JP3151975B2 - 耐熱性感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光デバイス用保護膜形
成材料として好適な耐熱性感放射線性樹脂組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】表示素子、固体撮像素子などの光デバイ
スは、製造工程中に、たとえば、溶剤、酸、アルカリ溶
液等に浸漬処理されたり、配線電極層を製膜する際にス
パッタリングにより表面が局部的に高温加熱されるなど
の苛酷な処理を受けることがある。このためこれら素子
には、製造時の変質を防ぐために、保護膜が設けられる
場合がある。

【０００３】この保護膜には、上記のような処理に耐え
うる諸特性が要求され、具体的に、基体または下層との
密着性に優れていること、平滑で強靱であること、透明
性に優れていること、長期に亘って着色、黄変、白化等
の変質をしないように耐熱性および耐光性に優れている
こと、さらに耐水性、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性
などの耐薬品性に優れていることなどが要求される。

【０００４】このような要求を満たすものとして、本出
願人は先に特開昭６０−２１７２３０号公報においてエ
ポキシ系共重合体を含む熱硬化性組成物を提案し、この
組成物は、たとえばカラー液晶表示素子やカラー固体撮
像素子の表面保護膜、素子表面の保護平坦化膜を形成す
るために広く使用されている。

【０００５】

【発明が解決すべき課題】ところで上記のような保護膜
は、通常、保護膜用材料を基板上に回転塗布法により塗
布した後プレベークして塗膜を形成し、次いでこの塗膜
を硬化させることにより形成される。

【０００６】このような保護膜において、一般的に下地
基板であるカラーフィルターの段差を平坦化させること
が可能な保護膜が望まれている。特にＳＴＮ方式液晶パ
ネルを製造する際には、カラーフィルター基板と対向基
板との張り合わせの精度を非常に厳密に行わなければな
らず、基板間のセルギャップを均一にすることが必要不
可欠になっている。もし保護膜が下地基板であるカラー
フィルターの段差を平坦化することができなければ、基
板を張り合わせる際のセルギャップ調整の精度が低下す
ると共にセルギャップ調整作業が煩雑化し、表示素子の
製造歩留まりが低下してしまう。

【０００７】このため従来、カラーフィルター表面を低
粘度・高濃度の材料で予めある程度平坦化させた後、保
護膜材料を塗布しており、このような平坦化作業が必要
なため、表示素子パネル製造が煩雑化となり、高コスト
になっている。

【０００８】さらに、従来の保護膜用材料を用いて回転
塗布法等によって保護膜を形成すると基板周辺部の膜厚
が他の部分の膜厚よりも厚くなってしまい、やはり基板
張り合わせの際のセルギャップ調整の精度の低下と調整
作業の煩雑化を引き起こしてしまう。

【０００９】また近年液晶表示パネルの実装方式として
パネルモジュールの大きさを小型化するのにＣＯＧ（Ch
ip on Glass ）方式が注目されているが、このＣＯＧ方
式によってカラー液晶表示パネルを製造するには、カラ
ーフィルタ以外の部分に保護膜が残存しないように保護
膜を設ける必要がある。

【００１０】カラーフィルタ以外の部分に保護膜が残存
しないように保護膜を設けるには、従来、上記のように
形成された塗膜上に、たとえば耐ドライエッチング性に
優れたレジストを塗布し、このレジストを適当なパター
ンに露光・現像した後ドライエッチングして、カラーフ
ィルタ以外の不要部分の塗膜を除去している。

【００１１】しかしながらドライエッチング方法では、
ドライエッチング後に使用したレジストを除去しなけれ
ばならず、工程が煩雑であるとともにドライエッチング
によって表示素子上に欠陥を生じる恐れもあった。

【００１２】このため保護膜に要求される上記のような
諸特性を満たしていると共に、下地基板であるカラーフ
ィルターの段差を平坦化することが可能であり、さらに
露光・現像によって不要な部分（例えばカラーフィルタ
ー以外の部分）の保護膜を容易に除去することが可能な
耐熱性感放射線性樹脂組成物の出現が望まれている。

【００１３】

【問題を解決するための手段】本発明に係る耐熱性感放
射線性樹脂組成物は、 ［Ａ］(a-1) 不飽和カルボン酸および／または不飽和カ
ルボン酸無水物と、(a-2) エポキシ基を有するラジカル
重合性化合物と、(a-3) モノオレフィン系不飽和化合物
と、(a-4) 共役ジオレフィン系不飽和化合物との共重合
体と、 ［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物
と、 ［Ｃ］少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物と、 ［Ｄ］光重合開始剤とからなることを特徴としている。

【００１４】本発明に係る耐熱性感放射線性樹脂組成物
は、機械特性、耐薬品性および透明性などの光デバイス
用保護膜に要求される諸特性に優れ、しかも下地基板
（カラーフィルター）の段差を平坦化することが可能な
保護膜を形成しうる。

【００１５】また本発明に係る耐熱性感放射線性樹脂組
成物は、露光・現像することにより不要な部分を除去し
て、所定パターンの保護膜を容易に形成することができ
る。

【００１６】

【発明の具体的説明】以下本発明に係る耐熱性感放射線
性樹脂組成物について記述する。［Ａ］共重合体 本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、(a-1) 不飽和カ
ルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と、(a
-2) エポキシ基を有するラジカル重合性化合物と、(a-
3) モノオレフィン系不飽和化合物と、(a-4) 共役ジオ
レフィン系不飽和化合物との共重合体である。

【００１７】このような不飽和カルボン酸および不飽和
カルボン酸無水物(a-1) としては、具体的には、たとえ
ば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノ
カルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メ
サコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸、これらジカ
ルボン酸の無水物が好ましく挙げられる。

【００１８】これらのうち、アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸等が好ましく用いられる。エポキシ
基を有するラジカル重合性化合物(a-2) としては、たと
えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジ
ル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α-n-プロピル
アクリル酸グリシジル、α-n-ブチルアクリル酸グリシ
ジル、アクリル酸-3,4-エポキシブチル、メタクリル酸-
3,4-エポキシブチル、アクリル酸-6,7-エポキシヘプチ
ル、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル、α−エチル
アクリル酸-6,7-エポキシヘプチルなどが挙げられる。

【００１９】これらのうち、メタクリル酸グリシジル、
メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル等が好ましく用い
られる。これらは、単独であるいは組み合わせて用いら
れる モノオレフィン系不飽和化合物(a-3) としては、たとえ
ば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-
ブチルメタクリレート、sec-ブチルメタクリレート、t-
ブチルメタクリレートなどのメタクリル酸アルキルエス
テル、メチルアクリレート、イソプロピルアクリレート
などのアクリル酸アルキルエステル、シクロヘキシルメ
タクリレート、2-メチルシクロヘキシルメタクリレー
ト、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、
イソボルニルメタクリレートなどのメタクリル酸環状ア
ルキルエステル、シクロヘキシルアクリレート、2-メチ
ルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルア
クリレート、ジシクロペンタオキシエチルアクリレー
ト、イソボロニルアクリレートなどのアクリル酸環状ア
ルキルエステル、フェニルメタクリレート、ベンジルメ
タクリレートなどのメタクリル酸アリールエステル、フ
ェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアク
リル酸アリールエステル、マレイン酸ジエチル、フマル
酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジ
エステル、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒド
ロキシプロピルメタクリレートなどのヒドロキシアルキ
ルエステル、スチレン、α−メチルスチレン、m-メチル
スチレン、p-メチルスチレン、ビニルトルエン、p-メト
キシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、酢酸ビニルなどが挙げられる。

【００２０】これらのうち、スチレン、ジシクロペンタ
ニルメタクリレート、p-メトキシスチレン、2-メチルシ
クロヘキシルアクリレートが好ましい。これらは、単独
であるいは組み合わせて用いられる。

【００２１】また共役ジオレフィン系不飽和化合物(a-
4) としては、たとえば、1,3-ブタジエン、イソプレ
ン、2,3-ジメチルブタジエンなどが挙げられる。これら
は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００２２】上記のような各成分から誘導される構成単
位からなる共重合体［Ａ］のうち、下記式(1) 〜(6) で
表される構成単位からなる共重合体が好ましく、さらに
式(1) 、(3) 、(4) 、(5) 、(6) で表される構成単位か
らなる共重合体および式(2)、(3) 、(4) 、(5) 、(6)
で表される構成単位からなる共重合体が好ましい。

【００２３】式(1) は不飽和カルボン酸から誘導される
構成単位、式(2)は不飽和カルボン酸無水物(a-1) から
誘導される構成単位であり、式(3) は、エポキシ基を有
するラジカル重合性化合物(a-2) から誘導される構成単
位であり、式(4) および(5) は、モノオレフィン系不飽
和化合物(a-3) から誘導される構成単位であり、式(6)
は、共役ジオレフィン系不飽和化合物(a-4) から誘導さ
れる構成単位である。

【００２４】

【化１】

【００２５】（式中、Ｒ¹ は水素原子または低級アルキ
ル基である。）

【００２６】

【化２】

【００２７】（式中、Ｒ¹ は水素原子または低級アルキ
ル基であり、ｎは１〜１０の整数である。）

【００２８】

【化３】

【００２９】（式中、Ｒ¹ は水素原子または低級アルキ
ル基である。）

【００３０】

【化４】

【００３１】（式中、Ｒ¹ は水素原子または低級アルキ
ル基であり、Ｒ² は炭素数１〜６のアルキル基または炭
素数（５）〜（１２）のシクロアルキル基であり、この
シクロアルキル基は置換基を有していてもよい。）

【００３２】

【化５】

【００３３】（式中、Ｒ³ は水素原子またはメチル基で
ある。）本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、上記の
ような不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン
酸無水物(a-1) から誘導される構成単位を、好ましくは
５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有
している。

【００３４】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、エ
ポキシ基を有するラジカル重合性化合物(a-2) から誘導
される構成単位を、好ましくは１０〜７０重量％、特に
好ましくは２０〜５０重量％含有している。

【００３５】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、モ
ノオレフィン系不飽和化合物(a-3)から誘導される構成
単位を、好ましくは１０〜７０重量％、特に好ましくは
２０〜５０重量％含有している。

【００３６】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、共
役ジオレフィン系不飽和化合物(a-4) から誘導される構
成単位を、好ましくは３〜３０重量％、特に好ましくは
５〜１５重量％含有している。

【００３７】上記のような構成単位からなる共重合体
［Ａ］は、アルカリ水溶液に対して適切な溶解性を有
し、この共重合体［Ａ］を含む耐熱性感放射線性樹脂組
成物は、現像する際に現像残りを生じることなく、また
膜べりすることなく、容易に所定パターンの保護膜を形
成することができる。

【００３８】なお不飽和カルボン酸および／または不飽
和カルボン酸無水物(a-1)から誘導される構成単位が５
重量％未満である共重合体は、アルカリ水溶液に溶解し
にくくなる。またモノオレフィン系不飽和化合物(a-3)
から誘導される構成単位が７０重量％を超えて、あるい
は共役ジオレフィン系不飽和化合物(a-4) から誘導され
る構成単位が３０重量％を超えて含有していても、この
共重合体はアルカリ水溶液に対する溶解性が低下する。
一方４０重量％を超える量で不飽和カルボン酸または不
飽和カルボン酸無水物(a-1)を含有する共重合体は、ア
ルカリ水溶液に対する溶解性が大きくなりすぎる傾向に
ある。

【００３９】上記のような構成単位からなる共重合体
［Ａ］を含む耐熱性感放射線性樹脂組成物からは、耐熱
性に優れた保護膜を形成することができる。なおこのよ
うな共重合体において、エポキシ基を有するラジカル重
合性化合物(a-2) から誘導される構成単位が１０重量％
未満であったり、モノオレフィン系不飽和化合物(a-3)
から誘導される構成単位が７０重量％を超えたり、また
共役ジオレフィン系不飽和化合物(a-4) から誘導される
構成単位が３０重量％を超えたりすると、この共重合体
を含む耐熱性感放射線性樹脂組成物から得られる保護膜
の耐熱性が低下する傾向にある。

【００４０】またこのような共重合体［Ａ］を含む耐熱
性感放射線性樹脂組成物からは、表面に段差があるカラ
ーフィルタ上などに塗布した場合、その段差を平坦化す
ることが可能である。

【００４１】上記のように本発明で用いられる共重合体
［Ａ］は、カルボン酸基又はカルボン酸無水物基とエポ
キシ基とを有しており、アルカリ水溶液に可溶であると
ともに、特別な硬化剤を併用しなくとも加熱により容易
に硬化させることができる。

【００４２】なお従来、エポキシ基含有重合体とカルボ
ン酸基含有化合物またはカルボン酸無水物含有重合体と
からなる感放射線性樹脂組成物は知られているが、この
感放射線性樹脂組成物では、各成分の相溶性に劣ってい
たり、組成物の保存安定性に劣っていたり、さらにはこ
の組成物から得られる保護膜は表面荒れが起こりやすい
などの問題点があった。またエポキシ基含有重合体をカ
ルボン酸（カルボン酸無水物）で変性するなどして得ら
れる、エポキシ基とカルボキシル基とを含有する変性重
合体も知られているが、この変性重合体は製造時に変性
工程が必要であり、また変性量を調整するのが困難であ
るという問題点があった。

【００４３】また不飽和カルボン酸および／または不飽
和カルボン酸無水物(a-1) とエポキシ基を有するラジカ
ル重合性化合物(a-2) とのみから共重合体を製造する際
には、エポキシ基とカルボン酸基とが反応し、架橋して
重合系がゲル化してしまうことがある。

【００４４】これに対して本発明で用いられる共重合体
［Ａ］は、不飽和カルボン酸および／または不飽和カル
ボン酸無水物(a-1) とエポキシ基を有するラジカル重合
性化合物(a-2) とに加えて、モノオレフィン系不飽和化
合物(a-3) と共役ジオレフィン系不飽和化合物(a-4) と
が共重合されており、エポキシ基とカルボン酸基とが反
応して、架橋・ゲル化してしまうのが抑制されており、
また保存安定性に優れている。

【００４５】このような共重合体［Ａ］は、上記のよう
な(a-1) 不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボ
ン酸無水物、(a-2) エポキシ基を有するラジカル重合性
化合物、(a-3) モノオレフィン系不飽和化合物および(a
-4) 共役ジオレフィン系不飽和化合物を、溶媒中で、触
媒（重合開始剤）の存在下にラジカル重合することによ
って得ることができる。

【００４６】この際用いられる溶媒としては、たとえば
メタノール、エタノールなどのアルコール類、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類、メチルセロソルブアセテ
ートなどのセロソルブエステル類、芳香族炭化水素類、
ケトン類、エステル類などが挙げられる。

【００４７】触媒としては、一般的にラジカル重合開始
剤として知られているものが使用でき、たとえば、2,2'
-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス−（2,4-
ジメチルバレロニトリル）、2,2'-アゾビス−（4-メト
キシ-2,4-ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合
物、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、t-ブチルペルオキシピバレート、1,1'-ビス−（t-
ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物
および過酸化水素などが挙げられる。

【００４８】ラジカル重合開始剤として過酸化物を用い
る場合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドック
ス型開始剤としてもよい。上記のような共重合体［Ａ］
の分子量およびその分布は、本発明の組成物の溶液を均
一に塗布することが可能である限り、特に限定されるも
のではない。

【００４９】［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する
重合性化合物 本発明で用いられるエチレン性不飽和二重結合を有する
重合性化合物［Ｂ］としては、具体的に、単官能または
多官能の（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。

【００５０】単官能（メタ）アクリレートとしては、た
とえばアロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−
１１４（東亜合成化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ
ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（日本化薬（株）
製）、Ｖ−１５８、Ｖ−２３１１（大阪有機化学工業
（株）製）（市販品）などが挙げられる。

【００５１】２官能（メタ）アクリレートとしては、た
とえばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−
６２００（東亜合成化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡ
ＤＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（日本化薬
（株）製）、Ｖ２６０、Ｖ３１２、Ｖ３３５ＨＰ（大阪
有機化学工業（株）製）（市販品）などが挙げられる。

【００５２】３官能以上の（メタ）アクリレートとして
は、たとえばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、
同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−
８０３０、同Ｍ−８０６０（東亜合成化学工業（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＣＡ−２
０、同−３０、同−６０、同−１２０（日本化薬（株）
製）、Ｖ−２９５、同−３００、同−３６０、同−ＧＰ
Ｔ、同−３ＰＡ、同−４００（大阪有機化学工業（株）
製）（市販品）などが挙げられる。

【００５３】これらは、単独であるいは組み合わせて用
いられる。［Ｃ］少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物 本発明で用いられる少なくとも２個のエポキシ基を有す
る化合物［Ｃ］は、樹脂組成物を形成する他成分との相
溶性があれば特に限定されることなく用いられるが、好
ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型
エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエ
ステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹
脂、複素環式エポキシ樹脂、およびオプトマ−ＳＳ（日
本合成ゴム（株）製）などのグリシジルメタクリレート
含有樹脂組成物などが挙げられる。

【００５４】これらのうちでも、ビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グ
リシジルエステル型エポキシ樹脂などが好ましく用いら
れる。

【００５５】［Ｄ］光重合開始剤 本発明で用いられる光重合開始剤［Ｄ］としては、光ラ
ジカル重合開始剤または光カチオン重合開始剤などを使
用することができる。

【００５６】これら光重合開始剤の使用に際しては、露
光の条件（酸素雰囲気下であるか、無酸素雰囲気下であ
るか）を考慮することが必要である。具体的には、露光
を無酸素雰囲気下で行う場合には、一般的なあらゆる種
類の光ラジカル重合開始剤および光カチオン重合開始剤
を使用することができる。

【００５７】光ラジカル重合剤としては、たとえば、

【００５８】ベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン
類、ベンゾインなどのアシロイン類、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテルなどのアシロインエーテル類、チオキ
サントン、2,4-ジエチルチオキサントン、チオキサント
ン-4-スルホン酸、ベンゾフェノン、4,4'-ビス（ジメチ
ルアミノ）ベンゾフェノン、4,4'-ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、アセトフ
ェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、α, α'-ジ
メトキシアセトキシベンゾフェノン、2,2'-ジメトキシ-
2-フェニルアセトフェノン、p-メトキシアセトフェノ
ン、2-メチル［4-（メチルチオ）フェニル］-2-モルフ
ォリノ-1-プロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1
-（4-モルフォリノフェニル）−ブタン-1-オンなどのア
セトフェノン類、アントラキノン、1,4-ナフトキノンな
どのキノン類、フェナシルクロライド、トリブロモメチ
ルフェニルスルホン、トリス（トリクロロメチル）-s-
トリアジンなどのハロゲン化合物、ジ-t-ブチルパーオ
キサイドなどの過酸化物などが挙げられる。

【００５９】また光カチオン重合開始剤としては、以下
に示すような市販品を使用することができる。アデカウ
ルトラセットＰＰ−３３（旭電化工業（株）製）などの
ジアゾニウム塩、OPTOMER ＳＰ−１５０、１７０（旭電
化工業（株）製）などのスルホニウム塩、IRGACURE２６
１（CIBA-GEIGY（社）製）などのメタロセン化合物など
が挙げられる。

【００６０】酸素雰囲気下で露光を行うときには、光ラ
ジカル重合開始剤の中には酸素によるラジカルの失活
（感度の低下）が起こり、露光部分の残膜率・硬度など
が充分に得られない場合がある。このような酸素雰囲気
下で露光を行う場合には、上述した光重合開始剤です
べての光カチオン重合開始剤（光カチオン重合開始剤
は、酸素による活性種の失活はほとんどない）、およ
び光ラジカル重合開始剤の一部、たとえば、2-メチル−
［4-（メチルチオ）フェニル］-2-モルフォリノ-1-プロ
パノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-（4-モルフォ
リノフェニル）−ブタン-1-オンなどのアセトフェノン
類またはフェナシルクロライド、トリブロモメチルフェ
ニルスルホン、トリス（トリクロロメチル）-s-トリア
ジンなどのハロゲン化合物を好ましい化合物として挙げ
ることができる。

【００６１】また、これら光ラジカル重合開始剤と光カ
チオン重合開始剤または光増感剤とを併用して酸素によ
る失活の少ない、高感度を達成することも可能である。

【００６２】耐熱性感放射線性樹脂組成物 本発明に係る耐熱性感放射線性樹脂組成物は、上記のよ
うな共重合体［Ａ］１００重量部に対して、エチレン性
不飽和二重結合を有する重合性化合物［Ｂ］を、好まし
くは４０〜２００重量部、より好ましくは８０〜１５０
重量部の量で、少なくとも２個のエポキシ基を有する化
合物［Ｃ］を、好ましくは３０〜２００重量部、より好
ましくは５０〜１２０重量部の量で、光重合開始剤
［Ｄ］を、好ましくは１．０〜５０重量部、特に好まし
くは５〜３０重量部の量で含有している。

【００６３】このような組成を有する耐熱性感放射線性
樹脂組成物から得られる保護膜は、諸特性に優れている
とともに、下地基板であるカラーフィルターの段差を平
坦化することが可能であり、さらに露光・現像によって
所定パターンの保護膜に容易に形成することができる。

【００６４】特にエチレン性不飽和二重結合を有する重
合性化合物［Ｂ］を上記のような量で含有する耐熱性感
放射線性樹脂組成物は、酸素雰囲気下でも感放射線感度
が低下することがない。また上記のような量のエチレン
性不飽和二重結合を有する重合性化合物［Ｂ］は、他成
分との相溶性に優れており、これを含有する耐熱性感放
射線性樹脂組成物は、膜荒れのない保護膜を形成するこ
とができる。

【００６５】また少なくとも２個のエポキシ基を有する
化合物［Ｃ］を上記のような量で含有する本発明に係る
耐熱性感放射線性樹脂組成物では、化合物［Ｃ］と他成
分との相溶性に優れており、塗膜形成性が低下すること
がなく、しかも化合物［Ｃ］をこのような量で含有する
耐熱性感放射線性樹脂組成物は、下地基板であるカラー
フィルターの段差を平坦化することが可能である保護材
料である。

【００６６】さらに光重合開始剤［Ｄ］を上記のような
量で含有する本発明に係る耐熱性感放射線性樹脂組成物
は、酸素により感放射感度が低下（ラジカルが失活）し
てしまうことがなく、また耐熱性感放射線性樹脂組成物
が色濃く着色することもなくＬＣＤなどの表示素子にも
好適に利用できる。

【００６７】本発明に係る耐熱性感放射線性樹脂組成物
は、上記のような各成分を均一に混合することによって
容易に調製することができる。このような耐熱性感放射
線性樹脂組成物は、通常、適当な溶媒に溶解されて溶液
状態で用いられる。たとえば共重合体［Ａ］の溶液、エ
チレン性化合物［Ｂ］、光重合開始剤［Ｄ］、エポキシ
化合物［Ｃ］およびその他の配合剤を、使用直前に所定
の割合で混合することにより、溶液状態の耐熱性感放射
線性樹脂組成物を調製することができる。

【００６８】このような溶媒としては、［Ａ］、
［Ｂ］、［Ｃ］および［Ｄ］を均一に溶解させることが
でき、各成分と反応しないものが用いられる。具体的に
は、たとえば、メタノール、エタノールなどのアルコー
ル類、テトラヒドロフランなどのエーテル類、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類、メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートな
どのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルなどのジエチレングリコール類、
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-
2-ペンタノンなどのケトン類、2-ヒドロキシプロピオン
酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチ
ル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、エト
キシ酢酸エチル、ヒドロキシ酸エチル、2-ヒドロキシ-3
-メチルブタン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸メチ
ル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピ
オン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。

【００６９】さらにこれらとともに、N-メチルホルムア
ミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルホルムアニ
リド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベン
ジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニル
アセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オ
クタノール、1-ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸
ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイ
ン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどの高
沸点溶媒を用いることもできる。

【００７０】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜の形成のしやすさから、エチレングリ
コールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル
類、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコ
ールアルキルエーテルアセテート類、2-ヒドロキシプロ
ピオン酸エチルなどのエステル類、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテルなどのジエチレングリコール類が
好ましく用いられる。

【００７１】本発明に係る耐熱性感放射性樹脂組成物
は、本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて上
記以外の他の成分を含有していてもよい。このような他
の成分として、界面活性剤が挙げられる。

【００７２】界面活性剤としては、たとえば、ＢＭ−１
０００、ＢＭ−１１００（BM Chemie社製）、メガファ
ックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３
（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−
１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−
４３１（住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１
１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同
Ｓ−１４５（旭硝子（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、同−
１９０、同−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８
（東レシリコーン（株）製）などの名称で市販されてい
るフッ素系界面活性剤を使用することができる。

【００７３】これら界面活性剤は、共重合体［Ａ］１０
０重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好ま
しくは０．０１〜２重量部の量で用いられる。また基体
との接着性を向上させるために接着助剤を使用すること
もできる。このような接着助剤としては、官能性シラン
カップリング剤が好ましい。

【００７４】ここで官能性シランカップリング剤とは、
カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート
基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカッ
プリング剤が挙げられ、より具体的に、トリメトキシシ
リル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β−（3,4-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシランなどが挙げられる。

【００７５】これらの接着助剤は、単独であるいは２種
以上組み合わせて用いることができる。接着助剤は、共
重合体［Ａ］１００重量部に対して、好ましくは２０重
量部以下、より好ましくは、０．０５〜１０重量部の量
で用いられる。

【００７６】また上記のように調製された組成物溶液
は、孔径０．２μｍ程度のミリポアフィルタなどを用い
て濾過した後、使用に供することもできる。保護膜の形成 本発明に係る耐熱性感放射性樹脂組成物を、基体表面に
塗布し、加熱により溶媒を除去すると、塗膜を形成する
ことができる。基体表面への耐熱性感放射性樹脂組成物
の塗布方法は特に限定されず、たとえばスプレー法、ロ
ールコート法、回転塗布法などの各種の方法を採用する
ことができる。

【００７７】次いでこの塗膜は加熱（プレベーク）され
る。加熱条件は各成分の種類、配合割合などによっても
異なるが、通常７０〜９０℃で５〜１５分間程度であ
る。次にプレベークされた塗膜に所定パターンのマスク
を介して紫外線などを照射した後、現像液により現像
し、不要な部分を除去して所定パターンに形成する。

【００７８】現像液としては、たとえば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウ
ム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミ
ン、n-プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ-n-プロピ
ルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、
ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルア
ンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、1,8-
ジアザビシクロ［5,4,0 ］-7-ウンデセン、1,5-ジアザ
ビシクロ［4,3,0 ］-5-ノナンなどのアルカリ類の水溶
液を使用することができる。

【００７９】また上記アルカリ水溶液に、メタノール、
エタノールなどの水溶性有機溶媒、界面活性剤を適当量
添加した水溶液を現像液として使用することもできる。
現像時間は通常３０〜１８０秒間であり、また現像の方
法は液盛り法、ディッピング法などのいずれでも良い。
現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、圧縮空気や圧
縮窒素で風乾させることによって、不要な部分を除去
し、パターンが形成される。その後このパターンを、ホ
ットプレート、オーブンなどの加熱装置により、所定温
度たとえば１５０〜２５０℃で、所定時間たとえばホッ
トプレート上なら５〜３０分間、オーブン中では３０〜
９０分間加熱処理をすることによって耐熱性、透明性、
硬度などに優れた保護膜を得ることができる。

【００８０】

【実施例】次に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例により限定されるものではな
い。

【００８１】実施例において、特にことわりのない限
り、％は重量％を示す。

【００８２】

【合成例１】ドライアイス／メタノール還流器の付いた
フラスコを窒素置換した後、2,2'-アゾビスイソブチロ
ニトリル９．０ｇを溶解したジエチレングリコールジメ
チルエーテル溶液４５９．０ｇを仕込んだ。引き続きス
チレン２２．５ｇ、メタクリル酸４５．０ｇ、ジシクロ
ペンタニルメタクリレート４５．０ｇ、メタクリル酸グ
リシジル９０．０ｇおよび1,3-ブタジエン２２．５ｇを
仕込んだ後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の温度を８
０℃に上昇させ、この温度を５時間保持した後、９０．
０℃で１時間加熱させて重合を終結させた。

【００８３】その後、反応生成物を多量のメタノールに
滴下して反応物を凝固させた。この凝固物を水洗後、テ
トラヒドロフラン２００ｇに再溶解し、多量のメタノー
ルで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計３回行
った後、得られた凝固物を６０℃で４８時間真空乾燥
し、目的とする共重合体を得た。この後固形分濃度が２
５重量％になるようにジエチレングリコールジメチルエ
ーテルを用いて共重合体溶液とした。

【００８４】

【合成例２】ドライアイス／メタノール還流器の付いた
フラスコを窒素置換した後、2,2'-アゾビス（2,4-ジメ
チルバレロニトリル）９．０ｇを溶解したジエチレング
リコールジメチルエーテル溶液４５９．０ｇを仕込ん
だ。引き続きスチレン１１．２５ｇ、メタクリル酸３
３．７５ｇ、ジシクロペンタニルメタクリレート５６．
２５ｇ、メタクリル酸グリシジル１０１．２５ｇおよび
1,3-ブタジエン２２．５ｇを仕込んだ後、ゆるやかに攪
拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度
を５時間保持した後、９０℃で１時間加熱させて重合を
終結させた。

【００８５】その後、合成例１と同様にして共重合体を
得た。

【００８６】

【合成例３】ドライアイス／メタノール還流器の付いた
フラスコを窒素置換した後、2,2'-アゾビスイソブチロ
ニトリル９．０ｇを溶解したジエチレングリコールジメ
チルエーテル溶液４５９．０ｇを仕込んだ。引き続きス
チレン１２．３７ｇ、メタクリル酸４９．５ｇ、ジシク
ロペンタニルメタクリレート５６．２５ｇ、メタクリル
酸グリシジル９０．０ｇおよび1,3-ブタジエン１６．８
８ｇを仕込んだ後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の温
度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間保持した後、
９０℃で１時間加熱させて重合を終結させた。

【００８７】その後、合成例１と同様にして共重合体を
得た。

【００８８】

【合成例４】ドライアイス／メタノール還流器の付いた
フラスコを窒素置換した後、2,2'-アゾビスイソブチロ
ニトリル９．０ｇを溶解した3-メトキシプロピオン酸メ
チル溶液４５９．０ｇを仕込んだ。引き続きスチレン２
２．５ｇ、無水マレイン酸４５．０ｇ、ジシクロペンタ
ニルメタクリレート６７．５ｇ、メタクリル酸グリシジ
ル６７．５ｇおよび1,3-ブタジエン２２．５ｇを仕込ん
だ後、ゆるやかに攪拌を始めた。溶液の温度を８０℃に
上昇させ、この温度を５時間保持した後、９０℃で１時
間加熱させて重合を終結させた。

【００８９】その後、合成例１と同様にして共重合体を
得た。

【００９０】

【合成例５】ドライアイス／メタノール還流器の付いた
フラスコを窒素置換した後、2,2'-アゾビスイソブチロ
ニトリル９．０ｇを溶解したジエチレングリコールジメ
チルエーテル溶液４５９．０ｇを仕込んだ。引き続きp-
メトキシスチレン２２．５ｇ、メタクリル酸４５．０
ｇ、2-メチルシクロヘキシルアクリレート５６．２５
ｇ、メタクリル酸-6,7-エポキシヘプチル９０．０ｇお
よび1,3-ブタジエン１１．２５ｇを仕込んだ後、ゆるや
かに攪拌を始めた。溶液の温度を８０℃に上昇させ、こ
の温度を５時間保持した後、９０℃で１時間加熱させて
重合を終結させた。

【００９１】その後、合成例１と同様にして共重合体を
得た。

【００９２】

【実施例１】組成物（１）の調製 合成例１で得られた共重合体溶液１００ｇ（共重合体２
５ｇ）をジエチレングリコールジメチルエーテル１３．
６４ｇで希釈したのち、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-
1-（4-モルフォリノフェニル）−ブタン-1-オン（Irgac
ure３６９（CIBA-GEIGY社製）４．０ｇ、アロニックス
Ｍ−４００（東亜合成化学工業（株）製）２５．０ｇ、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１．２５
ｇ、エピコート８２８（油化シェルエポキシ（株）製）
１２．２５ｇを溶解し、孔径０．２２μｍのミリポアフ
ィルタで濾過して組成物溶液（１）を調製した。

【００９３】(i) 塗膜の形成 ＳｉＯ₂ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成
物溶液（１）を塗布した後、８０℃で５分間ホットプレ
ート上でプレベークして膜厚２．０μｍの塗膜を形成し
た。

【００９４】（ii）露光・現像による不要な部分の除去 上記(i) で得られた塗膜に所定のパターンマスクを用い
て、３６５ｎｍでの光強度が１０ｍＪ／cm²である紫外
線を３０秒間照射した。この際の露光は酸素雰囲気下
（空気中）で行った。次いでテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド０．１４重量％で２５℃で１分間現像した
後、超純水で１分間リンスした。これらの操作により、
不要な部分の除去ができると共に、２０μｍ×２０μｍ
のパターン（残し）を解像することができた。

【００９５】（iii）塗膜の硬化 上記（ii）で得られた塗膜を、ホットプレート上で２０
０℃で２０分間加熱することによって、塗膜を硬化させ
保護膜に必要な諸特性を持たせた。

【００９６】(iv)透明性の評価 上記(i) において、ＳｉＯ₂ガラス基板の代わりにコー
ニング７０５９（コーニング社製）を用いた以外は上記
(i) と同様にして塗膜を形成した。次いで３０秒間全面
露光し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液
で現像処理した後、超純水で１分間リンスした。次いで
ホットプレート上で２００℃で２０分間加熱した。得ら
れた基板を分光光度計（１５０−２０型タブルビーム
（日立製作所））を用いて４００〜８００ｎｍの透過率
を測定した。このとき最低透過率が９５％を越えた場合
を〇、９０〜９５％の場合を△、９０％未満の場合を×
とした。

【００９７】結果を表１に示す。 (v) 耐熱性の評価上記(iii)においてパターンを形成し
た基板を２５０℃のホットプレートを用 いて１時間加熱し、加熱前後の膜厚を測定することによ
り、耐熱性を評価した。変化率（残膜率）が９５％を越
えた場合を〇、９０〜９５％の場合を△、９０％未満の
場合を×とした。

【００９８】結果を表１に示す。 (vi)耐熱変色性の評価 上記(iv)において形成した基板を用いて２５０℃のホッ
トプレートで１時間加熱し、加熱前後の透過率の変化に
より耐熱性を評価した。このときの変化率が５％未満で
ある場合を〇、５〜１０％である場合を△、１０％を越
えた場合を×とした。なお透過率は(iv)透明性の評価と
同様にして求めた。

【００９９】結果を表１に示す。 (vii) 硬度の測定 上記(iv)で形成した塗膜を用いて、ＪＩＳ Ｋ−５４０
０−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験に準拠し、
評価は塗膜の擦り傷により鉛筆硬度を測定し、表面硬度
の測定を行った。

【０１００】結果を表１に示す。 (viii)平坦化性の評価 上記(i) で使用したＳｉＯ₂ガラス基板の代わりに、
１．０μｍの段差を有するＳｉＯ₂ウエハーを用いた以
外は、上記(iii) と同様にして塗膜を形成させた。その
後触針式の膜厚測定器を用いて基板の段差を測定した。

【０１０１】結果を表１に示す。

【０１０２】

【実施例２】合成例１で得られた共重合体溶液の代わり
に合成例２で得られた共重合体溶液を使用して、実施例
１に準じて組成物溶液を調製・濾過し評価した。テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド１．０％水溶液で２０
μｍ×２０μｍのパターンを解像することができた。

【０１０３】結果を表１に示す。

【０１０４】

【実施例３】合成例１で得られた共重合体溶液の代わり
に合成例３で得られた共重合体溶液を使用して、実施例
１に準じて組成物溶液を調製・濾過し評価した。テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド０．１４％水溶液で２
０μｍ×２０μｍのパターンを解像することができた。

【０１０５】結果を表１に示す。

【０１０６】

【実施例４】合成例１で得られた共重合体溶液の代わり
に合成例４で得られた共重合体溶液を使用して、実施例
１に準じて組成物溶液を調製・濾過し評価した。テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド１．２％水溶液で２０
μｍ×２０μｍのパターンを解像することができた。

【０１０７】結果を表１に示す。

【０１０８】

【実施例５】合成例１で得られた共重合体溶液の代わり
に合成例５で得られた共重合体溶液を使用して、実施例
１に準じて組成物溶液を調製・濾過し評価した。テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド０．１４％水溶液で２
０μｍ×２０μｍのパターンを解像することができた。

【０１０９】結果を表１に示す。

【０１１０】

【実施例６】実施例１で使用したIrgacure３６９の代わ
りに、2-メチル−［4-（メチルチオ）フェニル］-2-モ
ルフォリノ-1-プロパノン（Irgacure９０７) を用い
て、実施例１に準じて組成物溶液を調製・濾過し評価し
た。テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．１４％
水溶液で２０μｍ×２０μｍのパターンを解像すること
ができた。

【０１１１】結果を表１に示す。

【０１１２】

【実施例７】実施例１で使用したエピコート８２８の代
わりに、エポライト１００ＭＦ（共栄社油脂（株）製）
を用いて、実施例１に準じて組成物溶液を調製・濾過し
評価した。テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．
１２％水溶液で２０μｍ×２０μｍのパターンを解像す
ることができた。

【０１１３】結果を表１に示す。

【０１１４】

【表１】

【０１１５】

【実施例８】実施例１で使用したIrgacure３６９ ７．
５ｇの代わりに、Irgacure３６９２．０ｇとIrgacure９
０７ ２．０ｇを混合して、実施例１に準じて組成物溶
液を調製・濾過し評価した。テトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド０．１４％水溶液で２０μｍ×２０μｍの
パターンを解像することができた。

【０１１６】結果を表２に示す。

【０１１７】

【実施例９】実施例１で使用したIrgacure３６９ ７．
５ｇの代わりに、（1-6 −η−クメン）（η−シクロペ
ンタジエニル）鉄（１＋）六フッ化リン酸（１−）（Ir
gacure２６１（CIBA-GEIGY社製））４．０ｇを用いて、
実施例１に準じて組成物溶液を調製・濾過し評価した。
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．２０％水溶
液で２０μｍ×２０μｍのパターンを解像することがで
きた。

【０１１８】結果を表２に示す。

【０１１９】

【実施例１０】実施例１で使用したIrgacure３６９
７．５ｇの代わりに、トリス（トリクロロメチル）-s-
トリアジン２．５ｇを用いて、実施例１に準じて組成物
溶液を調製・濾過し評価した。テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド０．２０％水溶液で２０μｍ×２０μｍ
のパターンを解像することができた。

【０１２０】結果を表２に示す。

【０１２１】

【実施例１１】実施例１で使用したIrgacure３６９
４．０ｇの代わりに、Irgacure２６１２．０ｇとIrgacu
re３６９ ２．０ｇを用いて、実施例１に準じて組成物
溶液を調製・濾過し評価した。テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド０．１４％水溶液で２０μｍ×２０μｍ
のパターンを解像することができた。

【０１２２】結果を表２に示す。

【０１２３】

【実施例１２】実施例１で使用したアロニックスＭ−４
００の代わりにＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０（日本
化薬（株）製）を用いて、実施例１に準じて組成物溶液
を調製・濾過し評価した。テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド０．２０％水溶液で２０μｍ×２０μｍのパ
ターンを解像することができた。

【０１２４】結果を表２に示す。

【０１２５】

【実施例１３】実施例１で使用したアロニックスＭ−４
００の代わりにＶ−２９５（大阪有機化学工業（株）
製）を用いて、実施例１に準じて組成物溶液を調製・濾
過し評価した。テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
０．４０％水溶液で２０μｍ×２０μｍのパターンを解
像することができた。

【０１２６】結果を表２に示す。

【０１２７】

【表２】

【０１２８】

【実施例１４〜２０】実施例１〜７に示した組成物溶液
に、その他の配合物として、ＳＨ−２８ＰＡ（東レシリ
コーン（株）製）の１．０％ジエチレングリコールジメ
チルエーテル溶液０．６２５ｇを添加して、実施例１に
準じて調製・濾過し評価した。

【０１２９】結果を表３に示す。

【０１３０】

【表３】

【０１３１】

【発明の効果】本発明に係る耐熱性感放射線性樹脂組成
物は、機械特性、耐薬品性および透明性などの光デバイ
ス用保護膜に要求される諸特性に優れるとともに、表面
が平坦な塗膜を形成することができる。

【０１３２】また本発明に耐熱性感放射線性樹脂組成物
は、露光・現像時に不要な部分を除去して、所定パター
ンの保護膜を容易に形成することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ (72)発明者 別所 信夫 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−221218（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−256806（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−180921（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−300215（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−7310（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 59/42 C08G 59/20 G02B 5/20 101 C08F 220/04 C08F 220/08 C08F 220/32

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】［Ａ］(a-1) 不飽和カルボン酸および／ま
   たは不飽和カルボン酸無水物と、(a-2) エポキシ基含有
   ラジカル重合性化合物と、(a-3) モノオレフィン系不飽
   和化合物と、(a-4) 共役ジオレフィン系不飽和化合物と
   の共重合体、 ［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合
   物、 ［Ｃ］少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物、お
   よび ［Ｄ］光重合開始剤からなることを特徴とする耐熱性感
   放射線性樹脂組成物。