JP3104406B2 - 光ディスク用原板とその製造方法 - Google Patents
光ディスク用原板とその製造方法Info
- Publication number
- JP3104406B2 JP3104406B2 JP04154646A JP15464692A JP3104406B2 JP 3104406 B2 JP3104406 B2 JP 3104406B2 JP 04154646 A JP04154646 A JP 04154646A JP 15464692 A JP15464692 A JP 15464692A JP 3104406 B2 JP3104406 B2 JP 3104406B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- stamper
- manufacturing
- peripheral side
- pit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 77
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 54
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 64
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 63
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 claims description 19
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 16
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 15
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 6
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017150 AlTi Inorganic materials 0.000 description 1
- 108010076504 Protein Sorting Signals Proteins 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/007—Arrangement of the information on the record carrier, e.g. form of tracks, actual track shape, e.g. wobbled, or cross-section, e.g. v-shaped; Sequential information structures, e.g. sectoring or header formats within a track
- G11B7/00745—Sectoring or header formats within a track
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S425/00—Plastic article or earthenware shaping or treating: apparatus
- Y10S425/81—Sound record
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/913—Material designed to be responsive to temperature, light, moisture
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/21—Circular sheet or circular blank
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光等の光学的手
段を用いて情報の記録、再生または消去を行う光記録媒
体のディスク基板を作製するための光ディスク用原板
（以下スタンパ）、及び光ディスク基板の製造方法に関
するものである。
段を用いて情報の記録、再生または消去を行う光記録媒
体のディスク基板を作製するための光ディスク用原板
（以下スタンパ）、及び光ディスク基板の製造方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子計算機、情報処理システムの
発達による処理情報量の急激な増加にともない、低価格
でしかも大容量の補助記憶装置およびその記録媒体、と
りわけ光ディスクの記録媒体（以下、光記録媒体）が注
目されている。光記録媒体には、光ビームのトラッキン
グガイドのための案内溝を備えた光ディスク基板を用
い、これによって高密度記録及びランダムアクセスが実
現されている。
発達による処理情報量の急激な増加にともない、低価格
でしかも大容量の補助記憶装置およびその記録媒体、と
りわけ光ディスクの記録媒体（以下、光記録媒体）が注
目されている。光記録媒体には、光ビームのトラッキン
グガイドのための案内溝を備えた光ディスク基板を用
い、これによって高密度記録及びランダムアクセスが実
現されている。
【０００３】以下、図面を参照しながら、上述した従来
の光記録媒体の一例について説明する。
の光記録媒体の一例について説明する。
【０００４】図６は従来の光記録媒体の構造図を示すも
のである。図６において、２１は光スポットのトラッキ
ングガイドのための案内溝を備えたポリカーボネート、
ポリオレフィン、アクリル、エポキシ樹脂等のプラスチ
ックを用いたディスク基板であり、ディスク基板２１上
に、ＳｉＯ2，ＺｎＳ等の誘電体膜２２、ＴｂＦｅＣ
ｏ，ＤｙＦｅＣｏ等の記録膜２３、ＳｉＯ2，ＺｎＳ等
の中間誘電体膜２４、Ａｌ，ＡｌＴｉ，Ｃｕ等の反射膜
２５、２ＭｇＯ・ＳｉＯ2，ＺｎＳ・ＳｉＯ2，ＳｉＮ等
の保護膜２６が順次積層されており、その上にエポキシ
アクリレート，エポキシ樹脂，アクリル樹脂等のオーバ
ーコート層２７、あるいは光投入面側のエポキシアクリ
レート，エポキシ樹脂，アクリル樹脂等のハードコート
層２８によりコーティングされた構成をしている。
のである。図６において、２１は光スポットのトラッキ
ングガイドのための案内溝を備えたポリカーボネート、
ポリオレフィン、アクリル、エポキシ樹脂等のプラスチ
ックを用いたディスク基板であり、ディスク基板２１上
に、ＳｉＯ2，ＺｎＳ等の誘電体膜２２、ＴｂＦｅＣ
ｏ，ＤｙＦｅＣｏ等の記録膜２３、ＳｉＯ2，ＺｎＳ等
の中間誘電体膜２４、Ａｌ，ＡｌＴｉ，Ｃｕ等の反射膜
２５、２ＭｇＯ・ＳｉＯ2，ＺｎＳ・ＳｉＯ2，ＳｉＮ等
の保護膜２６が順次積層されており、その上にエポキシ
アクリレート，エポキシ樹脂，アクリル樹脂等のオーバ
ーコート層２７、あるいは光投入面側のエポキシアクリ
レート，エポキシ樹脂，アクリル樹脂等のハードコート
層２８によりコーティングされた構成をしている。
【０００５】このように構成された光記録媒体では、媒
体上に光ビームを照射し、光吸収による局部的な温度上
昇あるいは化学変化を誘起して記録を行う。再生は、記
録によって誘起された媒体上の局部的な変化を記録時と
は強度あるいは波長の異なる光ビームを照射し、その反
射光あるいは透過光を検出して行う。
体上に光ビームを照射し、光吸収による局部的な温度上
昇あるいは化学変化を誘起して記録を行う。再生は、記
録によって誘起された媒体上の局部的な変化を記録時と
は強度あるいは波長の異なる光ビームを照射し、その反
射光あるいは透過光を検出して行う。
【０００６】以上のように構成された光記録媒体のディ
スク基板には、加工性、取扱性、コスト等の面から一般
にポリカーボネート，ポリオレフィン，アクリル，エポ
キシ樹脂等のプラスチック材料を用い、光ディスク用原
板を保持した可動金型と固定金型との間に溶融したプラ
スチック樹脂を基板中心から高速射出し、圧縮しながら
冷却する射出成形法によって光ディスク基板の製造を行
う。
スク基板には、加工性、取扱性、コスト等の面から一般
にポリカーボネート，ポリオレフィン，アクリル，エポ
キシ樹脂等のプラスチック材料を用い、光ディスク用原
板を保持した可動金型と固定金型との間に溶融したプラ
スチック樹脂を基板中心から高速射出し、圧縮しながら
冷却する射出成形法によって光ディスク基板の製造を行
う。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、トラッキング案内溝及びプリピットがス
タンパからディスク基板に十分に転写されないという課
題を有していた。
うな構成では、トラッキング案内溝及びプリピットがス
タンパからディスク基板に十分に転写されないという課
題を有していた。
【０００８】プリピット部の深さは、読み出し時のレー
ザ波長λ、基板の屈折率ｎに対して、λ／４ｎ程度に設
定するために、スタンパを用いポリカーボネート等のプ
ラスチック材料を基板中心側から射出成形した場合、材
料の粘性とトラックピッチとの関係から、特にプリピッ
ト部の外周部分が十分に転写されないという課題を有し
ていた。
ザ波長λ、基板の屈折率ｎに対して、λ／４ｎ程度に設
定するために、スタンパを用いポリカーボネート等のプ
ラスチック材料を基板中心側から射出成形した場合、材
料の粘性とトラックピッチとの関係から、特にプリピッ
ト部の外周部分が十分に転写されないという課題を有し
ていた。
【０００９】このため、記録再生時のサーボ特性及び記
録再生特性が低下するという課題、あるいは、トラッキ
ング案内溝及びプリピットの転写が不十分な場合には、
セクター及びアドレスの識別ができないという課題を有
していた。
録再生特性が低下するという課題、あるいは、トラッキ
ング案内溝及びプリピットの転写が不十分な場合には、
セクター及びアドレスの識別ができないという課題を有
していた。
【００１０】本発明は上記課題に鑑み、トラッキング案
内溝及びプリピットを十分に転写するための光ディスク
用原板（スタンパ）とその製造方法、及び高品質な光デ
ィスク基板の製造方法を提供するものである。
内溝及びプリピットを十分に転写するための光ディスク
用原板（スタンパ）とその製造方法、及び高品質な光デ
ィスク基板の製造方法を提供するものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の光ディスク用原板の製造方法は、集光レンズ
により、レーザ光を集光させてレーザカッティングを行
うフォトレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体化、
電鋳、剥離洗浄を行うことにより光ディスク用原板を作
製する方法であって、トラッキング案内溝の外周側、あ
るいはプリピット部の内周側の少なくとも一方を開口制
限することによりレーザカッティングを行うことにより
フォトレジスト記録原盤を作製した構成を備えたことを
特徴とするスタンパの製造方法である。
に本発明の光ディスク用原板の製造方法は、集光レンズ
により、レーザ光を集光させてレーザカッティングを行
うフォトレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体化、
電鋳、剥離洗浄を行うことにより光ディスク用原板を作
製する方法であって、トラッキング案内溝の外周側、あ
るいはプリピット部の内周側の少なくとも一方を開口制
限することによりレーザカッティングを行うことにより
フォトレジスト記録原盤を作製した構成を備えたことを
特徴とするスタンパの製造方法である。
【００１２】また、本発明の光ディスク用原板は、光デ
ィスク基板に転写するためのトラッキング案内溝及びプ
リピットが設けられたものであって、プリピット部の内
周側の面よりも外周側の面が深い構成を備えたことを特
徴とするものである。
ィスク基板に転写するためのトラッキング案内溝及びプ
リピットが設けられたものであって、プリピット部の内
周側の面よりも外周側の面が深い構成を備えたことを特
徴とするものである。
【００１３】さらに、本発明の光ディスク基板の製造方
法は、透明なプラスチック材料を用い、固定金型とトラ
ッキング案内溝及びプリピットが設けられたスタンパを
保持した可動金型とを用いて射出成形法により光ディス
ク基板を成形する方法であって、プリピット部の面に対
して光ディスク内周側の面よりも光ディスク外周側の面
が深い構成のスタンパを用いて、光ディスク基板を成形
した構造を備えたことを特徴とする光ディスク基板の製
造方法である。
法は、透明なプラスチック材料を用い、固定金型とトラ
ッキング案内溝及びプリピットが設けられたスタンパを
保持した可動金型とを用いて射出成形法により光ディス
ク基板を成形する方法であって、プリピット部の面に対
して光ディスク内周側の面よりも光ディスク外周側の面
が深い構成のスタンパを用いて、光ディスク基板を成形
した構造を備えたことを特徴とする光ディスク基板の製
造方法である。
【００１４】
【作用】本発明は上記した構成により、トラッキング案
内溝及びプリピットを光ディスク基板に十分に転写でき
る光ディスク用原板とその製造方法、及び高品質な光デ
ィスク基板の製造方法を実現できることとなる。
内溝及びプリピットを光ディスク基板に十分に転写でき
る光ディスク用原板とその製造方法、及び高品質な光デ
ィスク基板の製造方法を実現できることとなる。
【００１５】
【実施例】以下本発明の一実施例の光ディスク用原板
（スタンパ）の製造方法について、図面を参照しながら
説明する。
（スタンパ）の製造方法について、図面を参照しながら
説明する。
【００１６】図１（ａ）は、本発明の第１の実施例にお
けるスタンパの製造のためのレーザカッティング装置の
構成図、図１（ｂ）は集光レンズ部分の拡大図をそれぞ
れ示すものである。また図２はスタンパの製造方法の工
程図を示すものである。
けるスタンパの製造のためのレーザカッティング装置の
構成図、図１（ｂ）は集光レンズ部分の拡大図をそれぞ
れ示すものである。また図２はスタンパの製造方法の工
程図を示すものである。
【００１７】図１（ａ），（ｂ）において、３はアルゴ
ンレーザ、１はフォトレジストに用いる記録原盤、２は
アルゴンレーザ３をフォトレジスト記録原盤１上に集光
するための集光レンズ、４，５，１１はミラー、６はレ
ーザ出力変動によるノイズを除去するためのノイズイー
タ、７は光強度変調器、８はフォーカス制御のためのＨ
ｅ−Ｎｅレーザ、９，１２は偏光ビームスプリッタ、１
０はフオーカス誤差信号検出のためのセンサ、１３は開
口制限を行うための集光レンズ２用のマスクである。
ンレーザ、１はフォトレジストに用いる記録原盤、２は
アルゴンレーザ３をフォトレジスト記録原盤１上に集光
するための集光レンズ、４，５，１１はミラー、６はレ
ーザ出力変動によるノイズを除去するためのノイズイー
タ、７は光強度変調器、８はフォーカス制御のためのＨ
ｅ−Ｎｅレーザ、９，１２は偏光ビームスプリッタ、１
０はフオーカス誤差信号検出のためのセンサ、１３は開
口制限を行うための集光レンズ２用のマスクである。
【００１８】次に、本実施例におけるスタンパの製造方
法に於けるフォトレジスト記録原盤のカッティング方法
について説明すると、レーザカッティング装置のアルゴ
ンレーザ３のレーザビーム１４は、ミラー４，５を通過
し、ノイズイータ６、光強度変調器７によりノイズ除
去、強度設定した後、ミラー１１、偏光ビームスプリッ
タ１２を通過して、集光レンズ２によりフォトレジスト
記録原盤１上に集光してカッティングする。ここで、本
実施例のカッティング装置では、図１（ｂ）に示すよう
に、集光レンズ２の一部を開口制限できるマスク１３を
備えた構成になっている。なお、従来のスタンパの製造
方法では、レーザカッティング装置の集光レンズは、ト
ラッキング案内溝及びプリピット部を形成するためにア
ルゴンレーザをフォトレジスト記録原盤上に開口制限す
ることなくそのまま集光してカッティングを行ってい
た。
法に於けるフォトレジスト記録原盤のカッティング方法
について説明すると、レーザカッティング装置のアルゴ
ンレーザ３のレーザビーム１４は、ミラー４，５を通過
し、ノイズイータ６、光強度変調器７によりノイズ除
去、強度設定した後、ミラー１１、偏光ビームスプリッ
タ１２を通過して、集光レンズ２によりフォトレジスト
記録原盤１上に集光してカッティングする。ここで、本
実施例のカッティング装置では、図１（ｂ）に示すよう
に、集光レンズ２の一部を開口制限できるマスク１３を
備えた構成になっている。なお、従来のスタンパの製造
方法では、レーザカッティング装置の集光レンズは、ト
ラッキング案内溝及びプリピット部を形成するためにア
ルゴンレーザをフォトレジスト記録原盤上に開口制限す
ることなくそのまま集光してカッティングを行ってい
た。
【００１９】これに対し、本実施例におけるスタンパの
製造方法では、レーザカッティング装置の集光レンズ２
はトラッキング案内溝のカッティングの場合には、従来
同様アルゴンレーザ３のレーザビームを、フォトレジス
ト記録原盤１上に開口制限なしでそのまま集光する。次
にプリピット部のカッテイングの場合には、集光レンズ
の内周側をレンズ直径に対して３０％開口制限する。こ
の開口制限により、レーザビーム１４がプリピット部の
内周側に約０．３μｍ（プリピット部と案内溝との間隔
程度）広がるために、フォトレジスト記録原盤１のプリ
ピット部の内周側の面を外周側の面よりも低くすること
ができる。このフォトレジスト記録原盤１を用いて、図
２のスタンパの製造方法の工程図に示すように、現像、
表面導体化、電鋳を行い、剥離洗浄することによりスタ
ンパを作製することができる。このようにして作製した
スタンパは、プリピット部の内周側の面（以下ランド
部）よりも外周側のランド部を深く設定できる。
製造方法では、レーザカッティング装置の集光レンズ２
はトラッキング案内溝のカッティングの場合には、従来
同様アルゴンレーザ３のレーザビームを、フォトレジス
ト記録原盤１上に開口制限なしでそのまま集光する。次
にプリピット部のカッテイングの場合には、集光レンズ
の内周側をレンズ直径に対して３０％開口制限する。こ
の開口制限により、レーザビーム１４がプリピット部の
内周側に約０．３μｍ（プリピット部と案内溝との間隔
程度）広がるために、フォトレジスト記録原盤１のプリ
ピット部の内周側の面を外周側の面よりも低くすること
ができる。このフォトレジスト記録原盤１を用いて、図
２のスタンパの製造方法の工程図に示すように、現像、
表面導体化、電鋳を行い、剥離洗浄することによりスタ
ンパを作製することができる。このようにして作製した
スタンパは、プリピット部の内周側の面（以下ランド
部）よりも外周側のランド部を深く設定できる。
【００２０】このように、集光レンズによりレーザ光を
集光させてレーザカッティングを行うフォトレジスト記
録原盤を用い、現像、表面導体化、電鋳、剥離洗浄を行
うことによりスタンパを作製する方法であって、プリピ
ット部の内周側を開口制限することによりレーザカッテ
ィングを行ったフォトレジスト記録原盤を用いて作製す
るスタンパの製造方法により、プリピット部の内周側の
ランド部よりも外周側のランド部を深い構成を備えたス
タンパの製造方法を実現できることとなる。
集光させてレーザカッティングを行うフォトレジスト記
録原盤を用い、現像、表面導体化、電鋳、剥離洗浄を行
うことによりスタンパを作製する方法であって、プリピ
ット部の内周側を開口制限することによりレーザカッテ
ィングを行ったフォトレジスト記録原盤を用いて作製す
るスタンパの製造方法により、プリピット部の内周側の
ランド部よりも外周側のランド部を深い構成を備えたス
タンパの製造方法を実現できることとなる。
【００２１】図３は、本発明の第２の実施例におけるス
タンパの構造図を示すものである。図３において、１５
はスタンパ、１６は１．６μｍピッチでスパイラル状に
形成したトラッキングガイドのための案内溝、１７はプ
リピットの信号列である。本実施例のスタンパは、プリ
ピット信号をアルゴンレーザを用いてレーザカッティン
グする際に、カッティングするプリピット部の内周側を
開口制限する、あるいは、案内溝をカッティングする場
合とプリピット部をカッティングする場合とのレンズの
開口度を変えることにより、プリピット部に対して内周
側の面を外周側の面より低い構造のフォトレジスト記録
原盤を作製することができる。このフォトレジスト記録
原盤を現像、表面導体化、電鋳し、剥離洗浄することに
より、プリピット部の内周側のランド部よりも外周側の
ランド部が深い構成のスタンパ１５を実現できる。ここ
で、本実施例におけるスタンパ１５では、プリピット部
１７の外周側のランド部を内周側のランド部よりも２０
ｎｍ深く設定した構成となっている。
タンパの構造図を示すものである。図３において、１５
はスタンパ、１６は１．６μｍピッチでスパイラル状に
形成したトラッキングガイドのための案内溝、１７はプ
リピットの信号列である。本実施例のスタンパは、プリ
ピット信号をアルゴンレーザを用いてレーザカッティン
グする際に、カッティングするプリピット部の内周側を
開口制限する、あるいは、案内溝をカッティングする場
合とプリピット部をカッティングする場合とのレンズの
開口度を変えることにより、プリピット部に対して内周
側の面を外周側の面より低い構造のフォトレジスト記録
原盤を作製することができる。このフォトレジスト記録
原盤を現像、表面導体化、電鋳し、剥離洗浄することに
より、プリピット部の内周側のランド部よりも外周側の
ランド部が深い構成のスタンパ１５を実現できる。ここ
で、本実施例におけるスタンパ１５では、プリピット部
１７の外周側のランド部を内周側のランド部よりも２０
ｎｍ深く設定した構成となっている。
【００２２】次に本発明の第３の実施例の光ディスク基
板の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
板の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
【００２３】図４は、本発明の第３の実施例における光
ディスク基板の射出成形装置の構造図を示すものであ
る。図４において、３１は光ディスク基板としてポリカ
ーボネートが射出成形されるキャビティ（製品部）、３
２は固定金型、３３は可動金型、３４は１．６μｍピッ
チでスパイラル状のトラッキングガイドの溝及びプリピ
ット信号を形成するためのスタンパであり、可動金型３
３に保持されている。３５はポリカーボネート樹脂供給
用のノズル、３６はポリカーボネートの溶融樹脂、３７
はポリカーボネート樹脂溶融のための加熱シリンダ、３
８は溶融樹脂射出のためのスクリュー、３９はポリカー
ボネートのペレット、４０はポリカーボネートのペレッ
ト３９の乾燥装置である。
ディスク基板の射出成形装置の構造図を示すものであ
る。図４において、３１は光ディスク基板としてポリカ
ーボネートが射出成形されるキャビティ（製品部）、３
２は固定金型、３３は可動金型、３４は１．６μｍピッ
チでスパイラル状のトラッキングガイドの溝及びプリピ
ット信号を形成するためのスタンパであり、可動金型３
３に保持されている。３５はポリカーボネート樹脂供給
用のノズル、３６はポリカーボネートの溶融樹脂、３７
はポリカーボネート樹脂溶融のための加熱シリンダ、３
８は溶融樹脂射出のためのスクリュー、３９はポリカー
ボネートのペレット、４０はポリカーボネートのペレッ
ト３９の乾燥装置である。
【００２４】次に、この射出成形装置を用いたディスク
基板の製造方法について述べる。乾燥装置４０の中のポ
リカーボネートのペレット３９は加熱シリンダ３７に供
給され、加熱シリンダ３７内で加熱されたポリカーボネ
ートの溶融樹脂３６は、溶融樹脂射出のためのスクリュ
ー３８により、高温のまま樹脂供給用のノズル３５を通
して固定金型３２及び可動金型３３の間の内周側から高
速射出されキャビティ３１に充填される。射出工程と
は、この高速射出する高速領域から、保圧領域を経て樹
脂がキャビティ３１に充填される工程である。また射出
工程の保圧領域とタイミングをあわせて、固定金型３２
と可動金型３３とで溶融樹脂を圧縮しながら冷却する工
程が、射出圧縮工程である。そして、冷却し成形が完了
した後、固定金型３２から可動金型３３を離し、ポリカ
ーボネートの光ディスク基板を取り出す。本実施例の光
ディスク基板の作製方法では、図３に示したスタンパと
同じように、プリピット部の外周側のランド部を内周側
のランド部よりも２０ｎｍ深く設定した構成のスタンパ
３４を、可動金型３３に取り付けてある。射出圧縮行程
の圧縮圧力と溶融したポリカーボネートの粘性とプリピ
ット部の高さとの関係から、溶融したポリカーボネート
はプリピット部の内周側のランド部よりも外周側のラン
ド部にはいる量が小さく、このため、プリピット部の内
周側のランド部と外周側のランド部とをほぼ同じ高さの
光ディスク基板を成形できる。この結果、トラッキング
案内溝及び、プリピット部の信号を十分に転写でき、記
録再生時のサーボ特性及び記録再生特性が低下すること
なく、あるいは、セクター及びアドレスの識別ができな
いことが原因で生ずるエラー等の発生しない優れた光デ
ィスク基板の製造方法を実現できる。
基板の製造方法について述べる。乾燥装置４０の中のポ
リカーボネートのペレット３９は加熱シリンダ３７に供
給され、加熱シリンダ３７内で加熱されたポリカーボネ
ートの溶融樹脂３６は、溶融樹脂射出のためのスクリュ
ー３８により、高温のまま樹脂供給用のノズル３５を通
して固定金型３２及び可動金型３３の間の内周側から高
速射出されキャビティ３１に充填される。射出工程と
は、この高速射出する高速領域から、保圧領域を経て樹
脂がキャビティ３１に充填される工程である。また射出
工程の保圧領域とタイミングをあわせて、固定金型３２
と可動金型３３とで溶融樹脂を圧縮しながら冷却する工
程が、射出圧縮工程である。そして、冷却し成形が完了
した後、固定金型３２から可動金型３３を離し、ポリカ
ーボネートの光ディスク基板を取り出す。本実施例の光
ディスク基板の作製方法では、図３に示したスタンパと
同じように、プリピット部の外周側のランド部を内周側
のランド部よりも２０ｎｍ深く設定した構成のスタンパ
３４を、可動金型３３に取り付けてある。射出圧縮行程
の圧縮圧力と溶融したポリカーボネートの粘性とプリピ
ット部の高さとの関係から、溶融したポリカーボネート
はプリピット部の内周側のランド部よりも外周側のラン
ド部にはいる量が小さく、このため、プリピット部の内
周側のランド部と外周側のランド部とをほぼ同じ高さの
光ディスク基板を成形できる。この結果、トラッキング
案内溝及び、プリピット部の信号を十分に転写でき、記
録再生時のサーボ特性及び記録再生特性が低下すること
なく、あるいは、セクター及びアドレスの識別ができな
いことが原因で生ずるエラー等の発生しない優れた光デ
ィスク基板の製造方法を実現できる。
【００２５】ここで、本実施例の製造方法で作製した光
ディスク基板を走査型トンネル顕微鏡（以下ＳＴＭ）で
観察した断面図を示す。
ディスク基板を走査型トンネル顕微鏡（以下ＳＴＭ）で
観察した断面図を示す。
【００２６】図５（ａ）に、従来のスタンパを用いた方
法により作製した光ディスク基板をＳＴＭで観察したと
きの断面図を示す。従来のスタンパでは、プリピット部
の内周側のランド部と外周側のランド部とが同じ深さの
スタンパを用いている。ここで、プリピット部の深さは
読み出し時のレーザ波長λ、基板の屈折率ｎに対して、
λ／４ｎ程度と深く設定されている。このため、基板中
心側からスタンパを保持した可動金型と固定金型との間
に溶融したポリカーボネート等のプラスチック樹脂を高
速射出し、射出成形法によって光ディスク基板の製造を
行う場合、材料の粘性とトラックピッチとの関係から、
スタンパのプリピット部、特にプリピット部の外周側に
溶融樹脂が入り込むことが出来ず、外周側のランド部を
光ディスク基板に十分に転写することができない。この
ため、図５（ａ）の従来の方法により作製した光ディス
ク基板の断面図に示すように、プリピット部の内周側の
ランド部に比べて外周側のランド部が約１５ｎｍ浅くな
っている。この場合１．６μｍのトラックピッチである
が、トラックピッチが狭くなるとプリピット部の内周側
のランド部と外周側のランド部との高さの差がさらに大
きくなる。また、射出時の圧縮圧力を大きくして無理に
転写させようとするとチルトあるいは偏心加速度が大き
くなり、機械特性に問題が生ずる。その結果、記録再生
時のサーボ特性及び記録再生特性が低下するという課
題、あるいは、トラッキング案内溝及びプリピットの転
写が不十分な場合には、セクター及びアドレスの識別が
できないという課題の原因になっていた。
法により作製した光ディスク基板をＳＴＭで観察したと
きの断面図を示す。従来のスタンパでは、プリピット部
の内周側のランド部と外周側のランド部とが同じ深さの
スタンパを用いている。ここで、プリピット部の深さは
読み出し時のレーザ波長λ、基板の屈折率ｎに対して、
λ／４ｎ程度と深く設定されている。このため、基板中
心側からスタンパを保持した可動金型と固定金型との間
に溶融したポリカーボネート等のプラスチック樹脂を高
速射出し、射出成形法によって光ディスク基板の製造を
行う場合、材料の粘性とトラックピッチとの関係から、
スタンパのプリピット部、特にプリピット部の外周側に
溶融樹脂が入り込むことが出来ず、外周側のランド部を
光ディスク基板に十分に転写することができない。この
ため、図５（ａ）の従来の方法により作製した光ディス
ク基板の断面図に示すように、プリピット部の内周側の
ランド部に比べて外周側のランド部が約１５ｎｍ浅くな
っている。この場合１．６μｍのトラックピッチである
が、トラックピッチが狭くなるとプリピット部の内周側
のランド部と外周側のランド部との高さの差がさらに大
きくなる。また、射出時の圧縮圧力を大きくして無理に
転写させようとするとチルトあるいは偏心加速度が大き
くなり、機械特性に問題が生ずる。その結果、記録再生
時のサーボ特性及び記録再生特性が低下するという課
題、あるいは、トラッキング案内溝及びプリピットの転
写が不十分な場合には、セクター及びアドレスの識別が
できないという課題の原因になっていた。
【００２７】これに対し、本実施例の製造方法で作製し
た光ディスク基板をＳＴＭで観察したときの断面図を図
５（ｂ）に示してある。本実施例の光ディスク基板の作
製に用いたスタンパ３４では、図３に示したスタンパと
同じように、プリピット部の内周側のランド部よりも外
周側のランド部を２０ｎｍ深く設定した構成となってい
る。このため、成形した基板はプリピット部の内周側の
ランド部と外周側のランド部とをほぼ同じ深さに出来
る。この結果、トラッキング案内溝及び、プリピット部
の信号を十分に転写でき、記録再生時のサーボ特性及び
記録再生特性が低下することなく、あるいは、セクター
及びアドレスの識別ができないことが原因で生ずるエラ
ー等の発生しない優れた光ディスク基板の製造方法を実
現できる。
た光ディスク基板をＳＴＭで観察したときの断面図を図
５（ｂ）に示してある。本実施例の光ディスク基板の作
製に用いたスタンパ３４では、図３に示したスタンパと
同じように、プリピット部の内周側のランド部よりも外
周側のランド部を２０ｎｍ深く設定した構成となってい
る。このため、成形した基板はプリピット部の内周側の
ランド部と外周側のランド部とをほぼ同じ深さに出来
る。この結果、トラッキング案内溝及び、プリピット部
の信号を十分に転写でき、記録再生時のサーボ特性及び
記録再生特性が低下することなく、あるいは、セクター
及びアドレスの識別ができないことが原因で生ずるエラ
ー等の発生しない優れた光ディスク基板の製造方法を実
現できる。
【００２８】このように、光ディスク基板に転写するた
めのトラッキング案内溝及びプリピットが設けられたス
タンパであって、プリピット部の内周側の面よりも外周
側の面が深い構成を備えたスタンパ、さらに、透明なプ
ラスチック材料を用い、固定金型とトラッキング案内溝
及びプリピットが設けられたスタンパを保持した可動金
型を用いて射出成形法により光ディスク基板を成形する
方法であって、プリピット部の面に対して内周側のラン
ド部よりも外周側のランド部が深い構成のスタンパを用
いて成形した光ディスク基板の製造方法を用いた構成に
より、トラッキング案内溝及びプリピットを光ディスク
基板に十分に転写できるスタンパ、及び、高品質な光デ
ィスク基板の製造方法を実現できることとなる。
めのトラッキング案内溝及びプリピットが設けられたス
タンパであって、プリピット部の内周側の面よりも外周
側の面が深い構成を備えたスタンパ、さらに、透明なプ
ラスチック材料を用い、固定金型とトラッキング案内溝
及びプリピットが設けられたスタンパを保持した可動金
型を用いて射出成形法により光ディスク基板を成形する
方法であって、プリピット部の面に対して内周側のラン
ド部よりも外周側のランド部が深い構成のスタンパを用
いて成形した光ディスク基板の製造方法を用いた構成に
より、トラッキング案内溝及びプリピットを光ディスク
基板に十分に転写できるスタンパ、及び、高品質な光デ
ィスク基板の製造方法を実現できることとなる。
【００２９】なお、本発明の第１の実施例では、集光レ
ンズによりレーザ光を集光させてレーザカッティングを
行うフォトレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体
化、電鋳、剥離洗浄を行うことによりスタンパを作製す
る方法であって、レーザカッティングを行う集光レンズ
はトラッキング案内溝のカッティングの場合には、従来
同様アルゴンレーザをフォトレジスト記録原盤上に開口
制限なしでそのまま集光し、次にプリピット部のカッテ
ィングの場合には、集光レンズの内周側を開口制限する
ことにより、プリピット部の内周側の面を外周側の面よ
りも低くすることができるフォトレジスト記録原盤を用
いたスタンパの製造方法について述べてきたが、トラッ
キング案内溝の外周側、あるいはプリピット部の内周側
の少なくとも一方を開口制限することによりレーザカッ
ティングを行うことにより、プリピット部の内周側の面
を外周側の面よりも低くすることができるフォトレジス
ト記録原盤を用いて、図２のスタンパの製造方法の工程
図に示すように、現像、表面導体化、電鋳を行い、剥離
洗浄することにより作製したスタンパの製造方法であっ
て、プリピット部の内周側のランド部よりも外周側のラ
ンド部を深くした構成にできるスタンパの製造方法であ
ればよい。
ンズによりレーザ光を集光させてレーザカッティングを
行うフォトレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体
化、電鋳、剥離洗浄を行うことによりスタンパを作製す
る方法であって、レーザカッティングを行う集光レンズ
はトラッキング案内溝のカッティングの場合には、従来
同様アルゴンレーザをフォトレジスト記録原盤上に開口
制限なしでそのまま集光し、次にプリピット部のカッテ
ィングの場合には、集光レンズの内周側を開口制限する
ことにより、プリピット部の内周側の面を外周側の面よ
りも低くすることができるフォトレジスト記録原盤を用
いたスタンパの製造方法について述べてきたが、トラッ
キング案内溝の外周側、あるいはプリピット部の内周側
の少なくとも一方を開口制限することによりレーザカッ
ティングを行うことにより、プリピット部の内周側の面
を外周側の面よりも低くすることができるフォトレジス
ト記録原盤を用いて、図２のスタンパの製造方法の工程
図に示すように、現像、表面導体化、電鋳を行い、剥離
洗浄することにより作製したスタンパの製造方法であっ
て、プリピット部の内周側のランド部よりも外周側のラ
ンド部を深くした構成にできるスタンパの製造方法であ
ればよい。
【００３０】さらに、本発明の第１の実施例では、プリ
ピット部のレーザカッティングを行う場合の集光レンズ
の内周側を、レンズ直径に対して３０％開口制限するこ
とにより、レーザビームがプリピット部の内周側に約
０．３μｍ（プリピット部と案内溝との間隔程度）広げ
てカッティングし、プリピット部の内周側の面を外周側
の面よりも低くしたフォトレジスト記録原盤を用いて作
製した。スタンパの製造方法について述べてきたが、集
光レンズの開口制限をトラックピッチの大きさに合わせ
て設定し、プリピット部の内周側の面（プリピット部と
案内溝との間の面）が、プリピット部の外周側の面より
も低くしたフォトレジスト記録原盤を用いて作製したス
タンパの製造方法であれば、同等あるいはそれ以上の効
果が得られる。
ピット部のレーザカッティングを行う場合の集光レンズ
の内周側を、レンズ直径に対して３０％開口制限するこ
とにより、レーザビームがプリピット部の内周側に約
０．３μｍ（プリピット部と案内溝との間隔程度）広げ
てカッティングし、プリピット部の内周側の面を外周側
の面よりも低くしたフォトレジスト記録原盤を用いて作
製した。スタンパの製造方法について述べてきたが、集
光レンズの開口制限をトラックピッチの大きさに合わせ
て設定し、プリピット部の内周側の面（プリピット部と
案内溝との間の面）が、プリピット部の外周側の面より
も低くしたフォトレジスト記録原盤を用いて作製したス
タンパの製造方法であれば、同等あるいはそれ以上の効
果が得られる。
【００３１】また、本発明の第２の実施例では、プリピ
ット部の外周側のランド部を内周側のランド部よりも２
０ｎｍ深く設定しているスタンパについて述べてきた
が、光ディスク基板のトラックピッチの大きさと成形条
件に合わせて、プリピット部の外周側の面が内周側の面
より１０ｎｍ〜５０ｎｍ深いスタンパであれば、さらに
それ以上の効果が得られる。
ット部の外周側のランド部を内周側のランド部よりも２
０ｎｍ深く設定しているスタンパについて述べてきた
が、光ディスク基板のトラックピッチの大きさと成形条
件に合わせて、プリピット部の外周側の面が内周側の面
より１０ｎｍ〜５０ｎｍ深いスタンパであれば、さらに
それ以上の効果が得られる。
【００３２】さらに、本実施例では、光スポットのトラ
ッキングガイドのための案内溝を備えたポリカーボネー
トの光ディスク基板を成形する製造方法について述べて
きたが、透明なプラスチック材料としては、ポリオレフ
ィン、アクリルを用いても、本発明を用いた射出成形法
により成形する製造方法であればよい。
ッキングガイドのための案内溝を備えたポリカーボネー
トの光ディスク基板を成形する製造方法について述べて
きたが、透明なプラスチック材料としては、ポリオレフ
ィン、アクリルを用いても、本発明を用いた射出成形法
により成形する製造方法であればよい。
【００３３】以上のように本実施例によれば、集光レン
ズによりレーザ光を集光させてレーザカッティングを行
うフォトレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体化、
電鋳、剥離洗浄を行うことによりスタンパを作製する方
法であって、トラッキング案内溝の外周側、あるいは、
プリピット部の内周側の少なくとも一方を開口制限する
ことによりレーザカッティングを行うことによりフォト
レジスト記録原盤を作製したことを特徴とするスタンパ
の製造方法、あるいは、ディスク基板に転写するための
トラッキング案内溝及びプリピットが設けられたスタン
パであって、プリピット部の内周側のランド部よりも外
周側のランド部が深い構成を備えたことを特徴とするス
タンパ、さらに、透明なプラスチック材料を用い、固定
金型とトラッキング案内溝及びプリピットが設けられた
スタンパを保持した可動金型を用いて射出成形法により
光ディスク基板を成形する方法であって、プリピット部
の面に対して内周側のランド部よりも外周側のランド部
が深い構成のスタンパを用いて、光ディスク基板を成形
したことを特徴とする光ディスク基板の製造方法を用い
た構成により、トラッキング案内溝及びプリピットを光
ディスク基板に十分に転写できるスタンパとその製造方
法、及び、高品質で優れた光ディスク基板の製造方法を
実現することができる。
ズによりレーザ光を集光させてレーザカッティングを行
うフォトレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体化、
電鋳、剥離洗浄を行うことによりスタンパを作製する方
法であって、トラッキング案内溝の外周側、あるいは、
プリピット部の内周側の少なくとも一方を開口制限する
ことによりレーザカッティングを行うことによりフォト
レジスト記録原盤を作製したことを特徴とするスタンパ
の製造方法、あるいは、ディスク基板に転写するための
トラッキング案内溝及びプリピットが設けられたスタン
パであって、プリピット部の内周側のランド部よりも外
周側のランド部が深い構成を備えたことを特徴とするス
タンパ、さらに、透明なプラスチック材料を用い、固定
金型とトラッキング案内溝及びプリピットが設けられた
スタンパを保持した可動金型を用いて射出成形法により
光ディスク基板を成形する方法であって、プリピット部
の面に対して内周側のランド部よりも外周側のランド部
が深い構成のスタンパを用いて、光ディスク基板を成形
したことを特徴とする光ディスク基板の製造方法を用い
た構成により、トラッキング案内溝及びプリピットを光
ディスク基板に十分に転写できるスタンパとその製造方
法、及び、高品質で優れた光ディスク基板の製造方法を
実現することができる。
【００３４】
【発明の効果】以上のように本発明は、集光レンズによ
りレーザ光を集光させてレーザカッティングを行うフォ
トレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体化、電鋳、
剥離洗浄を行うことによりスタンパを作製する方法であ
って、トラッキング案内溝の外周側、あるいは、プリピ
ット部の内周側の少なくとも一方を開口制限することに
よりレーザカッティングを行うことによりフォトレジス
ト記録原盤を作製したことを特徴とするスタンパの製造
方法、あるいは、ディスク基板に転写するためのトラッ
キング案内溝及びプリピットが設けられたスタンパであ
って、プリピット部の内周側の面よりも外周側の面が深
い構成を備えたことを特徴とするスタンパ、さらに、透
明なプラスチック材料を用い、固定金型とトラッキング
案内溝及びプリピットが設けられたスタンパを保持した
可動金型を用いて射出成形法により光ディスク基板を成
形する方法であって、プリピット部の面に対して内周側
の面よりも外周側の面が深い構成のスタンパを用いて、
光ディスク基板を成形したことを特徴とする光ディスク
基板の製造方法を用いた構成により、トラッキング案内
溝及びプリピットを光ディスク基板に十分に転写できる
スタンパとその製造方法、及び、高品質で優れた光ディ
スク基板の製造方法を実現することができる。
りレーザ光を集光させてレーザカッティングを行うフォ
トレジスト記録原盤を用い、現像、表面導体化、電鋳、
剥離洗浄を行うことによりスタンパを作製する方法であ
って、トラッキング案内溝の外周側、あるいは、プリピ
ット部の内周側の少なくとも一方を開口制限することに
よりレーザカッティングを行うことによりフォトレジス
ト記録原盤を作製したことを特徴とするスタンパの製造
方法、あるいは、ディスク基板に転写するためのトラッ
キング案内溝及びプリピットが設けられたスタンパであ
って、プリピット部の内周側の面よりも外周側の面が深
い構成を備えたことを特徴とするスタンパ、さらに、透
明なプラスチック材料を用い、固定金型とトラッキング
案内溝及びプリピットが設けられたスタンパを保持した
可動金型を用いて射出成形法により光ディスク基板を成
形する方法であって、プリピット部の面に対して内周側
の面よりも外周側の面が深い構成のスタンパを用いて、
光ディスク基板を成形したことを特徴とする光ディスク
基板の製造方法を用いた構成により、トラッキング案内
溝及びプリピットを光ディスク基板に十分に転写できる
スタンパとその製造方法、及び、高品質で優れた光ディ
スク基板の製造方法を実現することができる。
【図１】（ａ）本発明の第１の実施例に於けるスタンパ
の製造のためのレーザカッティング装置の構成図 （ｂ）同集光レンズ部分の拡大図
の製造のためのレーザカッティング装置の構成図 （ｂ）同集光レンズ部分の拡大図
【図２】本発明の第１の実施例に於けるスタンパの製造
方法の工程図
方法の工程図
【図３】本発明の第２の実施例に於けるスタンパの構造
図
図
【図４】本発明の第３の実施例に於ける光ディスク基板
の射出成形装置の構造図
の射出成形装置の構造図
【図５】光ディスク基板をＳＴＭ観察した断面図 （ａ）従来の光ディスク基板の製造方法で成形した光デ
ィスク基板 （ｂ）本発明の第３の実施例に於ける光ディスク基板の
製造方法で成形した光ディスク基板
ィスク基板 （ｂ）本発明の第３の実施例に於ける光ディスク基板の
製造方法で成形した光ディスク基板
【図６】従来の光記録媒体の構造図
１ フォトレジスト記録原盤 ２ 集光レンズ ３ アルゴンレーザ ４ ミラー ５ ミラー ６ ノイズイータ ７ 光強度変調器 ８ Ｈｅ−Ｎｅレーザ ９ 偏光ビームスプリッタ １０ フォーカス検出センサ １１ ミラー １２ 偏光ビームスプリッタ １３ レンズ用マスク １４ レーザビーム １５ スタンパ １６ 案内溝 １７ プリピット ３１ 光ディスク基板としてポリカーボネートが射出成
形されるキャビティ（製品部） ３２ 固定金型 ３３ 可動金型 ３４ スタンパ ３５ ポリカーボネート樹脂供給用のノズル ３６ ポリカーボネートの溶融樹脂 ３７ ポリカーボネート樹脂溶融のための加熱シリンダ ３８ 溶融樹脂射出のためのスクリュー ３９ ポリカーボネートのペレット ４０ 乾燥装置
形されるキャビティ（製品部） ３２ 固定金型 ３３ 可動金型 ３４ スタンパ ３５ ポリカーボネート樹脂供給用のノズル ３６ ポリカーボネートの溶融樹脂 ３７ ポリカーボネート樹脂溶融のための加熱シリンダ ３８ 溶融樹脂射出のためのスクリュー ３９ ポリカーボネートのペレット ４０ 乾燥装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/26 B29C 33/38 B29C 59/02 B29L 17:00
Claims (3)
- 【請求項１】光ディスク基板に転写するためのトラッキ
ング案内溝及びプリピットが設けられた光ディスク用原
板であって、前記プリピット部を挟んで内周側及び外周側の面の深さ
を比較した場合、前記プリピットの前記内周側の面より
も前記外周側の面のほうが深いことを特徴とする光ディ
スク用原板 。 - 【請求項２】前記プリピットの面を基準とした場合、前
記プリピットの前記内周側の面よりも前記外周側の面の
ほうが深いことを特徴とする、請求項１記載の光ディス
ク用原板。 - 【請求項３】原盤に対してレーザ光を集光させてレーザ
カッティングを行うことによりフォトレジスト記録原板
を作成し、前記フォトレジスト記録原板を用いて光ディ
スク用原板を作成する方法であって、 前記フォトレジスト記録原板の作成において、光ディス
クのトラッキング案内溝の外周側に相当する部分、ある
いはプリピット部の内周側に相当する部分のうち少なく
とも一方をレーザカッティングする場合、前記レーザ光
に対して開口制限を行ってレーザカッティングを実施す
ることを特徴とする光ディスク用原板の製造方法 。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04154646A JP3104406B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | 光ディスク用原板とその製造方法 |
| US08/076,848 US5582891A (en) | 1992-06-15 | 1993-06-15 | Optical disk substrate with land planes of uniform height |
| US08/429,481 US5679386A (en) | 1992-06-15 | 1995-04-25 | Optical disk formation member for making an optical disk substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04154646A JP3104406B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | 光ディスク用原板とその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11166417A Division JP3129308B2 (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 光ディスク基板、光ディスク、および光ディスク基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05342642A JPH05342642A (ja) | 1993-12-24 |
| JP3104406B2 true JP3104406B2 (ja) | 2000-10-30 |
Family
ID=15588781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04154646A Expired - Lifetime JP3104406B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | 光ディスク用原板とその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5582891A (ja) |
| JP (1) | JP3104406B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6002663A (en) | 1997-04-17 | 1999-12-14 | Imation Corp. | Hubless optical disc having low radial runout and method of manufacture |
| BR0008208A (pt) | 1999-02-12 | 2002-02-19 | Gen Electric | Meios de armazenamento de dados |
| EP1192034B1 (en) | 1999-06-07 | 2003-06-18 | Imation Corp. | Method of forming an optical disk with reduced edge wedge |
| US20050017384A1 (en) * | 1999-11-11 | 2005-01-27 | Kiminori Tamai | Substrate for optical disk provided with hard-coating layer and method of producing the same |
| JP5175413B2 (ja) * | 2001-03-12 | 2013-04-03 | ソニー株式会社 | ディスク記録媒体、再生装置、記録装置 |
| US6611365B2 (en) | 2001-03-20 | 2003-08-26 | Imation Corp. | Thermoplastic substrates for holographic data storage media |
| US6961950B2 (en) * | 2001-09-04 | 2005-11-01 | Imation Corp. | Variable thickness stamper for creation of flat molded substrates |
| US7914711B2 (en) * | 2002-01-24 | 2011-03-29 | Dphi Acquisitions, Inc. | Use of mother stamper for optical disk molding |
| US7455889B2 (en) * | 2004-03-24 | 2008-11-25 | Imation Corp. | Holographic media fabrication techniques |
| JP2008016109A (ja) * | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Victor Co Of Japan Ltd | 光記録媒体 |
| US9029524B2 (en) * | 2007-12-10 | 2015-05-12 | California Institute Of Technology | Signal activated RNA interference |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835742A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-03-02 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体円盤の製作に用いられるスタンパの製作法 |
| JPS63237234A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | デイスク原盤 |
| JP2548186B2 (ja) * | 1987-04-13 | 1996-10-30 | パイオニア株式会社 | 案内溝付光デイスク |
| US5234633A (en) * | 1987-12-28 | 1993-08-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Cast molding die and process for producing information recording medium using the same |
| JP2578459B2 (ja) * | 1988-01-25 | 1997-02-05 | キヤノン株式会社 | 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 |
| US5017414A (en) * | 1989-01-17 | 1991-05-21 | Del Mar Avionics | Method for manufacturing a second surface optical storage device |
| US5344683A (en) * | 1989-10-27 | 1994-09-06 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium with phase grooves in land portions of information recording areas |
| JPH03254436A (ja) * | 1989-12-04 | 1991-11-13 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体 |
| JPH03290839A (ja) * | 1990-04-09 | 1991-12-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光デイスク記録媒体の製造方法 |
| JP2869147B2 (ja) * | 1990-06-15 | 1999-03-10 | パイオニア株式会社 | 光学式情報記録媒体 |
| NL9100366A (nl) * | 1991-02-28 | 1992-09-16 | Philips & Du Pont Optical | Werkwijze voor het vervaardigen van een schijfvormige informatiedrager, informatiedrager vervaardigd volgens de werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
-
1992
- 1992-06-15 JP JP04154646A patent/JP3104406B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-06-15 US US08/076,848 patent/US5582891A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-04-25 US US08/429,481 patent/US5679386A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5679386A (en) | 1997-10-21 |
| JPH05342642A (ja) | 1993-12-24 |
| US5582891A (en) | 1996-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5669995A (en) | Method for writing and reading data on a multi-layer recordable interferometric optical disc and method for fabricating such | |
| JP3104406B2 (ja) | 光ディスク用原板とその製造方法 | |
| EP0103892B1 (en) | Optical recording medium and method of making same | |
| JP2002237102A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JP3129308B2 (ja) | 光ディスク基板、光ディスク、および光ディスク基板の製造方法 | |
| JPH08306080A (ja) | 情報記録媒体及びその成形型 | |
| JP2000242976A (ja) | 光情報媒体 | |
| JP3041388B2 (ja) | 光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スタンパの原盤製造方法 | |
| JPS58100248A (ja) | 光学的情報記録媒体 | |
| JP2001273682A (ja) | 記録型ディスク及びその製造方法 | |
| JP3304377B2 (ja) | 光ディスク | |
| KR100188922B1 (ko) | 광디스크 제조용 유리기판 및 포토마스크의 제조방법 | |
| KR100616232B1 (ko) | 고밀도광기록매체그리고그기록/재생장치및방법 | |
| JPH07272324A (ja) | 光ディスク | |
| JP2000251324A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2002063741A (ja) | 光ディスク | |
| JPH0210536A (ja) | 光ディスク基板の製造方法 | |
| JPH05205323A (ja) | 光ディスク基板の製造方法 | |
| JPS6139248A (ja) | 光情報記録担体 | |
| JPS6151634A (ja) | 光学式情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH04274038A (ja) | 情報記録媒体の基板製造用スタンパ | |
| JPH06195758A (ja) | 光ディスク原盤の作製方法 | |
| JP2001307382A (ja) | 記録型光ディスク、光ディスク原盤、ディスク基板、光ディスク原盤製造方法 | |
| JP2001006219A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体用基板及び光記録媒体製造用原盤 | |
| JP2001291275A (ja) | 記録型光ディスク、光ディスク原盤、ディスク基板、光ディスク原盤製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080901 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080901 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090901 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090901 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100901 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110901 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120901 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120901 Year of fee payment: 12 |