JP3249602B2 - 反強誘電性液晶化合物 - Google Patents
反強誘電性液晶化合物Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な反強誘電性液晶
化合物およびそれを含む液晶組成物に関する。
化合物およびそれを含む液晶組成物に関する。
【0002】
【従来技術】液晶表示素子は、1)低電圧作動性、2)
低消費電力性、3)薄形表示、4)受光型などの優れた
特徴を有するため、現在まで、TN方式、STN方式、
ゲスト−ホスト(Gest−Host)方式などが開発
され実用化されている。しかし、現在広く利用されてい
るネマチック液晶を用いたものは、応答速度が数mse
c〜数十msecと遅い欠点があり、応用上種々の制約
を受けている。これらの問題を解決するため、STN方
式や薄層トランジスタなどを用いたアクティブマトリッ
クス方式などが開発されたが、STN型表示素子は、表
示コントラストや視野角などの表示品位は優れたものと
なったが、セルギャップやチルト角の制御に高い精度を
必要とすることや応答がやや遅いことなどが問題となっ
ている。このため、応答性のすぐれた新しい液晶表示方
式の開発が要望されており、光学応答時間がμsecオ
ーダーと極めて短かい超高速デバイスが可能になる強誘
電性液晶の開発が試みられていた。強誘電性液晶は、1
975年、Meyor等によりDOBAMBC(p−デ
シルオキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブチ
ルシンナメート)が初めて合成された(Le Jour
nal de Physique,36巻1975,L
−69)。さらに、1980年、ClarkとLaga
wallによりDOBAMBCのサブマイクロ秒の高速
応答、メモリー特性など表示デバイス上の特性が報告さ
れて以来、強誘電性液晶が大きな注目を集めるようにな
った〔N.A.Clark,etal.,Appl.P
hys.Lett.36.899(1980)〕。しか
し、彼らの方式には、実用化に向けて多くの技術的課題
があり、特に室温で強誘電性液晶を示す材料は無く、表
示ディスプレーに不可欠な液晶分子の配列制御に有効か
つ実用的な方法も確立されていなかった。この報告以
来、液晶材料/デバイス両面からの様々な試みがなさ
れ、ツイスト二状態間のスイッチングを利用した表示デ
バイスが試作され、それを用いた高速電気光学装置も例
えば特開昭56−107216号などで提案されている
が、高いコントラストや適正なしきい値特性は得られて
いない。このような視点から他のスイッチング方式につ
いても探索され、過渡的な散乱方式が提案された。その
後、1988年に本発明者らによる三安定状態を有する
液晶の三状態スイッチング方式が報告された〔A.D.
L.Chandani,T.Hagiwara,Y.S
uzuki etal.,Japan.J.ofApp
l.Phys.,27,(5),L729−L732
(1988)〕。前記「三状態を有する」とは、第一の
電極基板と所定の間隙を隔てて配置されている第二の電
極基板の間に強誘電性液晶が挟まれてなる液晶電気光学
装置において、前記第一及び第二の電極基板に電界形成
用の電圧が印加されるよう構成されており、図1Aで示
される三角波として電圧を印加したとき、図1Dのよう
に前記強誘電性液晶が、無電界時に分子配向が第一の安
定状態(図1Dの)を有し、かつ、電界印加時に一方
の電界方向に対し分子配向が前記第一の安定状態とは異
なる第二の安定状態(図1Dの)を有し、さらに他方
の電界方向に対し前記第一及び第二の安定状態とは異な
る第三の分子配向安定状態(図1Dの)を有すること
を意味する。なお、この三安定状態、すなわち三状態を
利用する液晶電気光学装置については、本出願人は特願
昭63−70212号として出願し、特開平2−153
322号として公開されている。三安定状態を示す反強
誘電性液晶の特徴をさらに詳しく説明する。クラーク/
ラガウェル(Clark−Lagawall)により提
案された表面安定化強誘電性液晶素子では、S*C相に
おいて強誘電性液晶分子が図2(a),(b)のように
一方向に均一配向した2つの安定状態を示し、印加電界
の方向により、どちらか一方の状態に安定化され、電界
を切ってもその状態が保持される。しかしながら実際に
は、強誘電性液晶分子の配向状態は、液晶分子のダイレ
クターが捩れたツイスト二状態を示したり、層がくの字
に折れ曲ったシエブロン構造を示す。シエブロン層構造
では、スイッチング角が小さくなり低コントラストの原
因になるなど、実用化へ向けて大きな障害になってい
る。一方、“反”強誘電性液晶は三安定状態を示すS*
(3)相では、上記液晶電気光学装置において、無電界時
には、図3(a)に示すごとく隣り合う層毎に分子は逆
方向に傾き反平行に配列し、液晶分子の双極子はお互に
打ち消し合っている。したがって、液晶層全体として自
発分極は打ち消されている。この分子配列を示す液晶相
は、図1Dのに対応している。さらに、(+)又は
(−)のしきい値より充分大きい電圧を印加すると、図
3(b)および(c)に示す液晶分子が同一方向に傾
き、平行に配列する。この状態では、分子の双極子も同
一方向に揃うため自発分極が発生し、強誘電相となる。
すなわち、“反”強誘電性液晶のS*(3)相において
は、無電界時の“反”強誘電相と印加電界の極性による
2つの強誘電相が安定になり、“反”強誘電相と2つの
強誘電相間を直流的しきい値を持って三安定状態間スイ
ッチングを行うものである。このスイッチングに伴う液
晶分子配列の変化により図4に示すダブル・ヒステリシ
スを描いて光透過率が変化する。このダブル・ヒステリ
シスに、図4の(A)に示すようにバイアス電圧を印加
して、さらにパルス電圧を重畳することによりメモリー
効果を実現できる特徴を有する。さらに、電界印加によ
り強誘電相は層がストレッチされ、ブックシエルフ構造
となる。一方、第三安定状態の“反”強誘電相では類似
ブックシエルフ構造となる。この電界印加による層構造
スイッチングが液晶層に動的シエアーを与えるため駆動
中に配向欠陥が改善され、良好な分子配向が実現でき
る。そして、“反”強誘電性液晶では、プラス側とマイ
ナス側の両方のヒステリシスを交互に使い画像表示を行
なうため、自発分極に基づく内部電界の蓄積による画像
の残像現象を防止することができる。以上のように、
“反”強誘電性液晶は、1)高速応答が可能で、2)高
いコントラストと広い視野角および3)良好な配向特性
とメモリー効果が実現できる、非常に有用な液晶化合物
と言える。“反”強誘電性液晶の三安定状態を示す液晶
相については、1)A.D.L.Chandani e
tal.,Japan J.Appl.Phys.,2
8,L−1265(1989)、2)H.Orihar
a etal.,JapanJ.Appl.Phys.,
29,L−333(1990)に報告されており、
“反”強誘電的性質にちなみS*CA相(Antifer
roelectricSmectic C*相)と命名
している。本発明者らは、この液晶相が三安定状態間の
スイッチングを行なうためS*(3)相と定義した。三安
定状態を示す“反”強誘電相S*(3)を相系列に有する
液晶化合物は、本発明者の出願した特開平1−3163
67号、特開平1−316372号、特開平1−316
339号、特開平2−28128号及び市橋等の特開平
1−213390号公報があり、また三安定状態を利用
した液晶電気光学装置としては本出願人は特開平2−4
0625号、特開平2−153322号、特開平2−1
73724号において新しい提案を行っている。“反”
強誘電性液晶を液晶ディスプレイへ応用する場合、1)
動作温度範囲、2)応答速度、3)自発分極、4)ヒス
テリシス特性等を単一液晶で全て満足させることは困難
であり、通常十数種類の混合液晶として調製される。特
に、2)の応答速度では、温度の変化と共に応答速度が
変化することの少ない“反”強誘電性液晶の開発が望ま
れている。しかしながら、応答速度の温度依存性の少な
く、かつ高速応答を示す“反”強誘電性液晶は未だ見い
出されていない。
低消費電力性、3)薄形表示、4)受光型などの優れた
特徴を有するため、現在まで、TN方式、STN方式、
ゲスト−ホスト(Gest−Host)方式などが開発
され実用化されている。しかし、現在広く利用されてい
るネマチック液晶を用いたものは、応答速度が数mse
c〜数十msecと遅い欠点があり、応用上種々の制約
を受けている。これらの問題を解決するため、STN方
式や薄層トランジスタなどを用いたアクティブマトリッ
クス方式などが開発されたが、STN型表示素子は、表
示コントラストや視野角などの表示品位は優れたものと
なったが、セルギャップやチルト角の制御に高い精度を
必要とすることや応答がやや遅いことなどが問題となっ
ている。このため、応答性のすぐれた新しい液晶表示方
式の開発が要望されており、光学応答時間がμsecオ
ーダーと極めて短かい超高速デバイスが可能になる強誘
電性液晶の開発が試みられていた。強誘電性液晶は、1
975年、Meyor等によりDOBAMBC(p−デ
シルオキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブチ
ルシンナメート)が初めて合成された(Le Jour
nal de Physique,36巻1975,L
−69)。さらに、1980年、ClarkとLaga
wallによりDOBAMBCのサブマイクロ秒の高速
応答、メモリー特性など表示デバイス上の特性が報告さ
れて以来、強誘電性液晶が大きな注目を集めるようにな
った〔N.A.Clark,etal.,Appl.P
hys.Lett.36.899(1980)〕。しか
し、彼らの方式には、実用化に向けて多くの技術的課題
があり、特に室温で強誘電性液晶を示す材料は無く、表
示ディスプレーに不可欠な液晶分子の配列制御に有効か
つ実用的な方法も確立されていなかった。この報告以
来、液晶材料/デバイス両面からの様々な試みがなさ
れ、ツイスト二状態間のスイッチングを利用した表示デ
バイスが試作され、それを用いた高速電気光学装置も例
えば特開昭56−107216号などで提案されている
が、高いコントラストや適正なしきい値特性は得られて
いない。このような視点から他のスイッチング方式につ
いても探索され、過渡的な散乱方式が提案された。その
後、1988年に本発明者らによる三安定状態を有する
液晶の三状態スイッチング方式が報告された〔A.D.
L.Chandani,T.Hagiwara,Y.S
uzuki etal.,Japan.J.ofApp
l.Phys.,27,(5),L729−L732
(1988)〕。前記「三状態を有する」とは、第一の
電極基板と所定の間隙を隔てて配置されている第二の電
極基板の間に強誘電性液晶が挟まれてなる液晶電気光学
装置において、前記第一及び第二の電極基板に電界形成
用の電圧が印加されるよう構成されており、図1Aで示
される三角波として電圧を印加したとき、図1Dのよう
に前記強誘電性液晶が、無電界時に分子配向が第一の安
定状態(図1Dの)を有し、かつ、電界印加時に一方
の電界方向に対し分子配向が前記第一の安定状態とは異
なる第二の安定状態(図1Dの)を有し、さらに他方
の電界方向に対し前記第一及び第二の安定状態とは異な
る第三の分子配向安定状態(図1Dの)を有すること
を意味する。なお、この三安定状態、すなわち三状態を
利用する液晶電気光学装置については、本出願人は特願
昭63−70212号として出願し、特開平2−153
322号として公開されている。三安定状態を示す反強
誘電性液晶の特徴をさらに詳しく説明する。クラーク/
ラガウェル(Clark−Lagawall)により提
案された表面安定化強誘電性液晶素子では、S*C相に
おいて強誘電性液晶分子が図2(a),(b)のように
一方向に均一配向した2つの安定状態を示し、印加電界
の方向により、どちらか一方の状態に安定化され、電界
を切ってもその状態が保持される。しかしながら実際に
は、強誘電性液晶分子の配向状態は、液晶分子のダイレ
クターが捩れたツイスト二状態を示したり、層がくの字
に折れ曲ったシエブロン構造を示す。シエブロン層構造
では、スイッチング角が小さくなり低コントラストの原
因になるなど、実用化へ向けて大きな障害になってい
る。一方、“反”強誘電性液晶は三安定状態を示すS*
(3)相では、上記液晶電気光学装置において、無電界時
には、図3(a)に示すごとく隣り合う層毎に分子は逆
方向に傾き反平行に配列し、液晶分子の双極子はお互に
打ち消し合っている。したがって、液晶層全体として自
発分極は打ち消されている。この分子配列を示す液晶相
は、図1Dのに対応している。さらに、(+)又は
(−)のしきい値より充分大きい電圧を印加すると、図
3(b)および(c)に示す液晶分子が同一方向に傾
き、平行に配列する。この状態では、分子の双極子も同
一方向に揃うため自発分極が発生し、強誘電相となる。
すなわち、“反”強誘電性液晶のS*(3)相において
は、無電界時の“反”強誘電相と印加電界の極性による
2つの強誘電相が安定になり、“反”強誘電相と2つの
強誘電相間を直流的しきい値を持って三安定状態間スイ
ッチングを行うものである。このスイッチングに伴う液
晶分子配列の変化により図4に示すダブル・ヒステリシ
スを描いて光透過率が変化する。このダブル・ヒステリ
シスに、図4の(A)に示すようにバイアス電圧を印加
して、さらにパルス電圧を重畳することによりメモリー
効果を実現できる特徴を有する。さらに、電界印加によ
り強誘電相は層がストレッチされ、ブックシエルフ構造
となる。一方、第三安定状態の“反”強誘電相では類似
ブックシエルフ構造となる。この電界印加による層構造
スイッチングが液晶層に動的シエアーを与えるため駆動
中に配向欠陥が改善され、良好な分子配向が実現でき
る。そして、“反”強誘電性液晶では、プラス側とマイ
ナス側の両方のヒステリシスを交互に使い画像表示を行
なうため、自発分極に基づく内部電界の蓄積による画像
の残像現象を防止することができる。以上のように、
“反”強誘電性液晶は、1)高速応答が可能で、2)高
いコントラストと広い視野角および3)良好な配向特性
とメモリー効果が実現できる、非常に有用な液晶化合物
と言える。“反”強誘電性液晶の三安定状態を示す液晶
相については、1)A.D.L.Chandani e
tal.,Japan J.Appl.Phys.,2
8,L−1265(1989)、2)H.Orihar
a etal.,JapanJ.Appl.Phys.,
29,L−333(1990)に報告されており、
“反”強誘電的性質にちなみS*CA相(Antifer
roelectricSmectic C*相)と命名
している。本発明者らは、この液晶相が三安定状態間の
スイッチングを行なうためS*(3)相と定義した。三安
定状態を示す“反”強誘電相S*(3)を相系列に有する
液晶化合物は、本発明者の出願した特開平1−3163
67号、特開平1−316372号、特開平1−316
339号、特開平2−28128号及び市橋等の特開平
1−213390号公報があり、また三安定状態を利用
した液晶電気光学装置としては本出願人は特開平2−4
0625号、特開平2−153322号、特開平2−1
73724号において新しい提案を行っている。“反”
強誘電性液晶を液晶ディスプレイへ応用する場合、1)
動作温度範囲、2)応答速度、3)自発分極、4)ヒス
テリシス特性等を単一液晶で全て満足させることは困難
であり、通常十数種類の混合液晶として調製される。特
に、2)の応答速度では、温度の変化と共に応答速度が
変化することの少ない“反”強誘電性液晶の開発が望ま
れている。しかしながら、応答速度の温度依存性の少な
く、かつ高速応答を示す“反”強誘電性液晶は未だ見い
出されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、応答
速度の温度依存性の少ない三安定状態を示す反強誘電性
S*(3)相を安定的に示し、かつ高速応答が期待でき
る、反強誘電性液晶化合物を提供する点および前記液晶
化合物を成分液晶として含有する液晶組成物を提供する
点にある。
速度の温度依存性の少ない三安定状態を示す反強誘電性
S*(3)相を安定的に示し、かつ高速応答が期待でき
る、反強誘電性液晶化合物を提供する点および前記液晶
化合物を成分液晶として含有する液晶組成物を提供する
点にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、一般式
【化4】 (式中、R1とR2は炭素数4〜18のアルキル基よりな
る群から独立して選ばれた基であり、Rfは−CF3ま
たは−C2F5であり、XはO,COO,COまたは単結
合を表わす。*は光学活性炭素を示す。)で表わされる
反強誘電性液晶化合物に関する。本発明の第二は、一般
式
る群から独立して選ばれた基であり、Rfは−CF3ま
たは−C2F5であり、XはO,COO,COまたは単結
合を表わす。*は光学活性炭素を示す。)で表わされる
反強誘電性液晶化合物に関する。本発明の第二は、一般
式
【化5】 (式中、R1,R2,Xおよび*はいずれも前記と同一で
ある)で表わされる反強誘電性液晶化合物に関する。本
発明の第三は、一般式
ある)で表わされる反強誘電性液晶化合物に関する。本
発明の第三は、一般式
【化6】 (式中、R1,R2,および*はいずれも前記と同一であ
る)で表わされる反強誘電性液晶化合物に関する。
る)で表わされる反強誘電性液晶化合物に関する。
【0005】本発明化合物の合成法の1例をつぎの
(1)〜(5)に示す。 (1)α−アルコキシ−β−ジメチル−アクロレインを
ナトリウムメチラート溶液の中に溶解させ、そして、
4′−ブロモ−4−ビフェニルアミジン塩酸塩を加え室
温で3日間撹拌した。水を加えた後、クロロホルムで抽
出し、5−アルコキシ−2−(4′−ブロモ−4−ビフ
ェニリル)−ピリジンを得る。 (2)5−アルコキシ−2−(4′−ブロモ−4−ビフ
ェニリル)−ピリジンをDMFに溶解させ、シアン化銅
を加えてかきまぜながら4時間加熱還流させ、5−アル
コキシ−2−(4′−シアノ−4−ビフェニリル)−ピ
リジンを得る。 (3)5−アルコキシ−2−(4′−シアノ−4−ビフ
ェニリル)−ピリジンをエタノールに溶解し、水酸化ナ
トリウムを加えて加熱還流しながら撹拌し、4−(5″
−アルコキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−ビフ
ェニル−4′−カルボン酸を得る。 (4)4−(5″−アルコキシ−2″−ピリミジニル)
−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン酸を過剰の塩
化チオニルと加熱還流させ、塩化物を得る。 (5)上記塩化物のクロロホルム溶液を光学活性な1,
1,1−トリフルオロ−2−アルカノールをトリエチル
アミンと共に加え撹拌し目的物を得る。 (以下余白)
(1)〜(5)に示す。 (1)α−アルコキシ−β−ジメチル−アクロレインを
ナトリウムメチラート溶液の中に溶解させ、そして、
4′−ブロモ−4−ビフェニルアミジン塩酸塩を加え室
温で3日間撹拌した。水を加えた後、クロロホルムで抽
出し、5−アルコキシ−2−(4′−ブロモ−4−ビフ
ェニリル)−ピリジンを得る。 (2)5−アルコキシ−2−(4′−ブロモ−4−ビフ
ェニリル)−ピリジンをDMFに溶解させ、シアン化銅
を加えてかきまぜながら4時間加熱還流させ、5−アル
コキシ−2−(4′−シアノ−4−ビフェニリル)−ピ
リジンを得る。 (3)5−アルコキシ−2−(4′−シアノ−4−ビフ
ェニリル)−ピリジンをエタノールに溶解し、水酸化ナ
トリウムを加えて加熱還流しながら撹拌し、4−(5″
−アルコキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−ビフ
ェニル−4′−カルボン酸を得る。 (4)4−(5″−アルコキシ−2″−ピリミジニル)
−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン酸を過剰の塩
化チオニルと加熱還流させ、塩化物を得る。 (5)上記塩化物のクロロホルム溶液を光学活性な1,
1,1−トリフルオロ−2−アルカノールをトリエチル
アミンと共に加え撹拌し目的物を得る。 (以下余白)
【0006】
【化7】
【0007】
実施例1 1,1,1−トリフルオロ−2−オクチル 4−(5″−
n−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′
−ビフェニル−4′−カルボキシレートの合成
n−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′
−ビフェニル−4′−カルボキシレートの合成
【化8】 4−(5″−n−オクチルオキシ−2″−ピリミジニ
ル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン酸1.5
g、塩化チオニル6mlを還流下3時間反応した。反応
終了後、過剰の塩化チオニを留去して、4−(5″−n
−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−
ビフェニル−4′−カルボン酸塩化物を得た。次に、先
に合成した4−(5″−n−オクチルオキシ−2″−ピ
リミジニル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン
酸塩化物のクロロホルム(20ml)溶液を、光学活性
な1,1,1−トリフルオロ−2−オクタノール0.75
g、トリエチルアミン1.87g、クロロホルム15m
lの混合物に滴下した。滴下後、さらに室温にて一昼夜
反応した。反応終了後、反応生成物をクロロホルム抽出
した。クロロホルム層は、希塩酸、水でよく洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去
した。得られた粗生成物は、シリカゲルクロマトグラフ
ィおよび再結晶により精製し、目的化合物を0.64g
得た。 比旋光度 [α]D20+50.35(C,2.035
in CHCl3) 赤外線吸収スペクトル(KB法)図5参照 ホットステージつき偏光顕微鏡観察による相転移温度
(℃)は、次の通りである。
ル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン酸1.5
g、塩化チオニル6mlを還流下3時間反応した。反応
終了後、過剰の塩化チオニを留去して、4−(5″−n
−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−
ビフェニル−4′−カルボン酸塩化物を得た。次に、先
に合成した4−(5″−n−オクチルオキシ−2″−ピ
リミジニル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン
酸塩化物のクロロホルム(20ml)溶液を、光学活性
な1,1,1−トリフルオロ−2−オクタノール0.75
g、トリエチルアミン1.87g、クロロホルム15m
lの混合物に滴下した。滴下後、さらに室温にて一昼夜
反応した。反応終了後、反応生成物をクロロホルム抽出
した。クロロホルム層は、希塩酸、水でよく洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去
した。得られた粗生成物は、シリカゲルクロマトグラフ
ィおよび再結晶により精製し、目的化合物を0.64g
得た。 比旋光度 [α]D20+50.35(C,2.035
in CHCl3) 赤外線吸収スペクトル(KB法)図5参照 ホットステージつき偏光顕微鏡観察による相転移温度
(℃)は、次の通りである。
【表1】 但し、S*(3)は、三安定状態相を示す。
【0008】実施例2 1,1,1−トリフルオロ−2−デシル 4−(5″−n
−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−
ビフェニル−4′−カルボキシレートの合成
−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−
ビフェニル−4′−カルボキシレートの合成
【化9】 4−(5″−n−オクチルオキシ−2″−ピリミジニ
ル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン酸1.5
g、塩化チオニル6mlを還流下3時間反応した。反応
終了後、過剰の塩化チオニを留去して、4−(5″−n
−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−
ビフェニル−4′−カルボン酸塩化物を得た。次に、先
に合成した4−(5″−n−オクチルオキシ−2″−ピ
リミジニル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン
酸塩化物のクロロホルム(30ml)溶液を、光学活性
な1,1,1−トリフルオロ−2−デカノール0.97
g、トリエチルアミン1.87g、クロロホルム20m
lの混合物に滴下した。滴下後、さらに室温にて一昼夜
反応した。反応終了後、反応生成物をクロロホルム抽出
した。クロロホルム層は、希塩酸、水でよく洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去
した。得られた粗生成物は、シリカゲルクロマトグラフ
ィおよび再結晶により精製し、目的化合物を0.65g
得た。 比旋光度 [α]D20+52.88(C,2.01 i
n CHCl3) 赤外線吸収スペクトル(KB法)図6参照 ホットステージつき偏光顕微鏡観察による相転移温度
(℃)は、次の通りである。
ル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン酸1.5
g、塩化チオニル6mlを還流下3時間反応した。反応
終了後、過剰の塩化チオニを留去して、4−(5″−n
−オクチルオキシ−2″−ピリミジニル)−1,1′−
ビフェニル−4′−カルボン酸塩化物を得た。次に、先
に合成した4−(5″−n−オクチルオキシ−2″−ピ
リミジニル)−1,1′−ビフェニル−4′−カルボン
酸塩化物のクロロホルム(30ml)溶液を、光学活性
な1,1,1−トリフルオロ−2−デカノール0.97
g、トリエチルアミン1.87g、クロロホルム20m
lの混合物に滴下した。滴下後、さらに室温にて一昼夜
反応した。反応終了後、反応生成物をクロロホルム抽出
した。クロロホルム層は、希塩酸、水でよく洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去
した。得られた粗生成物は、シリカゲルクロマトグラフ
ィおよび再結晶により精製し、目的化合物を0.65g
得た。 比旋光度 [α]D20+52.88(C,2.01 i
n CHCl3) 赤外線吸収スペクトル(KB法)図6参照 ホットステージつき偏光顕微鏡観察による相転移温度
(℃)は、次の通りである。
【表2】 但し、S*(3)は、三安定状態相を示す。
【0009】比較例
【化10】 ホットステージつき偏光顕微鏡観察による目的化合物の
相転移温度(℃)は、次の通りである。
相転移温度(℃)は、次の通りである。
【表3】
【0010】実施例3 ラビング処理したポリイミド配向膜をITO電極基板上
に有するセル厚1.9μmの液晶セルに、実施例1、2
で得られた液晶化合物をそれぞれIsotropic相
において充填し、液晶薄膜セルを作成した。作成した液
晶セルを2枚の偏光板を直交させたフォトマルチプライ
ヤー付き偏光顕微鏡に、電圧0Vの状態で暗視野となる
ように配置した。この液晶セルを0.1〜1.0℃/1
分間の温度勾配にて、SA相まで徐冷する。さらに冷却
してゆき、反強誘電相において図7(A)に示す±50
Vのパルス電圧を印加する。図7(B)に示す透過率の
変化から求めた応答速度をτr、τd、τとし、実施例
1、2の化合物のデータと比較例の化合物のデータのτ
r、τd、rを図8、9、10にそれぞれ示した。Tは
測定した温度、TcはSm AからS*(3)へ転移する温
度である。τrは、反強誘電相の状態(具体的にはパル
ス電圧をかけた時)から強誘電相状態(具体的には透過
率90%になった時)に転移するまでの時間であり、τ
dは、強誘電相の状態(具体的にはパルス電圧が終った
時)から反強誘電相状態(具体的には透過率が10%に
なった時)に移転するまでの時間であり、τは、強誘電
相状態(具体的には負のパルス電圧終了時)から反強誘
電相の状態を経てつぎの強誘電相状態(具体的には正の
パルス電圧により透過率が90%になったとき)になる
までの時間である。実施例1、2は比較例と比べて応答
時間が短い。温度が変化しても応答時間の変化が小さ
く、温度特性が優れていることがわかる。
に有するセル厚1.9μmの液晶セルに、実施例1、2
で得られた液晶化合物をそれぞれIsotropic相
において充填し、液晶薄膜セルを作成した。作成した液
晶セルを2枚の偏光板を直交させたフォトマルチプライ
ヤー付き偏光顕微鏡に、電圧0Vの状態で暗視野となる
ように配置した。この液晶セルを0.1〜1.0℃/1
分間の温度勾配にて、SA相まで徐冷する。さらに冷却
してゆき、反強誘電相において図7(A)に示す±50
Vのパルス電圧を印加する。図7(B)に示す透過率の
変化から求めた応答速度をτr、τd、τとし、実施例
1、2の化合物のデータと比較例の化合物のデータのτ
r、τd、rを図8、9、10にそれぞれ示した。Tは
測定した温度、TcはSm AからS*(3)へ転移する温
度である。τrは、反強誘電相の状態(具体的にはパル
ス電圧をかけた時)から強誘電相状態(具体的には透過
率90%になった時)に転移するまでの時間であり、τ
dは、強誘電相の状態(具体的にはパルス電圧が終った
時)から反強誘電相状態(具体的には透過率が10%に
なった時)に移転するまでの時間であり、τは、強誘電
相状態(具体的には負のパルス電圧終了時)から反強誘
電相の状態を経てつぎの強誘電相状態(具体的には正の
パルス電圧により透過率が90%になったとき)になる
までの時間である。実施例1、2は比較例と比べて応答
時間が短い。温度が変化しても応答時間の変化が小さ
く、温度特性が優れていることがわかる。
【0011】
【効果】本発明の新規“反”強誘電性液晶化合物は、従
来公知の液晶化合物に較べて、応答速度の温度依存性が
極めて低い“反”強誘電性を示す液晶化合物である。
来公知の液晶化合物に較べて、応答速度の温度依存性が
極めて低い“反”強誘電性を示す液晶化合物である。
【図1】Aは印加される三角波を、Bは市販のネマチッ
ク液晶の、Cは二状態液晶の、Dは三状態液晶の、それ
ぞれの光学応答特性を示す。
ク液晶の、Cは二状態液晶の、Dは三状態液晶の、それ
ぞれの光学応答特性を示す。
【図2】クラーク/ラガウェルにより提案された強誘電
液晶分子の二つの安定した配向状態を示す。
液晶分子の二つの安定した配向状態を示す。
【図3】本発明の“反”強誘電液晶分子の三つの安定し
た配向状態を示す。
た配向状態を示す。
【図4】“反”強誘電液晶分子が印加電圧に対応してダ
ブルヒステリシスを描いて光透過率が変化することを示
す印加電圧−光透過率特性図である。
ブルヒステリシスを描いて光透過率が変化することを示
す印加電圧−光透過率特性図である。
【図5】本発明実施例1の液晶化合物の赤外線吸収スペ
クトルを示す。
クトルを示す。
【図6】本発明実施例2の液晶化合物の赤外線吸収スペ
クトルを示す。
クトルを示す。
【図7】Aは印加電圧と時間の関係を示し、Bはその印
加電圧がかかったときの液晶分子の応答状態を示すグラ
フである。
加電圧がかかったときの液晶分子の応答状態を示すグラ
フである。
【図8】実施例1、2、比較例の化合物の温度と応答速
度τrの関係を示すグラフである。
度τrの関係を示すグラフである。
【図9】実施例1、2、比較例の化合物の温度と応答速
度τdの関係を示すグラフである。
度τdの関係を示すグラフである。
【図10】実施例1、2、比較例の化合物の温度と応答
速度τの関係を示すグラフである。
速度τの関係を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 末永 仁士 兵庫県伊丹市千僧5丁目41番地 帝国化 学産業株式会社伊丹工場内 (72)発明者 長谷川 泰弘 兵庫県伊丹市千僧5丁目41番地 帝国化 学産業株式会社伊丹工場内 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 239/34 C07D 239/26 C09K 19/34 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (4)
- 【請求項1】 以下の一般式(1) 【化1】 (式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素数4〜
18のアルキル基よりなる群から選ばれた基であり、R
fは−CF3または−C2F5であり、XはO、CO
O、COまたは単結合を表し、*は光学活性炭素を示
す。)で表される反強誘電性液晶化合物。 - 【請求項2】 以下の一般式(2) 【化2】 (式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素数4〜
18のアルキル基よりなる群から選ばれた基であり、X
はO、COO、COまたは単結合を表し、*は光学活性
炭素を示す。)で表される反強誘電性液晶化合物。 - 【請求項3】 以下の一般式(3) 【化3】 (式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素数4〜
18のアルキル基よりなる群から選ばれた基であり、*
は光学活性炭素を示す。)で表される反強誘電性液晶化
合物。 - 【請求項4】 請求項1に記載の反強誘電性液晶化合物
を1種以上含有することを特徴とする、液晶組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30613692A JP3249602B2 (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 反強誘電性液晶化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30613692A JP3249602B2 (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 反強誘電性液晶化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06128236A JPH06128236A (ja) | 1994-05-10 |
JP3249602B2 true JP3249602B2 (ja) | 2002-01-21 |
Family
ID=17953492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30613692A Expired - Fee Related JP3249602B2 (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 反強誘電性液晶化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3249602B2 (ja) |
-
1992
- 1992-10-19 JP JP30613692A patent/JP3249602B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06128236A (ja) | 1994-05-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |