JP3254773B2 - スクアリリウム系化合物 - Google Patents
スクアリリウム系化合物Info
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- squarylium
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なスクアリリウム系
化合物に関するものであり、詳しくは、染料、高分子の
着色材料、液晶用二色性色素等の分野、更には電子写真
プリンターの電子写真感光材料、光ディスク用記録材
料、近赤外線カットフィルター用材料等の半導体レーザ
ー利用分野で有用な新規なスクアリリウム系化合物に関
するものである。
化合物に関するものであり、詳しくは、染料、高分子の
着色材料、液晶用二色性色素等の分野、更には電子写真
プリンターの電子写真感光材料、光ディスク用記録材
料、近赤外線カットフィルター用材料等の半導体レーザ
ー利用分野で有用な新規なスクアリリウム系化合物に関
するものである。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は種々の色素材
料、半導体レーザー利用分野での有用材料として用いら
れる新規なスクアリリウム系化合物を提供することを目
的とする。
料、半導体レーザー利用分野での有用材料として用いら
れる新規なスクアリリウム系化合物を提供することを目
的とする。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記請求項１
において、前記一般式〔Ｉ〕で示されるスクアリリウム
系化合物を要旨とする。本発明の一般式〔Ｉ〕のスクア
リリウム系化合物を更に詳しく説明する。一般式〔Ｉ〕
におけるＲ1 ，Ｒ2 で示されるアルキル基の具体例とし
てはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘプチル基またはｎ−オ
クチル基等の直鎖状もしくは分岐状の炭素数１〜８のア
ルキル基を挙げることが出来、Ｒ1 ，Ｒ2 で表されるア
ルコキシ基の具体例としてはメトキシ基、エトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチル
オキシ基等の直鎖状もしくは分岐状の炭素数１〜８のア
ルコキシ基を挙げることが出来、Ｒ1 ，Ｒ2 で表される
ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原
子等を挙げることが出来る。
において、前記一般式〔Ｉ〕で示されるスクアリリウム
系化合物を要旨とする。本発明の一般式〔Ｉ〕のスクア
リリウム系化合物を更に詳しく説明する。一般式〔Ｉ〕
におけるＲ1 ，Ｒ2 で示されるアルキル基の具体例とし
てはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘプチル基またはｎ−オ
クチル基等の直鎖状もしくは分岐状の炭素数１〜８のア
ルキル基を挙げることが出来、Ｒ1 ，Ｒ2 で表されるア
ルコキシ基の具体例としてはメトキシ基、エトキシ基、
ｎ−ブトキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチル
オキシ基等の直鎖状もしくは分岐状の炭素数１〜８のア
ルコキシ基を挙げることが出来、Ｒ1 ，Ｒ2 で表される
ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原
子等を挙げることが出来る。
【０００４】Ｒ3 ，Ｒ4 としては、水素原子；前記
Ｒ1 ，Ｒ2 で挙げたハロゲン原子、アルキル基又はアル
コキシ基；水酸基；−ＮＨＣＯＲ7 ｛Ｒ7 は、
Ｒ1 ，Ｒ2 で挙げたハロゲン原子、アルキル基又はアル
コキシ基；水酸基；−ＮＨＣＯＲ7 ｛Ｒ7 は、
【０００５】
【化４】 （Ｒ8 は、水素原子、前記Ｒ1 ，Ｒ2 で挙げたアルキル
基、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。）又は
Ｒ1 ，Ｒ2 で挙げたアルキル基を示す。｝等を挙げるこ
とが出来る。Ｒ5 ，Ｒ6 の置換基を有していてもよいア
ルキル基としては、炭素数１〜８の分岐又は直鎖状のア
ルキル基及びこのアルキル基が置換基を有する場合置換
基としては、水酸基、塩素原子、フッ素原子等のハロゲ
ン原子、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシク
ロアルキル基、
基、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。）又は
Ｒ1 ，Ｒ2 で挙げたアルキル基を示す。｝等を挙げるこ
とが出来る。Ｒ5 ，Ｒ6 の置換基を有していてもよいア
ルキル基としては、炭素数１〜８の分岐又は直鎖状のア
ルキル基及びこのアルキル基が置換基を有する場合置換
基としては、水酸基、塩素原子、フッ素原子等のハロゲ
ン原子、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシク
ロアルキル基、
【０００６】
【化５】
【０００７】（Ｒ8 は前記定義に同じ）等のアリール
基、
基、
【０００８】
【化６】
【０００９】（Ｒ9 は炭素数２又は３の直鎖又は分岐鎖
状アルキル基、Ｒ10は水素原子又はＲ 1 で挙げたアルキ
ル基、ｎは１〜５の整数を示す。）、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ
10、シアノ基、−ＣＯＯＲ10，
状アルキル基、Ｒ10は水素原子又はＲ 1 で挙げたアルキ
ル基、ｎは１〜５の整数を示す。）、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ
10、シアノ基、−ＣＯＯＲ10，
【００１０】
【化７】
【００１１】（Ｒ8 は前記定義に同じ）等を挙げること
が出来る。本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされるスクアリ
リウム系化合物の具体例としては、以下の表−１のもの
を挙げることが出来る。
が出来る。本発明の一般式〔Ｉ〕で表わされるスクアリ
リウム系化合物の具体例としては、以下の表−１のもの
を挙げることが出来る。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【表２】
【００１４】
【表３】
【００１５】本発明の一般式〔Ｉ〕の化合物は、例え
ば、以下のようにして合成出来る。初めに，Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルアニリンまたはユーロリジンと１，２−ジクロ
ロシクロブテン−３，４−ジオンを塩化メチレン中、室
温で反応させて得られる１−クロロ−２−アリール四角
酸誘導体を酢酸−水の混合溶媒中で、加水分解し、２−
アリール−３，４−ジオン−シクロブテノールを合成す
る。次にこの２−アリールシクロブテノールをキノリン
存在下、Ｎ−メチル−２−アリールベンゾピリリウム塩
とブタノール−ベンゼン混合溶媒中で反応させること
で、ベンゾピリリウム系非対称型スクアリリウム系化合
物を合成することができる。
ば、以下のようにして合成出来る。初めに，Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルアニリンまたはユーロリジンと１，２−ジクロ
ロシクロブテン−３，４−ジオンを塩化メチレン中、室
温で反応させて得られる１−クロロ−２−アリール四角
酸誘導体を酢酸−水の混合溶媒中で、加水分解し、２−
アリール−３，４−ジオン−シクロブテノールを合成す
る。次にこの２−アリールシクロブテノールをキノリン
存在下、Ｎ−メチル−２−アリールベンゾピリリウム塩
とブタノール−ベンゼン混合溶媒中で反応させること
で、ベンゾピリリウム系非対称型スクアリリウム系化合
物を合成することができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明の一般式〔Ｉ〕で示されるスクア
リリウム系化合物は染料、高分子の着色材料、液晶用二
色性色素の他電子写真感光材料、光ディスク用記録材
料、非線形光学材料、近赤外線カットフィルター用材料
等半導体レーザーを利用する分野での種々の用途に用い
られる。
リリウム系化合物は染料、高分子の着色材料、液晶用二
色性色素の他電子写真感光材料、光ディスク用記録材
料、非線形光学材料、近赤外線カットフィルター用材料
等半導体レーザーを利用する分野での種々の用途に用い
られる。
【００１７】
前記表−１ Ｎｏ．１の化合物の合成
【００１８】
【化８】
【００１９】ユーロリジンと１，２−ジクロロシクロブ
テン−３，４−ジオンとの反応から得られる１−クロロ
−２−（４−ユーロリジニル）−シクロブテン−３，４
−ジオン（１）０．８６ｇを酢酸水溶液３０ｍｌ中、１
００℃で５時間反応させる。反応終了後、生成物をロ過
し、エーテルで洗浄することにより２−（ユーロリジニ
ル）−３，４−ジオン−シクロブテノール（２）を０．
５１ｇ得た。Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を具備した反応
容器を用いて、（２）０．５４ｇ、過塩素酸４−メチル
−２−フェニルベンゾピリリウム０．６４ｇ、キノリン
２ｍｌを８０ｍｌのブタノール−ベンゼン混合溶媒中
（４：１）、９時間加熱還流させる。反応終了後、生成
物をロ過し、アセトンで洗浄し、ＤＭＦから再結晶さ
せ、スクアリリウム系化合物（３）０．１９ｇ（収率２
０％）を得た。
テン−３，４−ジオンとの反応から得られる１−クロロ
−２−（４−ユーロリジニル）−シクロブテン−３，４
−ジオン（１）０．８６ｇを酢酸水溶液３０ｍｌ中、１
００℃で５時間反応させる。反応終了後、生成物をロ過
し、エーテルで洗浄することにより２−（ユーロリジニ
ル）−３，４−ジオン−シクロブテノール（２）を０．
５１ｇ得た。Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を具備した反応
容器を用いて、（２）０．５４ｇ、過塩素酸４−メチル
−２−フェニルベンゾピリリウム０．６４ｇ、キノリン
２ｍｌを８０ｍｌのブタノール−ベンゼン混合溶媒中
（４：１）、９時間加熱還流させる。反応終了後、生成
物をロ過し、アセトンで洗浄し、ＤＭＦから再結晶さ
せ、スクアリリウム系化合物（３）０．１９ｇ（収率２
０％）を得た。
【００２０】このもののＩＲスペクトルのνｃｏ、元素
分析値、ＵＶスペクトルは次の通りであった。 ＩＲスペクトル νｃｏ １６１４，１５９９ｃｍ-1
分析値、ＵＶスペクトルは次の通りであった。 ＩＲスペクトル νｃｏ １６１４，１５９９ｃｍ-1
【００２１】
【表４】 ＵＶスペクトル ８００（ｌｏｇε＝５．１０），７２５（ｌｏｇε＝
５．０１），６６７（ｌｏｇε＝４．５８）ｎｍ ｉｎ
ＣＨＣｌ3
５．０１），６６７（ｌｏｇε＝４．５８）ｎｍ ｉｎ
ＣＨＣｌ3
【００２２】〔実施例２〕 前記表−１のＮｏ．２の化合物の合成
【００２３】
【化９】
【００２４】Ｎ，Ｎ−ジブチルアニリンと１，２−ジク
ロロシクロブテン−３，４−ジオンとの反応から得られ
る１−クロロ−２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニ
ル）−シクロブテン−３，４−ジオン（４）１．０６ｇ
を酢酸水溶液３０ｍｌ中、１００℃で５時間反応させ
る。反応終了後、生成物をロ過し、エーテルで洗浄する
ことにより２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル）−
３，４−ジオン−シクロブテノール（５）を０．１７ｇ
得た。Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を具備した反応容器を
用いて、（５）の０．１５ｇ、過塩素酸４−メチル−２
−フェニルベンゾピリリウム０．１６ｇを２０ｍｌのブ
タノール−ベンゼン混合溶媒中（４：１）、４時間加熱
還流させる。反応終了後、溶媒を留去し、生成物をフラ
ッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン
／アセトン（６：１）、シリカゲル）で精製し、ベンゼ
ン−ヘキサンから再結晶させ、スクアリリウム系化合物
（６）０．０３１ｇ（収率１２％）を得た。
ロロシクロブテン−３，４−ジオンとの反応から得られ
る１−クロロ−２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニ
ル）−シクロブテン−３，４−ジオン（４）１．０６ｇ
を酢酸水溶液３０ｍｌ中、１００℃で５時間反応させ
る。反応終了後、生成物をロ過し、エーテルで洗浄する
ことにより２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル）−
３，４−ジオン−シクロブテノール（５）を０．１７ｇ
得た。Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を具備した反応容器を
用いて、（５）の０．１５ｇ、過塩素酸４−メチル−２
−フェニルベンゾピリリウム０．１６ｇを２０ｍｌのブ
タノール−ベンゼン混合溶媒中（４：１）、４時間加熱
還流させる。反応終了後、溶媒を留去し、生成物をフラ
ッシュカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン
／アセトン（６：１）、シリカゲル）で精製し、ベンゼ
ン−ヘキサンから再結晶させ、スクアリリウム系化合物
（６）０．０３１ｇ（収率１２％）を得た。
【００２５】このもののＩＲスペクトルのνｃｏ、元素
分析値、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＵＶスペクトルは次
の通りであった。 ＩＲスペクトル νｃｏ １６１６，１５９５ｃｍ-1
分析値、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＵＶスペクトルは次
の通りであった。 ＩＲスペクトル νｃｏ １６１６，１５９５ｃｍ-1
【００２６】
【表５】
【００２７】化学シフト値1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．９９（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４０（４Ｈ，ｓｘ，Ｊ＝７．３
Ｈｚ），１．６０−１．７１（４Ｈ，ｍ），３．４４
（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），６．７４（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｓ），７．４０
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．２，７．９Ｈｚ），７．４８−
７．６５（５Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．２，７．９Ｈｚ），８．２１−８．２４（２Ｈ，
ｍ），８．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），９．５
８（１Ｈｓ，ｓ） ＵＶスペクトル ７８２（ｌｏｇε＝５．１８），７１２（ｌｏｇε＝
４．９９）ｎｍ ｉｎ ＣＨＣｌ3
Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４０（４Ｈ，ｓｘ，Ｊ＝７．３
Ｈｚ），１．６０−１．７１（４Ｈ，ｍ），３．４４
（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），６．７４（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｓ），７．４０
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．２，７．９Ｈｚ），７．４８−
７．６５（５Ｈ，ｍ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．２，７．９Ｈｚ），８．２１−８．２４（２Ｈ，
ｍ），８．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），９．５
８（１Ｈｓ，ｓ） ＵＶスペクトル ７８２（ｌｏｇε＝５．１８），７１２（ｌｏｇε＝
４．９９）ｎｍ ｉｎ ＣＨＣｌ3
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３８４ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３８４
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式〔Ｉ〕で示されるスクアリリ
ウム系化合物。 【化１】 〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基又はハロゲン原子を示し、ｎは１又は２を示し、Ｘ
は０又はＳを示しＡは 【化２】 （Ｒ3 ，Ｒ4 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
水酸基、ハロゲン原子又はアシルアミノ基を示し、
Ｒ5 ，Ｒ6 は置換基を有していてもよいアルキル基を示
す。）又は 【化３】 を示す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33628692A JP3254773B2 (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | スクアリリウム系化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33628692A JP3254773B2 (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | スクアリリウム系化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06184134A JPH06184134A (ja) | 1994-07-05 |
| JP3254773B2 true JP3254773B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=18297542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33628692A Expired - Fee Related JP3254773B2 (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | スクアリリウム系化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3254773B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5853927B2 (ja) * | 2012-10-10 | 2016-02-09 | 富士ゼロックス株式会社 | フラボン系スクアリリウム化合物、樹脂組成物、画像形成材料、静電潜像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 |
| JP7024488B2 (ja) * | 2017-02-27 | 2022-02-24 | 三菱ケミカル株式会社 | 非対称スクアリリウム化合物、着色組成物、ディスプレイ用フィルター及びディスプレイ |
-
1992
- 1992-12-16 JP JP33628692A patent/JP3254773B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06184134A (ja) | 1994-07-05 |
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