JP2732849B2 - 干渉測長器 - Google Patents
干渉測長器Info
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- JP2732849B2 JP2732849B2 JP63067477A JP6747788A JP2732849B2 JP 2732849 B2 JP2732849 B2 JP 2732849B2 JP 63067477 A JP63067477 A JP 63067477A JP 6747788 A JP6747788 A JP 6747788A JP 2732849 B2 JP2732849 B2 JP 2732849B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、光源から放出された一部時間的コヒーレ
ンスのある電磁波を光ビームスプリッタにより基準通路
に沿って通過する基準波と試験体に集束する測定波とに
分離し、試験体で反射した光ビームを前記基準波と干渉
させて絶対距離を測定する干渉測長器に関する。
ンスのある電磁波を光ビームスプリッタにより基準通路
に沿って通過する基準波と試験体に集束する測定波とに
分離し、試験体で反射した光ビームを前記基準波と干渉
させて絶対距離を測定する干渉測長器に関する。
[従来の技術] 変調光束を出射する発光器と、目標で反射される光束
を受光し、放出された光束と比較する、例えば発光器の
位置にある受光器を有する光電測長装置が知られてい
る。これに応じた両方の信号の間の比較操作結果は、発
光器と反射した目標の間の距離を算出するために使用さ
れる。この種の方法とその装置は、一般に走行時間測定
や発光信号と受光信号の間の位相較原理に基づいてい
る。このような方法と装置は、種々の誤差の影響、特に
位相誤差を排除するため、近年種々の改良が成されてい
るが、測定精度は大体十分の数ミリに制限されている。
を受光し、放出された光束と比較する、例えば発光器の
位置にある受光器を有する光電測長装置が知られてい
る。これに応じた両方の信号の間の比較操作結果は、発
光器と反射した目標の間の距離を算出するために使用さ
れる。この種の方法とその装置は、一般に走行時間測定
や発光信号と受光信号の間の位相較原理に基づいてい
る。このような方法と装置は、種々の誤差の影響、特に
位相誤差を排除するため、近年種々の改良が成されてい
るが、測定精度は大体十分の数ミリに制限されている。
機械部品や構造部品を正確に調べるため、例えば産業
用の測定装置を使用するなら、測定精度をμmの範囲に
する必要がある。この範囲では基本的に干渉比較計が適
切であるが、実際に使用するには相当不利である。つま
り、光源に対して特に可干渉性を高くする要請があり、
これが高価な部品の原因となり、機械構造の高安定性と
それに伴う経費を必要とする。更に、干渉比較計は1周
波数系を使用する場合、比較測定ができるだけで、絶対
測定ができないかあるいは絶対測定に多数の異なる周波
数を必要とする。これ等の制約は、全体として測定装置
の組立部品や構造に対して、大量生産のコストが、例え
ば産業製造設備にそのような装置を採用することを妨げ
るほど高度な要求となることを意味する。
用の測定装置を使用するなら、測定精度をμmの範囲に
する必要がある。この範囲では基本的に干渉比較計が適
切であるが、実際に使用するには相当不利である。つま
り、光源に対して特に可干渉性を高くする要請があり、
これが高価な部品の原因となり、機械構造の高安定性と
それに伴う経費を必要とする。更に、干渉比較計は1周
波数系を使用する場合、比較測定ができるだけで、絶対
測定ができないかあるいは絶対測定に多数の異なる周波
数を必要とする。これ等の制約は、全体として測定装置
の組立部品や構造に対して、大量生産のコストが、例え
ば産業製造設備にそのような装置を採用することを妨げ
るほど高度な要求となることを意味する。
[発明の課題] この発明の課題は、できる限り広い距離範囲に適し、
それにも係わらず測定精度がμmの範囲にある測長器を
提供することにある。更に、できる限り市販されている
簡単な部品を利用でき、装置を低価格で製造でき、例え
ば製造設備中に大量に採用できるべきである。
それにも係わらず測定精度がμmの範囲にある測長器を
提供することにある。更に、できる限り市販されている
簡単な部品を利用でき、装置を低価格で製造でき、例え
ば製造設備中に大量に採用できるべきである。
[課題を解決する手段] 上記の課題は、この発明により、 一部時間的コヒーレンスのある平均波長λの電磁波用
の光源1, 光波を測定波Aと基準波Bに分離するズームスプリッ
タ2, 位置に敏感な検出器7および、 検出器7上の強度分布の最大値の位置を求める信号処
理装置10, を備え、 測定波Aが目標4に入射し、この目標4から一部反射
して検出器7の法線に対して第一角度αで検出器7に入
射し、ビームスプリッタ2から検出器7まで測定距離R1
を進み、 基準波Bが検出器7の法線に対して第二角度βで検出
器7に入射し、ビームスプリッタ2から検出器7まで測
定距離R1とほぼ等しい基準距離R2を進み、 検出器7上の広さが波長λの整数倍となる領域で測定
波Aと基準波Bが重畳して干渉し、 測定波Aと基準波Bに時間的コヒーレンスが一部あれ
ば、測定距離R1と基準距離R2の間の光路差が零で最大強
度の干渉縞を発生し、光路差が増大すると共に他の干渉
縞の強度が零に低下する強度を有することを利用する、 測長器によって解決されている。
の光源1, 光波を測定波Aと基準波Bに分離するズームスプリッ
タ2, 位置に敏感な検出器7および、 検出器7上の強度分布の最大値の位置を求める信号処
理装置10, を備え、 測定波Aが目標4に入射し、この目標4から一部反射
して検出器7の法線に対して第一角度αで検出器7に入
射し、ビームスプリッタ2から検出器7まで測定距離R1
を進み、 基準波Bが検出器7の法線に対して第二角度βで検出
器7に入射し、ビームスプリッタ2から検出器7まで測
定距離R1とほぼ等しい基準距離R2を進み、 検出器7上の広さが波長λの整数倍となる領域で測定
波Aと基準波Bが重畳して干渉し、 測定波Aと基準波Bに時間的コヒーレンスが一部あれ
ば、測定距離R1と基準距離R2の間の光路差が零で最大強
度の干渉縞を発生し、光路差が増大すると共に他の干渉
縞の強度が零に低下する強度を有することを利用する、 測長器によって解決されている。
この発明による他の有利な構成は、特許請求の範囲の
従属請求項に記載されている。
従属請求項に記載されている。
[効果と作用] 上記の装置の重要な利点は、単純で低価格な部品を特
に効果的に使用でき、測定精度をμmの範囲まで任意に
選択できる可能性にある。測定の演算評価は、電算機と
その評価プログラムを利用して自動的に行える。対象と
する目標は特に大きな反射率を有する必要はない。何故
なら、この系から得られるS/N比が今まで知られている
装置の値より相当大きいからである。測定処理が非常に
早く行われるので、測定結果はほぼ直接的で時間の遅れ
がない。
に効果的に使用でき、測定精度をμmの範囲まで任意に
選択できる可能性にある。測定の演算評価は、電算機と
その評価プログラムを利用して自動的に行える。対象と
する目標は特に大きな反射率を有する必要はない。何故
なら、この系から得られるS/N比が今まで知られている
装置の値より相当大きいからである。測定処理が非常に
早く行われるので、測定結果はほぼ直接的で時間の遅れ
がない。
この発明は以下の知識を前提としている。つまり、ヤ
ングの二重間隔実験で生じる一定強度の干渉縞は、重な
った二つの光の可干渉距離が制限されると、二つの光の
光路差が零の時、最大強度の干渉縞を有し、光路差の増
加で強度が減少する干渉縞に変化する。これは光源の時
間的コヒーレンスに制限あることと同等である。
ングの二重間隔実験で生じる一定強度の干渉縞は、重な
った二つの光の可干渉距離が制限されると、二つの光の
光路差が零の時、最大強度の干渉縞を有し、光路差の増
加で強度が減少する干渉縞に変化する。これは光源の時
間的コヒーレンスに制限あることと同等である。
[実施例] 以下、図面を参照し好適実施例に基づきこの発明をよ
り詳しく説明する。
り詳しく説明する。
第1図には干渉計をベースにした測長器が模式的に示
してある。平均波長λが可視領域または赤外領域の光を
発生する光源1が使用されている。この例では、一部時
間的コヒーレンスのあるビームを与える多重モードレー
ザーダイオードを使用する。この光源1から放出された
光はビームスプリッタ2中で測定波Aと基準波Bに分離
される。測定波Aは対物レンズ3により目標4の上に集
束し、この目標から光が反射され、光集束レンズ5に導
入される。次いで、この戻りの光は回折格子6により、
その後ろにあるp−i−nダイオードアレー7上に入射
する。
してある。平均波長λが可視領域または赤外領域の光を
発生する光源1が使用されている。この例では、一部時
間的コヒーレンスのあるビームを与える多重モードレー
ザーダイオードを使用する。この光源1から放出された
光はビームスプリッタ2中で測定波Aと基準波Bに分離
される。測定波Aは対物レンズ3により目標4の上に集
束し、この目標から光が反射され、光集束レンズ5に導
入される。次いで、この戻りの光は回折格子6により、
その後ろにあるp−i−nダイオードアレー7上に入射
する。
ダイオードアレー7中ではアレー表面上の像の光電走
査が行われる。この好適実施例では、基準波Bは調節可
能な多重反射器8と、次に鏡9を通過し、この鏡から同
じように回折格子6と光ダイオードアレー7に達する。
このダイオードアレー中では基準波Bが目標4から反射
した測定波A′と重なる。鏡9は振動ミラーで形成さ
れ、この例では振動の振幅は1μmの程度である。
査が行われる。この好適実施例では、基準波Bは調節可
能な多重反射器8と、次に鏡9を通過し、この鏡から同
じように回折格子6と光ダイオードアレー7に達する。
このダイオードアレー中では基準波Bが目標4から反射
した測定波A′と重なる。鏡9は振動ミラーで形成さ
れ、この例では振動の振幅は1μmの程度である。
多重反射体8としては、多重鏡装置あるいは他の適当
な中空共振器、例えばガラス繊維装置で代用されるもの
を使用できる。使用する部品は全て単純で、低価格の光
学部品である。
な中空共振器、例えばガラス繊維装置で代用されるもの
を使用できる。使用する部品は全て単純で、低価格の光
学部品である。
第2図は測定過程を理解するため第1図の装置の原理
を単純化して示す。第2図はこの装置の主要部品を示す
もので、光源1,ビームスプリッタ2,基準波Bの通過する
鏡9を伴う基準通路L1.L1′,および測定波Aの通過す
る鏡として示す目標4を伴う測定通路L2.L2′から成
る。上部にある回折格子6を有するダイオードアレー7
は第2図ではスクリーンSで示してある。Lを光源1と
ビームスプリッタ2の間の距離とすると、基準通路R1は
距離の和L+L1+L1′となる。測定通路R2はR2=L+L2
+L2′である。両方の波A,BがスクリーンS上で重なる
と、スクリーン表面上の点Xの電界は基準波と測定波の
二つの部分電界で形成される。得られる電界は光源1の
スペクトルと基準通路R1や測定通路R2の長さに依存す
る。
を単純化して示す。第2図はこの装置の主要部品を示す
もので、光源1,ビームスプリッタ2,基準波Bの通過する
鏡9を伴う基準通路L1.L1′,および測定波Aの通過す
る鏡として示す目標4を伴う測定通路L2.L2′から成
る。上部にある回折格子6を有するダイオードアレー7
は第2図ではスクリーンSで示してある。Lを光源1と
ビームスプリッタ2の間の距離とすると、基準通路R1は
距離の和L+L1+L1′となる。測定通路R2はR2=L+L2
+L2′である。両方の波A,BがスクリーンS上で重なる
と、スクリーン表面上の点Xの電界は基準波と測定波の
二つの部分電界で形成される。得られる電界は光源1の
スペクトルと基準通路R1や測定通路R2の長さに依存す
る。
スクリーンS上の点Xでの光強度は二つの部分電界の
和の値の二乗平均に比例する。この場合、基準通路R2と
測定通路R1の光路差はスクリーンS上の位置Xに依存す
る。
和の値の二乗平均に比例する。この場合、基準通路R2と
測定通路R1の光路差はスクリーンS上の位置Xに依存す
る。
こうして、干渉縞が生じる。スクリーンS上の個々の
干渉縞の間の間隔は使用する光源1の波長λと、基準波
Bと測定波AがスクリーンSに入射する角度αとβに依
存する。干渉縞の間隔dはd=λ/(sinα−sinβ)で
ある。ここでλは波長で、αとβはスクリーンの法線と
測定波Aおよび基準波Bの伝播方向との間の角度であ
る。dの値はμmの範囲内にある。
干渉縞の間の間隔は使用する光源1の波長λと、基準波
Bと測定波AがスクリーンSに入射する角度αとβに依
存する。干渉縞の間隔dはd=λ/(sinα−sinβ)で
ある。ここでλは波長で、αとβはスクリーンの法線と
測定波Aおよび基準波Bの伝播方向との間の角度であ
る。dの値はμmの範囲内にある。
干渉光AとBは一部時間的コヒーレンスのある波であ
るから、干渉縞の変調振幅は検出器7上で一定ではな
い。
るから、干渉縞の変調振幅は検出器7上で一定ではな
い。
この光学装置は、光源1が検出器7の上で分離される
ことがなく、基準波と測定波が平面波で表されるように
選択される。
ことがなく、基準波と測定波が平面波で表されるように
選択される。
偏光面が紙面に垂直であり、光源から放出される電磁
波の角周波数ωのスペクトル分布|g(ω)|が平均波長
λに対応する角周波数ω0の周りでほぼ対称であると言
う簡単な条件の下で、周知な数学的な考察により、検出
器7に生じる干渉縞の変調振幅またはコントラスが、 に比例することになる。ここで、cは光の速度である。
しかし、一般には上記条件は装置の機能にとって重要で
ない。
波の角周波数ωのスペクトル分布|g(ω)|が平均波長
λに対応する角周波数ω0の周りでほぼ対称であると言
う簡単な条件の下で、周知な数学的な考察により、検出
器7に生じる干渉縞の変調振幅またはコントラスが、 に比例することになる。ここで、cは光の速度である。
しかし、一般には上記条件は装置の機能にとって重要で
ない。
検出器7の位置に敏感な方向に一致するX軸に沿った
強度分布I(X)に対して上記条件の下で、 となる。ここでIRとIMはそれぞれ基準波Bと測定波Aの
強度成分である。
強度分布I(X)に対して上記条件の下で、 となる。ここでIRとIMはそれぞれ基準波Bと測定波Aの
強度成分である。
第3図は位置Xに依存するそのような強度分布I
(X)を例として示す。包絡線G(X)はこの場合に使
用される測定判定基準であり、この包絡線はR1=R2とな
る点X0の周りで対称に分布している。
(X)を例として示す。包絡線G(X)はこの場合に使
用される測定判定基準であり、この包絡線はR1=R2とな
る点X0の周りで対称に分布している。
第4図は第1図の測定装置のスクリーンS上に現れる
実際の像を示す。強度の縞の形の干渉図形と見なせ、包
絡線G(X)の最大値が最大コントラスの線条を示し、
この例ではその線条がX0の中心にある。包絡線G(X)
の幅Wはω0に比例し、使用する光源1の相対スペクト
ル幅に逆比例する。Wの代表的な値は十分の数ミリであ
る。
実際の像を示す。強度の縞の形の干渉図形と見なせ、包
絡線G(X)の最大値が最大コントラスの線条を示し、
この例ではその線条がX0の中心にある。包絡線G(X)
の幅Wはω0に比例し、使用する光源1の相対スペクト
ル幅に逆比例する。Wの代表的な値は十分の数ミリであ
る。
第2図の原理図中で目標4が移動すると、スクリーン
S上でコントラストの最大値も変位する。従って、スク
リーンS上の強度の線条のコントラスの最大値の位置X
から目標4の位置を推定できる。ここに第1図の装置に
よる測長原理がある。コントラストの最大値の位置の決
定はダイオードアレーから出力される信号をプログラム
制御された評価により自動的に行われる。
S上でコントラストの最大値も変位する。従って、スク
リーンS上の強度の線条のコントラスの最大値の位置X
から目標4の位置を推定できる。ここに第1図の装置に
よる測長原理がある。コントラストの最大値の位置の決
定はダイオードアレーから出力される信号をプログラム
制御された評価により自動的に行われる。
実際の干渉縞はこれを検出するのにμm領域の検出器
7の分解能を必要とし、μm領域の干渉縞の間隔dが周
期的に繰り返しているが、包絡線G(X)は十分の数ミ
リの幅Wで非常に簡単に検出できる。
7の分解能を必要とし、μm領域の干渉縞の間隔dが周
期的に繰り返しているが、包絡線G(X)は十分の数ミ
リの幅Wで非常に簡単に検出できる。
検出器7上の位置検出を更に改良するには、以下の制
御処理が使用される。
御処理が使用される。
この発明によれば検出器7の前に格子定数が干渉縞の
間隔dに等しい第1図の回折格子6を置き、更に鏡9を
周期的に振動させると、回折格子6の後ろ、即ちダイオ
ードアレー7上で包絡線G(X)に比例する強度変化が
生じる。この交番強度信号を検出器7で検出し、後続す
る信号処理装置10中で主にプログラム制御により評価す
る。
間隔dに等しい第1図の回折格子6を置き、更に鏡9を
周期的に振動させると、回折格子6の後ろ、即ちダイオ
ードアレー7上で包絡線G(X)に比例する強度変化が
生じる。この交番強度信号を検出器7で検出し、後続す
る信号処理装置10中で主にプログラム制御により評価す
る。
前に説明した装置では、目標が動くと、有効信号の帯
域幅が広くなり、これが検出感度の損失を与える。この
現象は、例えば第5A図に示すように基準波Bが周波数偏
移素子33,34により値Δfほど周波数をシフトする二つ
の部分に分割されると排除できる。反射した測定波Aも
同じように分割し、異なる二つの検出器31,32上で、上
に説明したように、これ等の分割波を重ねる。二つの検
出器31,32の信号を混合し、混合信号の値Δfの周りの
狭い周波数範囲の成分のみ測定する。この成分の振幅は
包絡線G(X)の二乗に比例し、再び測長に使用でき
る。この検出原理には、目標が移動する時に必要な帯域
幅を係数k・Wほど狭める利点がある。
域幅が広くなり、これが検出感度の損失を与える。この
現象は、例えば第5A図に示すように基準波Bが周波数偏
移素子33,34により値Δfほど周波数をシフトする二つ
の部分に分割されると排除できる。反射した測定波Aも
同じように分割し、異なる二つの検出器31,32上で、上
に説明したように、これ等の分割波を重ねる。二つの検
出器31,32の信号を混合し、混合信号の値Δfの周りの
狭い周波数範囲の成分のみ測定する。この成分の振幅は
包絡線G(X)の二乗に比例し、再び測長に使用でき
る。この検出原理には、目標が移動する時に必要な帯域
幅を係数k・Wほど狭める利点がある。
基準波をQ個の部分波成分に分割し、これ等の成分が
それぞれf(j)とは等しくない種々の周波数f(i)
のずれを行い、再び混合信号を発生し、差周波数f
(i)−f(j)の周りの狭い周波数範囲の成分で測定
すると、この原理が更に改善される。
それぞれf(j)とは等しくない種々の周波数f(i)
のずれを行い、再び混合信号を発生し、差周波数f
(i)−f(j)の周りの狭い周波数範囲の成分で測定
すると、この原理が更に改善される。
少なくとも一つのビームスプリッタで基準波Bや測定
波AをN個の部分波に分割し、個々の部分波に異なる周
波数を対応させることもできる。こうして、検出器上の
一点を観察すればnがMより小さいと、n次の部分波が
光路長h+n・aを進み、nがMより大きいかMに等し
いと、光路長e+n・bを進む。ここで、M<Nで、例
えばMa=(N−M)bであるように部分波が検出器上で
重なる。光路長h+n・aで現れる検出器上の干渉縞の
最大コントラストの位置から距離をaの整数倍で決定で
きる。光路長e+n・bで現れる検出器上の干渉縞の最
大コントラストの位置から距離をbの整数倍で決定でき
る。しかし、aとbを適当に選ぶと、上記両方の情報か
ら曖昧さを往々実用上取るに足らない程度に大幅に低減
できる。
波AをN個の部分波に分割し、個々の部分波に異なる周
波数を対応させることもできる。こうして、検出器上の
一点を観察すればnがMより小さいと、n次の部分波が
光路長h+n・aを進み、nがMより大きいかMに等し
いと、光路長e+n・bを進む。ここで、M<Nで、例
えばMa=(N−M)bであるように部分波が検出器上で
重なる。光路長h+n・aで現れる検出器上の干渉縞の
最大コントラストの位置から距離をaの整数倍で決定で
きる。光路長e+n・bで現れる検出器上の干渉縞の最
大コントラストの位置から距離をbの整数倍で決定でき
る。しかし、aとbを適当に選ぶと、上記両方の情報か
ら曖昧さを往々実用上取るに足らない程度に大幅に低減
できる。
第5B図は他の実施例を示すもので、ここでは基準波B
の通路に光路長や波長を可変する回折格子21が配置され
ている。この配置により検出器7で検出される光路差の
範囲を制限することなく、干渉縞の間の間隔dを増大で
きる。これには市販のダイオードアレー7で干渉縞を容
易に分離できると言う利点がある。特に目標の距離が時
間的に変化する場合には、パルス光源を使用すると効果
的である。
の通路に光路長や波長を可変する回折格子21が配置され
ている。この配置により検出器7で検出される光路差の
範囲を制限することなく、干渉縞の間の間隔dを増大で
きる。これには市販のダイオードアレー7で干渉縞を容
易に分離できると言う利点がある。特に目標の距離が時
間的に変化する場合には、パルス光源を使用すると効果
的である。
ダイオードアレー7の出力信号を自動的に評価するた
め、第6図の実施例の信号処理装置10には信号増幅器2
1,サンプルホールド回路22および後続するアナログ・デ
ジタル変換器26がある。この変換器26の出力は電算機23
に導入される。この電算機23はアナログ・デジタル変換
器26から得られた値を基準記憶器24に記憶されている値
と比較し、その結果を表示装置25上に示すか、これ等の
値を次に演算処理する。
め、第6図の実施例の信号処理装置10には信号増幅器2
1,サンプルホールド回路22および後続するアナログ・デ
ジタル変換器26がある。この変換器26の出力は電算機23
に導入される。この電算機23はアナログ・デジタル変換
器26から得られた値を基準記憶器24に記憶されている値
と比較し、その結果を表示装置25上に示すか、これ等の
値を次に演算処理する。
種々の応用性を考慮して、しかも多くの試験に基づ
き、実際の例では、以下の有利な値を使用する。
き、実際の例では、以下の有利な値を使用する。
検出器7のスクリーンの実効幅がX方向に計ってhs=
50mm,使用する光の波長が900nm,光源1のスペクトル幅
が5nmの場合、第3図の包絡線Gの幅WはW=200μmと
なった。10mの典型的な測長距離で、光源の輻射出力が2
00μW,測定周期T=1ms,例えば反射率0.25で拡散散乱す
る目標の場合、S/N比=120となった。この条件の下でT
=2μsの場合、分解能sigma=0.1であった。T=2ms
の時には、測定装置に何の変更もなくても分解能が干渉
測長の精度の範囲内にあった。
50mm,使用する光の波長が900nm,光源1のスペクトル幅
が5nmの場合、第3図の包絡線Gの幅WはW=200μmと
なった。10mの典型的な測長距離で、光源の輻射出力が2
00μW,測定周期T=1ms,例えば反射率0.25で拡散散乱す
る目標の場合、S/N比=120となった。この条件の下でT
=2μsの場合、分解能sigma=0.1であった。T=2ms
の時には、測定装置に何の変更もなくても分解能が干渉
測長の精度の範囲内にあった。
最後に述べた測定精度に関する柔軟性は装置を実際に
使用する場合に重要な利点となる。粗い測長や次に直ぐ
切り換えて最大精度の測長を測定装置に何んの変更や改
良もなしに短時間で行える。
使用する場合に重要な利点となる。粗い測長や次に直ぐ
切り換えて最大精度の測長を測定装置に何んの変更や改
良もなしに短時間で行える。
第1図、この発明の実施例の模式配置図、 第2図、この発明の動作を説明する光学構造の原理図、 第3図、基準波Bと測定波Aを重ね合わせた後の強度分
布の位置に依存する波形図、 第4図、第1図のダイオードアレーの表面上の強度分布
の線条パターン図、 第5図、光の周波数をシフトさせる構成の原理図(A)
および他の実施例の原理図(B), 第6図、検出器の信号に対する評価回路の例。 図中参照符号: 1……光源 2……ビームスプリッタ 3……対物レンズ 4……目標 5……集束レンズ 6……回折格子 7……ダイオードアレー(検出器) 8……多重反射体 9……鏡 10……評価装置 21……信号増幅器 22……サンプルホールド回路 24……基準記憶器 25……表示器 26……アナログ・デジタル変換器 31,32……検出器アレー 33,34……周波数変位素子 A……測定波 B……基準波 L……光源とビームスプリッタの間の距離 L1,L1′……基準通路の長さ L2,L2′……測定通路の長さ R1……基準距離(=L+L1+L1′) R2……測定距離(=L+L2+L2′) S……スクリーン X……スクリーン上の点の位置 α……基準波のスクリーンへの入射角度 β……参照光のスクリーンへの入射角度 ω……光ビームの角周波数 g(ω)……光のスペクトル分布 G(X)……包絡線 d……干渉縞の線条間隔
布の位置に依存する波形図、 第4図、第1図のダイオードアレーの表面上の強度分布
の線条パターン図、 第5図、光の周波数をシフトさせる構成の原理図(A)
および他の実施例の原理図(B), 第6図、検出器の信号に対する評価回路の例。 図中参照符号: 1……光源 2……ビームスプリッタ 3……対物レンズ 4……目標 5……集束レンズ 6……回折格子 7……ダイオードアレー(検出器) 8……多重反射体 9……鏡 10……評価装置 21……信号増幅器 22……サンプルホールド回路 24……基準記憶器 25……表示器 26……アナログ・デジタル変換器 31,32……検出器アレー 33,34……周波数変位素子 A……測定波 B……基準波 L……光源とビームスプリッタの間の距離 L1,L1′……基準通路の長さ L2,L2′……測定通路の長さ R1……基準距離(=L+L1+L1′) R2……測定距離(=L+L2+L2′) S……スクリーン X……スクリーン上の点の位置 α……基準波のスクリーンへの入射角度 β……参照光のスクリーンへの入射角度 ω……光ビームの角周波数 g(ω)……光のスペクトル分布 G(X)……包絡線 d……干渉縞の線条間隔
Claims (9)
- 【請求項1】一部時間的コヒーレンスのある平均波長
(λ)の電磁波用の光源(1), 光波を測定波(A)と基準波(B)に分離するビームス
プリッタ(2), 位置に敏感な検出器(7)および、 検出器(7)上の強度分布の最大値の位置を求める信号
処理装置(10), を備え、 測定波(A)が目標(4)に入射し、この目標(4)か
ら一部反射して検出器(7)の法線に対して第一角度
(α)をなして検出器(7)に入射し、ビームスプリッ
タ(2)から検出器(7)まで測定距離(R1)を進み、 基準波(B)が検出器(7)の法線に対して第二角度
(β)をなして検出器(7)に入射し、ビームスプリッ
タ(2)から検出器(7)まで前記測定距離(R1)とほ
ぼ等しい基準距離(R2)を進み、 検出器(7)上の広さが波長(λ)の整数倍となる領域
で測定波(A)と基準波(B)が重なって干渉し、 測定波(A)と基準波(B)に時間的コヒーレンスが一
部あれば、測定距離(R1)と基準距離(R2)の間の光路
差が零で、最大強度の干渉縞を発生し、光路差が増大す
ると共に他の干渉縞の強度が零に低下することを利用す
る、 ことを特徴とする測長器。 - 【請求項2】光源(1)は可視領域あるいは赤外領域の
平均波長(λ)の光を発生することを特徴とする請求の
範囲第1項に記載の測長器。 - 【請求項3】パルス化された光源(1)が使用されてい
ることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の測長器。 - 【請求項4】検出器(7)の前には検出器(7)上で干
渉縞の間隔に少なくとも近似的に一致する格子定数の回
折格子(6)が配置され、この回折格子と干渉縞の間の
相対位置を時間的に可変する手段(9)が設けてあり、
この手段により生じる時間的に変化するモワレパターン
が検出器(7)上に投影されることを特徴とする請求の
範囲第2項に記載の測長器。 - 【請求項5】測定波(A)と基準波(B)の通路中にそ
れぞれ測定距離(R1)と基準距離(R2)を可変する手段
(8)が設けてあることを特徴とする請求の範囲第2項
に記載の測長器。 - 【請求項6】測定波(A)と基準波(B)の通路中に周
波数偏移部材(33,34)が配置されていることを特徴と
する請求の範囲第1項に記載の測長器。 - 【請求項7】基準波(B)を二つの部分波に分割し、少
なくとも一つの周波数偏移部材(33,34)により両方の
部分波を測定波(A)に対してずらし、目標(4)で反
射した測定波(A)も同じように二つの部分波に分割
し、各一つの検出器(31,32)上でそれぞれ基準波
(B)の各部分波に重ね、検出信号の種々の周波数成分
を非線形部材により混合し、混合信号から二つの部分波
の差周波数の周りの狭い周波数帯域内の成分を計測する
ことを特徴とする請求の範囲第6項に記載の測長器。 - 【請求項8】測定波(A)と基準波(B)をそれぞれQ
個の部分波成分に分割して、1からQの番号を付けたビ
ームスプリッタを設け、i=1〜Qまでの全ての部分波
成分に対して一つの周波数偏移部材を用いてi次の部分
基準波へi次の部分測定波に対して周波数のずれf
(i)を与え、そのためiがjに等しくなければf
(i)がf(j)と等しくなく、位置に敏感なQ重の検
出装置のi番目の検出セル上でi次の部分基準波とi次
の部分測定波の信号が重なり、混合信号から差周波数f
(i)−f(j)ほどの狭い周波数帯域の信号成分を計
測することを特徴とする請求の範囲第6項に記載の測長
器。 - 【請求項9】測定波(A)と基準波(B)をそれぞれN
個の部分波成分に分割する少なくとも一つのビームスプ
リッタを設け、個々の部分波に異なった距離が付属し、
検出器上の一点に注目してnがMより小さい場合、n次
の成分が距離h+n・aを通過し、nがMより大きい場
合、距離e+n・bを通過するように、これ等の部分波
が検出器の上で重なることを特徴とする請求の範囲第6
項に記載の測長器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1113/87A CH676289A5 (ja) | 1987-03-24 | 1987-03-24 | |
CH1113/87 | 1987-03-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6413403A JPS6413403A (en) | 1989-01-18 |
JP2732849B2 true JP2732849B2 (ja) | 1998-03-30 |
Family
ID=4202790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63067477A Expired - Lifetime JP2732849B2 (ja) | 1987-03-24 | 1988-03-23 | 干渉測長器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4929077A (ja) |
JP (1) | JP2732849B2 (ja) |
CH (1) | CH676289A5 (ja) |
DE (1) | DE3730091A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108692663A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-10-23 | 南京师范大学 | 相位调制型正交偏振激光反馈光栅干涉仪及其测量方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992003698A1 (de) * | 1990-08-15 | 1992-03-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur erfassung der strahllage von laserstrahlen |
GB9026622D0 (en) * | 1990-12-07 | 1991-01-23 | Ometron Limited | Apparatus for the measurement of surface shape |
DE4130435A1 (de) * | 1991-05-28 | 1992-12-03 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmesseinrichtung |
DE19520167B4 (de) * | 1995-06-01 | 2006-08-24 | Sick Ag | Verfahren und Vorrichtung zur opto-elektronischen Entfernungsmessung nach dem Laufzeitverfahren |
DE19522263C2 (de) * | 1995-06-20 | 1998-07-09 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Referenzinterferometer (RI) mit variabler Wellenlänge |
DE19614183C2 (de) * | 1996-04-11 | 2000-08-31 | Ulrich Wimmer | Verfahren zur Schwerkraftwellendetektion |
DE10027239A1 (de) | 2000-05-31 | 2001-12-06 | Sick Ag | Verfahren zur Abstandsmessung und Abstandsmeßeinrichtung |
DE102004033187B3 (de) * | 2004-01-23 | 2005-11-10 | Medizinisches Laserzentrum Lübeck GmbH | Interferometrische Vorrichtung |
CN100410628C (zh) * | 2006-04-25 | 2008-08-13 | 中国地质大学(武汉) | 一种激光干涉测量装置 |
DE102007016774A1 (de) * | 2007-04-04 | 2008-10-09 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren und Vorrichtung zur interferenziellen Abstandsmessung von Objekten |
CN106931893B (zh) * | 2017-03-10 | 2020-01-07 | 黄攸平 | 基于折射原理精准测量光栅薄片栅距的方法 |
IL273779B2 (en) * | 2020-04-02 | 2024-10-01 | Yehuda Hai Vidal | Method and device for mapping and segmentation based on coherence time comparison |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4589772A (en) * | 1972-05-25 | 1986-05-20 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Pulsed remote gauge |
SU715928A1 (ru) * | 1979-02-15 | 1980-02-15 | Московский Институт Инженеров Геодезии Аэрофотосъемки И Картографии | Способ определени разности хода интерферирующих лучей |
NL8005258A (nl) * | 1980-09-22 | 1982-04-16 | Philips Nv | Interferometer. |
US4627733A (en) * | 1981-12-25 | 1986-12-09 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Flatness measuring apparatus |
JPS6176902A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Yamazaki Mazak Corp | 非接触形プロ−ブ |
DE3445254A1 (de) * | 1984-12-12 | 1986-06-12 | Jagenberg AG, 4000 Düsseldorf | Verstelleinrichtung fuer nebeneinander angeordnete und auf gegenseitigen abstand verfahrbare bearbeitungseinheiten |
-
1987
- 1987-03-24 CH CH1113/87A patent/CH676289A5/de not_active IP Right Cessation
- 1987-09-08 DE DE19873730091 patent/DE3730091A1/de active Granted
-
1988
- 1988-03-22 US US07/171,715 patent/US4929077A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-23 JP JP63067477A patent/JP2732849B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108692663A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-10-23 | 南京师范大学 | 相位调制型正交偏振激光反馈光栅干涉仪及其测量方法 |
CN108692663B (zh) * | 2018-04-11 | 2020-04-21 | 南京师范大学 | 相位调制型正交偏振激光反馈光栅干涉仪及其测量方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3730091C2 (ja) | 1990-04-05 |
US4929077A (en) | 1990-05-29 |
JPS6413403A (en) | 1989-01-18 |
CH676289A5 (ja) | 1990-12-28 |
DE3730091A1 (de) | 1988-10-06 |
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