JP3151046B2 - カラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタの製造方
法に係り、特に、例えば液晶ディスプレイ等のフラット
ディスプレイ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラ
ーセンサ等に用いられるカラーフィルタおよびその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、カラービデオカメラの撮像管に
は、複数色の微細なストライプが透明基板上に形成され
たカラーフィルタが装着されている。

【０００３】また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）におい
ても、近年のカラー化の要請に対応するために、アクテ
ィブマトリクス方式および単純マトリックス方式のいず
れの方式においてもカラーフィルタが用いられている。
例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクティ
ブマトリックス方式の液晶ディスプレイでは、カラーフ
ィルタは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色が用い
られ、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの画素に対応する電極をＯ
Ｎ、ＯＦＦさせることで液晶がシャッタとして作動し、
Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの画素を光が透過してカラー表示
が行われる。そして、色混合は２色以上の画素に対応す
る液晶シャッタを開き混色して別の色に見せる加色混合
の原理により網膜上で視覚的に行われる。

【０００４】上記カラーフィルタは、その形成方法によ
り、次のようなものがあり、要求されている特性として
は、パターン解像性、分光特性、耐熱性、耐光性、耐薬
品性、低製造コスト、その他（欠陥のないこと、作業性
の高いことなど）が挙げられる。 （Ａ）染色法カラー
フィルタ 染色法カラーフィルタは、フォトリソグラフィー技術と
染色技術により形成され、製造法としては、多層法と単
色法に分類される。

【０００５】多層法により、カラーフィルタを形成する
には、まず、透明ガラス基板表面に、ゼラチン、ガセイ
ン、フィッシュグリュー、ポリビニルアルコール、ポリ
アクリルアミド等の親水性樹脂に、感光剤として、重ク
ロム酸塩、クロム酸塩あるいは、ジアゾ化合物を添加し
たものを、スピンコート法等により、０．４〜２μｍ程
度の膜厚に塗布後、所定形状のマスクを介して露光・現
像して被染色層を形成し、この被染色層を酸性染料また
は反応性染料で染色し第１色目のカラーフィルタ層を形
成する。次に、中間保護層としてアクリル、ウレタン、
エポキシ等の防染層を形成する。中間層を形成するかわ
りに、タンニン酸等による化学処理を用いる方法もあ
る。第２色目以降も同様の工程を行って、Ｒ，Ｇ，Ｂの
各着色層を備えたカラーフィルタを形成する。

【０００６】また、単色法では、中間層を形成すること
なく被染色層を連続型で形成し、マスキング層を介して
Ｒ，Ｇ，Ｂに染色し、カラーフィルタを形成するもの
と、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの被染色層を分離して形成
し、マスキング層を介して同様に染色するものとがあ
る。前者のものでは、染料の隣へのブリードが問題とな
る。

【０００７】（Ｂ）分散法カラーフィルタ 分散法カラーフィルタは、透明感光性樹脂に着色剤とし
て、染料、有機顔料、無機顔料を分散した感光液を基板
上に塗布後、フォトリソグラフィー技術により形成され
るもので、高精度なカラーフィルタができる。この分散
法カラーフィルタは、染色法カラーフィルタに比べ、形
成工程が簡略化できるとともに高精度のものが得られる
反面、染色法と同様にコスト面が問題となる。

【０００８】（Ｃ）蒸着法カラーフィルタ 昇華性顔料または染料を高真空中で透明基板上に接着せ
しめ、リフトオフ法または、エッチング法等でカラーフ
ィルタを得るか、あるいは、ＭｇＦ、ＳｉＯ₂等の低屈
折率物質と、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＳ、ＣｅＯ₂ 等
の高屈折率物質を交互に７〜１１層蒸着して、多層干渉
膜を形成した後、リフトオフ法あるいは、エッチング法
等でカラーフィルタを得る工程を色ごとに繰り返す方法
で形成される。この蒸着法も染色法と同様工程が複雑で
ある。

【０００９】（Ｄ）印刷法カラーフィルタ 透明性の高い顔料や染料をビヒクル中に分散させ、スク
リーン印刷法、オフセット印刷法などの工程を繰り返す
ことによって得られる。この場合は、寸法精度上に問題
がある。

【００１０】（Ｅ）電着法カラーフィルタ パターン化した透明電極に電圧を印加して、水中に分散
させたイオン化した顔料を透明電極上に析出させる工程
を色ごとに繰り返すことにより着色パターン層を形成し
て得られるカラーフィルタである。しかし、この電着法
は、通常、パターン配列に制限を受ける。

【００１１】また、液晶カラーテレビ等においては、特
に表面画像のコントラストや彩度を向上させたり、画面
外周の遮光マスクとして、カラーフィルタの隣接した彩
色画素の境界部分や表示画面の外周部分に黒色パター
ン、いわゆるブラックマトリックスを設けることが行わ
れている。

【００１２】黒色パターンの形成法としては、印刷法が
用いられるほか、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色画素が形成された後
の透明基板上の全面に、黒着色ネガ型感光性樹脂を塗布
し、透明基板の反対側より露光後現像する方法、黒着色
ネガ型感光性樹脂の代わりに染色性ネガ型感光性樹脂を
塗布し、同様に現像した後、得られた感光性樹脂画像を
染料で黒色に着色する方法、ポジ型感光性樹脂を同様に
塗布し、露光・現像して、Ｒ，Ｇ，Ｂの着色画素上に着
色画素と同形の樹脂画像を形成し、この上に黒色樹脂、
またはクロム等の金属薄膜を被着した後、感光性樹脂を
除去して形成する方法が用いられる。なお、クロムを被
着した場合には、クロム被膜に黒化処理を施して黒色パ
ターンを得る。

【００１３】上記カラーフィルタの製造方法において、
特に電着法カラーフィルタは、画素の平滑性に優れ、非
画線部でのレジストの残渣が少ないといった利点があ
り、種々の応用された製造方法が提案されている。

【００１４】例えば、互いに絶縁されて配置された複数
の導電性層を有する転写用基板を、電着浴中でその同一
色に着色すべき導電性層に通電することを複数回繰り返
すことにより、多数色の着色パターン層を同一の転写用
基板上に形成し、その後、転写用基板上の該多数の着色
パターン層を透明基板に転写し、形成する方法が記載さ
れている（特開昭６３−２６６４８２号公報）。また、
別の応用例としては、原板上に導電性層と感光性樹脂層
を積層して形成し、フォトリソグラフィーにより所定の
色に着色する部分を除いて感光性樹脂硬化層とし、露出
した導電性層の部分に電着を施して、着色層を形成し、
これを複数回繰り返すことにより、多数色の着色パター
ン層を同一原板上に形成し、その後、該多数の着色パタ
ーン層を透明基板に転写し、形成する方法が記載されて
いる（特開昭６４−２２３７９号公報）。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
電着方法では互いに絶縁されて配置された複数の導電性
層をエッチング等によりパターンニングする必要があ
り、この時点でパターンニングのかけ等による未通電部
分が発生すると、その部分の電着が不可能になるという
問題がある。また、この方法はパターン配列そのものに
制限を受けるという問題もある。

【００１６】また、後者の電着方法ではパターン配列の
制限という問題点は解決されるものの、フォトリソグラ
フィーにより所定の色に着色する部分を除いて感光性樹
脂硬化層とするので、電着法の非画線部でのレジストの
残渣が少ないといった利点を失い、また高価なレジスト
を使用しなくてはならないため、製造コストの上昇をき
たしていた。

【００１７】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、持続導電性を有する光導電性層を用い
ることにより、高精度なカラーフィルタと、このカラー
フィルタを効率よく得ることのできるカラーフィルタの
製造方法を提供することを目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は透明導電性基板と、該透明導電性基
板上に有機光導電性物質およびメモリー効果付与剤から
なる透明感光メモリー層を介して電着法により形成され
た着色パターン層とを備えるような構成とした。

【００１９】また、本発明は透明導電性基板上に、露光
により導電性を発現する有機光導電性物質およびメモリ
ー効果付与剤からなる透明感光メモリー層を形成する第
１の工程と、所望の着色パターン層の構成色のうちの所
定の色に対応したパターンの開口部を有するマスクを介
して前記透明感光メモリー層を露光し露光部分に導電性
を発現させた後、前記所定色に対応する電着浴に浸漬し
て前記着色パターン層の構成層を形成することを繰り返
すことにより前記着色パターン層を形成する第２の工程
と、を有するような構成とした。

【００２０】さらに、本発明は導電性基板上に、露光に
より導電性を発現する有機光導電性物質およびメモリー
効果付与剤からなる感光メモリー層を形成する第１の工
程と、所望の着色パターン層の構成色のうちの所定の色
に対応したパターンの開口部を有するマスクを介して前
記感光メモリー層を露光し露光部分に導電性を発現させ
た後、前記所定色に対応する電着浴に浸漬して前記着色
パターン層の構成層を形成することを繰り返すことによ
り前記着色パターン層を形成する第２の工程と、カラー
フィルタ用の透明基板上に、前記感光メモリー層上に形
成した着色パターン層を転写する第３の工程と、を有す
るような構成とした。

【００２１】

【作用】透明導電性基板上に形成された透明感光メモリ
ー層は、所定の色に対応したパターンの開口部を有する
マスクを介して露光されて露光部分に導電性が発現さ
れ、この露光部分に上記所定色に対応した電着材が電着
されて着色パターン層の構成層が形成され、これを繰り
返すことにより、透明導電性基板上に透明感光メモリー
層を介して着色パターン層を備えたカラーフィルタが得
られる。また、導電性基板上に形成された感光メモリー
層上に上記と同様にして形成した着色パターン層を、カ
ラーフィルタ用の透明基板上に転写することによりカラ
ーフィルタが得られる。これにより、従来法に比較して
高精度の微細パターンが形成されたカラーフィルタを、
簡便に、かつ、効率的に製造することが可能となる。

【００２２】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明により製造されたカラーフ
ィルタを用いたアクティブマトリックス方式による液晶
ディスプレイ（ＬＣＤ）の一例を示す斜視図であり、図
２は同じく概略断面図である。図１および図２におい
て、ＬＣＤ１はカラーフィルタ１０と透明ガラス基板２
０とをシール部材３０を介して対向させ、その間に捩れ
ネマティック（ＴＮ）液晶からなる厚さ約５〜１０μｍ
程度の液晶層４０を形成し、さらに、カラーフィルタ１
０と透明ガラス基板２０の外側に偏光板５０，５１が配
設されて構成されている。

【００２３】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図であり、カラーフィルタ１０は透明導電性基板１２
と、この透明導電性基板１２上に形成された透明感光メ
モリー層１３、着色パターン層１４と、着色パターン層
１４を覆うように設けられた保護層１８と透明共通電極
１９とを備えている。このカラーフィルタ１０は透明共
通電極１９が液晶層４０側に位置するように配設されて
いる。そして、着色パターン層１４は赤色パターン１４
Ｒ、緑色パターン１４Ｇ、青色パターン１４Ｂおよびブ
ラックマトリックス１４Ｂｌからなり、各着色パターン
１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの配列は図１に示されるように
モザイク配列となっている。尚、着色パターンの配列は
これに限定されるものではなく、三角配列、ストライプ
配列等としてもよい。

【００２４】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１４Ｂｌに対応するように走
査線（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設
されている。

【００２５】このようなＬＣＤ１では、着色パターン層
１４を構成する各着色パターン１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ
が画素をなし、偏光板５１側から照明光を照射した状態
で各画素に対応する表示電極ＯＮ、ＯＦＦさせることで
液晶層４０がシャッタとして作動し、着色パターン１４
Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂのそれぞれの画素を光が透過してカ
ラー表示が行われる。

【００２６】カラーフィルタ１０の透明導電性基板１２
としては、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英
板等の可撓性のないリジット材、あるいは透明樹脂フィ
ルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材
に、例えばＳｎＯ₂ 、Ｉｎ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｎＯ₂
はＡｌをドープしたような抵抗率が１０⁶ Ω^-m以下の金
属乃至半導体導電膜を形成したもの等を用いることがで
きる。透明導電性基板１２に用いる透明基材の中では、
特にコーニング社製７０５９ガラスは、熱膨脹率の小さ
い素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作
業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない
無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス
方式によるＬＣＤ用のカラーフィルタに適している。

【００２７】次に、本発明によるカラーフィルタの製造
例を図４を参照して説明する。まず、透明導電性基板１
２上に透明感光メモリー物質を塗布して透明感光メモリ
ー層１３を形成する（図４（Ａ））。ここで用いる透明
感光メモリー物質は、有機光導電性物質とメモリー効果
付与剤を含むものである。使用する有機光導電性物質と
しては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールのような高分子
光導電体、オキシジアゾールのような低分子光導電体を
電気絶縁性バインダーに分散したもの、ロイコマラカイ
トグリーンを電気絶縁性バインダーに分散したもの等を
挙げることができる。また、使用するメモリー効果付与
剤としては、各種のプロトン供与体を挙げることができ
る。

【００２８】尚、このような感光メモリー物質は米国特
許第３，８７９，２０１号、同第３，９９７，３４２号
等に詳細に記載されている。上述のような透明感光メモ
リー物質からなる透明感光メモリー層１３の厚さは０．
３〜１０μｍ程度が好ましい。

【００２９】次に、赤色パターン用の開口部を有するマ
スク３Ｒを介して透明導電メモリー層１３を露光する
と、露光部分１３Ｒに導電性が発現される（図４
（Ｂ））。そして、未露光部分は導電性が発現されるこ
となく絶縁性状態が保持されている。そして、露光部分
１３Ｒの導電性はメモリーされるため、後述する電着浴
中で赤色電着材が露光部分１３Ｒのみに選択的に電着さ
れる。その後、洗浄・乾燥することにより着色パターン
層１４のうちの赤色パターン１４Ｒが形成される（図４
（Ｃ））。そして、この赤色パターン１４Ｒは、以降の
パターン形成において絶縁性を発揮する。

【００３０】尚、赤色パターン１４Ｒの形成時に発現さ
れた導電性部１３Ｒが存在することにより次の着色パタ
ーンを形成するうえで支障が生じるときは、加熱してこ
の導電性部１３Ｒを消去して元状態に復帰させておくこ
とが必要となる。この場合、水洗後の乾燥を加熱乾燥と
することにより、乾燥と同時にメモリーも除去できるの
で便利である。

【００３１】同様に、緑色パターン用の開口部を有する
マスクを介して、透明感光メモリー層１３のうち、赤色
パターン１４Ｒが形成されていない所定領域を露光し、
電着浴で緑色電着材を露光部分（導電性発現部分）に電
着させることにより、緑色パターン１４Ｇが形成される
（図４（Ｄ））。次の青色パターン成形では、この緑色
パターン１４Ｇも絶縁層としての作用を発揮する。

【００３２】同様にして、透明感光メモリー層１３のう
ち、赤色パターン１４Ｒ、緑色パターン１４Ｇが形成さ
れていない所定領域に青色パターン１４Ｂが形成される
（図４（Ｅ））。

【００３３】最後に、ブラックマトリックス用の開口部
を有するマスクを介して透明感光メモリー層１３を露光
し、露光部分（導電性発現部分）に黒色電着材を電着さ
せることによりブラックマトリックス１４Ｂｌが形成さ
れる（図４（Ｆ））。

【００３４】尚、ブラックマトリックス１４Ｂｌの形成
は、透明感光メモリー層１３を全面露光し、着色パター
ン１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂが形成された以外の領域の全
てに導電性を発現させ、この導電性部分に黒色電着材を
電着させることにより行ってもよい。

【００３５】これにより、着色パターン１４Ｒ，１４
Ｇ，１４Ｂおよびブラックマトリックス１４Ｂｌからな
る着色パターン層１４が形成される。尚、本発明の着色
パターン層は平滑性に優れているため、保護層を形成し
なくてもよいが、着色パターン層１４を覆うように保護
層１８を形成することが好ましい。この保護層１８はカ
ラーフィルタ１０の表面平滑化、信頼性の向上、および
液晶層４０への汚染防止等を目的とするものであり、ア
クリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等の
透明樹脂、あるいは二酸化ケイ素等の透明無機化合物等
を用いて形成することができる。保護層の厚さは０．５
〜５０μｍ程度が好ましい。

【００３６】また、透明電極層１９としては、酸化イン
ジウムスズ（ＩＴＯ）膜を用いることができる。ＩＴＯ
膜は蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成する
ことができ、厚さは２００〜２０００Å程度が好まし
い。

【００３７】次に、本発明によるカラーフィルタの製造
の他の例を図５を参照して説明する。まず、導電性基板
２２上に感光メモリー物質を塗布して感光メモリー層２
３を形成する（図５（Ａ））。ここで用いる導電性基板
２２は、上述の透明導電性基板１２と同じものでもよ
く、また、Ａｌ、Ｃｎ等の金属材料等の任意の導電性材
料から形成したものであってもよい。また、感光メモリ
ー層２３は、透明である必要はなのいで、上述のような
いずれの感光メモリー物質で構成されてもよい。

【００３８】次に、図４に示された上述の例と同様にし
てマスクを介して露光と電着を繰り返し、赤色パターン
１４Ｒ、緑色パターン１４Ｇ、青色パターン１４Ｂおよ
びブラックマトリックス１４Ｂｌからなる着色パターン
層１４を感光メモリー層２３上に形成する（図５
（Ｂ））。

【００３９】その後、カラーフィルタ用の透明基板１
２′が着色パターン層１４上に重ね合わされ、着色パタ
ーン層１４が透明基板１２′上に転写される（図５
（Ｃ））。そして、この着色パターン１４上に上記と同
様にして保護層１８と透明電極層１９が形成される。
尚、透明基板１２′上への着色パターン層１４の転写を
良好にするために、透明基板１２′上に予めプライマー
層を形成しておくことが好ましい。

【００４０】上述のような露光に用いる光源としては、
水銀灯やハロゲンランプ等を使用することができるが、
露光時の潜像解像性を保持するために光質は平行光が最
も好ましい。したがって、光源を充分離して点光源的に
用いるか、コンデンサーで平行光にして露光することが
好ましい。

【００４１】つぎに、本発明に使用する電着材料につい
て説明する。着色パターン用の電着材料は、一般に有機
材料（高分子材料）からなり、その原形は電着塗装法と
してよく知られている。電着塗装では、電気化学的な主
電極との反応によりカチオン電着とアニオン電着とがあ
る。これは、電着材料がカチオンとして存在するか、ア
ニオンとして挙動するかで分類される。電着に用いられ
る有機高分子物質としては、天然油脂系、合成油脂系、
アルキッド樹脂系、ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂
系、エポキシ樹脂系等の種々の有機高分子物質が挙げら
れる。

【００４２】アニオン型では、古くからマレイン化油や
ポリブタジエン系樹脂が知られており、電着物質の硬化
は酸化重合反応による。カチオン型はエポキシ樹脂系が
多く、単独あるいは変性されて使用できる。その他に、
メラミン樹脂系、アクリル樹脂系等のいわゆるポリアミ
ノ樹脂系が多く用いられ、熱硬化や光硬化等により強固
な着色パターン層を形成できる。

【００４３】本発明のカラーフィルタの製造では、微粉
砕された顔料や染料を分散させた分散媒をアニオン型ま
たはカチオン型電着浴中に保持し、イオン性高分子材料
とともに導電部に析出させる。

【００４４】次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 （実験例１）メモリー付与剤として２，５−ジブトキシ
−４−モルホリノベンゼンジアゾニウムテトラフルオロ
ボレート２ｍｇと、有機光導電性物質としてポリビニル
カルバゾール１ｇと、増感色素としてトリニトロフルオ
レン５０ｍｇと、バインダーとしてＣＨＣｌ₃ ２５ｇの
混合溶液を暗所で作成して透明感光メモリー物質とし
た。一方、ＩＴＯを蒸着したポリエステルフィルム（帝
人（株）製透明導電性フィルム）にワイヤーバーを用い
て上記の透明感光メモリー物質を塗布し、５０℃で約１
時間通風乾燥して膜厚約１０μｍの透明感光メモリー層
を形成した。また完全に乾燥を行うために、さらに１日
間自然乾燥を行った。

【００４５】一方、アニオン型電着フォトレジスト「オ
リゴーＥＤ」（日本石油化学製）を残留固体分が１３．
５重量％になるように純粋で希釈したものに着色顔料を
１〜５重量％の割合で添加して電着液を調製した。着色
顔料は、赤色（ナフトールレッド）、緑色（フタロシア
ニングリーン）及び青色（銅フタロシアニンブルー）の
３色を使用し、それぞれ前記電着フォトレジストと混合
してからボールミルを用いて分散させることにより赤色
分散媒Ｒ、緑色分散媒Ｇ、青色分散媒Ｂをそれぞれ調製
した。なお、ここで使用した「オリゴーＥＤ」（日本石
油化学製）は、変性アクリレート、プロピレングリコー
ルモノアクリレート等からなる固形分を１４．４重量％
の割合で含有するとともに、水及びアルコールからなる
揮発分を８５．６重量％の割合で含有したものであっ
た。さらに、増感剤・助剤としてα−アミノアセトフェ
ノン系増感剤が添加されている。

【００４６】次に、上記で得た透明感光メモリー層に所
望の青色パターンに対応した開口部を有するマスクを介
してキセノンランプを用いて０．１ｍＷ／ｃｍ² の照度
で１秒間像露光し、露光部に導電潜像を形成した。

【００４７】前記の導電潜像を有する感光メモリー層を
陽極とし、白金電極を陰極として電極間隔２．５ｃｍで
前記青色分散媒Ｂ中に両電極を浸漬し、１０ｍＡの定電
流を６０秒間通電して電着レジストおよび顔料を電気泳
動電着した。その後、一旦、感光材料を取り出し、水洗
してから温度８０℃で５分間乾燥を行って青色パターン
を形成した。

【００４８】次に、緑色パターンに対応した開口部を有
するマスクを用いて、露光を行ない、前記の緑色分散媒
Ｇを用いて上記の青色パターンと同様に緑色パターンを
形成した。

【００４９】更に、赤色パターンに対応した開口部を有
するマスクを用いて露光を行ない、前記の赤色分散媒Ｒ
を用いて赤色パターンを形成し、青、緑、赤の各パター
ンからなる着色パターン層を透明感光メモリー層上に作
成した。ここで、露光時間と、電着時の浸漬時間とを調
節することにより、赤、緑、青の各パターン層の厚さ
は、いずれも約２μｍとした。

【００５０】この着色パターン層上にポリイミド樹脂の
稀薄液を塗布乾燥して耐熱性保護層を形成し、さらに、
常法に従って透明電極（ＩＴＯ）を蒸着により形成して
カラーフィルタを作成した。

【００５１】得られたカラーフィルタを用いて、液晶カ
ラー表示素子を作成し、カラー画像を表示させたところ
色ずれやにじみのない良好なカラー画像が表示された。 （実験例２）メモリー付与剤として２，５−ジブトキシ
−４−モルフォリノベンゼンジアゾニウムテトラフルオ
ロボレート２ｍｇと、有機光導電性物質としてロイコマ
ラカイトグリーン１ｇと、増感剤としてトリニトロフル
オレン５０ｍｇと、バインダーとしてＣＨＣｌ₃ ２５ｇ
の混合溶液を暗色で作成して感光メモリー物質とした。
一方、ＩＴＯを蒸着したポリエステルフィルム（帝人
（株）製透明導電性フィルム）に上記の感光メモリー物
質をワイヤーバーを用いて塗布し、実験例１と同条件で
感光メモリー層を形成した。

【００５２】次に、実験例１と同様にして感光メモリー
層上に青パターン、緑色パターン、赤色パターンからな
る厚さ約２μｍの着色パターン層を形成した。一方、
「ＩＮＣ−１００」（日本化薬製）とイソボニルアクリ
レート（ソマール製）とを１：１の割合で混合し、これ
に光開始剤及び増感剤を２重量％ずつ添加して、ガラス
密着性に優れた紫外線硬化性プライマーを調製した。そ
して、このプライマーを厚さ１．１mmのパイレックスガ
ラス上に塗布して厚さ２μｍのプライマー層を形成し
た。

【００５３】次に、このプライマー層が上記の着色パタ
ーン層と密着するように導電性基板とパイレックスガラ
スを重ね合わせ、両者を剥離してパイレックスガラス上
に着色パターン層を転写した。

【００５４】その後、実験例１と同様にして耐熱性保護
層と透明電極を形成してカラーフィルタを作成した。得
られたカラーフィルタを用いて、液晶カラー表示素子を
作成し、カラー画像を表示させたところ色ずれやにじみ
のない良好なカラー画像が表示された。

【００５５】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
透明導電性基板上の透明感光メモリー層上に複数色の着
色パターンを順次電着して着色パターン層を備えたカラ
ーフィルタを製造し、あるいは、複数色の着色パターン
を順次選択的に感光メモリー層を有する導電性基板上に
電着して形成した後、この着色パターン層を透明基板に
転写してカラーフィルタを製造するので、従来法に比較
して高精度の微細パターンが形成されたカラーフィルタ
を、簡略化された工程で、しかも低コストで効率的に製
造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。

【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。

【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。

【図４】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。

【図５】本発明によるカラーフィルタの製造方法の他の
例を説明するための工程図である。

【符号の説明】

１０…カラーフィルタ １２…透明導電性基板 １２′…透明基板 １３…透明感光メモリー層 １４…着色パターン層 ２２…導電性基板 ２３…感光メモリー層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/20 101 G03G 5/00 - 5/16

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明導電性基板と、該透明導電性基板上
   に有機光導電性物質およびメモリー効果付与剤からなる
   透明感光メモリー層を介して電着法により形成された着
   色パターン層とを備えることを特徴とするカラーフィル
   タ。
2. 【請求項２】 透明導電性基板上に、露光により導電性
   を発現する有機光導電性物質およびメモリー効果付与剤
   からなる透明感光メモリー層を形成する第１の工程と、
   所望の着色パターン層の構成色のうちの所定の色に対応
   したパターンの開口部を有するマスクを介して前記透明
   感光メモリー層を露光し露光部分に導電性を発現させた
   後、前記所定色に対応する電着浴に浸漬して前記着色パ
   ターン層の構成層を形成することを繰り返すことにより
   前記着色パターン層を形成する第２の工程と、を有する
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
3. 【請求項３】 導電性基板上に、露光により導電性を発
   現する有機光導電性物質およびメモリー効果付与剤から
   なる感光メモリー層を形成する第１の工程と、所望の着
   色パターン層の構成色のうちの所定の色に対応したパタ
   ーンの開口部を有するマスクを介して前記感光メモリー
   層を露光し露光部分に導電性を発現させた後、前記所定
   色に対応する電着浴に浸漬して前記着色パターン層の構
   成層を形成することを繰り返すことにより前記着色パタ
   ーン層を形成する第２の工程と、カラーフィルタ用の透
   明基板上に、前記感光メモリー層上に形成した着色パタ
   ーン層を転写する第３の工程と、を有することを特徴と
   するカラーフィルタの製造方法。