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JP2930774B2 - キノフタロンの製造方法 - Google Patents

キノフタロンの製造方法

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Publication number
JP2930774B2
JP2930774B2 JP3154253A JP15425391A JP2930774B2 JP 2930774 B2 JP2930774 B2 JP 2930774B2 JP 3154253 A JP3154253 A JP 3154253A JP 15425391 A JP15425391 A JP 15425391A JP 2930774 B2 JP2930774 B2 JP 2930774B2
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JP
Japan
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general formula
benzoic acid
quinophthalone
aminoquinaldine
anhydride
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JP3154253A
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JPH04226163A (ja
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オルト ブルクハルト
クート グィド
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BASF SE
Original Assignee
BASF SE
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Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B25/00Quinophthalones

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、8−アミノキナルジン
と場合により塩素又は臭素により一箇所以上で置換され
た無水フタル酸との希釈剤の存在下での縮合によりキノ
フタロンを製造する新規方法に関する。
【0002】
【従来の技術】Chimia 24、328、1970並びに
英国特許第1091734号明細書には、2−メチルキ
ノリン誘導体(キナルジン誘導体)と芳香族オルト−ジ
カルボン酸又はその無水物との、不活性、高沸点の希釈
剤、例えばo−ジクロルベンゼン、トリクロルベンゼ
ン、ニトロベンゼン、ナフタリン、ジフェニル又はジフ
ィニルエーテルの存在下で実施することが記載されてい
る。
【0003】更に、西ドイツ国特許出願公開第1770
960号、並びに同第2230601号明細書では、縮
合を促進するためにルイス−又はブレンシュテット(Bro
enstedt)−酸の付加的な使用が推奨されている。
【0004】しかしながら、該方法は欠点を有する。例
えば一般に200℃より高い反応温度が必要である。こ
のことが殊に高純度の黄色顔料を製造する際、例えば8
−アミノキナルジン1モルとテトラクロルフタル酸無水
物2モルからなる縮合生成物を製造する際に、アミノ成
分の部分的な分解に起因して、場合により費用のかかる
後精製工程が必要な好ましくないサドニングを引き起こ
すおそれがある。高い光沢を有する顔料を得るために
は、過剰のテトラクロルフェニル酸無水物(約30〜5
0モル%)で操作する必要がある。該過剰のテトラクロ
ルフェニル酸無水物は一般に使用した希釈剤を再生する
際に失われる。更に、記載された若干の希釈剤、例えば
ニトロベンゼン又は塩素化ベンゼンは生態学的に問題で
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、上記記載の難点をもはや有さず、技術的に容易に実
施されるべきキノフタロンの新規製造方法を提供するこ
とであった。更に、該方法生成物を好収率及び高純度で
生成するべきであった。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題は、一般式I:
【0007】
【化4】
【0008】[式中、Xは水素原子、塩素又は臭素を表
し、nは1〜4の数を表す]で示されるキノフタロン
を、一般式II:
【0009】
【化5】
【0010】で示される8−アミノキナルジンと一般式
III:
【0011】
【化6】
【0012】[式中、X及びnはそれぞれ上記記載のも
のを表す]で示される無水フタル酸との希釈剤の存在下
での縮合により製造し、溶融した安息香酸を希釈剤とし
て使用すれば、有利に達成させることが判明した。
【0013】本発明による方法に適した一般式IIIの
無水フタル酸は、例えば無水フタル酸、モノ−、ジ−、
トリ−又はテトラクロルフタル酸無水物又はモノ−、ジ
−、トリ−又はテトラブロムフタル酸無水物である。
【0014】テトラクロルフタル酸無水物(X=塩素、
n=4)を使用するのが有利である。
【0015】連続的でも不連続的でもどちらの作業方法
でも実施可能な本発明による方法を、好ましくは標準圧
又は僅かに高い圧力(約6バールまで)で実施する。工
業的規模での反応装置としては、慣用の撹拌容器又は強
制混合装置を備えた自動浄化式装置を使用することがで
きる。一般に固体安息香酸を装入し、これを溶融させる
(安息香酸の融点は122〜123℃である)。
【0016】その後撹拌下で8−アミノキナルジン及び
無水フタル酸IIIを加え、123〜200℃の温度、
有利には130〜170℃に加熱する。
【0017】特に、安息香酸及び無水フタル酸IIIを
先に装入し、引続き8−アミノキナルジンを本発明によ
る温度で10〜180分の時間帯で計量供給するのが有
利である。
【0018】本発明による方法のもう1つの有利な変法
は、反応が開始する前に安息香酸、8−アミノキナルジ
ン及び無水フタル酸IIIを加熱前に激しく混合するこ
とである。該方法により特に純粋なキノフタロンが得ら
れる。
【0019】更に、反応混合物を加熱する際、この処理
を2段階工程で行うのが有利である。例えば反応混合物
をまず130〜150℃の温度に加熱し、更に加熱して
150〜180℃の温度に達する前に、該温度に約1〜
3時間保持しておくことができる。
【0020】8−アミノキナルジンと無水フタル酸II
Iは、一般に1:2〜1:3のモル比使用する。
【0021】8−アミノキナルジン1モルにつき、安息
香酸を通常0.5〜20モル、有利には2〜15モルで
使用する。
【0022】公知技術水準の方法に比べて本発明による
方法では、反応温度は明らかに低下し反応時間は短縮さ
れる。このことは安息好酸がその希釈剤としての特性の
他に同時に縮合を促進させることを意味する。
【0023】従って、反応を促進させるために特殊な触
媒を添加することは、一般的にはそれ以上の利点をもた
らさない。
【0024】一般に3〜8時間が必要である縮合が終了
した後、反応混合物を130〜150℃の温度に冷却
し、場合により水で希釈し、引続きアルカリ溶液、例え
ば5〜20重量%の苛性ソーダ溶液又は苛性カリ溶液を
加える。その際安息香酸は水溶性アルカリ金属安息香酸
塩に転化され、一般式Iのキノフタロンは濾過により分
離し、水で洗浄することができる。
【0025】母液から安息香酸を酸性化により析出さ
せ、単離し、ほとんど損失なく新たに該縮合に使用する
ことができる。しかしながら他方では、安息香酸は良好
に分解可能である。安息香酸と一緒に、過剰の無水フタ
ル酸IIIもまたほとんど定量的に回収することができ
る。
【0026】他の後処理法は、例えば反応混合物を不活
性有機溶剤、例えばメタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、エチレングリコールモノブチ
ルエーテル、トルエン、キシレン又はそれらの混合物中
に回収することである。その際、安息香酸は溶解し、一
般式Iのキノフタロンは濾過により分離し、溶剤で洗浄
することができる。溶剤の蒸発により、安息香酸を回収
することができる。
【0027】場合によりなお無水フタル酸IIIをベー
スとするフタル酸を含有する回収された水で湿潤した安
息香酸を、直接水で湿潤したプレスケーキとして本発明
の方法に導入することも可能である。この場合には、本
来の縮合の前に、反応混合物を脱水し、フタル酸を無水
フタル酸に転化させるために、脱水処理を行う。
【0028】更に、無水フタル酸IIIの代わりに相応
するフタル酸を出発特質として使用することも可能であ
る。この場合においても、脱水処理を先に行い、該工程
中で無水物が形成される。
【0029】該新規方法は一般式Iのキノフタロンを良
好な収率、高い純度で提供する。
【0030】本発明による方法を用いて得られた一般式
Iのキノフタロンは貴重な顔料である。
【0031】
【実施例】次に本発明を以下の実施例により詳細に説明
する。
【0032】例1 撹拌容器中に安息香酸270gを装入し、溶融させた。
溶融物中に125℃〜130℃で順次に、無水テトラク
ロルフタル酸82gと8−アミノキナルジン19gを導
入した。140℃に加熱し、2時間後撹拌し、更に16
0℃に加熱し、更に2時間後撹拌した。引続き130℃
に冷却し、該反応混合物に水400mlと(50重量%
の)苛性ソーダ溶液160gからなる混合物を加えた。
顔料懸濁液を吸引濾過器を介して濾過し、水で中性に洗
浄しかつ乾燥させた。一般式:
【0033】
【化7】
【0034】で示されるキノフタロン82g(98%)
が得られた。
【0035】例2 例1に類似して操作したが、但しこの場合には無水テト
ラブロムフタル酸122gを使用した。収量:一般式:
【0036】
【化8】
【0037】で示されるキノフタロン120g(95
%)。
【0038】例3 例1の母液から酸性化しかつ析出させることにより、定
量的に回収されかつ、水で湿潤した安息香酸はテトラク
ロルフタル酸を13g含有した。該プレスケーキを反応
容器中で溶融させ、容器内温度が115℃に達するまで
水を留去した。次いで、溶融物中に順次に無水テトラク
ロルフタル酸69gと8−アミノキナルジン19gを導
入した。更に例1に類似して該処理を行った。収量:一
般式:
【0039】
【化9】
【0040】で示されるキノフタロン80g(96
%)。
【0041】例4 安息香酸270gとテトラクロルフタル酸80gを撹拌
容器中に装入し、溶融させた。水の留去下で130℃に
加熱し、水がすでにあふれなくなるまで(約2時間)後
撹拌した。8−アミノキナルジン19gを導入し、14
0℃に加熱した。それ以降の処置は、例1に類似して行
った。
【0042】収量:一般式:
【0043】
【化10】
【0044】で示されるキノフタロン82g(98
%)。
【0045】例5 安息香酸270g、無水テトラクロルフタル酸82g及
び8−アミノキナルジン19gを激しく混合し、該混合
物を撹拌容器内で溶融させた。135℃で2時間反応さ
せ、160℃に加熱し、2時間後撹拌した。後処理は例
1に類似して行った。
【0046】収量:一般式:
【0047】
【化11】
【0048】で示されるキノフタロン82g(98
%)。
【0049】例6 パドル型乾燥機に安息香酸40g、8−アミノキナルジ
ン19g及びテトラクロルフタル酸無水物46gを装入
して激しく混合し、かつ加熱により溶融させた。緩慢に
180℃に加熱し、該温度で10時間保持した。引続き
120℃に冷却し、(3重量%の)苛性ソーダ溶液約6
00gを加えた。該懸濁液を排出し、希釈苛性ソーダ溶
液の添加によりpH値を10.5に調整し、顔料を濾別
し、水で中性に洗浄しかつ乾燥させた。
【0050】一般式:
【0051】
【化12】
【0052】で示されるキノフタロン81g(97%)
が得られた。
【0053】例7 例6に類似して操作したが、以下のように後処理を行っ
た。反応混合物を120℃に冷却しp−キシレン500
gを加えた。生じた懸濁液を排出し、顔料を濾別し、p
−キシレン200gで洗浄しかつ乾燥させた。
【0054】一般式:
【0055】
【化13】
【0056】で示されるキノフタロン79g(95%)
が得られた。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−118433(JP,A) 特開 昭52−152424(JP,A) 特表 平5−501579(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C09B 25/00 C07D 401/04 C07D 209/00 C07D 215/00

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式I: 【化1】 [式中、Xは水素原子、塩素又は臭素を表し、nは1〜
    4の数を表す]で示されるキノフタロンを、一般式I
    I: 【化2】 で示される8−アミノキナルジンと一般式III: 【化3】 [式中、X及びnはそれぞれ上記記載のものを表す]で
    示される無水フタル酸とを希釈剤の存在下で縮合させる
    ことにより製造する方法において、溶融した安息香酸を
    希釈剤として使用することを特徴とするキノフタロンの
    製造方法。
JP3154253A 1990-06-27 1991-06-26 キノフタロンの製造方法 Expired - Lifetime JP2930774B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4020423.5 1990-06-27
DE4020423A DE4020423A1 (de) 1990-06-27 1990-06-27 Verfahren zur herstellung von chinophthalonen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04226163A JPH04226163A (ja) 1992-08-14
JP2930774B2 true JP2930774B2 (ja) 1999-08-03

Family

ID=6409164

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JP3154253A Expired - Lifetime JP2930774B2 (ja) 1990-06-27 1991-06-26 キノフタロンの製造方法

Country Status (4)

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US (1) US5106980A (ja)
EP (1) EP0463477B1 (ja)
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Publication number Publication date
EP0463477B1 (de) 1994-03-16
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DE4020423A1 (de) 1992-01-02
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