JP2880903B2 - 有機けい素化合物の製造方法 - Google Patents
有機けい素化合物の製造方法Info
- Publication number
- JP2880903B2 JP2880903B2 JP2472794A JP2472794A JP2880903B2 JP 2880903 B2 JP2880903 B2 JP 2880903B2 JP 2472794 A JP2472794 A JP 2472794A JP 2472794 A JP2472794 A JP 2472794A JP 2880903 B2 JP2880903 B2 JP 2880903B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- represented
- compound
- group
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有機けい素化合物の製
造方法に関し、特に、コンタクトレンズ用のメタクリル
樹脂の強度を向上させることのできるオルガノポリシロ
キサンを、高純度で合成するための有機けい素化合物の
製造方法に関する。
造方法に関し、特に、コンタクトレンズ用のメタクリル
樹脂の強度を向上させることのできるオルガノポリシロ
キサンを、高純度で合成するための有機けい素化合物の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】従来から、酸素透過性を有するハードコン
タクトレンズが広く使用されている。この特性を有する
ハードコンタクトレンズは、例えばシロキサニルメタク
リレート、フッ素メタクリレート、メチルメタクリレー
トなどの各種メタクリレートを共重合させたメタクリル
系樹脂を用いて製造されている。この場合、上記酸素透
過性は、メタアクリロイル基を含有する有機けい素化合
物（例えば、下記化４で表されるシロキサニルメタクリ
レート）を共重合させることによって実現されている。
タクトレンズが広く使用されている。この特性を有する
ハードコンタクトレンズは、例えばシロキサニルメタク
リレート、フッ素メタクリレート、メチルメタクリレー
トなどの各種メタクリレートを共重合させたメタクリル
系樹脂を用いて製造されている。この場合、上記酸素透
過性は、メタアクリロイル基を含有する有機けい素化合
物（例えば、下記化４で表されるシロキサニルメタクリ
レート）を共重合させることによって実現されている。
【化４】
【０００３】一方、コンタクトレンズ用の原料となるメ
タクリル樹脂の強度を向上させる観点から、同一分子中
に（メタ）アクリロイル基を２個有する化合物を架橋剤
として共重合することも一般的に行われている。このよ
うな架橋剤としては、酸素透過性を重視して、下記化５
で表される同一分子中に（メタ）アクリロイル基を２個
有する有機けい素化合物が使用されている。
タクリル樹脂の強度を向上させる観点から、同一分子中
に（メタ）アクリロイル基を２個有する化合物を架橋剤
として共重合することも一般的に行われている。このよ
うな架橋剤としては、酸素透過性を重視して、下記化５
で表される同一分子中に（メタ）アクリロイル基を２個
有する有機けい素化合物が使用されている。
【化５】
【０００４】ところで、コンタクトレンズ用のメタクリ
ル樹脂を製造するに際しては、上記化４及び化５で表さ
れる化合物がそれぞれ別々に添加されずに、通常両者の
混合物として添加されている。これは、上記化４で表さ
れる化合物を製造する際に、同時に上記化５で表される
化合物も副生し、この両者を同時に添加しても、コンタ
クトレンズの性能に影響を及ぼさないためである。
ル樹脂を製造するに際しては、上記化４及び化５で表さ
れる化合物がそれぞれ別々に添加されずに、通常両者の
混合物として添加されている。これは、上記化４で表さ
れる化合物を製造する際に、同時に上記化５で表される
化合物も副生し、この両者を同時に添加しても、コンタ
クトレンズの性能に影響を及ぼさないためである。
【０００５】しかしながら、架橋剤の配合割合は、レン
ズの物性を安定化するために厳密に制御する必要があ
り、かかる観点から、化５で表される化合物のみを選択
的に高純度で得る製造方法が求められていた。また、上
記したように、前記化４及び化５で表される化合物は混
合物の形で得られるが、実際には、更に下記化６で表さ
れるトリメタクリル体も副生される。
ズの物性を安定化するために厳密に制御する必要があ
り、かかる観点から、化５で表される化合物のみを選択
的に高純度で得る製造方法が求められていた。また、上
記したように、前記化４及び化５で表される化合物は混
合物の形で得られるが、実際には、更に下記化６で表さ
れるトリメタクリル体も副生される。
【化６】
【０００６】しかしながら、上記化４、化５及び化６で
表される化合物の中で、蒸留によって単離することが可
能なものは、化４で表される化合物のみであるので、化
５の使用を許容する場合には、化６で表される化合物も
混入することになる。しかしながら、化６で表される化
合物の混入は、レンズ物性のふれの原因となる。そこ
で、化６で表される化合物を含まず、化５で表される高
純度のシリコーン系架橋剤が求められていたが、未だ、
そのための方法は開発されていない。
表される化合物の中で、蒸留によって単離することが可
能なものは、化４で表される化合物のみであるので、化
５の使用を許容する場合には、化６で表される化合物も
混入することになる。しかしながら、化６で表される化
合物の混入は、レンズ物性のふれの原因となる。そこ
で、化６で表される化合物を含まず、化５で表される高
純度のシリコーン系架橋剤が求められていたが、未だ、
そのための方法は開発されていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、前記化
５で表される化合物のみを選択的に得ることのできる方
法を開発すべく鋭意研究した結果、（メタ）アクリロイ
ル基と共にシラノール基を含有する有機けい素化合物を
使用することにより、同一分子中に（メタ）アクリロイ
ル基を２個有するオルガノポリシロキサンを高純度で合
成することができることを見出し、本発明に到達した。
従って本発明の目的は、一分子中に（メタ）アクリロイ
ル基を２個有するオルガノポリシロキサンを高純度で合
成するための、有機けい素化合物の製造方法を提供する
ことにある。
５で表される化合物のみを選択的に得ることのできる方
法を開発すべく鋭意研究した結果、（メタ）アクリロイ
ル基と共にシラノール基を含有する有機けい素化合物を
使用することにより、同一分子中に（メタ）アクリロイ
ル基を２個有するオルガノポリシロキサンを高純度で合
成することができることを見出し、本発明に到達した。
従って本発明の目的は、一分子中に（メタ）アクリロイ
ル基を２個有するオルガノポリシロキサンを高純度で合
成するための、有機けい素化合物の製造方法を提供する
ことにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は、
下記化７で表されるオルガノポリシロキサンの合成方法
であって、下記化８で表されるシラノール含有有機けい
素化合物を反応させることを特徴とする有機けい素化合
物の製造方法によって達成された。
下記化７で表されるオルガノポリシロキサンの合成方法
であって、下記化８で表されるシラノール含有有機けい
素化合物を反応させることを特徴とする有機けい素化合
物の製造方法によって達成された。
【化７】
【化８】
【０００９】化７中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基、Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 は炭素原子数１〜８の１価の有機基又は
−ＯＳｉＲ6 Ｒ7 Ｒ8 で表されるシロキシ基、Ｒ5 、Ｒ
6 、Ｒ7 及びＲ8 は炭素原子数１〜８の１価の有機基、
ｍ及びｎは１〜１２の整数、ａ及びｂは０又は１を表
し、化８式中のＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、ｍ、
ｎ、ａ及びｂは、前記化７のものとすべて同じである。
ここで、Ｒ1 が水素原子の場合にはアクリロイル基、Ｒ
1 がメチル基の場合にはメタクリロイル基であり、いず
れの場合も一般の（メタ）アクリルエステルと同様にラ
ジカル重合が可能である。
2 、Ｒ3 、Ｒ4 は炭素原子数１〜８の１価の有機基又は
−ＯＳｉＲ6 Ｒ7 Ｒ8 で表されるシロキシ基、Ｒ5 、Ｒ
6 、Ｒ7 及びＲ8 は炭素原子数１〜８の１価の有機基、
ｍ及びｎは１〜１２の整数、ａ及びｂは０又は１を表
し、化８式中のＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、ｍ、
ｎ、ａ及びｂは、前記化７のものとすべて同じである。
ここで、Ｒ1 が水素原子の場合にはアクリロイル基、Ｒ
1 がメチル基の場合にはメタクリロイル基であり、いず
れの場合も一般の（メタ）アクリルエステルと同様にラ
ジカル重合が可能である。
【００１０】Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 及び
Ｒ8 の炭素原子数１〜８の１価の有機基としては、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロ
アルキル基、フェニルなどのアリール基、ベンジルなど
のアラルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、クロロメチル基、３，３，３−トリフロロプロピル
基などの置換炭化水素基などが例示される。
Ｒ8 の炭素原子数１〜８の１価の有機基としては、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロ
アルキル基、フェニルなどのアリール基、ベンジルなど
のアラルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、クロロメチル基、３，３，３−トリフロロプロピル
基などの置換炭化水素基などが例示される。
【００１１】Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 のＯＳｉＲ6 Ｒ7 Ｒ8
で表されるシロキシ基としては、トリメチルシロキシ
基、エチルジメチルシロキシ基、フェニルジメチルシロ
キシ基、ビニルジメチルシロキシ基、クロロメチルジメ
チルシロキシ基、３，３，３−トリフロロプロピルジメ
チルシロキシ基などが例示される。Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 及びＲ8 は、それぞれ同一であって
も、異なってもよいが、原料の入手や合成の容易さ等の
観点から、いずれもメチル基であることが好ましい。同
様な理由、及びハードコンタクト用として必要な酸素透
過性等の効果を考慮すると、ｎが３でａが０且つｂが０
のものが最も好ましい。
で表されるシロキシ基としては、トリメチルシロキシ
基、エチルジメチルシロキシ基、フェニルジメチルシロ
キシ基、ビニルジメチルシロキシ基、クロロメチルジメ
チルシロキシ基、３，３，３−トリフロロプロピルジメ
チルシロキシ基などが例示される。Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 及びＲ8 は、それぞれ同一であって
も、異なってもよいが、原料の入手や合成の容易さ等の
観点から、いずれもメチル基であることが好ましい。同
様な理由、及びハードコンタクト用として必要な酸素透
過性等の効果を考慮すると、ｎが３でａが０且つｂが０
のものが最も好ましい。
【００１２】前記化８で表される化合物は、公知の方法
を用いて適宜合成することができるが、特に下記化９の
具体例で表される合成法が副反応が少ないので好まし
い。
を用いて適宜合成することができるが、特に下記化９の
具体例で表される合成法が副反応が少ないので好まし
い。
【化９】 この合成法は、まずγ−メタクリロキシプロピルトリク
ロロシランとトリメチルシラノールとを脱塩酸反応させ
ることによってシロキシ基を導入し、次いで、得られた
クロロシランを加水分解することにより、シラノール基
を一個生成させる方法である。
ロロシランとトリメチルシラノールとを脱塩酸反応させ
ることによってシロキシ基を導入し、次いで、得られた
クロロシランを加水分解することにより、シラノール基
を一個生成させる方法である。
【００１３】この方法では、脱塩酸反応時にトリエチル
アミン等の脱塩酸剤を、トリメチルシラノールに対し、
通常等モル使用する。この反応自体は公知であり、反応
時間、反応温度、反応溶媒、精製法などは特に限定され
るものではない。上記化９で表される反応を行い、得ら
れる粗生成物を蒸留して精製することにより、下記化１
０で表される化合物が９５％以上の純度で得られる。
アミン等の脱塩酸剤を、トリメチルシラノールに対し、
通常等モル使用する。この反応自体は公知であり、反応
時間、反応温度、反応溶媒、精製法などは特に限定され
るものではない。上記化９で表される反応を行い、得ら
れる粗生成物を蒸留して精製することにより、下記化１
０で表される化合物が９５％以上の純度で得られる。
【化１０】
【００１４】化１０で表される化合物中に含まれる不純
物は前記化４で表される化合物であり、γ−メタクリロ
キシプロピルトリクロロシランに３モルのトリメチルシ
ラノールが反応したものである。化４及び化１０で表さ
れる化合物をそれぞれ分離することは困難であるが、加
水分解して化１０の化合物を得るために残すべき最後の
ＳｉＣｌの反応性が、立体障害のために低下するので、
化１０で表される目的化合物が比較的高純度で得られ
る。
物は前記化４で表される化合物であり、γ−メタクリロ
キシプロピルトリクロロシランに３モルのトリメチルシ
ラノールが反応したものである。化４及び化１０で表さ
れる化合物をそれぞれ分離することは困難であるが、加
水分解して化１０の化合物を得るために残すべき最後の
ＳｉＣｌの反応性が、立体障害のために低下するので、
化１０で表される目的化合物が比較的高純度で得られ
る。
【００１５】こうして得られた化１０で表されるシラノ
ール化合物２分子を脱水縮合させることによって、化１
１で表される化合物が得られる。
ール化合物２分子を脱水縮合させることによって、化１
１で表される化合物が得られる。
【化１１】 化１１のシラノールの二分子脱水縮合には、公知の縮合
触媒を適宜選択して使用することができるが、特に錫化
合物、チタン化合物、アルミニウム化合物、アミン化合
物等の中から選択される縮合触媒を使用することが好ま
しい。この脱水縮合反応は、通常、１００℃以上に加熱
することにより進行する。
触媒を適宜選択して使用することができるが、特に錫化
合物、チタン化合物、アルミニウム化合物、アミン化合
物等の中から選択される縮合触媒を使用することが好ま
しい。この脱水縮合反応は、通常、１００℃以上に加熱
することにより進行する。
【００１６】反応時間は、シラノールの立体障害がある
ために、通常、１０時間以上を必要とする。この場合、
化１２で表される化合物が副生するが、これは、更にト
リメチルクロロシランを反応させることにより、化１３
に示した如く、容易に化１１の化合物に変換することが
できる。
ために、通常、１０時間以上を必要とする。この場合、
化１２で表される化合物が副生するが、これは、更にト
リメチルクロロシランを反応させることにより、化１３
に示した如く、容易に化１１の化合物に変換することが
できる。
【化１２】
【化１３】
【００１７】また、化１０で表されるシラノールを、下
記化１４に示す如くクロロシランと脱塩酸反応させるこ
とにより、化１１で表される本発明の化合物を得ること
もできる。
記化１４に示す如くクロロシランと脱塩酸反応させるこ
とにより、化１１で表される本発明の化合物を得ること
もできる。
【化１４】 この反応における、化１０で表される化合物とγ−メタ
クリロキシプロピルトリクロロシランとの反応は、化１
０で表される化合物中のシラノール基の立体障害のため
に選択性が良いので、γ−メタクリロキシプロピルトリ
クロロシランに対して化１０で表される化合物が２分子
反応した副生物は生成しない。
クリロキシプロピルトリクロロシランとの反応は、化１
０で表される化合物中のシラノール基の立体障害のため
に選択性が良いので、γ−メタクリロキシプロピルトリ
クロロシランに対して化１０で表される化合物が２分子
反応した副生物は生成しない。
【００１８】そこで、残った２個の珪素原子に結合する
塩素原子にトリメチルシラノールを反応させて、目的物
である化１１で表される化合物が得ることができる。反
応が完結せず、前記化１２で表される化合物が残存する
場合には、更に前記化１３で表される反応を行わせるこ
とにより、化１１で表される高純度の化合物が得られ
る。
塩素原子にトリメチルシラノールを反応させて、目的物
である化１１で表される化合物が得ることができる。反
応が完結せず、前記化１２で表される化合物が残存する
場合には、更に前記化１３で表される反応を行わせるこ
とにより、化１１で表される高純度の化合物が得られ
る。
【００１９】化１１で表される化合物は、下記化１５で
表される反応により一段で得ることも可能であるが、反
応するシラノール及びクロロシランの立体障害が共に大
きいため、反応に長時間を要し、反応が完結しずらいの
で、好ましい反応とは言えない。
表される反応により一段で得ることも可能であるが、反
応するシラノール及びクロロシランの立体障害が共に大
きいため、反応に長時間を要し、反応が完結しずらいの
で、好ましい反応とは言えない。
【化１５】
【００２０】前記化１４で表される反応では、原料とな
る化１０で表される化合物とγ−メタクリロキシプロピ
ルトリクロロシランの反応モル比が厳密に等モルに制御
される必要がある。反応モル比が等モルでないと、それ
に伴って化４で表される化合物の副生が増大する。化１
４の反応における反応温度は−２０℃〜１５０℃の範囲
であり、特に０℃〜８０℃の範囲であることが好まし
い。この反応に際しては、脱塩酸剤をシラノールに対し
て等モル以上使用することが必要である。
る化１０で表される化合物とγ−メタクリロキシプロピ
ルトリクロロシランの反応モル比が厳密に等モルに制御
される必要がある。反応モル比が等モルでないと、それ
に伴って化４で表される化合物の副生が増大する。化１
４の反応における反応温度は−２０℃〜１５０℃の範囲
であり、特に０℃〜８０℃の範囲であることが好まし
い。この反応に際しては、脱塩酸剤をシラノールに対し
て等モル以上使用することが必要である。
【００２１】脱塩酸剤としては、トリエチルアミン、ピ
リジンなどの第３級アミンが通常使用されるが、尿素な
どを使用することもできる。また、この反応では、副生
アミンの塩酸塩が嵩ばるので、溶媒を使用することが好
ましい。この場合の溶媒としては、活性水素を持たない
ものを使用することが重要であり、例えばトルエン、キ
シレン、ヘキサン、四塩化炭素、酢酸エチル、ジブチル
エーテル等が好適に使用される。
リジンなどの第３級アミンが通常使用されるが、尿素な
どを使用することもできる。また、この反応では、副生
アミンの塩酸塩が嵩ばるので、溶媒を使用することが好
ましい。この場合の溶媒としては、活性水素を持たない
ものを使用することが重要であり、例えばトルエン、キ
シレン、ヘキサン、四塩化炭素、酢酸エチル、ジブチル
エーテル等が好適に使用される。
【００２２】化１０で表される化合物とγ−メタクリロ
キシプロピルトリクロロシランを反応させた後の反応液
に対するトリメチルシラノールの添加モル数は、化１０
で表される化合物１モルに対して２倍モル以上必要であ
るが、反応を有効に進行させること及び試剤の経済性の
観点から、２．２〜３．０倍モル程度の反応モル比でト
リメチルシラノールを使用することが好ましい。反応温
度は０℃〜８０℃の範囲であることが好ましく、反応時
間は５時間前後で十分である。
キシプロピルトリクロロシランを反応させた後の反応液
に対するトリメチルシラノールの添加モル数は、化１０
で表される化合物１モルに対して２倍モル以上必要であ
るが、反応を有効に進行させること及び試剤の経済性の
観点から、２．２〜３．０倍モル程度の反応モル比でト
リメチルシラノールを使用することが好ましい。反応温
度は０℃〜８０℃の範囲であることが好ましく、反応時
間は５時間前後で十分である。
【００２３】反応原液を水洗、脱水した後、前記化１２
で表される化合物が不純物として残存する場合には、残
存する化１２の化合物に対して過剰なモル数のトリメチ
ルクロロシランをアミンの存在下で反応させて、不純物
のシラノールを目的物のシロキサンに誘導する。この反
応も前述した条件で行うことが好ましい。こうして純度
９０％以上の、（メタ）アクリロイル基を一分子中に２
個以上有する有機けい素化合物が得られる。
で表される化合物が不純物として残存する場合には、残
存する化１２の化合物に対して過剰なモル数のトリメチ
ルクロロシランをアミンの存在下で反応させて、不純物
のシラノールを目的物のシロキサンに誘導する。この反
応も前述した条件で行うことが好ましい。こうして純度
９０％以上の、（メタ）アクリロイル基を一分子中に２
個以上有する有機けい素化合物が得られる。
【００２４】
【発明の効果】本発明の有機けい素化合物の製造方法
は、一分子中に一個の（メタ）アクリロイル基とシラノ
ール基をそれぞれ含有する有機けい素化合物を用いるの
で、一分子中に（メタ）アクリロイル基を２個有するオ
ルガノポリシロキサンを高純度で合成することができ
る。また、本発明によって得られた有機けい素化合物を
架橋剤として使用した場合には得られるコンタクトレン
ズの性能が安定化するので、再現性良く、性能特性の均
一なコンタクトレンズを製造することができる。
は、一分子中に一個の（メタ）アクリロイル基とシラノ
ール基をそれぞれ含有する有機けい素化合物を用いるの
で、一分子中に（メタ）アクリロイル基を２個有するオ
ルガノポリシロキサンを高純度で合成することができ
る。また、本発明によって得られた有機けい素化合物を
架橋剤として使用した場合には得られるコンタクトレン
ズの性能が安定化するので、再現性良く、性能特性の均
一なコンタクトレンズを製造することができる。
【００２５】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００２６】実施例１．γ−メタクリロキシプロピルト
リクロロシラン７８．５ｇ（０．３モル）、トルエン３
５０ｇ及びジｔ−ブチルヒドロキシトルエン０．０８ｇ
を容量が２リットルのフラスコに仕込み、次いでトリエ
チルアミン９５．５ｇ（０．９５モル）を室温で投入し
た。次に、前記化１０で表されるシラノール含有メタク
リルシロキサン〔ｂ．ｐ．１０３℃〜１１０℃／０．０
３Ｔｏｒｒ、ガスクロ純度９７％、不純物としての化４
で表される化合物：３％〕１０５ｇ（０．３モル）を、
室温で攪拌しながら３０分かけて滴下した後、６０℃で
２時間熟成した。
リクロロシラン７８．５ｇ（０．３モル）、トルエン３
５０ｇ及びジｔ−ブチルヒドロキシトルエン０．０８ｇ
を容量が２リットルのフラスコに仕込み、次いでトリエ
チルアミン９５．５ｇ（０．９５モル）を室温で投入し
た。次に、前記化１０で表されるシラノール含有メタク
リルシロキサン〔ｂ．ｐ．１０３℃〜１１０℃／０．０
３Ｔｏｒｒ、ガスクロ純度９７％、不純物としての化４
で表される化合物：３％〕１０５ｇ（０．３モル）を、
室温で攪拌しながら３０分かけて滴下した後、６０℃で
２時間熟成した。
【００２７】熟成した後、トリメチルシラノール７２ｇ
（０．８モル）を３０分かけて滴下し、６０℃で５時
間、再度熟成した。次に、室温で水を投入して、有機層
を水洗し、二層分離した有機層のみを採取してトリエチ
ルアミン塩酸塩を除去した。得られた有機層をストリッ
プ処理することにより、目的物である前記化１１で表さ
れる化合物を得た。得られた化合物をガスクロマトグラ
フィー及びＧＰＣで分析したところ、その純度は９３％
であり、不純物である前記化４で表される化合物が５％
及び目的物以外の高分子が２％含まれていた。
（０．８モル）を３０分かけて滴下し、６０℃で５時
間、再度熟成した。次に、室温で水を投入して、有機層
を水洗し、二層分離した有機層のみを採取してトリエチ
ルアミン塩酸塩を除去した。得られた有機層をストリッ
プ処理することにより、目的物である前記化１１で表さ
れる化合物を得た。得られた化合物をガスクロマトグラ
フィー及びＧＰＣで分析したところ、その純度は９３％
であり、不純物である前記化４で表される化合物が５％
及び目的物以外の高分子が２％含まれていた。
【００２８】実施例２．実施例１で用いたトリメチルシ
ラノールに代えてトリエチルシラノールを用いた他は、
実施例１と全く同様にして目的物の化合物を得た。得ら
れた化合物をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、シラノール基を含んでいたので、再度、得られたシ
ラノール含有化合物７８．５ｇ、トルエン３５０ｇ及び
ジｔ−ブチルヒドロキシトルエン０．０８ｇをフラスコ
に投入し、次いでトリエチルアミン５１ｇ（０．５モ
ル）を投入した後、室温で、トリエチルクロロシラン６
７．５ｇ（０．４５モル）を３０分かけて滴下した。６
０℃で５時間熟成した後、実施例１と同様に水洗し、ス
トリップ処理することにより、目的とする化合物を得
た。この化合物をガスクロマトグラフ及びＧＰＣにかけ
たところ、その純度は９１％であった。
ラノールに代えてトリエチルシラノールを用いた他は、
実施例１と全く同様にして目的物の化合物を得た。得ら
れた化合物をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、シラノール基を含んでいたので、再度、得られたシ
ラノール含有化合物７８．５ｇ、トルエン３５０ｇ及び
ジｔ−ブチルヒドロキシトルエン０．０８ｇをフラスコ
に投入し、次いでトリエチルアミン５１ｇ（０．５モ
ル）を投入した後、室温で、トリエチルクロロシラン６
７．５ｇ（０．４５モル）を３０分かけて滴下した。６
０℃で５時間熟成した後、実施例１と同様に水洗し、ス
トリップ処理することにより、目的とする化合物を得
た。この化合物をガスクロマトグラフ及びＧＰＣにかけ
たところ、その純度は９１％であった。
【００２９】実施例３．化１０で表されるシラノール含
有メタクリルシロキサン１００ｇ（０．２９モル）、ト
ルエン１００ｇ、ジ−ｔ−ブチルヒドロキシトルエン
０．２ｇ及びＡｌＣｌ3 ・６Ｈ2 Ｏ１ｇをフラスコに投
入し、エステルアダプターを付けて攪拌しながらトルエ
ンを還流し、１２時間反応させた。得られた反応液を水
洗してストリップ処理し、ガスクロマトグラフィーで分
析したところ、前記化１２で表されるシラノール体が残
存していた。
有メタクリルシロキサン１００ｇ（０．２９モル）、ト
ルエン１００ｇ、ジ−ｔ−ブチルヒドロキシトルエン
０．２ｇ及びＡｌＣｌ3 ・６Ｈ2 Ｏ１ｇをフラスコに投
入し、エステルアダプターを付けて攪拌しながらトルエ
ンを還流し、１２時間反応させた。得られた反応液を水
洗してストリップ処理し、ガスクロマトグラフィーで分
析したところ、前記化１２で表されるシラノール体が残
存していた。
【００３０】そこで、反応液に対して、トリメチルクロ
ロシラン２３ｇ（０．２１モル）及びトリエチルアミン
２３ｇ（０．２３モル）を加えて６０℃で２時間反応さ
せ、実施例１と同様な後処理を行い、目的とする化合物
を得た（前記化１３の反応）。この化合物をガスクロマ
トグラフィー及びＧＰＣで分析したところ、その純度は
９０％であった。また不純物である前記化４で表される
化合物は６％、目的物以外の高分子は４％であった。
ロシラン２３ｇ（０．２１モル）及びトリエチルアミン
２３ｇ（０．２３モル）を加えて６０℃で２時間反応さ
せ、実施例１と同様な後処理を行い、目的とする化合物
を得た（前記化１３の反応）。この化合物をガスクロマ
トグラフィー及びＧＰＣで分析したところ、その純度は
９０％であった。また不純物である前記化４で表される
化合物は６％、目的物以外の高分子は４％であった。
【００３１】比較例１．γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン２５ｇ（０．１モル）及びトリメチル
クロロシラン５４ｇ（０．５モル）を混合してシラン混
合液を得た。次に、滴下ロート、冷却管、温度計及び攪
拌装置を備えたフラスコに水２００ｍｌ、メタノール１
００ｍｌ、トルエン１００ｍｌ、触媒として濃塩酸１７
ｇを投入し、攪拌しながら冷却し、反応液を２０℃以下
に保ちながら、シラン混合液を滴下した。
リメトキシシラン２５ｇ（０．１モル）及びトリメチル
クロロシラン５４ｇ（０．５モル）を混合してシラン混
合液を得た。次に、滴下ロート、冷却管、温度計及び攪
拌装置を備えたフラスコに水２００ｍｌ、メタノール１
００ｍｌ、トルエン１００ｍｌ、触媒として濃塩酸１７
ｇを投入し、攪拌しながら冷却し、反応液を２０℃以下
に保ちながら、シラン混合液を滴下した。
【００３２】得られた反応液を室温で２時間熟成し、水
層を分離した後、有機層を中性になるまで洗浄し、次い
で溶媒を留去することにより、シロキサン混合物を得
た。得られたシロキサン化合物をガスクロマトグラフィ
ー及びＧＰＣで分析したところ、前記化４で表される化
合物が８２％であり、目的とする前記化１１の化合物は
１５％しか得られなかった。また、前記化６で表される
化合物も３％生成していた。
層を分離した後、有機層を中性になるまで洗浄し、次い
で溶媒を留去することにより、シロキサン混合物を得
た。得られたシロキサン化合物をガスクロマトグラフィ
ー及びＧＰＣで分析したところ、前記化４で表される化
合物が８２％であり、目的とする前記化１１の化合物は
１５％しか得られなかった。また、前記化６で表される
化合物も３％生成していた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 信行 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社 シリコーン電 子材料技術研究所 内 (56)参考文献 特開 平５−178998（ＪＰ，Ａ) 特表 昭62−500176（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 7/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】下記化１で表されるオルガノポリシロキサ
ンの合成方法であって、下記化２で表されるシラノール
含有有機けい素化合物を反応させることを特徴とする有
機けい素化合物の製造方法。 【化１】 【化２】 化１中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
4 は炭素原子数１〜８の１価の有機基又は−ＯＳｉＲ6
Ｒ7 Ｒ8 で表されるシロキシ基、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 及び
Ｒ8 は炭素原子数１〜８の１価の有機基、ｍ及びｎは１
〜１２の整数、ａ及びｂは０又は１を表し、化２式中
の、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、ｍ、ｎ、ａ及びｂ
は化１中のものとすべて同じである。 - 【請求項２】化２で表されるシラノール含有有機けい素
化合物２分子を脱水縮合する、請求項１に記載の有機け
い素化合物の製造方法。 - 【請求項３】化２のシラノール含有有機けい素化合物
を、脱塩酸剤の存在下に化３で表されるクロロシランと
反応させ、次いでＲ2 Ｒ3 Ｒ4 ＳｉＯＨと反応させる、
請求項１に記載の有機けい素化合物の製造方法。 【化３】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2472794A JP2880903B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 有機けい素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2472794A JP2880903B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 有機けい素化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07215984A JPH07215984A (ja) | 1995-08-15 |
| JP2880903B2 true JP2880903B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=12146194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2472794A Expired - Fee Related JP2880903B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 有機けい素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2880903B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6434388B2 (ja) * | 2015-10-09 | 2018-12-05 | 信越化学工業株式会社 | モノ官能性分岐型オルガノシロキサン化合物及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-01-27 JP JP2472794A patent/JP2880903B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07215984A (ja) | 1995-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4742212B2 (ja) | シルセスキオキサン誘導体の製造方法およびシルセスキオキサン誘導体 | |
| JPH06792B2 (ja) | 水素シロキサンの製造方法 | |
| JP2869304B2 (ja) | シラノール基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP3690689B2 (ja) | 有機けい素化合物 | |
| JPH1087674A (ja) | 環状シランエステルおよびそのソルボリシス生成物の製造方法、環状オルガノシランエステルの製造方法、こうして得られた化合物およびその加水分解生成物およびアルコーリシス生成物、これからなる架橋剤および接着剤、相媒介剤、およびエステル基を有するポリマー材料の変性剤 | |
| JPH0632902A (ja) | 分子鎖末端に水酸基を有する直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP2880903B2 (ja) | 有機けい素化合物の製造方法 | |
| JPH07247294A (ja) | ケチミン構造含有有機けい素化合物の製造方法 | |
| JP2598340B2 (ja) | 水素シロキサンの製造方法 | |
| JP3493934B2 (ja) | Ｎ，ｎ−ビス（トリメチルシリル）アリルアミンの製造方法 | |
| JP4178369B2 (ja) | シリル（メタ）アクリレート化合物の製造方法 | |
| US5777145A (en) | Removal of chlorocarbons from organochlorosilanes | |
| JP4009340B2 (ja) | アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP2501064B2 (ja) | 有機けい素化合物 | |
| JPS62153322A (ja) | 末端ジヒドロオルガノシロキサンの製造方法 | |
| JP3915883B2 (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
| JP2767182B2 (ja) | （メタ）アクリル基含有オルガノシロキサンの製造方法 | |
| JP2625604B2 (ja) | 含フッ素有機けい素化合物 | |
| JPS6155516B2 (ja) | ||
| JP2774362B2 (ja) | ジ（メタ）アクリロキシアルキル基を有するシロキサン化合物 | |
| JP2688469B2 (ja) | （メタ）アクリル官能基含有有機けい素化合物の製造方法 | |
| JPS63253090A (ja) | トリメチルシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレ−ト | |
| JP2668496B2 (ja) | ケイ素系粉末物質の新規な製造方法 | |
| JP3124910B2 (ja) | シクロトリシロキサン及びその製造方法 | |
| JPH06107671A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080129 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090129 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |