JP3095879B2 - 置換１−スルホニルオキシ−２−ピリドン、それらの製法、およびそれらの用途 - Google Patents
置換１−スルホニルオキシ−２−ピリドン、それらの製法、およびそれらの用途Info
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、６位で発色的に置換さ
れた新規の感放射線１−スルホニルオキシ−２−ピリド
ン、それらの製法およびそれらの用途、好ましくは感放
射線混合物の用途に関する。
れた新規の感放射線１−スルホニルオキシ−２−ピリド
ン、それらの製法およびそれらの用途、好ましくは感放
射線混合物の用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】ロイコ染料を含有する感放射線混合物に
おいて１−スルホニルオキシ−２−ピリドンを光酸化剤
として使用することは、米国特許第４，４２５，４２４
号明細書に開示されている。このような混合物において
は、光酸化剤は、照射時に、例えばロイコ染料の酸化を
生じ、このようにして強い色変化を受け且つ露光部と未
露光部との間の目視コントラストを生ずる。このような
色変化は、複写結果を露光後現像前に評価することを可
能にするために、例えば印刷版の製版において工業上望
ましい。
おいて１−スルホニルオキシ−２−ピリドンを光酸化剤
として使用することは、米国特許第４，４２５，４２４
号明細書に開示されている。このような混合物において
は、光酸化剤は、照射時に、例えばロイコ染料の酸化を
生じ、このようにして強い色変化を受け且つ露光部と未
露光部との間の目視コントラストを生ずる。このような
色変化は、複写結果を露光後現像前に評価することを可
能にするために、例えば印刷版の製版において工業上望
ましい。
【０００３】１−ベンゼンスルホニルオキシ−および１
−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリドン
およびその製法は、既知である（E. C. Taylor等，J. O
rg.Chem.,３５，１６７２，１９７０）。しかしなが
ら、これらの化合物の放射線感度は、認識されなかっ
た。
−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリドン
およびその製法は、既知である（E. C. Taylor等，J. O
rg.Chem.,３５，１６７２，１９７０）。しかしなが
ら、これらの化合物の放射線感度は、認識されなかっ
た。
【０００４】感放射線混合物での酸発生剤としてのスル
ホン酸エステルは、既知である。これらのものの例は、
ヒドロキシメチルベンゾイン誘導体のスルホネート（Ｄ
Ｅ−Ａ第１，９１９，６７８号明細書）または２−ニト
ロベンジルスルホネート（ＥＰ−Ａ第０，３３０，３８
６号明細書）およびピロガロールスルホネート（T. Uen
o 等の「Polymers for Microelectronics - Science an
d Technology」における酸発生剤として新規のスルホネ
ートを使用しての化学増幅ポジレジスト系、Y.Tabata等
編、 Kodansha-Weinheim-New York ，１９８９，第６６
頁〜第６７頁）である。このような感放射線スルホン酸
エステルは、吸収性のため高エネルギーＵＶ２放射線
（２２０〜２８０nm）の照射に特に好適である一方、工
業で現在使用されているＵＶ３およびＵＶ４放射線（３
５０〜４５０nm）に対する感度は、実際に使用するには
不十分である。
ホン酸エステルは、既知である。これらのものの例は、
ヒドロキシメチルベンゾイン誘導体のスルホネート（Ｄ
Ｅ−Ａ第１，９１９，６７８号明細書）または２−ニト
ロベンジルスルホネート（ＥＰ−Ａ第０，３３０，３８
６号明細書）およびピロガロールスルホネート（T. Uen
o 等の「Polymers for Microelectronics - Science an
d Technology」における酸発生剤として新規のスルホネ
ートを使用しての化学増幅ポジレジスト系、Y.Tabata等
編、 Kodansha-Weinheim-New York ，１９８９，第６６
頁〜第６７頁）である。このような感放射線スルホン酸
エステルは、吸収性のため高エネルギーＵＶ２放射線
（２２０〜２８０nm）の照射に特に好適である一方、工
業で現在使用されているＵＶ３およびＵＶ４放射線（３
５０〜４５０nm）に対する感度は、実際に使用するには
不十分である。
【０００５】この領域で実施するのに好適な感度を有す
る化合物は、ＥＰ−Ａ第０，１３７，４５２号明細書か
ら既知である。これらは、例えば、トリクロロメチル基
を含有し且つ露光時に遊離塩素基および塩酸（これらは
光開始剤または光酸発生剤として所望の性質をこれらの
化合物に授与する）を生成する化合物である。しかしな
がら、光分解的に発生したハロゲン化水素酸は、強い腐
食作用を有し、この理由で、多くに技術分野で使用でき
ない。
る化合物は、ＥＰ−Ａ第０，１３７，４５２号明細書か
ら既知である。これらは、例えば、トリクロロメチル基
を含有し且つ露光時に遊離塩素基および塩酸（これらは
光開始剤または光酸発生剤として所望の性質をこれらの
化合物に授与する）を生成する化合物である。しかしな
がら、光分解的に発生したハロゲン化水素酸は、強い腐
食作用を有し、この理由で、多くに技術分野で使用でき
ない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】それゆえ、本発明の目
的は、特に波長３５０〜４５０nmの放射線の領域または
可視領域で高感度を有し且つ単純な方法で製造できる感
放射線化合物を提供することにある。同時に、本発明に
係る化合物は、高エネルギー紫外線、例えば、ＫｒＦエ
キシマレーザによって放出するものにも感受性であるこ
とが望ましい。本発明の目的によれば、これらの化合物
は、照射時に、腐食作用のない活性光分解生成物を生成
すべきであり、それゆえ易腐食性物質と併用することも
できる光開始剤および光酸発生剤が提供される。
的は、特に波長３５０〜４５０nmの放射線の領域または
可視領域で高感度を有し且つ単純な方法で製造できる感
放射線化合物を提供することにある。同時に、本発明に
係る化合物は、高エネルギー紫外線、例えば、ＫｒＦエ
キシマレーザによって放出するものにも感受性であるこ
とが望ましい。本発明の目的によれば、これらの化合物
は、照射時に、腐食作用のない活性光分解生成物を生成
すべきであり、それゆえ易腐食性物質と併用することも
できる光開始剤および光酸発生剤が提供される。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的は、式Ｉ
【０００８】
【化５】 （式中、Ｒ1 はアルキル、シクロアルキル、アリール、
アラルケニル、ヘテロアリールまたはヘテロアラルケニ
ル基であり、Ｒ2 は水素、塩素、臭素またはアルキル、
シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリール基であ
り、またはＲ1 およびＲ2 は一緒に５〜８員環を形成
し、Ｒ3 は水素またはアルキル基であり、Ｒ4 は水素、
ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、シアノ、チオシアナ
トまたはアルキル、アルケニル、アルキニル、アリー
ル、アラルキル、アルキルチオ、アリールチオまたはシ
クロアルキルチオ基であり、Ｒ5 は水素またはアルキル
またはアリール基であり、またはＲ4 およびＲ5 は一緒
に５〜８員環を形成し、Ｒ6 は水素、ハロゲン、ニト
ロ、アシルアミノ、シアノ、チオシアナトまたはアルキ
ル、アルケニル、アルコキシアルキル、アリール、アラ
ルキル、アルキルチオ、シクロアルキルチオまたはアリ
ールチオ基であり、Ｒ7 はアルキルまたはシクロアルキ
ル基、過フッ素化または高フッ素化アルキル基またはア
リール、アリールアルキルまたはヘテロアリール基また
はアルキレンまたはアリーレン基であり、ｍは１または
２の数であり、ｎは１〜３の整数である）の新規の放射
線感受性の発色的に置換された１−スルホニルオキシ−
２−ピリドンによって達成される。
アラルケニル、ヘテロアリールまたはヘテロアラルケニ
ル基であり、Ｒ2 は水素、塩素、臭素またはアルキル、
シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリール基であ
り、またはＲ1 およびＲ2 は一緒に５〜８員環を形成
し、Ｒ3 は水素またはアルキル基であり、Ｒ4 は水素、
ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、シアノ、チオシアナ
トまたはアルキル、アルケニル、アルキニル、アリー
ル、アラルキル、アルキルチオ、アリールチオまたはシ
クロアルキルチオ基であり、Ｒ5 は水素またはアルキル
またはアリール基であり、またはＲ4 およびＲ5 は一緒
に５〜８員環を形成し、Ｒ6 は水素、ハロゲン、ニト
ロ、アシルアミノ、シアノ、チオシアナトまたはアルキ
ル、アルケニル、アルコキシアルキル、アリール、アラ
ルキル、アルキルチオ、シクロアルキルチオまたはアリ
ールチオ基であり、Ｒ7 はアルキルまたはシクロアルキ
ル基、過フッ素化または高フッ素化アルキル基またはア
リール、アリールアルキルまたはヘテロアリール基また
はアルキレンまたはアリーレン基であり、ｍは１または
２の数であり、ｎは１〜３の整数である）の新規の放射
線感受性の発色的に置換された１−スルホニルオキシ−
２−ピリドンによって達成される。
【０００９】Ｒ1 がアルキルまたはシクロアルキル基ま
たは式II
たは式II
【００１０】
【化６】 〔式中、Ｒ8 およびＲ9 は同一または異種であり、水素
または低級アルキルまたはアリール基であり、Ｒ10〜Ｒ
14は同一または異種であり、水素、アルキル、アルケニ
ル、アルコキシ、アルキルチオまたはアルカンスルホニ
ル基（各々は６個までの炭素原子を有する）、炭素数８
までのシクロアルキルオキシ、シクロアルキルチオまた
はシクロアルカンスルホニル基、フェニル、スチリル、
フェノキシ、フェニルチオ、ベンゼンスルホニル、フェ
ニルアルコキシ、フェニルアルキルチオまたはフェニル
アルカンスルホニル基（芳香環上で置換してもよく且つ
アルキル鎖中に３個までの炭素原子を有する）、ヒドロ
キシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、ニトロ、シア
ノ、アルコキシカルボニル、カルバモイル（窒素上で５
〜７員環を形成するために結合してもよい１または２個
のアルキル基で置換してもよい）、スルファモイル（窒
素上で５〜７員環を形成するために結合してもよい１ま
たは２個のアルキル基で置換してもよい）、アルカンス
ルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ、アシルア
ミノ、アルキルアミノまたはアリールアミノであり、ま
たは２個の相互に隣接する置換基Ｒ10〜Ｒ14は１または
２個の更に他の縮合環を形成し、ｏは０または１の数で
ある〕のアリール基である式Ｉの化合物は、好ましい。
または低級アルキルまたはアリール基であり、Ｒ10〜Ｒ
14は同一または異種であり、水素、アルキル、アルケニ
ル、アルコキシ、アルキルチオまたはアルカンスルホニ
ル基（各々は６個までの炭素原子を有する）、炭素数８
までのシクロアルキルオキシ、シクロアルキルチオまた
はシクロアルカンスルホニル基、フェニル、スチリル、
フェノキシ、フェニルチオ、ベンゼンスルホニル、フェ
ニルアルコキシ、フェニルアルキルチオまたはフェニル
アルカンスルホニル基（芳香環上で置換してもよく且つ
アルキル鎖中に３個までの炭素原子を有する）、ヒドロ
キシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、ニトロ、シア
ノ、アルコキシカルボニル、カルバモイル（窒素上で５
〜７員環を形成するために結合してもよい１または２個
のアルキル基で置換してもよい）、スルファモイル（窒
素上で５〜７員環を形成するために結合してもよい１ま
たは２個のアルキル基で置換してもよい）、アルカンス
ルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ、アシルア
ミノ、アルキルアミノまたはアリールアミノであり、ま
たは２個の相互に隣接する置換基Ｒ10〜Ｒ14は１または
２個の更に他の縮合環を形成し、ｏは０または１の数で
ある〕のアリール基である式Ｉの化合物は、好ましい。
【００１１】加えて、Ｒ1 が、式III
【００１２】
【化７】 の、３個までのヘテロ原子を有する５または６員複素環
式環である式Ｉの化合物も、好ましい。
式環である式Ｉの化合物も、好ましい。
【００１３】最後に、Ｒ1 がフェロセニル基であり、Ｒ
2 が水素、塩素、臭素、アルキル、シクロアルキルまた
は式IIまたはIII の基であり、またはＲ1 およびＲ2 が
一緒に５〜８員環を形成し、Ｒ3 が水素またはアルキル
基であり、Ｒ4 が水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミ
ノ、シアノ、チオシアナトまたはアルキル、アリール、
アルキルチオ、アリールチオまたはシクロアルキルチオ
基であり、Ｒ5 が水素またはアルキルまたはアリール基
であり、またはＲ4 およびＲ5 が一緒に５〜８員環を形
成し、Ｒ6 が水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、
シアノ、チオシアナトまたはアルキル、アリール、アル
キルチオ、アリールチオまたはシクロアルキルチオ基で
あり、Ｒ7 がアルキルまたはシクロアルキル基、過フッ
素化または高フッ素化アルキル基またはアリール、アリ
ールアルキルまたはヘテロアリール基またはアルキレン
またはアリーレン基であり、ｍが１または２の数であ
り、ｎが１〜３の整数である式Ｉの化合物も、好まし
い。
2 が水素、塩素、臭素、アルキル、シクロアルキルまた
は式IIまたはIII の基であり、またはＲ1 およびＲ2 が
一緒に５〜８員環を形成し、Ｒ3 が水素またはアルキル
基であり、Ｒ4 が水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミ
ノ、シアノ、チオシアナトまたはアルキル、アリール、
アルキルチオ、アリールチオまたはシクロアルキルチオ
基であり、Ｒ5 が水素またはアルキルまたはアリール基
であり、またはＲ4 およびＲ5 が一緒に５〜８員環を形
成し、Ｒ6 が水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、
シアノ、チオシアナトまたはアルキル、アリール、アル
キルチオ、アリールチオまたはシクロアルキルチオ基で
あり、Ｒ7 がアルキルまたはシクロアルキル基、過フッ
素化または高フッ素化アルキル基またはアリール、アリ
ールアルキルまたはヘテロアリール基またはアルキレン
またはアリーレン基であり、ｍが１または２の数であ
り、ｎが１〜３の整数である式Ｉの化合物も、好まし
い。
【００１４】Ｒ7 が炭素数１〜４のアルキル基、炭素数
１〜４の高フッ素化アルキル基または過フッ素化アルキ
ル基または式IV
１〜４の高フッ素化アルキル基または過フッ素化アルキ
ル基または式IV
【００１５】
【化８】 〔式中、Ｒ15〜Ｒ19は同一または異種であり、水素原子
またはハロゲン原子、好ましくはフッ素、塩素または臭
素、アルキル基（６個までの炭素原子を有し且つ非置換
であるかハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素、ア
リールまたはアリールオキシ基で置換されている）（個
々のメチレン基は酸素または硫黄原子で置換でき、各々
の場合にこれらの基の２つは５または６員環を形成する
ために結合できる）、炭素数８までのシクロアルキル
基、炭素数６までのアルケニル基または炭素数１０まで
のアリールまたはアリールオキシ基であり、基Ｒ15〜Ｒ
19中の炭素原子の合計数は１２以下である〕のアリール
基である式Ｉの化合物が、特に好ましい。
またはハロゲン原子、好ましくはフッ素、塩素または臭
素、アルキル基（６個までの炭素原子を有し且つ非置換
であるかハロゲン原子、好ましくは塩素または臭素、ア
リールまたはアリールオキシ基で置換されている）（個
々のメチレン基は酸素または硫黄原子で置換でき、各々
の場合にこれらの基の２つは５または６員環を形成する
ために結合できる）、炭素数８までのシクロアルキル
基、炭素数６までのアルケニル基または炭素数１０まで
のアリールまたはアリールオキシ基であり、基Ｒ15〜Ｒ
19中の炭素原子の合計数は１２以下である〕のアリール
基である式Ｉの化合物が、特に好ましい。
【００１６】Ｒ7 が炭素数１０までのナフチルまたはヘ
テロアリール基、炭素数６までのアルキレン基または炭
素数１４までのアリーレンまたはヘテロアリーレン基で
ある式Ｉの化合物も、好ましい。
テロアリール基、炭素数６までのアルキレン基または炭
素数１４までのアリーレンまたはヘテロアリーレン基で
ある式Ｉの化合物も、好ましい。
【００１７】Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ6 が水素原子で
あり、Ｒ5 がメチル基であり、Ｒ7 がメチル、エチル、
トリフルオロメチル、１，１，２，３，３，３−ヘキサ
フルオロプロピル、フェニル、トリル、４−フルオロフ
ェニル、４−クロロフェニル、４−ブロモフェニルまた
は４−ニトロフェニル基であり、ｍおよびｎが各々１の
数である式Ｉの化合物が、非常に特に好ましい。
あり、Ｒ5 がメチル基であり、Ｒ7 がメチル、エチル、
トリフルオロメチル、１，１，２，３，３，３−ヘキサ
フルオロプロピル、フェニル、トリル、４−フルオロフ
ェニル、４−クロロフェニル、４−ブロモフェニルまた
は４−ニトロフェニル基であり、ｍおよびｎが各々１の
数である式Ｉの化合物が、非常に特に好ましい。
【００１８】詳細には、特に好ましい化合物のうち、基
Ｒ7 は、例えば、下記意味を有することができる：メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシ
ル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オク
タデシル、１０−カンフィル、クロロメチル、２−クロ
ロエチル、３−クロロプロピル、ジクロロメチル、トリ
クロロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、２，２，２−トリフルオロエチル、３，３，３，
２，１，１−ヘキサフルオロプロピル、ペルフルオロヘ
キシル、トリメチルシリルメチル、メタンスルホニルメ
チル、フェニル、ベンジル、４−アセチルフェニル、４
−アセチルアミノフェニル、２−、３−または４−ブロ
モフェニル、２−、３−または４−クロロフェニル、２
−、３−または４−フルオロフェニル、４−ヨードフェ
ニル、２−シアノフェニル、４−シアノフェニル、２
−、３−または４−メチルフェニル、４−エチルフェニ
ル、４−プロピルフェニル、４−イソプロピルフェニ
ル、４−イソブチルフェニル、４−ｔ−ブチルフェニ
ル、４−ｔ−アミルフェニル、４−ヘキシルフェニル、
４−メトキシフェニル、４−ブトキシフェニル、４−ヘ
キサデシルオキシフェニル、２−、３−または４−トリ
フルオロメチルフェニル、２−または４−トリフルオロ
メトキシフェニル、２−、３−または４−ニトロフェニ
ル、３−または４−カルボキシフェニル、２−メトキシ
カルボニルフェニル、４−テトラフルオロエトキシフェ
ニル、β−スチリル、４−アセチルアミノ−３−クロロ
フェニル、４−アセチルアミノ−３−フルオロフェニ
ル、３，５−ビストリフルオロメチルフェニル、２，５
−ビス−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−フェ
ニル、２，５−ジメチルフェニル、２，４−、２，５−
または３，４−ジメトキシフェニル、２，４−ジイソプ
ロピルフェニル、５−ブロモ−２−メトキシフェニル、
２−または３−クロロ−４−フルオロフェニル、３−ク
ロロ−２−メチルフェニル、３−クロロ−４−メトキシ
フェニル、２−クロロ−６−メチルフェニル、２−クロ
ロ−４−トリフルオロメチルフェニル、５−クロロ−２
−メトキシフェニル、５−フルオロ−２−メチルフェニ
ル、２，５−または３，４−ジブロモフェニル、２，３
−、２，４−または２，５−、２，６−、３，４−また
は３，５−ジクロロフェニル、２−（２，４−ジクロロ
フェノキシ）−フェニル、４−（２−クロロ−６−ニト
ロフェノキシ）−フェニル、４−（３−クロロ−２−シ
アノフェノキシ）−フェニル、２，４−または２，５−
ジフルオロフェニル、３−カルボキシ−４−クロロフェ
ニル、４−クロロ−３−ニトロフェニル、２−メチル−
５−ニトロフェニル、４−クロロ−３−または２−クロ
ロ−５−トリフルオロメチルフェニル、４−（２，２−
ジクロロシクロプロピル）−フェニル、２，４−ジニト
ロフェニル、４−ジメチルアミノ−３−ニトロフェニ
ル、２−ニトロ−４−トリフルオロメチルフェニル、
２，４，６−トリメチルフェニル、２，４，６−トリイ
ソプロピルフェニル、２，３，４−、２，４，５−また
は２，４，６−トリクロロフェニル、４−クロロ−２，
５−ジメチルフェニル、２，４−ジクロロ−５−メチル
フェニル、３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニ
ル、３，５−ジクロロ−４−（４−ニトロフェノキシ）
−フェニル、４−（２−クロロ−４−ニトロフェノキ
シ）−３，５−ジクロロフェニル、４−ブロモ−２，５
−ジフルオロフェニル、２，４−ジメチル−３−ニトロ
フェニル、３，５−ジニトロ−４−メチルフェニル、
２，３，５，６−テトラメチルフェニル、４−メトキシ
−２，３，６−トリメチルフェニル、２，５−ジブロモ
−３，６−ジフルオロフェニル、２，３，４，５，６−
ペンタフルオロフェニル、１−または２−ナフチル、５
−ジアゾ−６−オキソ−５，６−ジヒドロ−１−ナフチ
ル、６−ジアゾ−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−１−
ナフチル、５−ジアゾ−６−オキソ−５，６−ジヒドロ
−８−ナフチル、５−ジアゾ−３−メトキシ−６−オキ
ソ−５，６−ジヒドロ−８−ナフチル、５−ジメチルア
ミノ−１−ナフチル、１−アントラセニル、２−アント
ラキノニル、８−キノリニル、２−チエニル、５−クロ
ロ−２−チエニル、４−ブロモ−２，５−ジクロロ−３
−チエニル、４，５−ジブロモ−２−チエニル、２，３
−ジクロロ−５−チエニル、２−ブロモ−３−クロロ−
５−チエニル、３−ブロモ−２−クロロ−５−チエニ
ル、３−ブロモ−５−クロロ−２−チエニル、２，５−
ジクロロ−３−チエニル、２−（２−ピリジル）−５−
チエニル、５−クロロ−１，３−ジメチル−４−ピラゾ
リル、３，５−ジメチル−４−イソキサゾリル、２，４
−ジメチル−５−チアゾリル、２−アセチルアミノ−４
−メチル−５−チアゾリルまたは１，４−ブチレン、２
−オキソ−１，３−プロピレン、１，２または１，３−
フェニレン、３−メチル−１，２−フェニレン、２，
４，６−トリメチル−１，３−フェニレン、４，４′−
ビフェニレン、４，４′−メチレンジフェニレン、４，
４′−オキシビフェニレン、１，５−ナフチレン、２−
クロロ−３，５−チエニレン、２−（１−メチル−５−
トリフルオロメチルピラゾール−３−イル）−３，５−
チエニレン。
Ｒ7 は、例えば、下記意味を有することができる：メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシ
ル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オク
タデシル、１０−カンフィル、クロロメチル、２−クロ
ロエチル、３−クロロプロピル、ジクロロメチル、トリ
クロロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、２，２，２−トリフルオロエチル、３，３，３，
２，１，１−ヘキサフルオロプロピル、ペルフルオロヘ
キシル、トリメチルシリルメチル、メタンスルホニルメ
チル、フェニル、ベンジル、４−アセチルフェニル、４
−アセチルアミノフェニル、２−、３−または４−ブロ
モフェニル、２−、３−または４−クロロフェニル、２
−、３−または４−フルオロフェニル、４−ヨードフェ
ニル、２−シアノフェニル、４−シアノフェニル、２
−、３−または４−メチルフェニル、４−エチルフェニ
ル、４−プロピルフェニル、４−イソプロピルフェニ
ル、４−イソブチルフェニル、４−ｔ−ブチルフェニ
ル、４−ｔ−アミルフェニル、４−ヘキシルフェニル、
４−メトキシフェニル、４−ブトキシフェニル、４−ヘ
キサデシルオキシフェニル、２−、３−または４−トリ
フルオロメチルフェニル、２−または４−トリフルオロ
メトキシフェニル、２−、３−または４−ニトロフェニ
ル、３−または４−カルボキシフェニル、２−メトキシ
カルボニルフェニル、４−テトラフルオロエトキシフェ
ニル、β−スチリル、４−アセチルアミノ−３−クロロ
フェニル、４−アセチルアミノ−３−フルオロフェニ
ル、３，５−ビストリフルオロメチルフェニル、２，５
−ビス−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−フェ
ニル、２，５−ジメチルフェニル、２，４−、２，５−
または３，４−ジメトキシフェニル、２，４−ジイソプ
ロピルフェニル、５−ブロモ−２−メトキシフェニル、
２−または３−クロロ−４−フルオロフェニル、３−ク
ロロ−２−メチルフェニル、３−クロロ−４−メトキシ
フェニル、２−クロロ−６−メチルフェニル、２−クロ
ロ−４−トリフルオロメチルフェニル、５−クロロ−２
−メトキシフェニル、５−フルオロ−２−メチルフェニ
ル、２，５−または３，４−ジブロモフェニル、２，３
−、２，４−または２，５−、２，６−、３，４−また
は３，５−ジクロロフェニル、２−（２，４−ジクロロ
フェノキシ）−フェニル、４−（２−クロロ−６−ニト
ロフェノキシ）−フェニル、４−（３−クロロ−２−シ
アノフェノキシ）−フェニル、２，４−または２，５−
ジフルオロフェニル、３−カルボキシ−４−クロロフェ
ニル、４−クロロ−３−ニトロフェニル、２−メチル−
５−ニトロフェニル、４−クロロ−３−または２−クロ
ロ−５−トリフルオロメチルフェニル、４−（２，２−
ジクロロシクロプロピル）−フェニル、２，４−ジニト
ロフェニル、４−ジメチルアミノ−３−ニトロフェニ
ル、２−ニトロ−４−トリフルオロメチルフェニル、
２，４，６−トリメチルフェニル、２，４，６−トリイ
ソプロピルフェニル、２，３，４−、２，４，５−また
は２，４，６−トリクロロフェニル、４−クロロ−２，
５−ジメチルフェニル、２，４−ジクロロ−５−メチル
フェニル、３，５−ジクロロ−２−ヒドロキシフェニ
ル、３，５−ジクロロ−４−（４−ニトロフェノキシ）
−フェニル、４−（２−クロロ−４−ニトロフェノキ
シ）−３，５−ジクロロフェニル、４−ブロモ−２，５
−ジフルオロフェニル、２，４−ジメチル−３−ニトロ
フェニル、３，５−ジニトロ−４−メチルフェニル、
２，３，５，６−テトラメチルフェニル、４−メトキシ
−２，３，６−トリメチルフェニル、２，５−ジブロモ
−３，６−ジフルオロフェニル、２，３，４，５，６−
ペンタフルオロフェニル、１−または２−ナフチル、５
−ジアゾ−６−オキソ−５，６−ジヒドロ−１−ナフチ
ル、６−ジアゾ−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−１−
ナフチル、５−ジアゾ−６−オキソ−５，６−ジヒドロ
−８−ナフチル、５−ジアゾ−３−メトキシ−６−オキ
ソ−５，６−ジヒドロ−８−ナフチル、５−ジメチルア
ミノ−１−ナフチル、１−アントラセニル、２−アント
ラキノニル、８−キノリニル、２−チエニル、５−クロ
ロ−２−チエニル、４−ブロモ−２，５−ジクロロ−３
−チエニル、４，５−ジブロモ−２−チエニル、２，３
−ジクロロ−５−チエニル、２−ブロモ−３−クロロ−
５−チエニル、３−ブロモ−２−クロロ−５−チエニ
ル、３−ブロモ−５−クロロ−２−チエニル、２，５−
ジクロロ−３−チエニル、２−（２−ピリジル）−５−
チエニル、５−クロロ−１，３−ジメチル−４−ピラゾ
リル、３，５−ジメチル−４−イソキサゾリル、２，４
−ジメチル−５−チアゾリル、２−アセチルアミノ−４
−メチル−５−チアゾリルまたは１，４−ブチレン、２
−オキソ−１，３−プロピレン、１，２または１，３−
フェニレン、３−メチル−１，２−フェニレン、２，
４，６−トリメチル−１，３−フェニレン、４，４′−
ビフェニレン、４，４′−メチレンジフェニレン、４，
４′−オキシビフェニレン、１，５−ナフチレン、２−
クロロ−３，５−チエニレン、２−（１−メチル−５−
トリフルオロメチルピラゾール−３−イル）−３，５−
チエニレン。
【００１９】詳細には、特に好ましい化合物のうち、基
Ｒ1 は、例えば、下記意味を有することができる：メチ
ル、クロロメチル、ブロモメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、シクロ
ヘキシル、オクチル、フェニル、４−アセチルアミノフ
ェニル、４−アセトキシフェニル、３−または４−ベン
ジルオキシフェニル、３−ベンジルオキシ−４−メトキ
シフェニル、４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニ
ル、４−ビフェニル、３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）−フェニル、２−、３−または４−フルオロフェニ
ル、２−、３−または４−クロロフェニル、２−、３−
または４−ブロモフェニル、４−ヨードフェニル、２
−、３−または４−シアノフェニル、２−、３−または
４−メチルフェニル、２−、３−または４−エチルフェ
ニル、２−、３−または４−プロピルフェニル、２−、
３−または４−イソプロピルフェニル、２−、３−また
は４−ブチルフェニル、２−、３−または４−イソブチ
ルフェニル、２−、３−または４−sec −ブチルフェニ
ル、２−、３−または４−ｔ−ブチルフェニル、２−、
３−または４−ペンチルフェニル、２−、３−または４
−ヘキシルフェニル、２−、３−または４−シクロヘキ
シルフェニル、２−、３−または４−ノニルフェニルま
たは２−、３−または４−ドデシルフェニル、２−、３
−または４−メトキシフェニル、２−、３−または４−
エトキシフェニル、２−、３−または４−イソプロポキ
シフェニル、２−、３−または４−ブトキシフェニル、
２−、３−または４−ペントキシフェニル、２−、３−
または４−オクチルオキシフェニル、または２−、３−
または４−デシルオキシフェニル、２，３−、２，４
−、２，６−、３，４−または３，５−ジフルオロフェ
ニル、２，３−、２，４−、２，６−、３，４−または
３，５−ジクロロフェニル、２，３−、２，４−、２，
６−、３，４−または３，５−ジブロモフェニル、３−
（３，４−ジクロロフェノキシ）−フェニル、３−
（３，５−ジクロロフェノキシ）−フェニル、３−ブロ
モ−４−フルオロフェニル、５−ブロモ−２，４−ジメ
トキシフェニル、２−クロロ−６−フルオロフェニル、
２−クロロ−５−、２−クロロ−６−、４−クロロ−３
−または５−クロロ−２−ニトロフェニル、３−（４−
クロロフェノキシ）−フェニル、３，４−ビスベンジル
オキシフェニル、２，３−、２，４−、２，５−、３，
４−または３，５−ジメトキシフェニル、２，３−、
２，４−、２，５−、３，４−または３，５−ジエトキ
シフェニル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−
または３，５−ジブトキシフェニルまたは２，３−、
２，４−、２，５−、３，４−または３，５−ジヘキシ
ルオキシフェニル、２，４−ジメトキシ−３−メチルフ
ェニル、２−エトキシ−５−メトキシフェニル、３−ク
ロロ−４−メチルフェニル、２，４−または２，５−ジ
メチルフェニル、２−、３−または４−メトキシエチル
フェニル、２−、３−または４−エトキシエチルフェニ
ル、２−、３−または４−ブトキシエチルフェニル、
２，６−ジニトロフェニル、２，４，６−トリメチルフ
ェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４，
５−トリエトキシフェニル、２，３−または３，４−メ
チレンジオキシフェニル、２−または３−チエニル、２
−フルオレニル、９−アントリル、１−ピレニル、９−
フェナントリル、５−ブロモ−２−チエニル、３−メチ
ル−２−チエニル、５−メチル−２−チエニル、５−ニ
トロフリル、１０−クロロ−９−アントリルまたはフェ
ロセニル。
Ｒ1 は、例えば、下記意味を有することができる：メチ
ル、クロロメチル、ブロモメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、シクロ
ヘキシル、オクチル、フェニル、４−アセチルアミノフ
ェニル、４−アセトキシフェニル、３−または４−ベン
ジルオキシフェニル、３−ベンジルオキシ−４−メトキ
シフェニル、４−ベンジルオキシ−３−メトキシフェニ
ル、４−ビフェニル、３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）−フェニル、２−、３−または４−フルオロフェニ
ル、２−、３−または４−クロロフェニル、２−、３−
または４−ブロモフェニル、４−ヨードフェニル、２
−、３−または４−シアノフェニル、２−、３−または
４−メチルフェニル、２−、３−または４−エチルフェ
ニル、２−、３−または４−プロピルフェニル、２−、
３−または４−イソプロピルフェニル、２−、３−また
は４−ブチルフェニル、２−、３−または４−イソブチ
ルフェニル、２−、３−または４−sec −ブチルフェニ
ル、２−、３−または４−ｔ−ブチルフェニル、２−、
３−または４−ペンチルフェニル、２−、３−または４
−ヘキシルフェニル、２−、３−または４−シクロヘキ
シルフェニル、２−、３−または４−ノニルフェニルま
たは２−、３−または４−ドデシルフェニル、２−、３
−または４−メトキシフェニル、２−、３−または４−
エトキシフェニル、２−、３−または４−イソプロポキ
シフェニル、２−、３−または４−ブトキシフェニル、
２−、３−または４−ペントキシフェニル、２−、３−
または４−オクチルオキシフェニル、または２−、３−
または４−デシルオキシフェニル、２，３−、２，４
−、２，６−、３，４−または３，５−ジフルオロフェ
ニル、２，３−、２，４−、２，６−、３，４−または
３，５−ジクロロフェニル、２，３−、２，４−、２，
６−、３，４−または３，５−ジブロモフェニル、３−
（３，４−ジクロロフェノキシ）−フェニル、３−
（３，５−ジクロロフェノキシ）−フェニル、３−ブロ
モ−４−フルオロフェニル、５−ブロモ−２，４−ジメ
トキシフェニル、２−クロロ−６−フルオロフェニル、
２−クロロ−５−、２−クロロ−６−、４−クロロ−３
−または５−クロロ−２−ニトロフェニル、３−（４−
クロロフェノキシ）−フェニル、３，４−ビスベンジル
オキシフェニル、２，３−、２，４−、２，５−、３，
４−または３，５−ジメトキシフェニル、２，３−、
２，４−、２，５−、３，４−または３，５−ジエトキ
シフェニル、２，３−、２，４−、２，５−、３，４−
または３，５−ジブトキシフェニルまたは２，３−、
２，４−、２，５−、３，４−または３，５−ジヘキシ
ルオキシフェニル、２，４−ジメトキシ−３−メチルフ
ェニル、２−エトキシ−５−メトキシフェニル、３−ク
ロロ−４−メチルフェニル、２，４−または２，５−ジ
メチルフェニル、２−、３−または４−メトキシエチル
フェニル、２−、３−または４−エトキシエチルフェニ
ル、２−、３−または４−ブトキシエチルフェニル、
２，６−ジニトロフェニル、２，４，６−トリメチルフ
ェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４，
５−トリエトキシフェニル、２，３−または３，４−メ
チレンジオキシフェニル、２−または３−チエニル、２
−フルオレニル、９−アントリル、１−ピレニル、９−
フェナントリル、５−ブロモ−２−チエニル、３−メチ
ル−２−チエニル、５−メチル−２−チエニル、５−ニ
トロフリル、１０−クロロ−９−アントリルまたはフェ
ロセニル。
【００２０】これらの基は、これらの基をベースとする
出発化合物が市販されているという理由で特に好まし
い。しかしながら、更に他の化合物は、当業者の精通し
た方法によって単純な方式で製造できる。
出発化合物が市販されているという理由で特に好まし
い。しかしながら、更に他の化合物は、当業者の精通し
た方法によって単純な方式で製造できる。
【００２１】化学線の作用下で、化合物（ａ）は、特定
の化学反応、例えば、遊離基重合を開始することができ
る反応性中間段階を生ずる。しかしながら、照射時に、
それらは、カチオン重合、架橋反応、酸不安定化合物の
開裂などの反応を触媒する有機酸を特に発生するか、塩
基と反応でき、このことは、例えば、指示薬染料の色変
化において現われることができる。
の化学反応、例えば、遊離基重合を開始することができ
る反応性中間段階を生ずる。しかしながら、照射時に、
それらは、カチオン重合、架橋反応、酸不安定化合物の
開裂などの反応を触媒する有機酸を特に発生するか、塩
基と反応でき、このことは、例えば、指示薬染料の色変
化において現われることができる。
【００２２】前記化合物は、２００〜５５０nmの範囲内
の吸収極大を有し、それゆえＵＶ２放射線（２２０〜２
８０nm）、ＵＶ３放射線（３００〜３５０nm）またはＵ
Ｖ４放射線（３５０〜４５０nm）の高エネルギー紫外
線、そしてまた高エネルギー可視光線（４５０〜５５０
nm）の照射に非常によく適している。それらは、波長＜
２２０nmの放射線の照射時にさえ高い活性を示す。しか
しながら、この領域での高い吸収のため、それらは、い
わゆる「トップレーヤー画像形成」法に優先的に適用で
きる。
の吸収極大を有し、それゆえＵＶ２放射線（２２０〜２
８０nm）、ＵＶ３放射線（３００〜３５０nm）またはＵ
Ｖ４放射線（３５０〜４５０nm）の高エネルギー紫外
線、そしてまた高エネルギー可視光線（４５０〜５５０
nm）の照射に非常によく適している。それらは、波長＜
２２０nmの放射線の照射時にさえ高い活性を示す。しか
しながら、この領域での高い吸収のため、それらは、い
わゆる「トップレーヤー画像形成」法に優先的に適用で
きる。
【００２３】また、本発明は、線図１を参照することに
よって説明するように式Ｉの新規の発色的に置換された
１−スルホニルオキシ−２−ピリドンの製法に関する。
よって説明するように式Ｉの新規の発色的に置換された
１−スルホニルオキシ−２−ピリドンの製法に関する。
【００２４】
【化９】 この線図によれば、 ａ）６−ハロゲノメチル−２−ピロンをホスホニウム化
合物またはホスホノ化合物に転化し、 ｂ）後者をウィッチヒ反応またはその変法に付し、 ｃ）得られた化合物を１−ヒドロキシ−２−ピリドンに
転化し、 ｄ）スルホン酸ハライドと反応させて式Ｉの１−スルホ
ニルオキシ−２−ピリドンを与える。
合物またはホスホノ化合物に転化し、 ｂ）後者をウィッチヒ反応またはその変法に付し、 ｃ）得られた化合物を１−ヒドロキシ−２−ピリドンに
転化し、 ｄ）スルホン酸ハライドと反応させて式Ｉの１−スルホ
ニルオキシ−２−ピリドンを与える。
【００２５】使用するスルホン酸ハライドは、スルホン
酸クロリドである。スルホン酸ハライドとの反応は、好
都合には、有機塩基の存在下で有機溶媒中で０〜２０℃
の温度で行う。
酸クロリドである。スルホン酸ハライドとの反応は、好
都合には、有機塩基の存在下で有機溶媒中で０〜２０℃
の温度で行う。
【００２６】式Ｉの新規の発色的に置換された１−スル
ホニルオキシ−２−ピリドンは、感放射線記録材料用光
開始剤または光酸発生剤として傑出した方法で使用でき
る。ポジ型およびネガ型感放射線混合物での用途は、下
記応用例１〜４で説明する。可能な用途の詳細な説明
は、同時出願の独国特許出願Ｐ第４１ １２ ９６６．
０号明細書およびＰ第４１ １２ ９６５．２号明細書
に与えられる。
ホニルオキシ−２−ピリドンは、感放射線記録材料用光
開始剤または光酸発生剤として傑出した方法で使用でき
る。ポジ型およびネガ型感放射線混合物での用途は、下
記応用例１〜４で説明する。可能な用途の詳細な説明
は、同時出願の独国特許出願Ｐ第４１ １２ ９６６．
０号明細書およびＰ第４１ １２ ９６５．２号明細書
に与えられる。
【００２７】
【実施例】下記の実施例は、本発明を説明するものであ
って、制限しようとするものではない。下記テキストに
おいて、p.b.w.は重量部を意味し、p.b.v.は容量部を意
味し、これらはｇ対cm3 と同じ重量部の関係を有する。製造例 例１〜５（化合物１〜５）は、本発明に係る式Ｉの発色
的に置換された１−スルホニルオキシ−２−ピリドンの
好ましい製法を説明する。これらの製法は、化合物６〜
１０９にも適用できること、およびこの選択さえ本発明
の概念の限定を表わさないことは、当業者に自明であ
る。応用例１〜４を参照することによって、本発明に係
る式Ｉの化合物の若干の典型的な可能な応用を説明す
る。第一の製造例においては、大きい工業規模で入手で
きる原料から出発する完全な合成ルートを記載する。こ
の合成の第一段階の詳細な報告は、G. Lohaus 等によっ
てChem. Ber., １００，６５８，１９６７に既に与えら
れている。異なる方式で置換された大多数の１−ヒドロ
キシ−２−ピリドンおよびそれらの製法は、Arzneim. F
orsch./Drug Res., ３１（II），８ａ，１３１１，（１
９８１）に記載されている。製造例１ 段階１ 温度を適切に保持するような方式で、３−メチルクロト
ン酸メチル２３０p.b.w.を５０〜６０℃で塩化エチレン
２５０p.b.v.および塩化クロロアセチル２８２p.b.w.中
の三塩化アルミニウム５３２p.b.w.の懸濁液に加えた。
次いで、混合物を１時間６５〜７０℃に加熱し、氷上に
注いだ。水相を塩化メチレンで抽出し、有機相を水、飽
和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄した。硫酸ナトリウム
上で乾燥した後、生成物を分別蒸留した。収量２８０p.
b.w.（７４％）、沸点１２０〜１２２℃／５mmHg。
って、制限しようとするものではない。下記テキストに
おいて、p.b.w.は重量部を意味し、p.b.v.は容量部を意
味し、これらはｇ対cm3 と同じ重量部の関係を有する。製造例 例１〜５（化合物１〜５）は、本発明に係る式Ｉの発色
的に置換された１−スルホニルオキシ−２−ピリドンの
好ましい製法を説明する。これらの製法は、化合物６〜
１０９にも適用できること、およびこの選択さえ本発明
の概念の限定を表わさないことは、当業者に自明であ
る。応用例１〜４を参照することによって、本発明に係
る式Ｉの化合物の若干の典型的な可能な応用を説明す
る。第一の製造例においては、大きい工業規模で入手で
きる原料から出発する完全な合成ルートを記載する。こ
の合成の第一段階の詳細な報告は、G. Lohaus 等によっ
てChem. Ber., １００，６５８，１９６７に既に与えら
れている。異なる方式で置換された大多数の１−ヒドロ
キシ−２−ピリドンおよびそれらの製法は、Arzneim. F
orsch./Drug Res., ３１（II），８ａ，１３１１，（１
９８１）に記載されている。製造例１ 段階１ 温度を適切に保持するような方式で、３−メチルクロト
ン酸メチル２３０p.b.w.を５０〜６０℃で塩化エチレン
２５０p.b.v.および塩化クロロアセチル２８２p.b.w.中
の三塩化アルミニウム５３２p.b.w.の懸濁液に加えた。
次いで、混合物を１時間６５〜７０℃に加熱し、氷上に
注いだ。水相を塩化メチレンで抽出し、有機相を水、飽
和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄した。硫酸ナトリウム
上で乾燥した後、生成物を分別蒸留した。収量２８０p.
b.w.（７４％）、沸点１２０〜１２２℃／５mmHg。
【００２８】段階２ 前記生成物３８２p.b.w.を氷酢酸１０００p.b.v.と濃硫
酸１０p.b.v.との混合物に溶解し、溶液を沸騰まで加熱
した。計算量の酢酸メチルを短いカラムによって留去し
た。次いで、氷酢酸を真空中で除去し、残渣を氷水に注
ぎ、ピロンが結晶化した。更なる精製のために、分離さ
れた生成物は、１１６〜１１７℃／２mmHgで蒸留でき
る。四塩化炭素からの再結晶後、これは、６−クロロメ
チル−４−メチル−２−ピロン２９６p.b.w.を与えた。
収率：９８％，融点７８℃。
酸１０p.b.v.との混合物に溶解し、溶液を沸騰まで加熱
した。計算量の酢酸メチルを短いカラムによって留去し
た。次いで、氷酢酸を真空中で除去し、残渣を氷水に注
ぎ、ピロンが結晶化した。更なる精製のために、分離さ
れた生成物は、１１６〜１１７℃／２mmHgで蒸留でき
る。四塩化炭素からの再結晶後、これは、６−クロロメ
チル−４−メチル−２−ピロン２９６p.b.w.を与えた。
収率：９８％，融点７８℃。
【００２９】段階３ 前記生成物３２０p.b.w.をトリフェニルホスフィン５４
０p.b.w.とアセトニトリル１５００p.b.v.と一緒に還流
下に８時間加熱した。混合物を氷中で冷却し、沈殿した
生成物を吸引下に濾別した。母液を濃縮し、更なる生成
物が沈殿し、これを吸引下に濾別した。これは、塩化
（４−メチル−６−オキソ−６Ｈ−ピロン−２−イルメ
チル）−トリフェニルホスホニウム７９９p.b.w.を与え
た。
０p.b.w.とアセトニトリル１５００p.b.v.と一緒に還流
下に８時間加熱した。混合物を氷中で冷却し、沈殿した
生成物を吸引下に濾別した。母液を濃縮し、更なる生成
物が沈殿し、これを吸引下に濾別した。これは、塩化
（４−メチル−６−オキソ−６Ｈ−ピロン−２−イルメ
チル）−トリフェニルホスホニウム７９９p.b.w.を与え
た。
【００３０】段階４ 前記生成物１０６p.b.w.を４−クロロベンズアルデヒド
３５．５p.b.w.と一緒にメタノール２００p.b.v.に溶解
した。メタノール１５０p.b.v.中のナトリウム６p.b.w.
の溶液を前記溶液に注ぎ、混合物は一時的な赤色を取り
且つ高度に発熱的に反応した。混合物を室温で６時間攪
拌し、−２５℃に冷却し、沈殿した生成物を吸引下に濾
別した。後者を冷却メタノールで洗浄し、水とともに攪
拌し、再度吸引下に濾過した。これは、アセトニトリル
から再結晶できる６−（４−クロロスチリル）−４−メ
チル−２−ピロン２６p.b.w.を与えた。融点１４４℃。
３５．５p.b.w.と一緒にメタノール２００p.b.v.に溶解
した。メタノール１５０p.b.v.中のナトリウム６p.b.w.
の溶液を前記溶液に注ぎ、混合物は一時的な赤色を取り
且つ高度に発熱的に反応した。混合物を室温で６時間攪
拌し、−２５℃に冷却し、沈殿した生成物を吸引下に濾
別した。後者を冷却メタノールで洗浄し、水とともに攪
拌し、再度吸引下に濾過した。これは、アセトニトリル
から再結晶できる６−（４−クロロスチリル）−４−メ
チル−２−ピロン２６p.b.w.を与えた。融点１４４℃。
【００３１】段階５ 前記生成物２２．５p.b.w.を塩酸ヒドロキシルアミン９
p.b.w.および２−アミノピリジン１１０p.b.w.とともに
約７０℃に加熱した。混合物をこの温度で７２時間放置
した（更なる３．３p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを
３、１８、３０、４２時間後に各時間に加えた）。混合
物が冷却した後、塩化メチレンに取り上げ、希塩酸、水
で洗浄した。有機相を脱イオン水７００p.b.v.中の水酸
化ナトリウム１０p.b.w.の溶液中で攪拌し、得られたナ
トリウム塩を濾別し、熱水６００p.b.v.に溶解した。水
溶液を氷酢酸の添加によってpH５に調整し、冷却した。
このようにして結晶化する粗生成物を吸引下に濾別し、
乾燥した。これは、融点１９５℃を有する粗生成物１５
p.b.w.を与え、これを塩化メチレンから再結晶した。こ
れは、融点２０５℃を有する〔６−（４−クロロスチリ
ル）−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−ピリドン〕の
帯黄色の結晶を与えた。
p.b.w.および２−アミノピリジン１１０p.b.w.とともに
約７０℃に加熱した。混合物をこの温度で７２時間放置
した（更なる３．３p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを
３、１８、３０、４２時間後に各時間に加えた）。混合
物が冷却した後、塩化メチレンに取り上げ、希塩酸、水
で洗浄した。有機相を脱イオン水７００p.b.v.中の水酸
化ナトリウム１０p.b.w.の溶液中で攪拌し、得られたナ
トリウム塩を濾別し、熱水６００p.b.v.に溶解した。水
溶液を氷酢酸の添加によってpH５に調整し、冷却した。
このようにして結晶化する粗生成物を吸引下に濾別し、
乾燥した。これは、融点１９５℃を有する粗生成物１５
p.b.w.を与え、これを塩化メチレンから再結晶した。こ
れは、融点２０５℃を有する〔６−（４−クロロスチリ
ル）−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−ピリドン〕の
帯黄色の結晶を与えた。
【００３２】分析： 計算値 Ｃ ６４．２５％
Ｈ ４．６２％ Ｎ ５．３５％ (261.70) 実測値 Ｃ ６４．２％ Ｈ ４．６
％ Ｎ ５．４％ 段階６ 塩化メチレン２０p.b.v.中のトリエチルアミン１．８５
p.b.w.を１０℃で塩化メチレン５０p.b.v.中の前記生成
物４p.b.w.と塩化メタンスルホニル２０p.b.w.との溶液
に滴下した。溶液を室温で更なる２４時間攪拌し、振と
うによって水で抽出し、溶媒を回転蒸発器中で除去し
た。結晶性生成物を乾燥し、シリカゲルカラム上に通過
し、塩化メチレンで溶離した。合わせた生成物画分は、
濃縮後、分解点１９０℃を有する６−（４−クロロスチ
リル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２
−ピリドン４．２p.b.w を与えた。試料をアセトニトリ
ルから再結晶し、分解点１９３℃を有する生成物を与え
た。
Ｈ ４．６２％ Ｎ ５．３５％ (261.70) 実測値 Ｃ ６４．２％ Ｈ ４．６
％ Ｎ ５．４％ 段階６ 塩化メチレン２０p.b.v.中のトリエチルアミン１．８５
p.b.w.を１０℃で塩化メチレン５０p.b.v.中の前記生成
物４p.b.w.と塩化メタンスルホニル２０p.b.w.との溶液
に滴下した。溶液を室温で更なる２４時間攪拌し、振と
うによって水で抽出し、溶媒を回転蒸発器中で除去し
た。結晶性生成物を乾燥し、シリカゲルカラム上に通過
し、塩化メチレンで溶離した。合わせた生成物画分は、
濃縮後、分解点１９０℃を有する６−（４−クロロスチ
リル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２
−ピリドン４．２p.b.w を与えた。試料をアセトニトリ
ルから再結晶し、分解点１９３℃を有する生成物を与え
た。
【００３３】分析： 計算値 Ｃ ５３．０２％
Ｈ ４．１５％ Ｎ ４．１２％ (339.77) 実測値 Ｃ ５２．７％ Ｈ ４．４
％ Ｎ ４．２％製造例２ 段階１ 亜リン酸トリエチル１０８p.b.w.を蒸留装置において１
００℃で６−クロロメチル−４−メチル−２−ピロン
（製造例１、第二段階参照）７９．３p.b.w.に攪拌下に
ゆっくりと滴下した。この段階で、塩化エチルは、蒸留
してレシーバーに移った。塩化エチルの排除が静まった
時に、浴温を１３０℃によっくりと昇温し、混合物をこ
の温度で大体更なる６時間攪拌した。この時間後、更に
３２０p.b.w.の６−クロロメチル−４−メチル−２−ピ
ロンを混合物に加え、亜リン酸トリエチル４３２p.b.w.
を１４０℃の浴温でゆっくりと滴下した。混合物をこの
温度で更なる９時間再攪拌した。冷却後、混合物の揮発
性成分を次いで油ポンプの真空中で７０℃において約３
時間かけて留去した。６−ジエトキシ−ホスホリルメチ
ル−４−メチル−２−ピロン６１０p.b.w.が、粘稠な残
渣として残り、これは若干の時間後に結晶化し始めた。
Ｈ ４．１５％ Ｎ ４．１２％ (339.77) 実測値 Ｃ ５２．７％ Ｈ ４．４
％ Ｎ ４．２％製造例２ 段階１ 亜リン酸トリエチル１０８p.b.w.を蒸留装置において１
００℃で６−クロロメチル−４−メチル−２−ピロン
（製造例１、第二段階参照）７９．３p.b.w.に攪拌下に
ゆっくりと滴下した。この段階で、塩化エチルは、蒸留
してレシーバーに移った。塩化エチルの排除が静まった
時に、浴温を１３０℃によっくりと昇温し、混合物をこ
の温度で大体更なる６時間攪拌した。この時間後、更に
３２０p.b.w.の６−クロロメチル−４−メチル−２−ピ
ロンを混合物に加え、亜リン酸トリエチル４３２p.b.w.
を１４０℃の浴温でゆっくりと滴下した。混合物をこの
温度で更なる９時間再攪拌した。冷却後、混合物の揮発
性成分を次いで油ポンプの真空中で７０℃において約３
時間かけて留去した。６−ジエトキシ−ホスホリルメチ
ル−４−メチル−２−ピロン６１０p.b.w.が、粘稠な残
渣として残り、これは若干の時間後に結晶化し始めた。
【００３４】段階２ 水素化ナトリウム（８０％懸濁液）７．７５p.b.w.を不
活性ガス下で強攪拌下にベンゾフェノン４５．５p.b.w.
と前記化合物６５p.b.w.と１，２−ジメトキシエタン２
００p.b.v.との混合物に加え、混合物を７０℃で２４時
間攪拌した。混合物を塩化メチレンに取り上げ、数回水
洗し、乾燥し、回転蒸発器中で濃縮した。これは、２成
分を含有する粗生成物７４．３p.b.w.を与え、溶媒とし
て塩化メチレンを使用してシリカゲルカラム上で分離し
た。高い保持時間を有する生成物を含有する画分を合わ
せ、濃縮した。これは、ヘキサンから再結晶できる結晶
性６−（２，２−ジフェニルビニル）−４−メチル−２
−ピロン５５p.b.w.を与えた。
活性ガス下で強攪拌下にベンゾフェノン４５．５p.b.w.
と前記化合物６５p.b.w.と１，２−ジメトキシエタン２
００p.b.v.との混合物に加え、混合物を７０℃で２４時
間攪拌した。混合物を塩化メチレンに取り上げ、数回水
洗し、乾燥し、回転蒸発器中で濃縮した。これは、２成
分を含有する粗生成物７４．３p.b.w.を与え、溶媒とし
て塩化メチレンを使用してシリカゲルカラム上で分離し
た。高い保持時間を有する生成物を含有する画分を合わ
せ、濃縮した。これは、ヘキサンから再結晶できる結晶
性６−（２，２−ジフェニルビニル）−４−メチル−２
−ピロン５５p.b.w.を与えた。
【００３５】段階３ 前記生成物２０p.b.w.を塩酸ヒドロキシルアミン５．６
p.b.w.およびアミノピリジン８０p.b.w.と共に約７５℃
に加熱した。混合物をこの温度で５８時間放置した（更
なる２．８p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを６、２
２、３２時間後の各々の時間に加えた）。混合物が冷却
した後、塩化メチレンに取り上げ、希塩酸、水で洗浄
し、乾燥し、濃縮した。得られた残渣２２p.b.w.をアセ
トニトリルから再結晶した。これは、融点１６９℃を有
する黄色の生成物〔６−（２，２−ジフェニルビニル）
−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−ピリドン〕１４p.
b.w.を与えた。
p.b.w.およびアミノピリジン８０p.b.w.と共に約７５℃
に加熱した。混合物をこの温度で５８時間放置した（更
なる２．８p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを６、２
２、３２時間後の各々の時間に加えた）。混合物が冷却
した後、塩化メチレンに取り上げ、希塩酸、水で洗浄
し、乾燥し、濃縮した。得られた残渣２２p.b.w.をアセ
トニトリルから再結晶した。これは、融点１６９℃を有
する黄色の生成物〔６−（２，２−ジフェニルビニル）
−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−ピリドン〕１４p.
b.w.を与えた。
【００３６】分析： 計算値 Ｃ ７９．１８％
Ｈ ５．６５％ Ｎ ４．６２％ (303.26) 実測値 Ｃ ７９．０％ Ｈ ５．８
％ Ｎ ４．５％ 段階４ 塩化メチレン２０p.b.v.中のトリエチルアミン３p.b.w.
を５〜１０℃において塩化メチレン７０p.b.v.中の前記
生成物８p.b.w.と塩化メタンスルホニル３．５p.b.w.と
の溶液に滴下した。混合物を室温で更なる２４時間攪拌
し、振とうによって水で抽出し、溶媒を回転蒸発器中で
除去した。約１２．５p.b.w.の量の粘稠な残渣は、放置
時に結晶化し、融点約１３０℃を有していた。粗生成物
をシリカゲルカラム上で塩化メチレンで溶離した。濃縮
後、合わせた生成物画分は、融点１４０℃を有する６−
（２，２−ジフェニルビニル）−１−メタンスルホニル
オキシ−４−メチル−２−ピリドン８．２p.b.w.を与え
た。
Ｈ ５．６５％ Ｎ ４．６２％ (303.26) 実測値 Ｃ ７９．０％ Ｈ ５．８
％ Ｎ ４．５％ 段階４ 塩化メチレン２０p.b.v.中のトリエチルアミン３p.b.w.
を５〜１０℃において塩化メチレン７０p.b.v.中の前記
生成物８p.b.w.と塩化メタンスルホニル３．５p.b.w.と
の溶液に滴下した。混合物を室温で更なる２４時間攪拌
し、振とうによって水で抽出し、溶媒を回転蒸発器中で
除去した。約１２．５p.b.w.の量の粘稠な残渣は、放置
時に結晶化し、融点約１３０℃を有していた。粗生成物
をシリカゲルカラム上で塩化メチレンで溶離した。濃縮
後、合わせた生成物画分は、融点１４０℃を有する６−
（２，２−ジフェニルビニル）−１−メタンスルホニル
オキシ−４−メチル−２−ピリドン８．２p.b.w.を与え
た。
【００３７】分析： 計算値 Ｃ ６６．１２％
Ｈ ５．０２％ Ｎ ３．６７％ (381.44) 実測値 Ｃ ６５．７％ Ｈ ５．１
％ Ｎ ３．４％製造例３ 段階１ 塩化（４−メチル−６−オキソ−６Ｈ−ピロン−２−イ
ルメチル）−トリフェニルホスホニウム（製造例１、第
三段階参照）８５p.b.w.およびアントラセン−９−カル
ボアルデヒド４１．２p.b.w.をメタノール２００p.b.v.
に分散した。メタノール１００p.b.v.中のナトリウム５
p.b.w.の溶液を分散液に攪拌下にかなり迅速に加え、混
合物は昇温した。これを約５０℃で１時間、次いで、室
温で更なる７２時間攪拌した後、−２５℃に冷却し、沈
殿した生成物を吸引下に濾別した。生成物をメタノール
で洗浄し、次いで、水と共に攪拌し、再度吸引下に濾別
した。これは、融点約２００℃を有する６−（２−アン
トラセン−９−イルビニル）−４−メチル−２−ピロン
５２p.b.w.を与えた。これは、アセトニトリルから再結
晶した時に融点２０３℃を示した。
Ｈ ５．０２％ Ｎ ３．６７％ (381.44) 実測値 Ｃ ６５．７％ Ｈ ５．１
％ Ｎ ３．４％製造例３ 段階１ 塩化（４−メチル−６−オキソ−６Ｈ−ピロン−２−イ
ルメチル）−トリフェニルホスホニウム（製造例１、第
三段階参照）８５p.b.w.およびアントラセン−９−カル
ボアルデヒド４１．２p.b.w.をメタノール２００p.b.v.
に分散した。メタノール１００p.b.v.中のナトリウム５
p.b.w.の溶液を分散液に攪拌下にかなり迅速に加え、混
合物は昇温した。これを約５０℃で１時間、次いで、室
温で更なる７２時間攪拌した後、−２５℃に冷却し、沈
殿した生成物を吸引下に濾別した。生成物をメタノール
で洗浄し、次いで、水と共に攪拌し、再度吸引下に濾別
した。これは、融点約２００℃を有する６−（２−アン
トラセン−９−イルビニル）−４−メチル−２−ピロン
５２p.b.w.を与えた。これは、アセトニトリルから再結
晶した時に融点２０３℃を示した。
【００３８】段階２ 前記ピロン２０p.b.w.を塩酸ヒドロキシルアミン５．６
p.b.w.および２−アミノピリジン８０p.b.w.と共に７０
℃に加熱した。混合物をこの温度に７２時間放置した
（更なる２．８p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを７、
２３、３２時間の後の各々の時間に加えた）。混合物が
冷却した後、塩化メチレンに取り上げ、希塩酸、水で洗
浄する。生成物の一部は、このようにして沈殿した。有
機相を回転蒸発器中で濃縮した。残渣をジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ）から再結晶した。得られた結晶を沈殿
した生成物と一緒に、ＤＭＦから再度再結晶し、メタノ
ールで洗浄した。これは、融点＞２６０℃を有する分析
上純粋なオレンジ色の粉末〔６−（２−アントラセン−
９−イルビニル）−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−
ピリドン〕１２．６p.b.w.を与えた。
p.b.w.および２−アミノピリジン８０p.b.w.と共に７０
℃に加熱した。混合物をこの温度に７２時間放置した
（更なる２．８p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを７、
２３、３２時間の後の各々の時間に加えた）。混合物が
冷却した後、塩化メチレンに取り上げ、希塩酸、水で洗
浄する。生成物の一部は、このようにして沈殿した。有
機相を回転蒸発器中で濃縮した。残渣をジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ）から再結晶した。得られた結晶を沈殿
した生成物と一緒に、ＤＭＦから再度再結晶し、メタノ
ールで洗浄した。これは、融点＞２６０℃を有する分析
上純粋なオレンジ色の粉末〔６−（２−アントラセン−
９−イルビニル）−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−
ピリドン〕１２．６p.b.w.を与えた。
【００３９】分析： 計算値 Ｃ ８０．７１％
Ｈ ５．２４％ Ｎ ４．２８％ (327.39) 実測値 Ｃ ８０．９％ Ｈ ５．４
％ Ｎ ４．３％ 段階３ 前記化合物４．５p.b.w.および塩化メタンスルホニル
１．８３p.b.w.を塩化メチレン５０p.b.v.に溶解し、溶
液を５℃に冷却した。塩化メチレン２０p.b.v.中のトリ
エチルアミン１．６p.b.w.の混合物を溶液にゆっくりと
滴下した。混合物を室温で更なる３日間攪拌した。有機
相を水洗し、乾燥し、溶媒を回転蒸発器中で取り除い
た。残渣を再度塩化メチレンに取り上げ、溶媒として塩
化メチレンを使用してシリカゲルカラム上で溶離した。
明確に同定できる主要画分を捕集し、溶媒を除き、残り
のフォーム状生成物を加温ジイソプロピルエーテルと共
に攪拌した。乾燥後、これは、爆燃と共に１８０℃の温
度で分解する６−（２−アントラセン−９−イルビニ
ル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−
ピリドン１．９p.b.w.を与えた。
Ｈ ５．２４％ Ｎ ４．２８％ (327.39) 実測値 Ｃ ８０．９％ Ｈ ５．４
％ Ｎ ４．３％ 段階３ 前記化合物４．５p.b.w.および塩化メタンスルホニル
１．８３p.b.w.を塩化メチレン５０p.b.v.に溶解し、溶
液を５℃に冷却した。塩化メチレン２０p.b.v.中のトリ
エチルアミン１．６p.b.w.の混合物を溶液にゆっくりと
滴下した。混合物を室温で更なる３日間攪拌した。有機
相を水洗し、乾燥し、溶媒を回転蒸発器中で取り除い
た。残渣を再度塩化メチレンに取り上げ、溶媒として塩
化メチレンを使用してシリカゲルカラム上で溶離した。
明確に同定できる主要画分を捕集し、溶媒を除き、残り
のフォーム状生成物を加温ジイソプロピルエーテルと共
に攪拌した。乾燥後、これは、爆燃と共に１８０℃の温
度で分解する６−（２−アントラセン−９−イルビニ
ル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−
ピリドン１．９p.b.w.を与えた。
【００４０】分析： 計算値 Ｃ ６８．１３％
Ｈ ４．７２％ Ｎ ３．４６％ (405.48) 実測値 Ｃ ６８．１％ Ｈ ４．９
％ Ｎ ３．３％製造例４ 段階１ ６−ジエトキシホスホリルメチル−４−メチル−２−ピ
ロン（製造例２、第一段階参照）２６p.b.w.および４−
トリフルオロメチルベンズアルデヒド１７．４p.b.w.を
１，２−ジメトキシエタン８０p.b.v.に溶解した。次い
で、反応混合物が５０℃よりも高い温度に昇温しないよ
うな方式で、窒素下で、８０％水素化ナトリウム分散液
３．２p.b.w.を少しずつ加えた。それをこの温度で更な
る１８時間攪拌し、冷却後、塩化メチレンで希釈した。
溶液を数回水洗し、乾燥し、濃縮した。結晶性粉末２
６．９p.b.w.が残り、これを、溶媒として塩化メチレン
を使用してシリカゲルカラム上で溶離した。濃縮後、主
要画分は、融点１５５℃の粉末１８．９p.b.w.を与え、
これは所望の分析上純粋な４−メチル−６−（４−トリ
フルオロメチルスチリル）−２−ピロンであることが証
明された。
Ｈ ４．７２％ Ｎ ３．４６％ (405.48) 実測値 Ｃ ６８．１％ Ｈ ４．９
％ Ｎ ３．３％製造例４ 段階１ ６−ジエトキシホスホリルメチル−４−メチル−２−ピ
ロン（製造例２、第一段階参照）２６p.b.w.および４−
トリフルオロメチルベンズアルデヒド１７．４p.b.w.を
１，２−ジメトキシエタン８０p.b.v.に溶解した。次い
で、反応混合物が５０℃よりも高い温度に昇温しないよ
うな方式で、窒素下で、８０％水素化ナトリウム分散液
３．２p.b.w.を少しずつ加えた。それをこの温度で更な
る１８時間攪拌し、冷却後、塩化メチレンで希釈した。
溶液を数回水洗し、乾燥し、濃縮した。結晶性粉末２
６．９p.b.w.が残り、これを、溶媒として塩化メチレン
を使用してシリカゲルカラム上で溶離した。濃縮後、主
要画分は、融点１５５℃の粉末１８．９p.b.w.を与え、
これは所望の分析上純粋な４−メチル−６−（４−トリ
フルオロメチルスチリル）−２−ピロンであることが証
明された。
【００４１】段階２ 前記生成物１５p.b.w.、イミダゾール４５p.b.w.、Ｎ−
メチルピロリドン５ p.b.w. および塩酸ヒドロキシルア
ミン５．６p.b.w.を７５℃で攪拌下に５５時間加熱し
た。更なる２．８p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを
８、２４、３２時間の反応時間後の各々の時間に加え
た。混合物が冷却した後、塩化メチレンに取り上げ、水
洗し、乾燥し、濃縮した。これは、粗生成物１４．６p.
b.w.を与えた。これをエチレングリコールモノメチルエ
ーテルから再結晶した。晶出した１−ヒドロキシ−４−
メチル−６−（４−トリフルオロメチルスチリル）−２
−ピリドンは、融点２３０℃を示した。
メチルピロリドン５ p.b.w. および塩酸ヒドロキシルア
ミン５．６p.b.w.を７５℃で攪拌下に５５時間加熱し
た。更なる２．８p.b.w.の塩酸ヒドロキシルアミンを
８、２４、３２時間の反応時間後の各々の時間に加え
た。混合物が冷却した後、塩化メチレンに取り上げ、水
洗し、乾燥し、濃縮した。これは、粗生成物１４．６p.
b.w.を与えた。これをエチレングリコールモノメチルエ
ーテルから再結晶した。晶出した１−ヒドロキシ−４−
メチル−６−（４−トリフルオロメチルスチリル）−２
−ピリドンは、融点２３０℃を示した。
【００４２】分析： 計算値 Ｃ 61.02% Ｈ 4.
10% Ｆ 19.30% Ｎ 4.74% (295.28) 実測値 Ｃ 61.3% Ｈ 4.1% 段階３ 前記化合物１．８p.b.w.および塩化４−ブロモベンゼン
スルホニル１．９p.b.w.を塩化メチレン４０p.b.v.に溶
解し、溶液を５℃に冷却した。塩化メチレン５p.b.v.中
のトリエチルアミン１．０p.b.w.の混合物を溶液にゆっ
くりと滴下した。攪拌を室温で更なる６６時間続けた。
有機相を水洗し、乾燥し、溶媒を回転蒸発器中で取り除
いた。残渣（３．２p.b.w.）を再度塩化メチレンに取り
上げ、溶媒として塩化メチレン／メタノール（９９／
１）を使用してシリカゲルカラム上で溶離した。明確に
同定できる主要画分を捕集し、溶媒を除き、残りのフォ
ーム状生成物を加温ジイソプロピルエーテルと共に攪拌
し、生成物の結晶化が生じた。乾燥後、これは、１５８
℃の温度で溶融する１−（４−ブロモベンゼンスルホニ
ルオキシ）−４−メチル−６−（４−トリフルオロメチ
ルスチリル）−２−ピリドン２．２p.b.w.を与えた。
10% Ｆ 19.30% Ｎ 4.74% (295.28) 実測値 Ｃ 61.3% Ｈ 4.1% 段階３ 前記化合物１．８p.b.w.および塩化４−ブロモベンゼン
スルホニル１．９p.b.w.を塩化メチレン４０p.b.v.に溶
解し、溶液を５℃に冷却した。塩化メチレン５p.b.v.中
のトリエチルアミン１．０p.b.w.の混合物を溶液にゆっ
くりと滴下した。攪拌を室温で更なる６６時間続けた。
有機相を水洗し、乾燥し、溶媒を回転蒸発器中で取り除
いた。残渣（３．２p.b.w.）を再度塩化メチレンに取り
上げ、溶媒として塩化メチレン／メタノール（９９／
１）を使用してシリカゲルカラム上で溶離した。明確に
同定できる主要画分を捕集し、溶媒を除き、残りのフォ
ーム状生成物を加温ジイソプロピルエーテルと共に攪拌
し、生成物の結晶化が生じた。乾燥後、これは、１５８
℃の温度で溶融する１−（４−ブロモベンゼンスルホニ
ルオキシ）−４−メチル−６−（４−トリフルオロメチ
ルスチリル）−２−ピリドン２．２p.b.w.を与えた。
【００４３】分析： 計算値 Ｃ 49.04% Ｈ 2.
94% Ｎ 2.72% Ｆ 11.08% (514.33) 実測値 Ｃ 48.6% Ｈ 3.1% Ｎ
2.7%製造例５ 段階１ ６−ジエトキシホスホリルメチル−４−メチル−２−ピ
ロン（製造例２、第一段階１参照）３２．５p.b.w.およ
び４−（４−クロロフェニルメルカプト）−ベンズアル
デヒド３０p.b.w.をメタノール１２０p.b.v.に分散し
た。メタノール１２０p.b.v.中のナトリウム３．１p.b.
w.の溶液を窒素下に滴下し、混合物は発熱的に反応し、
透明な溶液の短時間調製後、嵩張る沈殿が形成された。
混合物を室温で更なる２２時間攪拌し、氷で冷却し、吸
引下に濾過した。事実上分析的に純粋な残渣を予冷メタ
ノールで洗浄し、乾燥した。これは、１６４℃で溶融す
る６−〔４−（４−クロロフェニルメルカプト）スチリ
ル〕−４−メチル−２−ピロン３５p.b.w.を与えた。
94% Ｎ 2.72% Ｆ 11.08% (514.33) 実測値 Ｃ 48.6% Ｈ 3.1% Ｎ
2.7%製造例５ 段階１ ６−ジエトキシホスホリルメチル−４−メチル−２−ピ
ロン（製造例２、第一段階１参照）３２．５p.b.w.およ
び４−（４−クロロフェニルメルカプト）−ベンズアル
デヒド３０p.b.w.をメタノール１２０p.b.v.に分散し
た。メタノール１２０p.b.v.中のナトリウム３．１p.b.
w.の溶液を窒素下に滴下し、混合物は発熱的に反応し、
透明な溶液の短時間調製後、嵩張る沈殿が形成された。
混合物を室温で更なる２２時間攪拌し、氷で冷却し、吸
引下に濾過した。事実上分析的に純粋な残渣を予冷メタ
ノールで洗浄し、乾燥した。これは、１６４℃で溶融す
る６−〔４−（４−クロロフェニルメルカプト）スチリ
ル〕−４−メチル−２−ピロン３５p.b.w.を与えた。
【００４４】段階２ 前記生成物２０p.b.w.、２−アミノピリジン８０p.b.w.
および塩酸ヒドロキシルアミン５．６p.b.w.を７５℃で
攪拌下に８３時間加熱した。更なる２．８p.b.w.の塩酸
ヒドロキシルアミンを１８、２７、３４時間の反応時間
後の各々の時間に加えた。混合物が冷却した後、塩化メ
チレンに取り上げ、希塩酸、水で洗浄し、乾燥し、濃縮
した。これは、粗生成物２１．８p.b.w.を与えた。これ
をエチレングリコールモノメチルエーテルから再結晶し
た。晶出した６−〔４−（４−クロロフェニルメルカプ
ト）スチリル〕−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−ピ
ロンは、融点２１０℃を示した。
および塩酸ヒドロキシルアミン５．６p.b.w.を７５℃で
攪拌下に８３時間加熱した。更なる２．８p.b.w.の塩酸
ヒドロキシルアミンを１８、２７、３４時間の反応時間
後の各々の時間に加えた。混合物が冷却した後、塩化メ
チレンに取り上げ、希塩酸、水で洗浄し、乾燥し、濃縮
した。これは、粗生成物２１．８p.b.w.を与えた。これ
をエチレングリコールモノメチルエーテルから再結晶し
た。晶出した６−〔４−（４−クロロフェニルメルカプ
ト）スチリル〕−１−ヒドロキシ−４−メチル−２−ピ
ロンは、融点２１０℃を示した。
【００４５】分析： 計算値 Ｃ 64.95% Ｈ 4.
36% Ｃｌ 9.58% Ｎ 3.79% (369.88) 実測値 Ｃ 65.1% Ｈ 4.5% 段階３ 前記化合物３．４５p.b.w.および塩化４−フルオロベン
ゼンスルホニル２．１５p.b.w.を塩化メチレン４０p.b.
w.に溶解し、溶液を５℃に冷却した。塩化メチレン１０
p.b.v.中のトリエチルアミン１．３p.b.w.の混合物を溶
液にゆっくりと滴下した。攪拌を室温で更なる６６時間
続けた。有機相を水洗し、乾燥し、溶媒を回転蒸発器中
で取り除いた。粘稠な残渣（５．１p.b.w.）を再度塩化
メチレンに取り上げ、溶媒として塩化メチレン／メタノ
ール（９９／１）を使用してシリカゲルカラム上で溶離
した。明確に同定できる主要画分を捕集し、溶媒を除
き、残りのフォーム状生成物を加温ジイソプロピルエー
テルと共に攪拌し、生成物の微結晶化が生じた。生成物
をアセトニトリルから再結晶した。乾燥後、これは、１
５０℃の温度で溶融する６−〔４−（４−クロロフェニ
ルメルカプト）−スチリル〕−１−（４−フルオロベン
ゼンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピリドン
２．０p.b.w.を与えた。
36% Ｃｌ 9.58% Ｎ 3.79% (369.88) 実測値 Ｃ 65.1% Ｈ 4.5% 段階３ 前記化合物３．４５p.b.w.および塩化４−フルオロベン
ゼンスルホニル２．１５p.b.w.を塩化メチレン４０p.b.
w.に溶解し、溶液を５℃に冷却した。塩化メチレン１０
p.b.v.中のトリエチルアミン１．３p.b.w.の混合物を溶
液にゆっくりと滴下した。攪拌を室温で更なる６６時間
続けた。有機相を水洗し、乾燥し、溶媒を回転蒸発器中
で取り除いた。粘稠な残渣（５．１p.b.w.）を再度塩化
メチレンに取り上げ、溶媒として塩化メチレン／メタノ
ール（９９／１）を使用してシリカゲルカラム上で溶離
した。明確に同定できる主要画分を捕集し、溶媒を除
き、残りのフォーム状生成物を加温ジイソプロピルエー
テルと共に攪拌し、生成物の微結晶化が生じた。生成物
をアセトニトリルから再結晶した。乾燥後、これは、１
５０℃の温度で溶融する６−〔４−（４−クロロフェニ
ルメルカプト）−スチリル〕−１−（４−フルオロベン
ゼンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピリドン
２．０p.b.w.を与えた。
【００４６】分析： 計算値 Ｃ 59.14% Ｈ 3.
63% Ｎ 2.65% Ｆ 3.60% (528.03) 実測値 Ｃ 59.2% Ｈ 3.7% Ｎ
2.6%化合物６〜１０９ 前記製造例に従って製造できる本発明に係る更に他の化
合物を以下に表示する。 ６） ６−（４−フルオロ
スチリル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−
メチル−２−ピリドン ７） １−ベンゼンスルホニルオキシ−４−メチル−
６−スチリル−２−ピリドン ８） ６−（３，４−ジメトキシスチリル）−１−エ
タンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９） ６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−ピ
リドン １０） ６−（４−シアノスチリル）−４−メチル−１
−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２−ピリドン １１） ６−（３−ベンジルオキシスチリル）−１−
（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−４−メチル
−２−ピリドン １２） １−ブタンスルホニルオキシ−６−（３，４−
ジクロロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン １３） １−（４−クロロ−３−ニトロベンゼンスルホ
ニルオキシ）−６−（３−エトキシ−６−メトキシスチ
リル）−４−メチル−２−ピリドン １４） １−（４−ブロモベンゼンスルホニルオキシ）
−６−（３−クロロ−４−メチルスチリル）−４−メチ
ル−２−ピリドン １５） ６−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシスチ
リル）−１−（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）
−４−メチル−２−ピリドン １６） １−イソプロパンスルホニルオキシ−６−（４
−フェニル−ブタ−１， ３−ジエニル）−４
−メチル−２−ピリドン １７） ４−メチル−６−（２−ナフタレン−１−イル
ビニル）−１−（３−ニトロベンゼンスルホニルオキ
シ）−２−ピリドン １８） ６−〔４−（２−エトキシエトキシ）スチリ
ル〕−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−
ピリドン １９） ６−（２，４−ジメトキシ−３−メチルスチリ
ル）−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−４−
メチル−２−ピリドン ２０） ４−メチル−６−スチリル−１−トリクロロメ
タンスルホニルオキシ−２−ピリドン ２１） ４−メチル−６−（２−ナフタレン−２−イル
ビニル）−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−
２−ピリドン ２２） ４−シクロヘキシル−１−メタンスルホニルオ
キシ−６−（４−メトキシスチリル）−２−ピリドン ２３） ３−シアノ−６−（３，４−ジメトキシスチリ
ル）−４−メチル−１−（トルエン−４−スルホニルオ
キシ）−２−ピリドン ２４） ６−〔２−（４−クロロフェニル）−プロプ−
１−エニル〕−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチ
ル−２−ピリドン ２５） ６−（３−クロロ−４−メトキシスチリル）−
１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−４−フ
ェニル−２−ピリドン ２６） ４−ブチル−６−（３，４−ジメトキシスチリ
ル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニルオキシ）
−２−ピリドン ２７） ６−〔２，２−ビス−（４−メトキシフェニ
ル）−ビニル〕−４−メチル−１−（トルエン−４−ス
ルホニルオキシ）−２−ピリドン ２８） ６−（２−アントラセン−９−イルビニル）−
４−メチル−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）
−２−ピリドン ２９） １−ベンゼンスルホニルオキシ−５−クロロ−
４−エチル−６−（４−メトキシスチリル）−２−ピリ
ドン ３０） ４−メチル−３−ニトロ−６−（２−チオフェ
ン−２−イルビニル）−１−（トルエン−４−スルホニ
ルオキシ）−２−ピリドン ３１） ３−ブチルメルカプト−１−メタンスルホニル
オキシ−６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
２−ピリドン ３２） ３，５−ジブロモ−４−メチル−６−（３−メ
チルスチリル）−１−（トルエン−４−スルホニルオキ
シ）−２−ピリドン ３３） １−エタンスルホニルオキシ−３−メトキシメ
チル−４−メチル−６−（２−ナフタレン−２−イルビ
ニル）−２−ピリドン ３４） ３，５−ジクロロ−６−〔２−（６−メトキシ
−ナフタレン−２−イル）−ビニル〕−４−メチル−１
−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリドン ３５） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（４−フェニルスチリル）−２−ピリドン ３６） １−ベンゼンスルホニルオキシ−３−ブロモ−
６−〔４−（４−クロロフェノキシ）−スチリル〕−４
−メチル−２−ピリドン ３７） ６−〔４−（４−クロロフェニルメルカプト）
−スチリル〕−１−（４−フルオロベンゼンスルホニル
オキシ）−４−メチル−２−ピリドン ３８） ６−〔４−（４−クロロベンジルオキシ）−ス
チリル〕−１−（４−イソプロピルベンゼンスルホニル
オキシ）−４−メチル−２−ピリドン ３９） ６−（４−クロロ−３−トリフルオロメチルス
チリル）−１−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピ
リドン ４０） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−ジ
メチルアミノスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ４１） ６−（４−アリルオキシスチリル）−１−メタ
ンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ４２） ６−（３，５−ジクロロ−４−ヘキシルオキシ
スチリル）−４−メチル−１−プロパンスルホニルオキ
シ−２−ピリドン ４３） ４−メチル−６−（２−フェニル−２−シクロ
ヘキシルビニル）−１−（トルエン−４−スルホニルオ
キシ）−２−ピリドン ４４） １−（４−メトキシベンゼンスルホニルオキ
シ）−４−メチル−６−（２−フェニル−ヘキシ−１−
エニル）−２−ピリドン ４５） ３−ブロモ−６−（２−シクロヘキシルビニ
ル）−４−メチル−１−トリフルオロメタンスルホニル
オキシ）−２−ピリドン ４６） ４−エチル−１−メタンスルホニルオキシ−６
−ペント−１−エニル−２−ピリドン ４７） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（２−メチルプロプ−１−エニル）−２−ピリドン ４８） ６−シクロオクチリデンメチル−１−メタンス
ルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ４９） ６−シクロペンチリデンメチル−４−メチル−
１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリド
ン ５０） ６−〔２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−ビニル〕−３−メタンスルホニルアミノ−１−メ
タンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ５１） ６−〔２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−ビニル〕−３−イソブチリルアミノ−４−メチル
−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリ
ドン ５２） １−エタンスルホニルオキシ−６−（２−メチ
ル−６−フェニル−ヘキサ−１，３，５−トリエニル）
−４−メチル−２−ピリドン ５３） ６−（４−シクロヘキシルオキシスチリル）−
１−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパ
ンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピリドン ５４） ６−（３−シクロプロピルオキシスチリル）−
１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリド
ン ５５） ６−（２−ベンゾフラン−２−イルビニル）−
４−メチル−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）
−２−ピリドン ５６） ６−〔２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−ビニル〕−４−メチル−１−（３−トリフルオロ
メチルベンゼンスルホニルオキシ）−２−ピリドン ５７） ４−メチル−６−〔２−（５−メチルフラン−
２−イル）−ビニル〕−１−（ナフタレン−２−イルス
ルホニルオキシ）−２−ピリドン ５８） ４−メチル−６−（４−ニトロスチリル）−１
−オクタンスルホニルオキシ−２−ピリドン ５９） １−ヘキサデカンスルホニルオキシ−４−メチ
ル−６−（４−ニトロスチリル）−２−ピリドン ６０） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（４−ニトロスチリル）−２−ピリドン ６１） ６−（２，２−ジチオフェン−２−イルビニ
ル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−
ピリドン ６２） ３−シアノ−６−（２，４−ジメトキシスチリ
ル）−４−メチル−１−トリフルオロメタンスルホニル
オキシ−２−ピリドン ６３） ６−（２−ベンゾフラン−２−イルビニル）−
４−メチル−３−チオシアナト−１−（トルエン−４−
スルホニルオキシ）−２−ピリドン ６４） ６−（２−ベンゾフラン−２−イルビニル）−
３−ブロモ−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル
−２−ピリドン ６５） ３，５−ビス−イソプロピルメルカプトメチル
−４−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオ
キシ）−６−スチリル−２−ピリドン ６６） １−（４−メトキシベンゼンスルホニルオキ
シ）−４−メチル−６−（２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロスチリル）−２−ピリドン ６７） ６−（３，５−ジクロロ−２，４，６−トリメ
トキシスチリル）−４−メチル−１−（１−トリフルオ
ロメチル−２，２，２−トリフルオロエタンスルホニル
オキシ）−２−ピリドン ６８） ６−（３−ブロモ−２，４，６−トリメトキシ
スチリル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル
−２−ピリドン ６９） ６−（２−フェロセニルビニル）−４−メチル
−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリ
ドン ７０） ６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）−
ビニル〕−４−メチル−３−ニトロ−１−（トルエン−
４−スルホニルオキシ）−２−ピリドン ７１） ６−（４−ｔ−ブチルスチリル）−４−メチル
−５−ニトロ−１−プロパンスルホニルオキシ−２−ピ
リドン ７２） ３，５−ジニトロ−６−（４−ｔ−ブチルスチ
リル）−４−メチル−１−ブタンスルホニルオキシ−２
−ピリドン ７３） １−ベンゼンスルホニルオキシ−３−ブロモ−
６−（４−ブトキシスチリル）−４−メチル−５−ニト
ロ−２−ピリドン ７４） １−（４−ブロモベンゼンスルホニルオキシ）
−４−メチル−６−（４−トリフルオロメチルスチリ
ル）−２−ピリドン ７５） ６−（３−クロロ−４−フェニル−ブタ−１，
３−ジエニル）−１−イソプロパンスルホニルオキシ−
４−メチル−２−ピリドン ７６） １−ベンゼンスルホニルオキシ−４−メチル−
６−〔２−（１−ベンゼンスルホニル−ピロール−２−
イル）−ビニル〕−２−ピリドン ７７） ６−（１０，１１−ジヒドロ−ジベンゾ〔ａ，
ｄ〕シクロヘプト−５−イリデンメチル）−４−メチル
−１−（２−チオフェン−２−イルスルホニルオキシ）
−２−ピリドン ７８） １−ベンゼンスルホニルオキシ−４−メチル−
６−（４−スチリル−スチリル）−２−ピリドン ７９） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（２−〔１〕ナフチルビニル）−２−ピリドン ８０） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（４−フェニル−ブタ−１，３−ジエニル）−２−ピ
リドン ８１） ６−（４−ジメチルアミノスチリル）−１−メ
タンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ８２） １−メタンスルホニルオキシ−６−（４−メト
キシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８３） １−（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）
−６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−２−ピ
リドン ８４） １−（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）
−６−（４−クロロスチリル）−４−メチル−２−ピリ
ドン ８５） １−エタンスルホニルオキシ−６−（４−メト
キシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８６） ３−ブロモ−１−メタンスルホニルオキシ−６
−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−２−ピリド
ン ８７） １−イソプロパンスルホニルオキシ−６−（４
−メトキシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８８） １−ブタンスルホニルオキシ−６−（４−メト
キシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８９） ６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
１−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２−ピリド
ン ９０） ６−（４−メトキシスチリル）−（１，１，
２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンスルホニルオ
キシ）−４−メチル−２−ピリドン ９１） ６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
１−ベンゼンスルホニルオキシ−２−ピリドン ９２） １−（４−フルオロベンゼンスルホニルオキ
シ）−６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−ピ
リドン ９３） ６−（４−メトキシスチリル）−１−（４−ト
リフルオロベンゼンスルホニルオキシ）−４−メチル−
２−ピリドン ９４） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−メ
トキシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ９５） ６−（４−クロロスチリル）−１−エタンスル
ホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９６） ３−ブロモ−６−（４−クロロスチリル）−１
−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９７） ６−（４−クロロスチリル）−１−イソプロパ
ンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９８） １−ブタンスルホニルオキシ−６−（４−クロ
ロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ９９） ６−（４−クロロスチリル）−４−メチル−１
−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２−ピリドン 100 ） ６−（４−クロロスチリル）−１−（１，１，
２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンスルホニルオ
キシ）−４−メチル−２−ピリドン 101 ） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−ク
ロロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン 102 ） ６−（４−クロロスチリル）−１−（４−フル
オロベンゼンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピ
リドン 103 ） ６−（４−クロロスチリル）−４−メチル−１
−（４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキ
シ）−２−ピリドン 104 ） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−ク
ロロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン 105 ） １，４−ビス−（４−メチル−２−オキソ−６
−スチリル−２Ｈ−ピリジン−１−イルオキシスルホニ
ル）−ブタン 106 ） １，３−ビス−〔６−（４−メトキシスチリ
ル）−４−メチル−２−オキソ−２Ｈ−ピリジン−１−
イルオキシスルホニル〕−ベンゼン 107 ） １，３−ビス−〔３−ブロモ−６−（４−クロ
ロスチリル）−４−メチル−２−オキソ−２Ｈ−ピリジ
ン−１−イルオキシスルホニル〕−２，４，６−トリメ
チルベンゼン 108 ） １，５−ビス−〔６−（４−フルオロスチリ
ル）−４−メチル−２−オキソ−２Ｈ−ピリジン−１−
イルオキシスルホニル〕−ナフタレン 109 ） ２−クロロ−３，５−ビス−〔４−メチル−６
−（４−メチルスチリル）−２−オキソ−２Ｈ−ピリジ
ン−１−イルオキシスルホニル〕−チオフェン応用例１ 本例は、平版印刷版用ポジ型レジスト層中の酸発生剤と
しての本発明に係る化合物の適合性を実証する。
63% Ｎ 2.65% Ｆ 3.60% (528.03) 実測値 Ｃ 59.2% Ｈ 3.7% Ｎ
2.6%化合物６〜１０９ 前記製造例に従って製造できる本発明に係る更に他の化
合物を以下に表示する。 ６） ６−（４−フルオロ
スチリル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−
メチル−２−ピリドン ７） １−ベンゼンスルホニルオキシ−４−メチル−
６−スチリル−２−ピリドン ８） ６−（３，４−ジメトキシスチリル）−１−エ
タンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９） ６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−ピ
リドン １０） ６−（４−シアノスチリル）−４−メチル−１
−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２−ピリドン １１） ６−（３−ベンジルオキシスチリル）−１−
（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−４−メチル
−２−ピリドン １２） １−ブタンスルホニルオキシ−６−（３，４−
ジクロロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン １３） １−（４−クロロ−３−ニトロベンゼンスルホ
ニルオキシ）−６−（３−エトキシ−６−メトキシスチ
リル）−４−メチル−２−ピリドン １４） １−（４−ブロモベンゼンスルホニルオキシ）
−６−（３−クロロ−４−メチルスチリル）−４−メチ
ル−２−ピリドン １５） ６−（４−ベンジルオキシ−３−メトキシスチ
リル）−１−（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）
−４−メチル−２−ピリドン １６） １−イソプロパンスルホニルオキシ−６−（４
−フェニル−ブタ−１， ３−ジエニル）−４
−メチル−２−ピリドン １７） ４−メチル−６−（２−ナフタレン−１−イル
ビニル）−１−（３−ニトロベンゼンスルホニルオキ
シ）−２−ピリドン １８） ６−〔４−（２−エトキシエトキシ）スチリ
ル〕−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−
ピリドン １９） ６−（２，４−ジメトキシ−３−メチルスチリ
ル）−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−４−
メチル−２−ピリドン ２０） ４−メチル−６−スチリル−１−トリクロロメ
タンスルホニルオキシ−２−ピリドン ２１） ４−メチル−６−（２−ナフタレン−２−イル
ビニル）−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−
２−ピリドン ２２） ４−シクロヘキシル−１−メタンスルホニルオ
キシ−６−（４−メトキシスチリル）−２−ピリドン ２３） ３−シアノ−６−（３，４−ジメトキシスチリ
ル）−４−メチル−１−（トルエン−４−スルホニルオ
キシ）−２−ピリドン ２４） ６−〔２−（４−クロロフェニル）−プロプ−
１−エニル〕−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチ
ル−２−ピリドン ２５） ６−（３−クロロ−４−メトキシスチリル）−
１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−４−フ
ェニル−２−ピリドン ２６） ４−ブチル−６−（３，４−ジメトキシスチリ
ル）−１−（４−メトキシベンゼンスルホニルオキシ）
−２−ピリドン ２７） ６−〔２，２−ビス−（４−メトキシフェニ
ル）−ビニル〕−４−メチル−１−（トルエン−４−ス
ルホニルオキシ）−２−ピリドン ２８） ６−（２−アントラセン−９−イルビニル）−
４−メチル−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）
−２−ピリドン ２９） １−ベンゼンスルホニルオキシ−５−クロロ−
４−エチル−６−（４−メトキシスチリル）−２−ピリ
ドン ３０） ４−メチル−３−ニトロ−６−（２−チオフェ
ン−２−イルビニル）−１−（トルエン−４−スルホニ
ルオキシ）−２−ピリドン ３１） ３−ブチルメルカプト−１−メタンスルホニル
オキシ−６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
２−ピリドン ３２） ３，５−ジブロモ−４−メチル−６−（３−メ
チルスチリル）−１−（トルエン−４−スルホニルオキ
シ）−２−ピリドン ３３） １−エタンスルホニルオキシ−３−メトキシメ
チル−４−メチル−６−（２−ナフタレン−２−イルビ
ニル）−２−ピリドン ３４） ３，５−ジクロロ−６−〔２−（６−メトキシ
−ナフタレン−２−イル）−ビニル〕−４−メチル−１
−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリドン ３５） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（４−フェニルスチリル）−２−ピリドン ３６） １−ベンゼンスルホニルオキシ−３−ブロモ−
６−〔４−（４−クロロフェノキシ）−スチリル〕−４
−メチル−２−ピリドン ３７） ６−〔４−（４−クロロフェニルメルカプト）
−スチリル〕−１−（４−フルオロベンゼンスルホニル
オキシ）−４−メチル−２−ピリドン ３８） ６−〔４−（４−クロロベンジルオキシ）−ス
チリル〕−１−（４−イソプロピルベンゼンスルホニル
オキシ）−４−メチル−２−ピリドン ３９） ６−（４−クロロ−３−トリフルオロメチルス
チリル）−１−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフル
オロプロパンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピ
リドン ４０） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−ジ
メチルアミノスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ４１） ６−（４−アリルオキシスチリル）−１−メタ
ンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ４２） ６−（３，５−ジクロロ−４−ヘキシルオキシ
スチリル）−４−メチル−１−プロパンスルホニルオキ
シ−２−ピリドン ４３） ４−メチル−６−（２−フェニル−２−シクロ
ヘキシルビニル）−１−（トルエン−４−スルホニルオ
キシ）−２−ピリドン ４４） １−（４−メトキシベンゼンスルホニルオキ
シ）−４−メチル−６−（２−フェニル−ヘキシ−１−
エニル）−２−ピリドン ４５） ３−ブロモ−６−（２−シクロヘキシルビニ
ル）−４−メチル−１−トリフルオロメタンスルホニル
オキシ）−２−ピリドン ４６） ４−エチル−１−メタンスルホニルオキシ−６
−ペント−１−エニル−２−ピリドン ４７） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（２−メチルプロプ−１−エニル）−２−ピリドン ４８） ６−シクロオクチリデンメチル−１−メタンス
ルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ４９） ６−シクロペンチリデンメチル−４−メチル−
１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリド
ン ５０） ６−〔２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−ビニル〕−３−メタンスルホニルアミノ−１−メ
タンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ５１） ６−〔２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−ビニル〕−３−イソブチリルアミノ−４−メチル
−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリ
ドン ５２） １−エタンスルホニルオキシ−６−（２−メチ
ル−６−フェニル−ヘキサ−１，３，５−トリエニル）
−４−メチル−２−ピリドン ５３） ６−（４−シクロヘキシルオキシスチリル）−
１−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパ
ンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピリドン ５４） ６−（３−シクロプロピルオキシスチリル）−
１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリド
ン ５５） ６−（２−ベンゾフラン−２−イルビニル）−
４−メチル−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）
−２−ピリドン ５６） ６−〔２−（５−ブロモチオフェン−２−イ
ル）−ビニル〕−４−メチル−１−（３−トリフルオロ
メチルベンゼンスルホニルオキシ）−２−ピリドン ５７） ４−メチル−６−〔２−（５−メチルフラン−
２−イル）−ビニル〕−１−（ナフタレン−２−イルス
ルホニルオキシ）−２−ピリドン ５８） ４−メチル−６−（４−ニトロスチリル）−１
−オクタンスルホニルオキシ−２−ピリドン ５９） １−ヘキサデカンスルホニルオキシ−４−メチ
ル−６−（４−ニトロスチリル）−２−ピリドン ６０） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（４−ニトロスチリル）−２−ピリドン ６１） ６−（２，２−ジチオフェン−２−イルビニ
ル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−
ピリドン ６２） ３−シアノ−６−（２，４−ジメトキシスチリ
ル）−４−メチル−１−トリフルオロメタンスルホニル
オキシ−２−ピリドン ６３） ６−（２−ベンゾフラン−２−イルビニル）−
４−メチル−３−チオシアナト−１−（トルエン−４−
スルホニルオキシ）−２−ピリドン ６４） ６−（２−ベンゾフラン−２−イルビニル）−
３−ブロモ−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル
−２−ピリドン ６５） ３，５−ビス−イソプロピルメルカプトメチル
−４−メチル−１−（４−ニトロベンゼンスルホニルオ
キシ）−６−スチリル−２−ピリドン ６６） １−（４−メトキシベンゼンスルホニルオキ
シ）−４−メチル−６−（２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロスチリル）−２−ピリドン ６７） ６−（３，５−ジクロロ−２，４，６−トリメ
トキシスチリル）−４−メチル−１−（１−トリフルオ
ロメチル−２，２，２−トリフルオロエタンスルホニル
オキシ）−２−ピリドン ６８） ６−（３−ブロモ−２，４，６−トリメトキシ
スチリル）−１−メタンスルホニルオキシ−４−メチル
−２−ピリドン ６９） ６−（２−フェロセニルビニル）−４−メチル
−１−（トルエン−４−スルホニルオキシ）−２−ピリ
ドン ７０） ６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）−
ビニル〕−４−メチル−３−ニトロ−１−（トルエン−
４−スルホニルオキシ）−２−ピリドン ７１） ６−（４−ｔ−ブチルスチリル）−４−メチル
−５−ニトロ−１−プロパンスルホニルオキシ−２−ピ
リドン ７２） ３，５−ジニトロ−６−（４−ｔ−ブチルスチ
リル）−４−メチル−１−ブタンスルホニルオキシ−２
−ピリドン ７３） １−ベンゼンスルホニルオキシ−３−ブロモ−
６−（４−ブトキシスチリル）−４−メチル−５−ニト
ロ−２−ピリドン ７４） １−（４−ブロモベンゼンスルホニルオキシ）
−４−メチル−６−（４−トリフルオロメチルスチリ
ル）−２−ピリドン ７５） ６−（３−クロロ−４−フェニル−ブタ−１，
３−ジエニル）−１−イソプロパンスルホニルオキシ−
４−メチル−２−ピリドン ７６） １−ベンゼンスルホニルオキシ−４−メチル−
６−〔２−（１−ベンゼンスルホニル−ピロール−２−
イル）−ビニル〕−２−ピリドン ７７） ６−（１０，１１−ジヒドロ−ジベンゾ〔ａ，
ｄ〕シクロヘプト−５−イリデンメチル）−４−メチル
−１−（２−チオフェン−２−イルスルホニルオキシ）
−２−ピリドン ７８） １−ベンゼンスルホニルオキシ−４−メチル−
６−（４−スチリル−スチリル）−２−ピリドン ７９） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（２−〔１〕ナフチルビニル）−２−ピリドン ８０） １−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−６
−（４−フェニル−ブタ−１，３−ジエニル）−２−ピ
リドン ８１） ６−（４−ジメチルアミノスチリル）−１−メ
タンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ８２） １−メタンスルホニルオキシ−６−（４−メト
キシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８３） １−（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）
−６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−２−ピ
リドン ８４） １−（４−クロロベンゼンスルホニルオキシ）
−６−（４−クロロスチリル）−４−メチル−２−ピリ
ドン ８５） １−エタンスルホニルオキシ−６−（４−メト
キシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８６） ３−ブロモ−１−メタンスルホニルオキシ−６
−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−２−ピリド
ン ８７） １−イソプロパンスルホニルオキシ−６−（４
−メトキシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８８） １−ブタンスルホニルオキシ−６−（４−メト
キシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ８９） ６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
１−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２−ピリド
ン ９０） ６−（４−メトキシスチリル）−（１，１，
２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンスルホニルオ
キシ）−４−メチル−２−ピリドン ９１） ６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−
１−ベンゼンスルホニルオキシ−２−ピリドン ９２） １−（４−フルオロベンゼンスルホニルオキ
シ）−６−（４−メトキシスチリル）−４−メチル−ピ
リドン ９３） ６−（４−メトキシスチリル）−１−（４−ト
リフルオロベンゼンスルホニルオキシ）−４−メチル−
２−ピリドン ９４） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−メ
トキシスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ９５） ６−（４−クロロスチリル）−１−エタンスル
ホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９６） ３−ブロモ−６−（４−クロロスチリル）−１
−メタンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９７） ６−（４−クロロスチリル）−１−イソプロパ
ンスルホニルオキシ−４−メチル−２−ピリドン ９８） １−ブタンスルホニルオキシ−６−（４−クロ
ロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン ９９） ６−（４−クロロスチリル）−４−メチル−１
−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−２−ピリドン 100 ） ６−（４−クロロスチリル）−１−（１，１，
２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンスルホニルオ
キシ）−４−メチル−２−ピリドン 101 ） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−ク
ロロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン 102 ） ６−（４−クロロスチリル）−１−（４−フル
オロベンゼンスルホニルオキシ）−４−メチル−２−ピ
リドン 103 ） ６−（４−クロロスチリル）−４−メチル−１
−（４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキ
シ）−２−ピリドン 104 ） １−ベンゼンスルホニルオキシ−６−（４−ク
ロロスチリル）−４−メチル−２−ピリドン 105 ） １，４−ビス−（４−メチル−２−オキソ−６
−スチリル−２Ｈ−ピリジン−１−イルオキシスルホニ
ル）−ブタン 106 ） １，３−ビス−〔６−（４−メトキシスチリ
ル）−４−メチル−２−オキソ−２Ｈ−ピリジン−１−
イルオキシスルホニル〕−ベンゼン 107 ） １，３−ビス−〔３−ブロモ−６−（４−クロ
ロスチリル）−４−メチル−２−オキソ−２Ｈ−ピリジ
ン−１−イルオキシスルホニル〕−２，４，６−トリメ
チルベンゼン 108 ） １，５−ビス−〔６−（４−フルオロスチリ
ル）−４−メチル−２−オキソ−２Ｈ−ピリジン−１−
イルオキシスルホニル〕−ナフタレン 109 ） ２−クロロ−３，５−ビス−〔４−メチル−６
−（４−メチルスチリル）−２−オキソ−２Ｈ−ピリジ
ン−１−イルオキシスルホニル〕−チオフェン応用例１ 本例は、平版印刷版用ポジ型レジスト層中の酸発生剤と
しての本発明に係る化合物の適合性を実証する。
【００４７】乾燥後の層厚が約２μｍであるような方式
で、機械的に粗面化され且つ前処理された表面を有する
アルミニウムプレートを エチレングリコールモノメチルエーテル３０．０p.b.w. テトラヒドロフラン５２．０p.b.w.および 酢酸ブチル１０．０p.b.w.中の クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック（ＤＩＮ５３
１８１に従って１０５〜１２０℃の溶融範囲）６．５０
p.b.w.、 ピペロナールとフェノキシエタノールとのアセタール
２．２０p.b.w.、 ６−（４−クロロスチリル）−１−メタンスルホニルオ
キシ−４−メチル−２−ピリドン０．３３p.b.w.および クリスタルバイオレットベース０．０５p.b.w. の溶液で被覆した。被覆されたプレートは、線およびス
クリーンモチーフに加えて１３ステップ（各々の光学密
度０．１５）を有するハーフトーンステップウェッジを
含有する原稿を通して５kWのメタルハライドランプ下で
距離１１０cmで２０秒間露光し、待機時間１５分後、下
記組成： メタケイ酸ナトリウム×９Ｈ2 Ｏ ５．５p.b.w. リン酸三ナトリウム×１２Ｈ2 Ｏ ３．４p.b.w. リン酸二水素ナトリウム（無水）０．４p.b.w.および 脱イオン水９０．７p.b.w. の現像液で１分間現像した。原稿に近いポジ画像が得ら
れ、ここでは最も微小な詳細さえ正確に再現された。得
られた印刷版をシート供給印刷機にクランプし、優秀な
品質の６５，０００よりも多い印刷物を与えた。応用例２ 本例は、本発明に係る化合物をマイクロエレクトロニッ
クスでのネガ型フォトレジスト用酸発生剤として使用で
きることを実証する。
で、機械的に粗面化され且つ前処理された表面を有する
アルミニウムプレートを エチレングリコールモノメチルエーテル３０．０p.b.w. テトラヒドロフラン５２．０p.b.w.および 酢酸ブチル１０．０p.b.w.中の クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック（ＤＩＮ５３
１８１に従って１０５〜１２０℃の溶融範囲）６．５０
p.b.w.、 ピペロナールとフェノキシエタノールとのアセタール
２．２０p.b.w.、 ６−（４−クロロスチリル）−１−メタンスルホニルオ
キシ−４−メチル−２−ピリドン０．３３p.b.w.および クリスタルバイオレットベース０．０５p.b.w. の溶液で被覆した。被覆されたプレートは、線およびス
クリーンモチーフに加えて１３ステップ（各々の光学密
度０．１５）を有するハーフトーンステップウェッジを
含有する原稿を通して５kWのメタルハライドランプ下で
距離１１０cmで２０秒間露光し、待機時間１５分後、下
記組成： メタケイ酸ナトリウム×９Ｈ2 Ｏ ５．５p.b.w. リン酸三ナトリウム×１２Ｈ2 Ｏ ３．４p.b.w. リン酸二水素ナトリウム（無水）０．４p.b.w.および 脱イオン水９０．７p.b.w. の現像液で１分間現像した。原稿に近いポジ画像が得ら
れ、ここでは最も微小な詳細さえ正確に再現された。得
られた印刷版をシート供給印刷機にクランプし、優秀な
品質の６５，０００よりも多い印刷物を与えた。応用例２ 本例は、本発明に係る化合物をマイクロエレクトロニッ
クスでのネガ型フォトレジスト用酸発生剤として使用で
きることを実証する。
【００４８】コーティング溶液をプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート５６p.b.w.中の 応用例１に記載のクレゾール／ホルムアルデヒドノボラ
ック８．０p.b.w.、 ヘキサメトキシメチルメラミン２．０p.b.w.および ６−（４−メトキシスチリル）−１−メチル−１−（４
−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−ピリドン
０．４p.b.w. から調製した。溶液を孔径０．２μｍの濾過器で濾過
し、接着剤促進剤（ヘキサメチルジシラザン）で処理さ
れたウェーハ上に３，５００rpm でワーラー被覆した。
熱板上で１００℃において１分間乾燥した後、層厚１．
０５μｍが、得られた。
モノメチルエーテルアセテート５６p.b.w.中の 応用例１に記載のクレゾール／ホルムアルデヒドノボラ
ック８．０p.b.w.、 ヘキサメトキシメチルメラミン２．０p.b.w.および ６−（４−メトキシスチリル）−１−メチル−１−（４
−ニトロベンゼンスルホニルオキシ）−２−ピリドン
０．４p.b.w. から調製した。溶液を孔径０．２μｍの濾過器で濾過
し、接着剤促進剤（ヘキサメチルジシラザン）で処理さ
れたウェーハ上に３，５００rpm でワーラー被覆した。
熱板上で１００℃において１分間乾燥した後、層厚１．
０５μｍが、得られた。
【００４９】記録材料をエネルギー８０mJ／cm2 でキセ
ノン−水銀蒸気ランプ（透過３６０〜３７０nmを有する
フィルター）の放射線に、最小０．２μｍまでの構造物
を含有する原稿下で造像的に露光した。次いで、露光さ
れたウェーハを１００℃で更なる１分間加熱した。
ノン−水銀蒸気ランプ（透過３６０〜３７０nmを有する
フィルター）の放射線に、最小０．２μｍまでの構造物
を含有する原稿下で造像的に露光した。次いで、露光さ
れたウェーハを１００℃で更なる１分間加熱した。
【００５０】水酸化テトラメチルアンモニウム２．３８
％を含有する水性現像液を使用して、現像を行った。
％を含有する水性現像液を使用して、現像を行った。
【００５１】現像時間１２０秒後、急勾配レジストフラ
ンクを有するマスクの無欠陥画像が得られ、最小０．４
５μｍまでの構造物が真に詳細に解像された。レジスト
プロフィールのフランクの走査電子顕微鏡検査は、これ
らが基板表面に事実上垂直に整列され且つアンダーカッ
トを示さないことを証明した。応用例３ 本例は、本発明に係る化合物をマイクロエレクトロニッ
クスでのポジ型フォトレジスト用ＵＶ２感受性酸発生剤
として使用できることを実証する。
ンクを有するマスクの無欠陥画像が得られ、最小０．４
５μｍまでの構造物が真に詳細に解像された。レジスト
プロフィールのフランクの走査電子顕微鏡検査は、これ
らが基板表面に事実上垂直に整列され且つアンダーカッ
トを示さないことを証明した。応用例３ 本例は、本発明に係る化合物をマイクロエレクトロニッ
クスでのポジ型フォトレジスト用ＵＶ２感受性酸発生剤
として使用できることを実証する。
【００５２】コーティング溶液をプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート４２p.b.w.中の 平均分子量２２，０００を有する３−メチル−４−ヒド
ロキシスチレンの単独重合体８．０p.b.w.、 応用例１に記載のアセタール２．０p.b.w.および ４−メチル−６−スチリル−１−トリクロロメタンスル
ホニルオキシ−２−ピリドン０．４p.b.w. から調製した。溶液を孔径０．２μｍの濾過器で濾過
し、接着剤促進剤（ヘキサメチルジシラザン）で処理さ
れたウェーハ上に３，２００rpm でワーラー被覆した。
熱板上で１００℃において１分間乾燥した後、層厚１．
０２μｍが、得られた。
モノメチルエーテルアセテート４２p.b.w.中の 平均分子量２２，０００を有する３−メチル−４−ヒド
ロキシスチレンの単独重合体８．０p.b.w.、 応用例１に記載のアセタール２．０p.b.w.および ４−メチル−６−スチリル−１−トリクロロメタンスル
ホニルオキシ−２−ピリドン０．４p.b.w. から調製した。溶液を孔径０．２μｍの濾過器で濾過
し、接着剤促進剤（ヘキサメチルジシラザン）で処理さ
れたウェーハ上に３，２００rpm でワーラー被覆した。
熱板上で１００℃において１分間乾燥した後、層厚１．
０２μｍが、得られた。
【００５３】記録材料をエネルギー８０mJ／cm2 でキセ
ノン−水銀蒸気ランプ（透過２４０〜２６０nmを有する
フィルター）の放射線に原稿下で造像的に露光し、現像
前に、熱板上で１分間９５℃に加熱した。
ノン−水銀蒸気ランプ（透過２４０〜２６０nmを有する
フィルター）の放射線に原稿下で造像的に露光し、現像
前に、熱板上で１分間９５℃に加熱した。
【００５４】水酸化テトラメチルアンモニウム２．３８
重量％を含有する水性アルカリ性現像液を使用して、記
録材料を現像した。
重量％を含有する水性アルカリ性現像液を使用して、記
録材料を現像した。
【００５５】現像時間９０秒後、これは、マスクの無欠
陥画像を与え、＜０．４５μｍの構造物さえ真に詳細に
解像された。ここで再度、レジストプロフィールのフラ
ンクの走査電子顕微鏡検査は、これらが基板表面に事実
上垂直に整列され且つこの解像まで、カバー層効果が観
察されないことを示した。応用例４ 本例は、本発明に係る化合物をプリント回路用の、遊離
基機構によって重合できるフォトレジスト用感光性光開
始剤として使用できることを実証する。
陥画像を与え、＜０．４５μｍの構造物さえ真に詳細に
解像された。ここで再度、レジストプロフィールのフラ
ンクの走査電子顕微鏡検査は、これらが基板表面に事実
上垂直に整列され且つこの解像まで、カバー層効果が観
察されないことを示した。応用例４ 本例は、本発明に係る化合物をプリント回路用の、遊離
基機構によって重合できるフォトレジスト用感光性光開
始剤として使用できることを実証する。
【００５６】メチルエチルケトン６０．０p.b.w.中の メタクリル酸３０p.b.w.とメタクリル酸ｎ−ヘキシル６
０p.b.w.とスチレン１０p.b.w.との共重合体２５．０p.
b.w.、 ２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト１モルとメタクリル酸ヒドロキシメチル２モルとの反
応生成物１６．５p.b.w.、 トリエチレングリコールジメタクリレート１．５p.b.
w.、 １−（４−ブロモベンゼンスルホニルオキシ）−４−メ
チル−６−（４−トリフルオロメチルスチリル）−２−
ピリドン０．７p.b.w.および ２，４−ジニトロ−６−クロロ−２′−アセチルアミノ
−５′−メトキシ−４′−（Ｎ−β−ヒドロキシエチル
−Ｎ−β′−シアノエチルアミノ）−アゾベンゼン０．
１p.b.w. からなるコーティング溶液をポリエチレンテレフタレー
トフィルムに乾燥層厚２５ｇ／ m2 で塗布した。この２
層系は、市販のラミネーター中で１２０℃において３５
μｍ厚の銅層を担持した絶縁材料の支持体に積層した。
材料は、ブラインドおよびスクリーンモチーフに加えて
ハーフトーンステップウェッジを含有する原稿を通して
６０秒間露光した（応用例１に記載の光源を使用）。
０．８％炭酸ナトリウム溶液を使用して、露光された材
料を現像した。これは、線およびスクリーンモチーフの
ネガを与えた。ハーフトーンステップウェッジのステッ
プ１〜６は、浮き出したレリーフとして立ったままであ
り、スッテプ７は可視的に攻撃された。裸銅を塩化鉄
（III)溶液で食刻し、レジスト層は有意には影響されな
かった。
０p.b.w.とスチレン１０p.b.w.との共重合体２５．０p.
b.w.、 ２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト１モルとメタクリル酸ヒドロキシメチル２モルとの反
応生成物１６．５p.b.w.、 トリエチレングリコールジメタクリレート１．５p.b.
w.、 １−（４−ブロモベンゼンスルホニルオキシ）−４−メ
チル−６−（４−トリフルオロメチルスチリル）−２−
ピリドン０．７p.b.w.および ２，４−ジニトロ−６−クロロ−２′−アセチルアミノ
−５′−メトキシ−４′−（Ｎ−β−ヒドロキシエチル
−Ｎ−β′−シアノエチルアミノ）−アゾベンゼン０．
１p.b.w. からなるコーティング溶液をポリエチレンテレフタレー
トフィルムに乾燥層厚２５ｇ／ m2 で塗布した。この２
層系は、市販のラミネーター中で１２０℃において３５
μｍ厚の銅層を担持した絶縁材料の支持体に積層した。
材料は、ブラインドおよびスクリーンモチーフに加えて
ハーフトーンステップウェッジを含有する原稿を通して
６０秒間露光した（応用例１に記載の光源を使用）。
０．８％炭酸ナトリウム溶液を使用して、露光された材
料を現像した。これは、線およびスクリーンモチーフの
ネガを与えた。ハーフトーンステップウェッジのステッ
プ１〜６は、浮き出したレリーフとして立ったままであ
り、スッテプ７は可視的に攻撃された。裸銅を塩化鉄
（III)溶液で食刻し、レジスト層は有意には影響されな
かった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 409/12 Ｃ０７Ｄ 409/12 409/14 409/14 413/06 413/06 417/06 417/06 Ｇ０３Ｆ 7/031 Ｇ０３Ｆ 7/031 7/039 ５０１ 7/039 ５０１ (56)参考文献 特開 平５−204159（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−88538（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−164045（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−263143（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 213/00 - 213/89 C07D 401/00 - 401/06 C07D 403/00 - 403/06 C07D 405/00 - 405/06 C07D 409/00 - 409/06 C07D 413/00 - 413/06 C07D 417/00 - 417/06 G03F 7/00 - 7/039 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (11)
- 【請求項１】式Ｉで表わされる１−スルホニルオキシ−
２−ピリドンであって、 【化１】 式中、Ｒ1 はアルキル、シクロアルキル、アリール、ア
ラルケニル、ヘテロアリールまたはヘテロアラルケニル
基であり、 Ｒ2 は水素、塩素、臭素またはアルキル、シクロアルキ
ル、アリールまたはヘテロアリール基であり、またはＲ
1 およびＲ2 は一緒に５〜８員環を形成し、 Ｒ3 は水素またはアルキル基であり、 Ｒ4 は水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、シア
ノ、チオシアナトまたはアルキル、アルケニル、アルキ
ニル、アリール、アラルキル、アルキルチオ、アリール
チオまたはシクロアルキルチオ基であり、 Ｒ5 は水素またはアルキルまたはアリール基であり、ま
たはＲ4 およびＲ5 は一緒に５〜８員環を形成し、 Ｒ6 は水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、シア
ノ、チオシアナトまたはアルキル、アルケニル、アルコ
キシアルキル、アリール、アラルキル、アルキルチオ、
シクロアルキルチオまたはアリールチオ基であり、 Ｒ7 はアルキルまたはシクロアルキル基、過フッ素化ま
たは高フッ素化アルキル基またはアリール、アリールア
ルキルまたはヘテロアリール基またはアルキレンまたは
アリーレン基であり、 ｍは１または２の数であり、 ｎは１〜３の整数であるの１−スルホニルオキシ−２−
ピリドン。 - 【請求項２】Ｒ1 が、アルキルまたはシクロアルキル基
または式II 【化２】 〔式中、Ｒ8 およびＲ9 は同一または異種であり、水素
または低級アルキルまたはアリール基であり、 Ｒ10〜Ｒ14は同一または異種であり、水素、アルキル、
アルケニル、アルコキシ、アルキルチオまたはアルカン
スルホニル基（各々は６個までの炭素原子を有する）、
炭素数８までのシクロアルキルオキシ、シクロアルキル
チオまたはシクロアルカンスルホニル基、フェニル、ス
チリル、フェノキシ、フェニルチオ、ベンゼンスルホニ
ル、フェニルアルコキシ、フェニルアルキルチオまたは
フェニルアルカンスルホニル基（芳香環上で置換しても
よく且つアルキル鎖中に３個までの炭素原子を有す
る）、ヒドロキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、ニ
トロ、シアノ、アルコキシカルボニル、カルバモイル
（窒素上で５〜７員環を形成するために結合してもよい
１または２個のアルキル基で置換してもよい）、スルフ
ァモイル（窒素上で５〜７員環を形成するために結合し
てもよい１または２個のアルキル基で置換してもよ
い）、アルカンスルホニルオキシ、アリールスルホニル
オキシ、アシルアミノ、アルキルアミノまたはアリール
アミノであり、または２個の相互に隣接する置換基Ｒ10
〜Ｒ14は１または２個の更に他の縮合環を形成し、 ｏは０または１の数である〕のアリール基である、請求
項１に記載の１−スルホニルオキシ−２−ピリドン。 - 【請求項３】Ｒ1 が、式III 【化３】 の、３個までのヘテロ原子を有する５または６員複素環
式環である、請求項１または２に記載の１−スルホニル
オキシ−２−ピリドン。 - 【請求項４】式Ｉ中Ｒ1 がフェロセニル基であり、 Ｒ2 が水素、塩素、臭素、アルキル、シクロアルキルま
たは式IIまたはIII の基であり、またはＲ1 およびＲ2
が一緒に５〜８員環を形成し、 Ｒ3 が水素またはアルキル基であり、 Ｒ4 が水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、シア
ノ、チオシアナトまたはアルキル、アリール、アルキル
チオ、アリールチオまたはシクロアルキルチオ基であ
り、 Ｒ5 が水素またはアルキルまたはアリール基であり、ま
たはＲ4 およびＲ5 が一緒に５〜８員環を形成し、 Ｒ6 が水素、ハロゲン、ニトロ、アシルアミノ、シア
ノ、チオシアナトまたはアルキル、アリール、アルキル
チオ、アリールチオまたはシクロアルキルチオ基であ
り、 Ｒ7 がアルキルまたはシクロアルキル基、過フッ素化ま
たは高フッ素化アルキル基またはアリール、アリールア
ルキルまたはヘテロアリール基またはアルキレンまたは
アリーレン基であり、 ｍが１または２の数であり、 ｎが１〜３の整数である、 請求項１ないし３のいずれか１項に記載の１−スルホニ
ルオキシ−２−ピリドン。 - 【請求項５】Ｒ7 が、炭素数１〜４のアルキル基、炭素
数１〜４の高フッ素化アルキル基または過フッ素化アル
キル基または式IV 【化４】 〔式中、Ｒ15〜Ｒ19は同一または異種であり、水素原子
またはハロゲン原子、アルキル基（６個までの炭素原子
を有し且つ非置換であるかハロゲン原子、アリールまた
はアリールオキシ基で置換されている）（個々のメチレ
ン基は酸素または硫黄原子で置換でき、各々の場合にこ
れらの基の２つは５または６員環を形成するために結合
できる）、炭素数８までのシクロアルキル基、炭素数６
までのアルケニル基または炭素数１０までのアリールま
たはアリールオキシ基であり、基Ｒ15〜Ｒ19中の炭素原
子の合計数は１２以下である〕のアリール基である、請
求項１に記載の１−スルホニルオキシ−２−ピリドン。 - 【請求項６】Ｒ7 が、炭素数１０までのナフチルまたは
ヘテロアリール基、炭素数６までのアルキレン基または
炭素数１４までのアリーレンまたはヘテロアリーレン基
である、請求項１に記載の１−スルホニルオキシ−２−
ピリドン。 - 【請求項７】Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ6 が水素原子で
あり、 Ｒ5 がメチル基であり、 Ｒ7 がメチル、エチル、トリフルオロメチル、１，１，
２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル、フェニル、
トリル、４−フルオロフェニル、４−クロロフェニル、
４−ブロモフェニルまたは４−ニトロフェニル基であ
り、 ｍおよびｎが各々１の数である、 請求項１に記載の１−スルホニルオキシ−２−ピリド
ン。 - 【請求項８】ａ）６−ハロゲノメチル−２−ピロンをホ
スホニウム化合物またはホスホノ化合物に転化し、 ｂ）この化合物をウィッチヒ反応またはその変法に付
し、 ｃ）得られた化合物を１−ヒドロキシ−２−ピリドンに
転化し、 ｄ）スルホン酸ハライドと反応させて式Ｉの１−スルホ
ニルオキシ−２−ピリドンを与えることを特徴とする請
求項１ないし７のいずれか１項に記載の１−スルホニル
オキシ−２−ピリドンの製法。 - 【請求項９】スルホン酸ハライドとの反応を有機溶媒中
で０〜２０℃の温度で行う、請求項８に記載の方法。 - 【請求項１０】請求項１ないし７のいずれか１項に記載
の１−スルホニルオキシ−２−ピリドンを含んでなる感
放射線混合物。 - 【請求項１１】請求項１０に記載の感放射線混合物を含
んでなる記録材料。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4112967.9 | 1991-04-20 | ||
| DE4112967A DE4112967A1 (de) | 1991-04-20 | 1991-04-20 | Substituierte 1-sulfonyloxy-2-pyridone, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255260A JPH05255260A (ja) | 1993-10-05 |
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ID=6430018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04124078A Expired - Fee Related JP3095879B2 (ja) | 1991-04-20 | 1992-04-17 | 置換１−スルホニルオキシ−２−ピリドン、それらの製法、およびそれらの用途 |
Country Status (4)
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|---|---|
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| EP (1) | EP0510442A1 (ja) |
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| US5817825A (en) * | 1994-11-02 | 1998-10-06 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process for the preparation of 1-hydroxy-2-pyridones |
| US7070914B2 (en) | 2002-01-09 | 2006-07-04 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Process for producing an image using a first minimum bottom antireflective coating composition |
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| US20050214674A1 (en) | 2004-03-25 | 2005-09-29 | Yu Sui | Positive-working photoimageable bottom antireflective coating |
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| US9926277B2 (en) | 2015-10-02 | 2018-03-27 | Biotheryx, Inc. | Pyridone compounds, pharmaceutical compositions thereof, and their therapeutic use for treating proliferative diseases |
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|---|---|---|---|---|
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| US4197080A (en) * | 1979-02-14 | 1980-04-08 | Eastman Kodak Company | Radiation-cleavable nondiffusible compounds and photographic elements and processes employing them |
| US4425424A (en) * | 1982-04-08 | 1984-01-10 | Eastman Kodak Company | Dye-forming compositions |
| DE3337024A1 (de) * | 1983-10-12 | 1985-04-25 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch |
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- 1991-04-20 DE DE4112967A patent/DE4112967A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-04-09 EP EP92106138A patent/EP0510442A1/de not_active Withdrawn
- 1992-04-17 JP JP04124078A patent/JP3095879B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-20 US US07/870,920 patent/US5286867A/en not_active Expired - Fee Related
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