JP3166060B2 - 放熱シート - Google Patents
放熱シートInfo
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- Paints Or Removers (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Description
の熱を発生する大電力半導体と、放熱体、例えば上記熱
を放散するフィンとの間に介装接着される放熱シートに
関するものである。
である電子部品が収容され、この電子部品が発した熱を
放熱部材が上記筐体に伝達するように構成され、この放
熱部材が形状変化が可能な非塊性の金属材と、この金属
材の間に充満される気体と、上記金属材及び気体を封入
する熱良導性で絶縁性の柔軟な外袋とを備えた電子機器
用の放熱部材が開示されている(特開平6−26811
3)。上記放熱部材の金属材は繊維状に加工して絡めた
繊維状金属材であり、気体は不活性気体である。この放
熱部材では、基板の表面の半導体チップや抵抗等の発熱
性電子部品と筐体との間や、基板の裏面と筐体との間
に、放熱部材が配置される。電子部品が発した熱は、直
接又は基板を介して外袋に伝達され、更に繊維状金属材
及び外袋を介して筐体に伝達される。この結果、特別な
加工や積層等を行うことなく、電子部品や筐体等に対す
る高い密着性が得られ、効率的な熱伝導効果を得ること
ができるようになっている。
子機器用の放熱部材では、繊維状金属材や不活性気体が
漏れないように外袋を構成しなければならず、外袋の材
質等の選定が難しく、また繊維状金属材及び不活性気体
の外袋への封入作業が比較的煩わしい不具合があった。
また、上記従来の電子機器用の放熱部材では、半導体等
と基板とを電気的に接続するワイヤが放熱部材により押
されて変形する恐れがあった。本発明の目的は、比較的
容易に製作でき、近接する部品を変形させることなく、
発熱体が発した熱をスムーズに放熱体に導くことができ
る放熱シートを提供することにある。
図1に示すように発熱体14と放熱体16との間に介装
された放熱シート11の改良である。その特徴ある構成
は、気孔率が10〜60%である多数の気孔を有しAg
により形成された可塑性多孔質金属層12と、可塑性多
孔質金属層12の多数の気孔に充填されゴム弾性と塑性
とを有するポリオレフィン系エラストマからなる充填材
13とを備えたところにある。この放熱シート11で
は、発熱体14が発した熱の大部分は可撓性多孔質金属
層12を介して放熱体16に伝わり、残りの熱は発熱体
14及び放熱体16に密着した充填材13を介して放熱
体16に伝わる。この結果、発熱体14が発した熱はス
ムーズに放熱体16に導かれ、発熱体14の温度上昇を
低く抑えることができる。
60%としたのは、気孔率が60%を越えると熱抵抗が
増大する不具合があり、気孔率が10%未満では、気孔
が極めて小さいため充填材が気孔に十分に充填され難く
なり、かつ金属含有率の多い多孔質金属層の変形が容易
でないため発熱体や放熱体との接触面積が小さくなっ
て、発熱体や放熱体との接触抵抗が増え、熱抵抗が大き
くなる問題点があるからである。
る。基板としては導体ペーストをスクリーン印刷したセ
ラミックグリーンシートを多数積層して850〜160
0℃前後の温度で焼成して作られるセラミック多層配線
基板や、セラミック基板の下面及び上面に金属薄板及び
回路基板がそれぞれ積層接着されたパワーモジュール用
基板等が挙げられる。
より、又はCu板若しくはAl板のプレス成形により形
成される。放熱体はろう材を介して可塑性多孔質金属層
に接着される基部と、この基部に所定の間隔をあけて突
設された多数のフィン部とを有する。基部及びフィン部
はCu又はAlにより一体的に成形される。また放熱体
として、フィン部のない基部のみにより形成されたプレ
ート状のものを用いることもできる。
方法により行われる。先ず平均粒径5〜100μmのA
gの金属粉と、水溶性樹脂バインダと、非水溶性炭化水
素系有機溶剤と、界面活性剤と、水とを混練した後、可
塑剤を添加して更に混練して得られた金属粉含有スラリ
ーをドクタブレード法により成形体にする。次いでこの
成形体を5〜100℃で0.25〜4時間保持して上記
成形体中の可塑剤を揮発させ発泡させた後、50〜20
0℃で0.5〜1時間保持し乾燥して薄板状多孔質成形
体にする。次にこの多孔質成形体を所定の雰囲気中で5
00〜1060℃で0.5〜4時間加熱して保持し、ス
ケルトン構造を有する気孔率90〜93%、厚さ0.5
〜5mmの薄板状多孔質焼結体にする。更にこの多孔質
焼結体を厚さ0.2〜3mmに圧延することにより、気
孔率が10〜60%の可塑性多孔質金属層が得られる。
として平均粒径5〜100μmのAg粉が用いられる。
水溶性樹脂バインダとしてはメチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルメチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロースアンモニウ
ム、エチルセルロース等が用いられ、非水溶性炭化水素
系有機溶剤としてはネオペンタン、ヘキサン、イソヘキ
サン、ヘプタン等が用いられる。また界面活性剤として
は市販の台所用中性合成洗剤(例えばアルキルグルコシ
ドとポリオキシエチレンアルキルエーテルの28%混合
水溶液)が用いられ、可塑剤としてはエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、グリセリン等の多価アル
コールや、イワシ油、菜種油、オリーブ油等の油脂や、
石油エーテル等のエーテルや、フタル酸ジエチル、フタ
ル酸ジNブチル、フタル酸ジエチルヘキシル、フタル酸
ジNオクチル等のエステルが用いられる。
と一体的に形成するときには下記の方法により行われ
る。基板の上面の導体又は金属薄膜の表面に上記多孔質
金属層となる金属粉含有スラリーを塗布し、この金属粉
含有スラリーの上面に放熱体を重ね、更にこの状態で金
属粉含有スラリーを発泡し焼成し圧延することにより、
多孔質金属層が形成される。上記金属粉含有スラリーは
平均粒径5〜100μmのAgの金属粉と、水溶性樹脂
バインダと、非水溶性炭化水素系有機溶剤と、界面活性
剤と、水とを混練した後、可塑剤を添加して更に混練し
て得られる。上記Agの多孔質金属層では金属粉として
平均粒径5〜100μmのAg粉が用いられる。水溶性
樹脂バインダ及び界面活性剤としては、上記に記載し
たものと同様のものが用いられる。基板の上面に金属粉
末スラリーを介して放熱体を重ねた状態で、5〜100
℃で0.25〜4時間保持して上記スラリー中の可塑剤
を揮発させ発泡させた後、50〜200℃で30〜60
分間保持し乾燥して上記スラリーを薄板状多孔質成形体
にする。次にこの多孔質成形体をセラミック基板及び放
熱体とともに所定の雰囲気中で500〜1060℃で
0.5〜4時間加熱して保持し、多孔質成形体をスケル
トン構造を有する気孔率90〜93%、厚さ0.5〜5
mmの薄板状多孔質焼結体にする。更にこの多孔質焼結
体を基板及び放熱体とともに圧延して多孔質焼結体の厚
さを0.2〜3mmにすることにより、金属粉含有スラ
リーから気孔率10〜60%の多孔質金属層が成形され
る。
方法 充填材はポリオレフィン系エラストマが用いられる。
塑性多孔質金属層の多数の気孔にゴム弾性と塑性とを有
する充填材を充填したので、発熱体が発した熱の大部分
は可撓性多孔質金属層を介して放熱体に伝わり、残りの
熱は発熱体及び放熱体に密着した充填材を介して放熱体
に伝わる。この結果、発熱体が発した熱はスムーズに放
熱体に導かれ、発熱体の温度上昇は低く抑えることがで
きる。また、外袋の材質等の選定が難しく、繊維状金属
材及び不活性気体の外袋への封入作業が煩わしい従来の
電子機器用の放熱部材と比較して、本発明では放熱シー
トが可塑性多孔質金属層の多数の気孔に充填材を充填す
るという比較的簡単な作業で済むので、製造コストの押
上げは僅かで済む。更に、半導体等と基板とを電気的に
接続するワイヤが放熱部材により押されて変形する恐れ
があった従来電子機器用の放熱部材と比較して、本発明
では近接する部品を変形させることはない。
び放熱体の断面図。
Claims (1)
- 【請求項1】 発熱体(14)と放熱体(16)との間に介装さ
れた放熱シート(11)において、気孔率が10〜60%である 多数の気孔を有しAgによ
り形成された可塑性多孔質金属層(12)と、 前記可塑性多孔質金属層(12)の多数の気孔に充填されゴ
ム弾性と塑性とを有するポリオレフィン系エラストマか
らなる充填材(13)とを備えたことを特徴とする放熱シー
ト。
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JP32136795A JP3166060B2 (ja) | 1995-12-11 | 1995-12-11 | 放熱シート |
Publications (2)
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ID=18131782
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP32136795A Expired - Lifetime JP3166060B2 (ja) | 1995-12-11 | 1995-12-11 | 放熱シート |
Country Status (1)
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