０．０１μｍ以
上０．０６μｍ以下程度の平滑なロールで軽い冷間圧延
を行って表面の写像性を向上させる調質圧延が施される
が、フェライト系ステンレス鋼板に比べると写像性が劣
ることが知られていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ＳＵＳ３０４において
はＢＡ後の調質圧延は通常０．３％程度の圧下率（伸び
長さで規定する場合は「伸び率」とも言う）の圧延で行
う。圧下率が高くなると細かな皺状のうねりが表面に発
生して逆に写像性を劣化させてしまう。この皺状のうね
りは結晶粒の方位差に起因して発生し、結晶粒径が大き
い場合には個々のうねりが大きくなると考えられる。そ
の改善方法として、結晶粒を微細なもの（結晶粒径２０
μｍ以下，結晶粒度番号約８．５以上）とし、光輝焼鈍
後に４０％以上の高圧下率の冷間圧延を行う方法が特開
昭６０−２４３２２５号公報に示されている。しかしな
がら該方法では製品は加工硬化した高強度のものとな
り、二次加工が行われる汎用の製品板としては用いるこ
とができない。
はＢＡ後の調質圧延は通常０．３％程度の圧下率（伸び
長さで規定する場合は「伸び率」とも言う）の圧延で行
う。圧下率が高くなると細かな皺状のうねりが表面に発
生して逆に写像性を劣化させてしまう。この皺状のうね
りは結晶粒の方位差に起因して発生し、結晶粒径が大き
い場合には個々のうねりが大きくなると考えられる。そ
の改善方法として、結晶粒を微細なもの（結晶粒径２０
μｍ以下，結晶粒度番号約８．５以上）とし、光輝焼鈍
後に４０％以上の高圧下率の冷間圧延を行う方法が特開
昭６０−２４３２２５号公報に示されている。しかしな
がら該方法では製品は加工硬化した高強度のものとな
り、二次加工が行われる汎用の製品板としては用いるこ
とができない。
【０００５】本発明者らは、特開昭６０−２４３２２５
号公報に示されている方法において高圧下率が必要な理
由は冷間圧延における潤滑油が板表面の平滑化を阻害す
るためであることを見出した。表面の写像性に優れかつ
加工性も具備したステンレス鋼板を得るためには、調質
圧延前の光輝焼鈍材の結晶粒径および表面粗さと調質圧
延の圧下率の適正範囲および潤滑条件を究明する必要が
ある。本発明者らは調質圧延を無潤滑で行うことによ
り、僅かな圧下率でも充分平滑化が可能となることを見
出し、写像性および加工性ともに良好なオーステナイト
系ステンレス鋼板の最適製造条件を明確にした。
号公報に示されている方法において高圧下率が必要な理
由は冷間圧延における潤滑油が板表面の平滑化を阻害す
るためであることを見出した。表面の写像性に優れかつ
加工性も具備したステンレス鋼板を得るためには、調質
圧延前の光輝焼鈍材の結晶粒径および表面粗さと調質圧
延の圧下率の適正範囲および潤滑条件を究明する必要が
ある。本発明者らは調質圧延を無潤滑で行うことによ
り、僅かな圧下率でも充分平滑化が可能となることを見
出し、写像性および加工性ともに良好なオーステナイト
系ステンレス鋼板の最適製造条件を明確にした。
【０００６】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、以下の
通りである。 （１）ＪＩＳ Ｇ ０５５１で表される結晶粒度番号が
７．３以上１０以下、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で表される
表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１５μｍ以下の光
輝焼鈍鋼帯を圧延素材として、圧下率０．５％以上１．
５％以下の無潤滑冷間圧延を行うことを特徴とする。 （２）前記（１）記載の方法において光輝焼鈍温度が１
０００℃以上１１２０℃以下の範囲であることを特徴と
する。
通りである。 （１）ＪＩＳ Ｇ ０５５１で表される結晶粒度番号が
７．３以上１０以下、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で表される
表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１５μｍ以下の光
輝焼鈍鋼帯を圧延素材として、圧下率０．５％以上１．
５％以下の無潤滑冷間圧延を行うことを特徴とする。 （２）前記（１）記載の方法において光輝焼鈍温度が１
０００℃以上１１２０℃以下の範囲であることを特徴と
する。
【０００７】
【作用】冷間圧延工程を経てきたオーステナイト系ステ
ンレス鋼板を光輝焼鈍し、続いて無潤滑冷間圧延（以後
調質圧延という）を行う工程において、焼鈍後の結晶粒
の大きさ（結晶粒度番号）、焼鈍鋼帯の表面の粗さ（Ｒ
ａ）および調質圧延の圧下率を特定範囲内で行うことに
よって写像性に優れた表面と加工性に優れた材質を得る
ことができる。
ンレス鋼板を光輝焼鈍し、続いて無潤滑冷間圧延（以後
調質圧延という）を行う工程において、焼鈍後の結晶粒
の大きさ（結晶粒度番号）、焼鈍鋼帯の表面の粗さ（Ｒ
ａ）および調質圧延の圧下率を特定範囲内で行うことに
よって写像性に優れた表面と加工性に優れた材質を得る
ことができる。
【０００８】本発明の限定理由を以下に説明する。光輝
焼鈍材を調質圧延する場合、調質圧延による皺状のうね
りの発生を抑制するためには光輝焼鈍の結晶粒を小さく
しなければならない。結晶粒度番号（ＪＩＳ Ｇ ０５
５１）で表した光輝焼鈍後の結晶粒の大きさと調質圧延
後の表面の写像性（評価方法ＪＩＳ Ｈ ８６８６）と
の関係を図１に示す。調質圧延前の光輝焼鈍材の結晶粒
度番号が７．３以上では調質圧延後に安定して高い写像
性の鋼板となり、結晶粒度番号が７．３未満では写像性
が著しく劣化する。従って、光輝焼鈍後の素材の結晶粒
度番号は７．３以上にする必要がある。
焼鈍材を調質圧延する場合、調質圧延による皺状のうね
りの発生を抑制するためには光輝焼鈍の結晶粒を小さく
しなければならない。結晶粒度番号（ＪＩＳ Ｇ ０５
５１）で表した光輝焼鈍後の結晶粒の大きさと調質圧延
後の表面の写像性（評価方法ＪＩＳ Ｈ ８６８６）と
の関係を図１に示す。調質圧延前の光輝焼鈍材の結晶粒
度番号が７．３以上では調質圧延後に安定して高い写像
性の鋼板となり、結晶粒度番号が７．３未満では写像性
が著しく劣化する。従って、光輝焼鈍後の素材の結晶粒
度番号は７．３以上にする必要がある。
【０００９】一方、結晶粒度を高くすると加工性が劣化
して、製品特性としては好ましくない。加工性の指標と
して引張試験（ＪＩＳ Ｚ ２２４１）の破断伸びを用
いることがよく行われるが、加工性を具備するためには
一般に４５％以上の破断伸びが要求される。
して、製品特性としては好ましくない。加工性の指標と
して引張試験（ＪＩＳ Ｚ ２２４１）の破断伸びを用
いることがよく行われるが、加工性を具備するためには
一般に４５％以上の破断伸びが要求される。
【００１０】光輝焼鈍後の結晶粒度と調質圧延後の破断
伸びを図２に示す。結晶粒度番号が１０を超えると破断
伸びが４５％未満となる。従って、最終光輝焼鈍された
調質圧延素材の結晶粒度番号は１０以下にする必要があ
る。
伸びを図２に示す。結晶粒度番号が１０を超えると破断
伸びが４５％未満となる。従って、最終光輝焼鈍された
調質圧延素材の結晶粒度番号は１０以下にする必要があ
る。
【００１１】結晶粒度は光輝焼鈍温度の影響が顕著であ
り、焼鈍温度が高くなるほど結晶粒は粗大化する。従っ
て、焼鈍温度によって結晶粒度を調整することができ
る。焼鈍温度と結晶粒度との関係を図３に示す。焼鈍温
度が１０００℃未満だと結晶粒度番号が１０を超えて細
粒になりすぎ、焼鈍温度が１１２０℃を超えると結晶粒
度番号が７．３未満で粗粒になりすぎる。従って、最終
光輝焼鈍を１０００℃以上１１２０℃以下の温度で行う
ことによって結晶粒度を７．３以上１０以下にすること
ができる。
り、焼鈍温度が高くなるほど結晶粒は粗大化する。従っ
て、焼鈍温度によって結晶粒度を調整することができ
る。焼鈍温度と結晶粒度との関係を図３に示す。焼鈍温
度が１０００℃未満だと結晶粒度番号が１０を超えて細
粒になりすぎ、焼鈍温度が１１２０℃を超えると結晶粒
度番号が７．３未満で粗粒になりすぎる。従って、最終
光輝焼鈍を１０００℃以上１１２０℃以下の温度で行う
ことによって結晶粒度を７．３以上１０以下にすること
ができる。
【００１２】光輝焼鈍の保定時間については、長くなる
にしたがって結晶粒が大きく成長することが以前から一
般的に知られているが、３０秒保定と６０秒保定では結
晶粒度の有為差が認められなかった（表１ 実施例Ｎ
ｏ．５とＮｏ．７参照）。現在工業的に行われる焼鈍は
ほとんど連続ラインでの処理で、保定時間は６０秒以下
の範囲である。粒成長に及ぼす保定時間の影響として
は、温度の影響に比べて非常に小さく無視できる。
にしたがって結晶粒が大きく成長することが以前から一
般的に知られているが、３０秒保定と６０秒保定では結
晶粒度の有為差が認められなかった（表１ 実施例Ｎ
ｏ．５とＮｏ．７参照）。現在工業的に行われる焼鈍は
ほとんど連続ラインでの処理で、保定時間は６０秒以下
の範囲である。粒成長に及ぼす保定時間の影響として
は、温度の影響に比べて非常に小さく無視できる。
【００１３】先にも述べたように、オーステナイト系ス
テンレス鋼は光輝焼鈍における再結晶によって表面に細
かな凹凸が生じる。この凹凸を平滑なロールを用いた調
質圧延によって平坦化すると表面の写像性が良好となる
が、表面の凹凸が細かいために、調質圧延を潤滑剤を供
給しながら行った場合には、潤滑剤が素材表面と平滑な
ロールとの隙間に入り込んで平坦化が充分に行われな
い。その結果、写像性の良好な表面を得ることができな
い。従って、調質圧延は無潤滑で行うことが必要であ
る。
テンレス鋼は光輝焼鈍における再結晶によって表面に細
かな凹凸が生じる。この凹凸を平滑なロールを用いた調
質圧延によって平坦化すると表面の写像性が良好となる
が、表面の凹凸が細かいために、調質圧延を潤滑剤を供
給しながら行った場合には、潤滑剤が素材表面と平滑な
ロールとの隙間に入り込んで平坦化が充分に行われな
い。その結果、写像性の良好な表面を得ることができな
い。従って、調質圧延は無潤滑で行うことが必要であ
る。
【００１４】調質圧延の圧下率が小さすぎると平坦化が
効果的に行われない。無潤滑調質圧延における圧下率と
写像性との関係を図４に示す。写像性を８５％以上にす
るには結晶粒度番号（ＧＳＮ）が７．３以上の素材を
０．５％以上の圧下率で調質圧延することが必要であ
る。一方、結晶粒度番号が７．３を下回る素材は調質圧
延の効果が小さいか、逆に表面の写像性が劣化する。
１．５％を超えた場合、写像性は劣化しないものの、無
潤滑圧延の弊害である軽い焼き付きが表面に発生しはじ
め、白い筋模様として鋼板表面の品質を劣化させる。従
って、調質圧延の圧下率は０．５％以上１．５％以下で
なければならない。
効果的に行われない。無潤滑調質圧延における圧下率と
写像性との関係を図４に示す。写像性を８５％以上にす
るには結晶粒度番号（ＧＳＮ）が７．３以上の素材を
０．５％以上の圧下率で調質圧延することが必要であ
る。一方、結晶粒度番号が７．３を下回る素材は調質圧
延の効果が小さいか、逆に表面の写像性が劣化する。
１．５％を超えた場合、写像性は劣化しないものの、無
潤滑圧延の弊害である軽い焼き付きが表面に発生しはじ
め、白い筋模様として鋼板表面の品質を劣化させる。従
って、調質圧延の圧下率は０．５％以上１．５％以下で
なければならない。
【００１５】８５％以上の高い写像性を得るためには調
質圧延前の素材の表面粗さを制限する必要がある。表１
の実施例Ｎｏ．１５のように光輝焼鈍後の鋼帯の表面粗
さがＲａで０．２μｍでは、写像性が低いことから、実
施例Ｎｏ．１〜Ｎｏ．８のように調質圧延前の光輝焼鈍
鋼帯のＲａは０．１５μｍ以下にする必要がある。これ
は、例えば、光輝焼鈍前の冷間圧延におけるワークロー
ルの表面粗さを制御することにより可能である。
質圧延前の素材の表面粗さを制限する必要がある。表１
の実施例Ｎｏ．１５のように光輝焼鈍後の鋼帯の表面粗
さがＲａで０．２μｍでは、写像性が低いことから、実
施例Ｎｏ．１〜Ｎｏ．８のように調質圧延前の光輝焼鈍
鋼帯のＲａは０．１５μｍ以下にする必要がある。これ
は、例えば、光輝焼鈍前の冷間圧延におけるワークロー
ルの表面粗さを制御することにより可能である。
【００１６】
【実施例】表１に本発明例、比較例および従来例を示
す。鋼種としてはＳＵＳ３０４を用い、熱間圧延後焼鈍
を施し、続いて冷間圧延を行った素材を用いて、表１に
示す各条件で光輝焼鈍を行った後に結晶粒度番号、表面
の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定し、引き続き表１に示
す圧下率で調質圧延を行った。それぞれの鋼板について
写像性と表面の焼き付きによる白筋の有無を評価した。
光輝焼鈍は窒素：２５vol.％，水素：７５vol.％の水素
含有の非還元雰囲気ガス中で行い、調質圧延は６Ｈｉの
圧延機を用いて行った。
す。鋼種としてはＳＵＳ３０４を用い、熱間圧延後焼鈍
を施し、続いて冷間圧延を行った素材を用いて、表１に
示す各条件で光輝焼鈍を行った後に結晶粒度番号、表面
の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定し、引き続き表１に示
す圧下率で調質圧延を行った。それぞれの鋼板について
写像性と表面の焼き付きによる白筋の有無を評価した。
光輝焼鈍は窒素：２５vol.％，水素：７５vol.％の水素
含有の非還元雰囲気ガス中で行い、調質圧延は６Ｈｉの
圧延機を用いて行った。
【００１７】本発明例（Ｎｏ．１〜Ｎｏ．８）は結晶粒
度番号が７．３以上１０以下、Ｒａが０．１５μｍ以下
であり、調質圧延後の焼き付きによる白筋模様も無く、
写像性が８５％以上、破断伸びが４５％以上と、比較例
（Ｎｏ．９〜１５）、従来例（Ｎｏ．１６）に比べ品質
の優れた品質のステンレス鋼板となっている。
度番号が７．３以上１０以下、Ｒａが０．１５μｍ以下
であり、調質圧延後の焼き付きによる白筋模様も無く、
写像性が８５％以上、破断伸びが４５％以上と、比較例
（Ｎｏ．９〜１５）、従来例（Ｎｏ．１６）に比べ品質
の優れた品質のステンレス鋼板となっている。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【発明の効果】以上のことから明らかな如く、本発明に
よれば、表面の写像性の優れたオーステナイト系ステン
レス鋼板を製造することが可能となる。特に、この技術
を用いれば最終光輝焼鈍工程と調質圧延工程で表面品質
が造り込めるため、ステンレス鋼板の表面品質を前行程
の影響を受けずに安定して製造することができる。
よれば、表面の写像性の優れたオーステナイト系ステン
レス鋼板を製造することが可能となる。特に、この技術
を用いれば最終光輝焼鈍工程と調質圧延工程で表面品質
が造り込めるため、ステンレス鋼板の表面品質を前行程
の影響を受けずに安定して製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】調質圧延後の写像性に及ぼす光輝焼鈍後の結晶
粒度番号の影響を示した図である。
粒度番号の影響を示した図である。
【図２】調質圧延後の破断伸びに及ぼす光輝焼鈍後の結
晶粒度番号の影響を示した図である。
晶粒度番号の影響を示した図である。
【図３】光輝焼鈍後の結晶粒度番号に及ぼす光輝焼鈍後
温度の影響を示した図である。
温度の影響を示した図である。
【図４】各結晶粒度番号の鋼板における調質圧延後の写
像性に及ぼす調質圧延圧下率の影響を示した図である。
像性に及ぼす調質圧延圧下率の影響を示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 雅明 山口県光市大字島田3434番地 新日本製 鐵株式会社 光製鐵所内 (56)参考文献 特開 平３−60806（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−216924（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−311243（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C21D 8/00 - 8/10 C21D 9/46 - 9/48 B21B 1/22 B21B 3/02
Claims (2)
- 【請求項１】 ＪＩＳ Ｇ ０５５１で表される結晶粒
度番号が７．３以上１０以下、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で
表される表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１５μｍ
以下の光輝焼鈍鋼帯を圧延素材として、圧下率が０．５
％以上１．５％以下の無潤滑冷間圧延を行うことを特徴
とする写像性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板
の製造方法。 - 【請求項２】 光輝焼鈍における加熱温度が１０００℃
以上１１２０℃以下であることを特徴とする請求項１記
載の写像性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16043594A JP3215266B2 (ja) | 1994-07-12 | 1994-07-12 | 写像性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16043594A JP3215266B2 (ja) | 1994-07-12 | 1994-07-12 | 写像性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0827518A JPH0827518A (ja) | 1996-01-30 |
| JP3215266B2 true JP3215266B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=15714877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16043594A Expired - Lifetime JP3215266B2 (ja) | 1994-07-12 | 1994-07-12 | 写像性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3215266B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1293810C (zh) * | 2004-03-26 | 2007-01-10 | 北京化工大学 | 负载型纳米氧化镁及其制备方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2777811B1 (fr) * | 1998-04-23 | 2000-05-19 | Usinor | Tole d'acier inoxydable austenitique utilisable dans le domaine de la cuverie et notamment dans le domaine de la cuverie vinicole |
| JP4530559B2 (ja) * | 2001-03-15 | 2010-08-25 | 新日鐵住金ステンレス株式会社 | 表面光沢に優れたオーステナイト系ステンレス鋼板の製造方法 |
-
1994
- 1994-07-12 JP JP16043594A patent/JP3215266B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1293810C (zh) * | 2004-03-26 | 2007-01-10 | 北京化工大学 | 负载型纳米氧化镁及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0827518A (ja) | 1996-01-30 |
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